DE60017814T2

DE60017814T2 - Wärmeempfindliche lithographische Druckplatte

Info

Publication number: DE60017814T2
Application number: DE60017814T
Authority: DE
Inventors: Koichi Yoshida-cho Kawamura
Original assignee: Fuji Photo Film Co Ltd
Current assignee: Fujifilm Corp
Priority date: 1999-02-22
Filing date: 2000-02-22
Publication date: 2006-01-12
Anticipated expiration: 2020-02-23
Also published as: DE60017814D1; EP1031412B1; EP1031412A1; US6599674B1; ATE288359T1

Description

Gebiet der Erfindung
Die vorliegende Erfindung betrifft eine wärmeempfindliche lithografische Druckplatte, die als lithografische Druckplattenvorstufe (nachfolgend gelegentlich als "PS-Platte" bezeichnet) verwendet werden kann. Insbesondere betrifft die vorliegende Erfindung eine wärmeempfindliche lithografische Druckplatte, die der Behandlung mit verschiedenen Lasern unterworfen werden kann, die sichtbares Licht oder Infrarotstrahlen gemäß einem digitalen Signal emittieren, um die direkte Plattenherstellung zu erlauben, die der wässrigen Entwicklung unterworfen werden kann oder die direkt auf der Druckmaschine zum Drucken montiert werden kann, und insbesondere eine wärmeempfindliche lithografische Druckplatte, die zur Herstellung einer Druckplatte angepasst ist, die keine Behandlung erfordert.
Hintergrund der Erfindung
Bislang schließt die Herstellung einer Druckplatte aus einer PS-Platte Schritte im Anschluss an einen Belichtungsschritt, z.B. einen Nassentwicklungsschritt zur bildweisen Entfernung einer lichtempfindlichen Schicht (bilderzeugende (bildgebende) Schicht), die auf der Oberfläche eines Trägers gebildet wird, und Nachbehandlungsschritte, wie z.B. das Waschen der entwickelten Druckplatte mit einer Spülflüssigkeit, und die Behandlung der entwickelten Druckplatte mit einer Spüllösung, die ein oberflächenaktives Mittel enthält, oder einer Desensibilisierungslösung, die Gummi arabicum und ein Stärkederivat enthält, ein.
In den vergangenen Jahren hat andererseits die Abfallflüssigkeit aus dem Entwicklungsschritt Umweltprobleme in der Druckindustrie verursacht, weil sie alkalisch ist. Ferner unterliegt das Plattenherstellungsverfahren der Rationalisierung. Es ist daher erwünscht, eine Druckplattenvorstufe bereitzustellen, die nicht die vorhergehende komplizierte Nassentwicklung erfordert und somit unmittelbar zum Drucken nach der Belichtung verwendet werden kann.
Strahlungsempfindliche bilderzeugende Materialien, die zur Herstellung von positiv arbeitenden lithografischen Druckplatten angepasst sind, die keine Behandlung erfordern, werden in JP-A-7-186562 beschrieben (der hier verwendete Begriff "JP-A" bezeichnet eine "ungeprüfte veröffentlichte japanische Patentanmeldung"). Das oben zitierte Patent offenbart eine Verbindung, die eine funktionelle Gruppe mit einer spezifischen Carbonsäureesterstruktur enthält, die sich bei Einwirkung von Wärme oder Säure von hydrophob zu hydrophil verändert. Die Verwendung einer solchen Verbindung erlaubt das Drucken ohne Entwicklung nach Belichtung unter Erhalt von zufriedenstellendem bedrucktem Material. Jedoch ist es erwünscht, die Drucklebensdauer einer solchen lithografischen Druckplatte weiter zu verbessern.
EP-A-0 990 516, das Stand der Technik gemäß Art. 54(3) EPÜ für alle benannten Vertragsstaaten darstellt, offenbart ein bildgebendes Element, das einen Träger mit einer hydrophilen bilderzeugenden Schicht darauf umfasst, die ein hydrophiles wärmeempfindliches vernetztes Vinylpolymer umfasst, das Organooniumgruppen als Struktureinheiten enthält. Bei bildweiser Exposition mit Wärme werden die exponierten Gebiete der bilderzeugenden Schicht stärker oleophil als die nicht exponierten Gebiete gemacht.
EP-A-0 987 104, das Stand der Technik gemäß Art. 54(3) EPÜ für alle benannten Vertragsstaaten darstellt, offenbart ein bilderzeugendes Element, das einen Träger mit einer hydrophilen bilderzeugenden Schicht darauf umfasst, die ein hydrophiles wärmeempfindliches Polymer umfasst, das Struktureinheiten enthält, die eine wärmeaktivierbare Thiosulfatgruppe als abstehende Gruppe umfasst. Bei bildweiser Exposition mit Wärme werden die exponierten Gebiete der bilderzeugenden Schicht vernetzt und stärker hydrophob als die nicht exponierten Gebiete gemacht.
Zusammenfassung der Erfindung
Es ist daher eine Aufgabe der vorliegenden Erfindung, eine strahlungsempfindliche lithografische Druckplatte bereitzustellen, die einer wässrigen Entwicklung unterworfen werden kann oder keine spezielle Behandlung wie eine Nassentwicklung und Reiben nach dem Bildschreiben erfordert, insbesondere eine wärmeempfindliche lithografische Druckplatte, die der Aufzeichnung mit einem Feststofflaser oder Halbleiterlaser unterworfen werden kann, der Infrarotstrahlen emittiert, um die direkte Plattenherstellung aus digitalen Daten zu erlauben.
Es ist eine andere Aufgabe der vorliegenden Erfindung, eine wärmeempfindliche lithografische Druckplatte mit ausgezeichneter Drucklebensdauer bereitzustellen.
Diese und andere Aufgaben der vorliegenden Erfindung werden aus der nachfolgenden ausführlichen Beschreibung und den Beispielen ersichtlich werden.
Die Erfinder haben umfangreiche Untersuchungen zu den vorhergehenden Problemen unternommen. Als Ergebnis wurde festgestellt, dass die vorhergehenden Aufgaben der vorliegenden Erfindung mit einer neuen wärmeempfindlichen lithografischen Druckplatte gelöst werden können, die eine bilderzeugende Schicht umfasst, die ein Polymer enthält, das sich von hydrophob zu hydrophil durch Wärme verändern kann und durch eine Fotovernetzungsreaktion vernetzt ist.
Die erfindungsgemäße wärmeempfindliche lithografische Druckplatte umfasst ein in seiner bilderzeugenden Schicht beinhaltetes charakteristisches Polymer, um die bilderzeugende Schicht mit einer erhöhten Filmfestigkeit zu versehen.
Die erfindungsgemäße wärmeempfindliche lithografische Druckplatte erlaubt es dem zuvor genannten Polymer, eine bildweise Veränderung seiner Hydrophilie zu erfahren, wenn Wärme aus einem vorher festgelegten Heizmittel oder eine Säure, die durch ein vorher festgelegtes Säure erzeugendes Mittel erzeugt wird, darauf einwirkt, was das Drucken ohne Entwicklungsbehandlung zur Bildung eines Bildes erlaubt und es damit möglich macht, ein zufriedenstellendes Druckermaterial zu erhalten. Die erfindungsgemäße wärmeempfindliche lithografische Druckplatte besitzt ebenfalls eine ausgezeichnete Drucklebensdauer. Das vernetzte Polymer ist eines, das durch eine Fotovernetzungsreaktion ohne Erwärmen vernetzt ist, da es wirksamer zum Schutz einer funktionellen Gruppe ist, die sich in ihrer Hydrophilie bei Einwirkung von Wärme verändert.
Ausführliche Beschreibung der Erfindung
Das in der bilderzeugenden (bildgebenden) Schicht der erfindungsgemäßen wärmeempfindlichen lithografischen Druckplatte aufzunehmende Polymer ist nicht spezifisch beschränkt, soweit es sich von hydrophob zu hydrophil bei Einwirkung von Wärme verändern kann und durch eine Fotovernetzungsreaktion vernetzt ist.
Die Veränderung der Hydrophilie erfolgt von Hydrophobizität zu Hydrophilie.
Die erfindungsgemäße wärmeempfindliche lithografische Druckplatte arbeitet positiv.
Die zuvor genannte Veränderung der Hydrophilie des Polymers wird bevorzugt erreicht, indem das Polymer in seiner Seitenkette die Gruppe aufweist, die sich in ihrer Hydrophilie bei Einwirkung von Wärme verändert.
Beispiele für die Gruppe, die sich von hydrophob zu hydrophil bei Einwirkung von Wärme verändert, werden weiter in Bezug auf wenigstens eine funktionelle Gruppe beschrieben werden, die aus der Gruppe ausgewählt ist, die aus einer Sulfonsäureestergruppe, einer Disulfongruppe, einer Sulfonimidgruppe und einer Alkoxyalkylestergruppe besteht.
Eine Sulfonsäureestergruppe, Disulfongruppe und Sulfonimidgruppe können durch die folgenden allgemeinen Formeln (1), (2) bzw. (3) dargestellt werden. -L-SO₂-O-R¹ (1) -L-SO₂-SO₂-R² (2)
worin L eine organische Gruppe darstellt, die aus mehrwertigen Nichtmetallatomen zusammengesetzt ist, die zum Verbinden der durch die allgemeine Formel (1), (2) oder (3) dargestellten funktionellen Gruppe mit dem Polymergerüst erforderlich sind; und R¹, R², R³ und R⁴ jeweils eine substituierte oder unsubstituierte Arylgruppe, substituierte oder unsubstituierte Alkylgruppe oder cyclische Imidgruppe darstellen.
Die durch R¹, R², R³ oder R⁴ dargestellte substituierte oder unsubstituierte Arylgruppe kann carbocyclisch oder heterocyclisch sein. Als carbocyclische Arylgruppe kann eine carbocyclische C_6-19-Arylgruppe verwendet werden, wie z.B. eine Phenylgruppe, Naphthylgruppe, Anthracenylgruppe und Pyrenylgruppe. Als heterocyclische Arylgruppe kann eine heterocyclische Arylgruppe mit 3 bis 20 Kohlenstoffatomen und 1 bis 5 Heteroatomen verwendet werden, wie z.B. eine Pyridylgruppe, Furylgruppe und andere heterocyclische Gruppen, die durch die Kondensation von Benzolringen erhalten werden, z.B. Chinolyl, Benzofuryl, Thioxanthon und Carbazol. Die durch R¹, R², R³ oder R⁴ dargestellte substituierte oder unsubstituierte Alkylgruppe kann eine geradkettige, verzweigte oder cyclische Alkylgruppe mit 1 bis 25 Kohlenstoffatomen sein, wie z.B. eine Methylgruppe, Ethylgruppe, Isopropylgruppe, t-Butylgruppe und Cyclohexylgruppe.
Beispiele für die Substituenten an der durch R¹, R², R³ oder R⁴ dargestellten substituierten Aryl-, Heteroaryl- oder Alkylgruppe schließen eine C_1-10-Alkoxygruppe, wie eine Methoxygruppe und Ethoxygruppe, ein Halogenatom, wie ein Fluoratom, Chloratom und Bromatom, eine halogensubstituierte Alkylgruppe, wie eine Trifluormethylgruppe und Trichlormethylgruppe, eine C_2-15-Alkoxycarbonyl- oder Aryloxycarbonylgruppe, wie eine Methoxycarbonylgruppe, Ethoxycarbonylgruppe, t-Butyloxycarbonylgruppe und p-Chlorphenyloxycarbonylgruppe, eine Hydroxylgruppe, eine Acyloxygruppe, wie eine Acetyloxygruppe, Benzoyloxygruppe und p-Diphenylaminobenzoyloxygruppe, eine Carbonatgruppe, wie eine t-Butyloxycarbonyloxygruppe, eine Ethergruppe, wie eine t-Butyloxycarbonylmethyloxygruppe und 2-Pyranyloxygruppe, eine substituierte oder unsubstituierte Aminogruppe, wie eine Aminogruppe, Dimethylaminogruppe, Diphenylaminogruppe, Morpholinogruppe und Acetylaminogruppe, eine Thioethergruppe, wie eine Methylthiogruppe und Phenylthiogruppe, eine Alkenylgruppe, wie eine Vinylgruppe und Styrylgruppe, eine Nitrogruppe, eine Cyanogruppe, eine Acylgruppe, wie eine Formylgruppe, Acetylgruppe und Benzoylgruppe, eine Arylgruppe, wie eine Phenylgruppe und Naphthylgruppe, und eine Heteroarylgruppe, wie eine Pyridylgruppe, ein. Als Substituent an der durch R¹, R², R³ oder R⁴ dargestellten substituierten oder unsubstituierten Aryl- oder Heteroarylgruppe kann eine Alkylgruppe, wie Methyl und Ethyl, neben den zuvor genannten Substituenten verwendet werden.
Beispiele für die durch R¹, R², R³ oder R⁴ dargestellte cyclische Imidgruppe schließen cyclische C_4-20-Imide ein, wie Bernsteinsäureimid, Phthalsäureimid, Cyclohexandicarbonsäureimid und Norbornendicarbonsäureimid.
Besonders bevorzugt unter den durch R¹, R², R³ und R⁴ dargestellten Gruppen sind eine Arylgruppe, die mit einer elektronenziehenden Gruppe wie Halogen, Cyano und Nitro substituiert ist, eine Alkylgruppe, die mit einer elektronenziehenden Gruppe wie Halogen, Cyano und Nitro substituiert ist, eine sekundäre oder tertiäre verzweigte Alkylgruppe, eine cyclische Alkylgruppe und eine cyclische Imidgruppe.
Die durch L dargestellte mehrwertige Verbindungsgruppe, die aus Nichtmetallatomen zusammengesetzt ist, wird durch 1 bis 60 Kohlenstoffatome, 0 bis 10 Stickstoffatome, 0 bis 50 Sauerstoffatome, 1 bis 100 Wasserstoffatome und 0 bis 20 Schwefelatome gebildet. Spezifische Beispiele für diese Verbindungsgruppen schließen die durch die Kombination der folgenden Struktureinheiten gebildeten ein:
mehrwertiges Naphthalin und mehrwertiges Anthracen.
Beispiele für den Substituenten an der mehrwertigen Verbindungsgruppe, falls substituiert, schließen eine C_1-20-Alkylgruppe, wie Methyl und Ethyl, eine C_6-16-Arylgruppe, wie Phenyl und Naphthyl, eine C_1-6-Acyloxygruppe, wie Acetoxy, eine Hydroxylgruppe, eine Carboxylgruppe, eine Sulfonamidgruppe, eine N-Sulfonylamidgruppe und eine C_1-6-Alkoxygruppe, wie Methoxy und Ethoxy, ein Halogenatom, wie Chlor und Brom, eine C_2-7-Alkoxycarbonylgruppe, wie Methoxycarbonyl, Ethoxycarbonyl und Cyclohexyloxycarbonyl, eine Cyanogruppe und eine Carbonsäureestergruppe, wie t-Butylcarbonat, ein.
Die Alkoxyalkylestergruppe kann durch die folgende allgemeine Formel (4) dargestellt werden:
In der zuvor genannten allgemeinen Formel (4) stellt R¹¹ ein Wasserstoffatom dar, R¹² stellt ein Wasserstoffatom oder eine Alkylgruppe mit 18 oder weniger Kohlenstoffatomen dar und R¹³ stellt eine Alkylgruppe mit 18 oder weniger Kohlenstoffatomen dar. Zwei Vertreter aus R¹¹, R¹² und R¹³ können miteinander unter Bildung eines Rings verbunden sein. Insbesondere ist es bevorzugt, dass R¹² und R¹³ miteinander unter Bildung eines 5- oder 6-gliedrigen Rings verbunden sind.
Als funktionelle Gruppe kann eine durch die zuvor genannte allgemeine Formel (1), (2), (3) oder (4) dargestellte verwendet werden. Bevorzugt unter diesen funktionellen Gruppen sind eine durch die allgemeine Formel (1) dargestellte Sulfonsäureestergruppe und eine durch die allgemeine Formel (4) dargestellte Alkoxyalkylestergruppe. Besonders bevorzugt unter diesen funktionellen Gruppen ist eine durch die allgemeine Formel (1) dargestellte Sulfonsäureestergruppe. Spezifische Beispiele für die durch die allgemeinen Formeln (1) bis (4) dargestellten funktionellen Gruppen werden nachfolgend angegeben.
Die zuvor genannte funktionelle Gruppe wirkt derart, dass sich das zuvor genannte Polymer von hydrophob zu hydrophil bei Einwirkung von Wärme oder Säure verändern kann. Insbesondere wirkt eine solche funktionelle Gruppe derart, dass sie den Kontaktwinkel des Polymers in Bezug auf einen Wassertropfen in Luft um nicht weniger als 15° reduziert. Mit anderen Worten reduziert das zuvor genannte Polymer bevorzugt seinen Kontaktwinkel in Bezug auf einen Wassertropfen in Luft um nicht weniger als 15°, besonders bevorzugt nicht weniger als 40°, bei Einwirkung von Wärme oder Säure zur Veränderung von hydrophob zu hydrophil. Noch mehr bevorzugt hat das zuvor genannte Polymer anfänglich einen Kontaktwinkel von nicht weniger als 60° in Bezug auf einen Wassertropfen in Luft, aber reduziert den Kontaktwinkel auf nicht mehr als 20° bei Einwirkung von Wärme oder Säure.
Bei der Herstellung des in der vorliegenden Erfindung verwendeten Polymers ist das Molverhältnis des Monomers mit einer Gruppe, die sich in der Hydrophilie bei Wärme verändert, zum Monomer mit einer vernetzbaren funktionellen Gruppe allgemein von 97:3 bis 10:9, bevorzugt von 95:5 bis 30:70, besonders bevorzugt von 95:5 bis 40:60.
Ferner verändert sich das Polymer, das in der bilderzeugenden Schicht der erfindungsgemäßen wärmeempfindlichen lithografischen Druckplatte eingearbeitet werden soll, nicht nur in seiner Hydrophilie bei Einwirkung von Wärme, sondern hat ebenfalls eine vernetzte Struktur, die durch eine Fotovernetzungsreaktion entwickelt wird. Bei der Fotovernetzung ist die funktionelle Gruppe, die sich in ihrer Hydrophilie bei Wärme verändert, frei vom Einfluss eines sauren oder alkalischen Katalysators und von Wärme. Das Polymer vor der Vernetzung hat allgemein 3.000 bis 500.000, bevorzugt 5.000 bis 500.000, besonders bevorzugt 5.000 bis 300.000.
Das durch die Fotovernetzungsreaktion vernetzte Polymer wird nachfolgend weiter beschrieben.
Die Fotovernetzung kann durch Fotodimerisierung oder fotoradikalische Polymerisation erreicht werden. Das Polymer umfasst eine reaktive Vernetzungsgruppe, die darin eingearbeitet ist, so dass es mit sich selbst oder mit einem Monomer unter Vernetzung reagieren kann.
In der Fotodimerisierungsreaktion absorbiert das Polymer eingestrahltes Licht durch seine funktionelle Gruppe oder durch einen darin aufgenommenen Fotosensibilisator, wodurch es eine Vernetzungsreaktion erfährt.
In der fotoradikalischen Vernetzungsreaktion wird das Polymer mit Licht bestrahlt, wobei ein allgemein bekannter Fotopolymerisationsstarter darin eingeführt ist, um eine Vernetzungsreaktion zu erfahren.
Das Polymer, das eine Vernetzung bei einer Fotovernetzungsreaktion erfährt, kann durch Copolymerisation eines Monomers mit einer fotovernetzbaren funktionellen Gruppe, d.h. mit einer lichthärtenden funktionellen Gruppe, mit einem Monomer mit einer Gruppe erhalten werden, die sich in ihrer Hydrophilie bei Einwirkung von Wärme verändert.
Der Begriff "lichthärtende funktionelle Gruppe", wie hier verwendet, soll eine funktionelle Gruppe angeben, die einem Harz die Härtungsreaktion bei Einwirkung von Licht erlaubt.
Als lichthärtende funktionelle Gruppe kann eine solche zur Verwendung in bekannten lichtempfindlichen Harzen verwendet werden, wie z.B. in lichthärtenden Harzen, die in allgemeinen Anmerkungen zitiert werden, z.B. Hideo Inui und Gentaro Nagamatsu, "Kankouseikoubunshi" (lichtempfindliche hochmolekulare Verbindungen), Kodansha, 1977, Takahiro Tsunoda, "Shin Kankouseijyusi" (neue lichtempfindliche Harze), Publishing Department, The Japanese Society of Printing Science and Technology, 1981, G. E. Green und B. P. Strak, J. Macro. Sci. Reas. Macro. Chem., C21(2), 187–273 (1981–1982), C. G. Rattey, "Photopolymerization of Surface Coatings", A. Wiley Inter Science Pub., 1982.
Beispiele für eine solche funktionelle Gruppe schließen polymerisierbare Doppelbindungsgruppen und fotovernetzbare Doppelbindungsgruppen ein.
Spezifische Beispiele für die polymerisierbare Doppelbindungsgruppe schließen CH₂=CH-, CH₂=CHCH₂-, CH₂=CHCOO-, CH₂=C(CH₃)COO-, C(CH₃)H=CHCOO-, CH₂=CHCONH-, CH₂=C(CH₃)CONH-, C(CH₃)H=CHCONH-, CH₂=CHOCO-, CH₂=C(CH₃)OCO-, CH₂=CHCH₂OCO-, CH₂=CHNHCO-, CH₂=CHCH₂NHCO-, CH₂=CHSO₂-, CH₂=CHCO-, CH₂=CHO- und CH₂=CHS- ein.
Spezifische Beispiele für die fotovernetzbare Doppelbindungsgruppe schließen -CH=CH- und -C(CH₃)=C(CH₃)- ein.
Ein besonders bevorzugtes Beispiel für die fotovernetzbare Doppelbindungsgruppe ist eine durch die folgende allgemeine Formel (A) dargestellte Maleimidgruppe.
worin R² und R³ jeweils ein Wasserstoffatom, ein Halogenatom oder eine Alkylgruppe darstellen, mit der Maßgabe, dass R² und R³ unter Bildung eines 5- oder 6-gliedrigen Rings kombinieren können.
Die durch R² oder R³ dargestellte Alkylgruppe ist bevorzugt eine C_1-4-Alkylgruppe, insbesondere eine Methylgruppe. Ferner ist es bevorzugt, dass R² und R³ unter Bildung eines 6-gliedrigen Rings kombinieren. Das durch R² oder R³ dargestellte Halogenatom ist bevorzugt ein Chloratom, Bromatom oder Iodatom.
Spezifische Beispiele für die zuvor genannte Maleimidgruppe werden offenbart in JP-A-52-988 (entsprechend US-PS 4,079,041 ), DE-PS 26 26 769, EP 0 021 019 , EP 0 003 552 , "Angewandte Makromolekulare Chemie", 115, (1983), S. 163–181, JP-A-49-128991, JP-A-49-128992, JP-A-49-128993, JP-A-50-5376, JP-A-50-5377, JP-A-50-5378, JP-A-50-5379, JP-A-50-5380, JP-A-53-5298, JP-A-53-5299, JP-A-53-5390, JP-A-50-50107, JP-A-51-47940, JP-A-52-13907, JP-A-50-45076, JP-A-52-121700, JP-A-50-10884, JP-A-50-45087, JP-A-58-43951, DE-PSen 23 49 948 und 26 16 276.
In der vorliegenden Erfindung können unter diesen Monomeren die durch die folgenden allgemeinen Formeln (B) bis (D) dargestellten verwendet werden.

worin R² und R³ wie in der allgemeinen Formel (A) definiert sind; R⁴ ein Wasserstoffatom oder eine Methylgruppe darstellt; und n₁, n₂ und n₃ jeweils eine ganze Zahl darstellen, bevorzugt von 1 bis 6.
Das Monomer, das in der zuvor genannten fotoradikalischen Polymerisationsvernetzung verwendet werden kann, ist eine Verbindung, die eine additionspolymerisierbare Doppelbindung enthält. Insbesondere kann ein solches Monomer willkürlich aus der Gruppe ausgewählt werden, die aus Verbindungen mit wenigstens einer, bevorzugt zwei oder mehr ethylenisch ungesättigten Bindungen am Ende (an ihren Enden) besteht.
Diese Monomere können in jeder chemischen Form sein, z.B. Monomer, Präpolymer, d.h. Dimer, Trimer, Oligomer, eine Mischung daraus und ein Copolymer daraus.
Beispiele für diese Monomere und Copolymere davon schließen einen Ester von ungesättigter Carbonsäure (z.B. Acrylsäure, Methacrylsäure, Itaconsäure, Crotonsäure, Isocrotonsäure, Maleinsäure) mit einer aliphatischen mehrwertigen Alkoholverbindung und ein Amid einer ungesättigten Carbonsäure mit einer aliphatischen mehrwertigen Aminverbindung ein.
Spezifische Beispiele für den Ester einer ungesättigten Carbonsäure mit einem aliphatischen mehrwertigen Alkohol als nützliches Monomer schließen Acrylsäureester ein, wie Ethylenglykoldiacrylat, Triethylenglykoldiacrylat, 1,3-Butandioldiacrylat, Tetramethylenglykoldiacrylat, Propylenglykoldiacrylat, Neopentylglykoldiacrylat, Trimethylolpropantriacrylat, Trimethylolpropantri(acryloyloxypropyl)ether, Trimethylolethantriacrylat, Hexandioldiacrylat, 1,4-Cyclohexandioldiacrylat, Tetraethylenglykoldiacrylat, Pentaerythritdiacrylat, Pentaerythrittriacrylat, Pentaerythrittetraacrylat, Dipentaerythritdiacrylat, Dipentaerythritpentaacrylat, Dipentaerythrithexaacrylat, Sorbittriacrylat, Sorbittetraacrylat, Sorbitpentaacrylat, Sorbithexaacrylat, Tri(acryloylethyl)isocyanurat, Tetramethylolmethantetraacrylat und Polyesteracrylatoligomer, Methacrylsäureester, wie Tetramethylenglykoldimethacrylat, Triethylenglykoldimethacrylat, Neopentylglykoldimethacrylat, Trimethylolpropantrimethacrylat, Trimethylolethantrimethacrylat, Ethylenglykoldimethacrylat, 1,3-Butandioldimethacrylat, Hexandioldimethacrylat, Pentaerythritdimethacrylat, Pentaerythrittrimethacrylat, Pentaerythrittetramethacrylat, Dipentaerythritdimethacrylat, Dipentaerythrithexamethacrylat, Dipentaerythritpentamethacrylat, Sorbittrimethacrylat, Sorbittetramethacrylat, Bis-[p-(3-methacryloxy-2-hydroxypropoxy)phenyl]dimethylmethan und Bis-[p-(methacryloxyethoxy)phenyl]dimethylmethan, Itaconsäureester, wie Ethylenglykoldiitaconat, Propylenglykoldiitaconat, 1,3-Butandioldiitaconat, 1,4-Butandioldiitaconat, Tetramethylenglykoldiitaconat, Pentaerythritdiitaconat und Sorbittetraitaconat, Crotonsäureester, wie Ethylenglykoldicrotonat, Tetramethylenglykoldicrotonat, Pentaerythritdicrotonat und Sorbittetradicrotonat, Isocrotonsäureester, wie Ethylenglykoldiisocrotonat, Pentaerythritdiisocrotonat und Sorbittetraisocrotonat, und Maleinsäureester, wie Ethylenglykoldimalat, Triethylenglykoldimalat, Pentaerythritdimalat und Sorbittetramalat. Mischungen der zuvor genannten Estermonomere können verwendet werden.
Spezifische Beispiele für das Amid der aliphatischen mehrwertigen Aminverbindung mit ungesättigter Carbonsäure als nützliches Monomer schließen Methylenbisacrylamid, Methylenbismethacrylamid, 1,6-Hexamethylenbisacrylamid, 1,6-Hexamethylenbismethacrylamid, Diethylentriamintrisacrylamid, Xylylenbisacrylamid und Xylylenbismethacrylamid ein.
Andere Beispiele für das Monomer schließen eine Vinylurethanverbindung mit zwei oder mehr polymerisierbaren Vinylgruppen pro Molekül ein, die durch Addition eines Vinylmonomers, das eine Hydroxylgruppe enthält, dargestellt durch die folgende allgemeine Formel (E), an eine Polyisocyanatverbindung mit zwei oder mehr Isocyanatgruppen pro Molekül erhalten wird, wie beschrieben in JP-B-48-41708 (der hier verwendete Begriff "JP-B" bezeichnet eine "geprüfte japanische Patentanmeldung"). CH₂=C(R₅)COOCH₂CH(R₆)OH (E)worin R₅ und R₆ jeweils H oder CH₃ darstellen.
Weitere Beispiele für das Monomer schließen polyfunktionelle Acrylate oder Methacrylate ein, wie Urethanacrylat, wie in JP-A-51-37193 offenbart, Polyesteracrylat, wie in JP-A-48-64183, JP-B-49-43191 und JP-B-52-30490 offenbart, und Epoxyacrylat, erhalten durch Reaktion von Epoxyharz mit (Meth)acrylsäure. Außerdem können die als lichthärtendes Monomer und Oligomer in "Journal of the Adhesion Society of Japan", Band 20, Nr. 7, S. 300–308, 1984 zitierten Verbindungen verwendet werden. Die zu verwendende Menge einer solchen Verbindung beträgt allgemein 5 bis 70 Gew.-% (nachfolgend abgekürzt als "%"), bevorzugt 10 bis 50%, bezogen auf das Gesamtgewicht der Komponenten.
Als Fotopolymerisationsstarter zur Aufnahme in der fotopolymerisierbaren bilderzeugenden Schicht (Zusammensetzung) der vorliegenden Erfindung kann angemessen jeder in Patenten und Literaturstellen bekannte Fotopolymerisationsstarter oder eine Kombination aus Fotopolymerisationsstartern (Fotopolymerisationsstartsystem) verwendet werden, abhängig von der Wellenlänge des verwendeten Lichts.
Falls z.B. eine Lichtquelle verwendet wird, die Licht mit einer Wellenlänge in der Nachbarschaft von 400 nm ausstrahlt, werden weithin Benzyl, Benzoinether, Michler-Keton, Anthrachinon, Thioxanthon, Acridin, Phenazin, Benzophenon etc. verwendet.
Als der zuvor genannte Fotosensibilisator kann ein Sensibilisator vom Fotodimerisierungstyp verwendet werden, wie beschrieben in EP 0 591 786 und A. Reiser, "Photoreactive polymers", Wiley Interscience, 1989.
Beispiele für das durch Fotovernetzung erhaltene Polymer werden nachfolgend angegeben.
Beispiele für die Synthese des vernetzten Polymers zur Verwendung in der vorliegenden Erfindung werden nachfolgend angegeben.
Synthese von Polymer KP-3
In einen Dreihalskolben wurden 0,4 mol Styrolsulfonsäure-1-methyl-2-methoxyethylester, 0,1 mol N-[(3-Methacroyloxy)propyl]-2,3-dimethylmaleimid und 203 g Methylethylketon gefüllt. Zur Mischung wurden dann bei einer Temperatur von 65°C in einem Stickstoffstrom 2,44 g Azobisdimethylvaleronitril gegeben. Bei der gleichen Temperatur wurde die Mischung dann für 5 Stunden gerührt. Methylethylketon wurde dann unter reduziertem Druck abdestilliert, um einen Feststoff zu erhalten. Als Ergebnis von GPC (Polystyrol als Standard) besaß das Polymer ein durchschnittliches Molekulargewicht von 25.000.
Synthese der Polymere KP-4 und 5
Das Syntheseverfahren für Polymer KP-3 wurde befolgt, außer dass Allylmethacrylsäure oder N-[(6-Methacroyloxy)hexyl]-2,3-dimethylmaleimid anstelle von N-[(3-Methacroyloxy)propyl]-2,3-dimethylmaleimid verwendet wurde. Für das Polymer KP-4 wurde Cyclohexylstyrolsulfonat als Styrolsulfonsäureester verwendet. Das Polymer KP-4 hatte ein durchschnittliches Molekulargewicht von 56.000, und das Polymer KP-5 hatte ein durchschnittliches Molekulargewicht von 19.000.
Synthese von Polymer KP-1
Das Syntheseverfahren für Polymer KP-3 wurde befolgt, außer dass 2-Methacrylooxyethylisocyanat anstelle von N-[(3-Methacroyloxy)propyl]-2,3-dimethylmaleimid verwendet wurde. Zur Reaktionslösung wurde dann Acrylsäure (0,1 mol) gegeben. Die Mischung wurde dann unter Rühren für 8 Stunden erwärmt. Nach der Reaktion wurde Methylethylketon unter reduziertem Druck abdestilliert, um einen Feststoff zu erhalten. Als Ergebnis von GPC (Polystyrol als Standard) besaß das Polymer ein durchschnittliches Molekulargewicht von 23.000.
Synthese von Polymer KP-2
Das Syntheseverfahren für Polymer KP-1 wurde befolgt, außer dass Methacrylsäure anstelle von Acrylsäure verwendet wurde. Das resultierende Polymer hatte ein durchschnittliches Molekulargewicht von 23.000.
Synthese von Polymer KP-8
In einen Dreihalskolben wurden [(3-Acryloyloxypropan)sulfonsäure]-1-methyl-2-methoxyethylester (0,4 mol), Acrylsäure-2-[(6-chlorpropioxy)ethyl]ester (0,1 mol) und 254 g Methanol gefüllt. Dazu wurden 2,44 g Azobisdimethylvaleronitril bei 64°C in einem Stickstoffstrom gegeben. Die Mischung wurde bei der gleichen Temperatur für 5 Stunden gerührt und dann auf Raumtemperatur abgekühlt. Nach dem Abkühlen wurde Triethylamin (0,1 mol) hinzugetropft, und die resultierende Mischung wurde für 6 Stunden gerührt und dann in eine große Menge Wasser gegossen, um einen Feststoff zu erhalten. Gemäß GPC (Polystyrolbasis) war dieser Feststoff ein Polymer mit einem durchschnittlichen Molekulargewicht von 25.000.
Synthese von Polymer KP-9
In einen Dreihalskolben wurden Styrolsulfonylessigsäure (0,4 mol), Acrylsäure-2-[(6-chlorpropioxy)ethyl]ester (0,1 mol) und 222 g Methanol gefüllt. Dazu wurden 2,44 g Azobisdimethylvaleronitril bei 64°C in einem Stickstoffstrom gegeben. Die Mischung wurde bei der gleichen Temperatur für 5 Stunden gerührt und dann auf Raumtemperatur abgekühlt. Nach dem Abkühlen wurde Triethylamin (0,1 mol) hinzugetropft, und die resultierende Mischung wurde für 6 Stunden gerührt und dann in eine große Menge Wasser gegossen, um einen Feststoff zu erhalten. Gemäß GPC (Polystyrolbasis) war dieser Feststoff ein Polymer mit einem durchschnittlichen Molekulargewicht von 25.000.
Synthese der Polymere KP-10 und KP-13
Die Polymere KP-10 und KP-13 wurden in der gleichen Weise wie in der Synthese von Polymer KP-8 synthetisiert, außer dass die entsprechenden Monomere anstelle der Styrolsulfonylessigsäure verwendet wurden. Gemäß GPC (Polystyrolbasis) war das durchschnittliche Molekulargewicht von Polymer KP-10 35.000, und das durchschnittliche Molekulargewicht von Polymer KP-13 war 30.000.
Synthese von Polymer KP-12
In einen Dreihalskolben wurden Acrylamidobenzolsulfonylessigsäuretetraethylammoniumsalz (0,4 mol), N-[(3-Methacroyloxy)propyl]-2,3-dimethylmaleimid (0,1 mol) und 355 g Methanol gefüllt. Dazu wurden 2,44 g Azobisdimethylvaleronitril bei 64°C in einem Stickstoffstrom gegeben. Die Mischung wurde bei der gleichen Temperatur für 5 Stunden gerührt, und dann wurde Methanol unter reduziertem Druck abdestilliert, um einen Feststoff zu erhalten. Gemäß GPC (Polystyrolbasis) war dieser Feststoff ein Polymer mit einem durchschnittlichen Molekulargewicht von 25.000.
Synthese von Polymer KP-11
Polymer KP-11 wurde in der gleichen Weise wie in der Synthese von Polymer KP-12 synthetisiert, außer dass Acrylmethacrylsäure anstelle des N-[(3-Methacroyloxy)propyl]-2,3-dimethylmaleimids verwendet wurde. Gemäß GPC (Polystyrolbasis) betrug das durchschnittliche Molekulargewicht 40.000.
Licht-Wärme-Umwandlungsmittel
Die bilderzeugende Schicht der erfindungsgemäßen wärmeempfindlichen lithografischen Druckplatte, falls sie zur Laserbelichtung zur Bildung eines Bildes angepasst ist, umfasst bevorzugt ein darin aufgenommenes Licht-Wärme-Umwandlungsmittel. Das in der Laserbelichtung zu verwendende Licht ist bevorzugt Infrarotstrahlung. In diesem Fall wird ein Infrarotabsorptionsmittel als Licht-Wärme-Umwandlungsmittel verwendet.
Das Infrarotabsorptionsmittel, das bevorzugt in der vorliegenden Erfindung verwendet wird, ist ein Farbstoff oder Pigment, der/das Infrarotstrahlen mit einer Wellenlänge von 760 bis 1.200 nm absorbiert, besonders bevorzugt ein Farbstoff oder Pigment, der/das eine maximale Absorption bei einer Wellenlänge von 760 bis 1.200 nm hat.
Als der zuvor genannte Farbstoff kann ein handelsüblicher Farbstoff oder ein bekannter Farbstoff verwendet werden, der in Literaturstellen beschrieben wird (z.B. "Senryobinran" (Farbstoffhandbuch), The Society of Synthetic Organic Chemistry, Japan, 1970). Spezifische Beispiele für diese Farbstoffe schließen Azofarbstoff, Metallkomplex-Azofarbstoff, Pyrazolon-Azofarbstoff, Anthrachinon-Farbstoff, Phthalocyanin-Farbstoff, Carbonium-Farbstoff, Chinonimin-Farbstoff, Methin-Farbstoff, Cyanin-Farbstoff und Metallthiolatkomplex ein.
Bevorzugte Beispiele für diese Farbstoffe schließen Cyanin-Farbstoffe ein, wie beschrieben in JP-A-58-12546, JP-A-59-84356, JP-A-59-202829 und JP-A-60-78787, Methin-Farbstoffe, wie beschrieben in JP-A-58-173696, JP-A-58-181690 und JP-A-58-194595, Naphthochinon-Farbstoffe, wie beschrieben in JP-A-58-11293, JP-A-58-224793, JP-A-59-48187, JP-A-59-73996, JP-A-60-52940 und JP-A-60-63744, Squarylium- Farbstoffe, wie beschrieben in JP-A-58-112792, und Cyanin-Farbstoffe, wie beschrieben in GB-PS 434 875.
Ferner können Absorptionssensibilisatoren im nahen Infrarot bevorzugt verwendet werden, wie beschrieben in US-PS 5,156,938 . Außerdem können bevorzugt verwendet werden: Arylbenzo(thio)pyryliumsalze, wie beschrieben in US-PS 3,881,924 , Trimethinthiapyryliumsalze, wie beschrieben in JP-A-57-142645 (entsprechend US-PS 4,327,169 ), Pyryliumverbindungen, wie beschrieben in JP-A-58-181051, JP-A-58-220143, JP-A-59-41363, JP-A-59-84248, JP-A-59-84249, JP-A-59-146063 und JP-A-59-146061, Cyanin-Farbstoffe, wie beschrieben in JP-A-59-216146, Pentamethinthiopyryliumsalze, wie beschrieben in US-PS 4,283,475 , und Pyryliumverbindungen, wie beschrieben in JP-B-5-13514 und JP-B-5-19702.
Weitere Beispiele für den Farbstoff schließen Absorptionsfarbstoffe im nahen Infrarot ein, die durch die in US-PS 4,756,993 beschriebenen allgemeinen Formeln (I) und (II) dargestellt werden.
Besonders bevorzugt unter diesen Farbstoffen sind Cyanin-Farbstoff, Squarylium-Farbstoff, Pyryliumsalz, und Nickelthiolatkomplex.
Beispiele für das in der vorliegenden Erfindung zu verwendende Pigment, die hier einsetzbar sind, schließen handelsübliche Pigmente und solche Pigmente ein, die beschrieben werden in "Handbook of Color Index (C. I.)", "Saishin Ganryobinran" (Handbuch der modernen Pigmente), The Society of Pigment Technology of Japan, 1977, "Saishin Ganryou Ouyougijyutu" (Angewandte Technik der modernen Pigmente), CMC, 1986, und "Insatsuinki Gijyuto" (Druckfarbentechnik), CMC, 1984.
Beispiele für die Art des hier zu verwendenden Pigments schließen Schwarzpigment, Gelbpigment, Orangepigment, Braunpigment, Rotpigment, Violettpigment, Blaupigment, Grünpigment, Fluoreszenzpigment, Metallpulverpigment und polymergebundenen Farbstoff ein. Spezifische Beispiele für diese Pigmente schließen unlösliches Azopigment, Azolackpigment, kondensiertes Azopigment, Chelat-Azopigment, Phthalocyaninpigment, Anthrachinonpigment, Perylenpigment, Perinonpigment, Thioindigopigment, Chinacridonpigment, Dioxazinpigment, Isoindolinonpigment, Chinophthalonpigment, gefärbtes Lackpigment, Azinpigment, Nitrosopigment, Nitropigment, natürliches Pigment, fluoreszentes Pigment, anorganisches Pigment und Ruß ein. Bevorzugt unter diesen Pigmenten ist Ruß.
Diese Pigmente können vor der Verwendung einer Oberflächenbehandlung unterworfen werden oder nicht. Beispiele für ein Verfahren zur Oberflächenbehandlung schließen ein Verfahren ein, das das Beschichten der Oberfläche eines Pigments mit einem Harz oder Wachs umfasst, ein Verfahren, das das Anbringen eines Tensids am Pigment umfasst, und ein Verfahren, das das Binden eines reaktiven Materials (z.B. Silankuppler, Epoxyverbindung, Polyisocyanat) an die Oberfläche des Pigments umfasst. Für Einzelheiten dieser Oberflächenbehandlungsverfahren kann auf "Kinzokusekken no Seisitsu to Ouyo" (Eigenschaften und Anwendung von Metallseife), Saiwai Shobo, "Saishin Ganryou Ouyougijyutu" (Angewandte Technik der modernen Pigmente), CMC, 1986, und "Insatsuinki Gijyutu" (Druckfarbentechnik), CMC, 1984, verwiesen werden.
Der Teilchendurchmesser dieser Pigmente ist bevorzugt 0,01 bis 10 μm, besonders bevorzugt 0,05 bis 1 μm, insbesondere 0,1 bis 1 μm. Falls der Teilchendurchmesser dieser Pigmente unter 0,01 μm fällt, ist es nachteilig in Bezug auf die Stabilität der Dispersion in der Beschichtungslösung der wärmeempfindlichen Zusammensetzung. Falls im Gegensatz der Teilchendurchmesser dieser Pigmente 10 μm übersteigt, ist es nachteilig in Bezug auf die Gleichförmigkeit der so gebildeten bilderzeugenden Schicht.
Als Verfahren zum Dispergieren des Pigments kann eine bekannte Dispersionstechnik zur Verwendung in der Herstellung von Tinte oder Toner verwendet werden. Beispiele für die in dieser Technik zu verwendende Dispergiermaschine schließen eine Ultraschalldispergiermaschine, eine Sandmühle, eine Reibmühle, eine Perlmühle, eine Supermühle, eine Kugelmühle, ein Schaufelrad, einen Dispergierer, eine KD-Mühle, eine Kolloidmühle, ein Dynatron, eine Dreiwalzmühle und einen Druckkneter ein. Für Einzelheiten dieser Dispergiermaschinen kann auf "Saishin Ganryou Ouyougijyutu" (Angewandte Technik der modernen Pigmente), CMC, 1986, verwiesen werden.
Das Licht-Wärme-Umwandlungsmittel, wie z.B. die oben beschriebenen Farbstoffe oder Pigmente, kann in einer Menge von 0,01 bis 50 Gew.-%, bevorzugt von 0,1 bis 10 Gew.-%, insbesondere von 0,5 bis 10 Gew.-% für Farbstoff oder von 1,0 bis 10 Gew.-% für Pigment auf Basis des Gesamtfeststoffgehalts der Zusammensetzung der bilderzeugenden Schicht der wärmeempfindlichen lithografischen Druckplatte aufgenommen werden. Falls die zugesetzte Menge des Pigments oder Farbstoffs unter 0,01 Gew.-% fällt, ist die resultierende Empfindlichkeit verringert. Falls im Gegenteil die zugesetzte Menge des Pigments oder Farbstoffs 50 Gew.-% übersteigt, kann die resultierende Nicht-Bildfläche leicht während des Druckens befleckt werden.
Andere Komponenten
Die zuvor genannten Komponenten können als notwendig in der vorliegenden Erfindung verwendet werden. Falls erforderlich, kann die erfindungsgemäße Zusammensetzung ferner andere verschiedene Verbindungen umfassen, die darin aufgenommen werden.
Zum Beispiel kann ein Farbstoff, der eine hohe Absorption im sichtbaren Bereich aufweist, als Bildfärbungsmittel verwendet werden.
Spezifische Beispiele für einen solchen Farbstoff schließen ein: Oil Yellow #101, Oil Yellow #103, Oil Pink #312, Oil Green BG, Oil Blue BOS, Oil Blue #603, Oil Black BY, Oil Black BS, Oil Black T-505 (hergestellt von Orient Chemical Industries Limited), Victoria Pure Blue, Crystal Violet (CI42555), Methyl Violet (CI42535), Ethyl Violet, Rhodamin B (CI145170B), Malachite Green (CI42000), Methylene Blue (CI52015), und die in JP-A-62-293247 und in der japanischen Patentanmeldung Nr. 7-335145 beschriebene Farbstoffe.
Die zugesetzte Menge eines solchen Farbstoffs beträgt 0,01 bis 10 Gew.-% auf Basis des Gesamtfeststoffgehalts der bilderzeugenden Schicht der wärmeempfindlichen lithografischen Druckplatte.
Die bilderzeugende Schicht der erfindungsgemäßen strahlungsempfindlichen lithografischen Druckplatte kann ein nichtionisches Tensid umfassen, wie beschrieben in JP-A-62-251740 und JP-A-3-208514, oder ein amphoteres Tensid, wie beschrieben in JP-A-59-121044 und JP-A-4-13149, darin aufgenommen zur Steigerung ihrer Stabilität gegenüber Druckbedingungen.
Spezifische Beispiele für das hier einsetzbare nichtionische Tensid schließen Sorbitantristearat, Sorbitanmonopalmitat, Sorbitantrioleat, Monoglyceridstearat und Polyoxyethylennonylphenylether ein.
Spezifische Beispiele für das hier einsetzbare amphotere Tensid schließen Alkyldi(aminoethyl)glycin, Alkylpolyaminoethylglycinhydrochlorid, 2-Alkyl-N-carboxyethyl-N-hydroxyethylimidazoliniumbetain und N-Tetradecyl-N,N-betain (z.B. Amogen K, hergestellt von Daiichi Kogyo Seiyaku Co., Ltd.) ein.
Der Anteil des zuvor genannten nichtionischen Tensids und amphoteren Tensids im Gesamtfeststoffgehalt der bilderzeugenden Schicht ist bevorzugt 0,05 bis 15 Gew.-%, besonders bevorzugt 0,1 bis 5 Gew.-%.
Die bilderzeugende Schicht der erfindungsgemäßen wärmeempfindlichen lithografischen Druckplatte kann ferner einen darin nach Bedarf aufgenommenen Weichmacher umfassen, um der Überzugsschicht Flexibilität oder dergleichen zu verleihen. Beispiele für den hier einsetzbaren Weichmacher schließen Polyethylenglykol, Tributylcitrat, Diethylphthalat, Dibutylphthalat, Dihexylphthalat, Dioctylphthalat, Tricresylphosphat, Tributylphosphat, Trioctylphosphat, Tetrahydrofurfuryloleat und Oligomer und Polymer von Acrylsäure oder Methacrylsäure ein.
Die bilderzeugende Schicht der erfindungsgemäßen wärmeempfindlichen lithografischen Druckplatte kann normalerweise durch ein Verfahren hergestellt werden, das das Auflösen der zuvor genannten Komponenten in einem Lösungsmittel und das anschließende Auftragen der Lösung auf einen geeigneten Träger umfasst. Beispiele für das hier einsetzbare Lösungsmittel schließen Ethylendichlorid, Cyclohexanon, Methylethylketon, Methanol, Ethanol, Propanol, Ethylenglykolmonomethylether, 1-Methoxy-2-propanol, 2-Methoxyethylacetat, 1-Methoxy-2-propylacetat, Dimethoxyethan, Methyllactat, Ethyllactat, N,N-Dimethylacetamid, N,N-Dimethylformamid, Tetramethylharnstoff, N-Methylpyrrolidon, Dimethylsulfoxid, Sulfolan, γ-Butyrolacton, Toluol und Wasser ein. Jedoch sollte die vorliegende Erfindung nicht als auf diese Lösungsmittel beschränkt aufgefasst werden.
Diese Lösungsmittel können einzeln oder im Gemisch verwendet werden. Die Konzentration der genannten Komponenten (Gesamtfeststoffgehalt einschließlich Additive) im zuvor genannten Lösungsmittel ist bevorzugt 1 bis 50 Gew.-%. Die aufgetragene Menge der Beschichtungsverbindung (Feststoffgehalt) auf dem Träger ist bevorzugt 0,5 bis 5,0 g/m², berechnet als getrocknete Menge. Als Verfahren zur Auftragung der Beschichtungsverbindung kann jedes Verfahren verwendet werden. In der Praxis jedoch kann ein Rollrakelstreichverfahren, Rotationsbeschichtungsverfahren, Sprühbeschichtungsverfahren, Vorhangbeschichtungsverfahren, Tauchbeschichtungsverfahren, Luftmesserbeschichtungsverfahren, Rakelstreichverfahren, Walzbeschichtungsverfahren oder dergleichen verwendet werden.
Die bilderzeugende Schicht der erfindungsgemäßen wärmeempfindlichen lithografischen Druckplatte kann darin ein Tensid zur Verbesserung ihrer Beschichtungsfähigkeit umfassen, z.B. ein Tensid auf Fluorbasis, wie beschrieben in JP-A-62-170950. Die Menge eines solchen in der bilderzeugenden Schicht aufzunehmenden Tensids ist bevorzugt 0,01 bis 1 Gew.-%, besonders bevorzugt 0,05 bis 0,5 Gew.-%.
Der in der lithografischen Druckplattenvorstufe zu verwendende Träger (Substrat), auf den das zuvor genannte bilderzeugende Material der vorliegenden Erfindung aufgetragen wird, ist ein formstabiles Plattenmaterial. Als ein solches Material kann bevorzugt eines verwendet werden, das bislang als Träger für eine Druckplatte verwendet wurde. Beispiele für einen solchen Träger schließen Papier, mit Kunststoffen (z.B. Polyethylen, Polypropylen, Polystyrol) laminiertes Papier, Aluminium (einschließlich Aluminiumlegierung), Metallblech, wie Zink, Eisen und Kupfer, Kunststofffolie, wie Cellulosediacetat, Cellulosetriacetat, Cellulosepropionat, Cellulosebutyrat, Celluloseacetobutyrat, Cellulosenitrat, Polyethylenterephthalat, Polyethylen, Polystyrol, Polypropylen, Polycarbonat und Polyvinylacetal, und mit einem solchen Metall laminierte(s) oder metallisierte(s) Papier oder Kunststoffe ein. Besonders bevorzugt unter diesen Trägermaterialien ist Aluminiumblech. Das Aluminiumblech kann aus reinem Aluminium oder Aluminiumlegierung sein. Als Aluminiumlegierung kann jede Aluminiumlegierung verwendet werden. Zum Beispiel kann eine Legierung aus Aluminium mit einem Metall wie Silicium, Kupfer, Mangan, Magnesium, Chrom, Zink, Blei, Bismut und Nickel verwendet werden. Eine solche Zusammensetzung kann eine gewisse Menge Eisen und Titan oder eine vernachlässigbare Menge an Verunreinigungen enthalten.
Organische Haftschicht ("Subbing Layer")
Die wärmeempfindliche lithografische Druckplatte wird bevorzugt mit einer organischen Haftschicht beschichtet, bevor sie mit der bilderzeugenden Schicht beschichtet wird, um den Verbleib der bilderzeugenden Schicht auf der Nicht-Bildfläche nach der Plattenherstellung zu minimieren. Beispiele für die in der organischen Haftschicht aufzunehmenden organischen Verbindung schließen ein: Carboxymethylcellulose, Dextrin, Gummi arabicum, Phosphonsäuren mit einer Aminogruppe, wie 2-Aminoethylphosphonsäure, organische Phosphonsäuren, wie Phenylphosphonsäure, Naphthylphosphonsäure, Alkylphosphonsäure, Glycerophosphonsäure, Methylendiphosphonsäure und Ethylendiphosphonsäure, die Substituenten aufweisen können, organische Phosphorsäuren, wie Phenylphosphorsäure, Naphthylphosphorsäure, Alkylphosphorsäure und Glycerophosphorsäure, die Substituenten aufweisen können, organische Phosphinsäuren, wie Phenylphosphinsäure, Naphthylphosphinsäure, Alkylphosphinsäure und Glycerophosphinsäure, die Substituenten aufweisen können, Aminosäuren, wie Glycin und β-Alanin, und Aminhydrochloride mit einer Hydroxylgruppe, wie Triethanolaminhydrochlorid. Diese organischen Verbindungen können einzeln oder im Gemisch verwendet werden.
Neben diesen organischen Verbindungen können hochmolare Verbindungen mit einer Struktureinheit wie Poly(p-vinylbenzoesäure) verwendet werden.
Die zuvor genannte organische Haftschicht kann durch die folgenden Verfahren bereitgestellt werden. In einem gewissen Detail kann eine Lösung, die durch Auflösen der zuvor genannten organischen Verbindung in Wasser, einem organischen Lösungsmittel wie Methanol, Ethanol und Methylethylketon oder einer Mischung daraus erhalten wird, auf einen Träger aufgetragen und dann getrocknet werden. Ein alternatives Verfahren umfasst das Tauchen eines Trägers in eine Lösung, die durch Auflösen der zuvor genannten organischen Verbindung in Wasser, einem organischen Lösungsmittel wie Methanol, Ethanol und Methylethylketon oder einer Mischung daraus erhalten wird, so dass die organische Verbindung durch den Träger adsorbiert wird, Waschen des Trägers und anschließendes Trocknen des Trägers, um eine organische Haftschicht darauf bereitzustellen. Gemäß dem ersten Verfahren kann eine Lösung der zuvor genannten organischen Verbindung, allgemein mit einer Konzentration von 0,005 bis 10 Gew.-%, auf den Träger durch verschiedene Verfahren aufgetragen werden. Zum Beispiel kann jedes aus einem Rollrakelstreichverfahren, Rotationsbeschichtungsverfahren, Sprühbeschichtungsverfahren, Vorhangbeschichtungsverfahren etc. verwendet werden. Gemäß dem letzteren Verfahren ist die Konzentration der Beschichtungslösung allgemein 0,01 bis 20 Gew.-%, bevorzugt 0,05 bis 5 Gew.-%, die Tauchtemperatur ist allgemein 20 bis 90°C, bevorzugt 25 bis 50°C, und die Tauchzeit ist allgemein 0,1 Sekunden bis 20 Minuten, bevorzugt 2 Sekunden bis 1 Minute.
Die hier einsetzbare Beschichtungslösung kann mit einer basischen Substanz, wie Ammoniak, Triethylamin und Kaliumhydroxid, oder einer sauren Substanz, wie Salzsäure und Phosphorsäure, auf einen pH-Wert von 1 bis 12 vor der Verwendung eingestellt werden. Die Beschichtungslösung kann einen darin aufgenommenen gelben Farbstoff umfassen, um die Farbtonreproduzierbarkeit der wärmeempfindlichen lithografischen Druckplatte zu verbessern.
Die aufgetragene Menge der organischen Haftschicht ist bevorzugt 2 bis 200 mg/m², besonders bevorzugt 5 bis 100 mg/m², berechnet als getrocknete Menge. Falls die aufgetragene Menge der organischen Haftschicht unter 2 mg/m² fällt, kann eine ausreichende Drucklebensdauer nicht erhalten werden. Falls im Gegenteil die aufgetragene Menge der organischen Haftschicht 200 mg/m² übersteigt, tritt der gleiche Nachteil auf.
Zum Zwecke der Verbesserung der Haftung an der bilderzeugenden Schicht kann eine Verbindung, die durch die Hydrolyse und Polykondensationsreaktion eines Silankupplers mit wenigstens einer additionspolymerisierbaren funktionellen Gruppe erhalten wird, durchgefügt in Gegenwart einer durch die folgende Formel (I) dargestellten organischen Sulfonsäure als Katalysator, auf die Oberfläche eines Aluminiumträgers zur Bildung einer organischen Grundierungsschicht aufgetragen werden: RSO₃H (I)worin R eine organische Gruppe mit 2 bis 50 Kohlenstoffatomen darstellt.
Die durch die hydrolytische Polykondensationsreaktion eines Silankupplers mit wenigstens einer additionspolymerisierbaren funktionellen Gruppe, durchgeführt in Gegenwart der oben beschriebenen organischen Sulfonsäure als Katalysator, erhaltene Verbindung ist ein organisch-anorganischer Verbund, worin eine additionsreaktive funktionelle Gruppe an ein anorganisches Polymer gebunden ist, das eine -Si-O-Si-Bindung enthält.
In der vorliegenden Erfindung kann zur Bereitstellung einer Haftmittelschicht auf der Oberfläche eines Trägers ein sogenannter Sol-Gel-Prozess (nachfolgend als "SG-Prozess" bezeichnet) unter Verwendung des oben beschriebenen organisch-anorganischen Verbundes eingesetzt werden. Der SG-Prozess wird beschrieben in Toshio Imai, Yuki Keiso Polymer no Saishin Gijutsu·Dai 6 Sho Sol-Gel Ho to Keiso-Kei Kobunshi no Kenkyu Doukou (neueste Technologie der organischen Siliciumpolymere – Kapitel 6: Untersuchung und Tendenz des So-Gel-Prozesses und Polymere auf Siliciumbasis), CMC (1996), und Sumio Sakka, So-Gel Hou no Kagaku (Verfahren des Sol-Gel-Prozesses), Agune Syouhuusya (1988), jedoch ist die vorliegende Erfindung keinesfalls darauf beschränkt.
Wenn dieser organisch-anorganische Verbund auf einen Träger als Haftmittelschicht aufgetragen und dann getrocknet wird, haftet der anorganische Polymerteil eng am Träger an, wohingegen die additionsreaktive funktionelle Gruppe als solche auf der Trägeroberfläche verbleibt.
Die additionsreaktive funktionelle Gruppe kann ebenfalls auf einen Träger aufgetragen werden, indem die hydrolytische Polykondensationsreaktion eines Silankupplers in einer Lösung, wie z.B. einen Alkohol, der eine geringe Menge Wasser enthält, in Gegenwart eines Katalysators gemäß dem SG-Prozess zur Herstellung einer flüssigen Zusammensetzung, die ein anorganisches Molekül mit hohem Molekulargewicht enthält, durchgeführt wird, die Zusammensetzung als Haftmittelschicht auf die Trägeroberfläche aufgetragen und dann nach Wunsch getrocknet wird.
Der SG-Prozess ist darin vorteilhaft, dass die Verteilung der an die Trägeroberfläche gebundenen und fixierten additionsreaktiven funktionellen Gruppen kaum durch die Verteilung der chemischen Eigenschaften der Trägeroberfläche, wie z.B. Säurepunkt und Basenpunkt, beeinflusst wird.
Beispiele für den Silankuppler zur Verwendung in der vorliegenden Erfindung schließen die durch die folgende Formel (II) dargestellte Verbindung ein: Ra(Rb)SiRc(Rd) (II)(worin wenigstens zwei Vertreter aus Ra bis Rd eine Alkoxygruppe mit 10 oder weniger Kohlenstoffatomen oder -OCOR' sind und die verbleibenden Vertreter jeweils eine additonspolymerisierbare reagierende Gruppe darstellen; und R' eine Alkylgruppe darstellt).
Beispiele für die durch R' in Formel (II) dargestellte Alkylgruppe schließen eine Methylgruppe, Ethylgruppe und Propylgruppe ein, und Beispiele für die additionspolymerisierbare reagierende Gruppe schließen eine Alkenylgruppe und eine Alkinylgruppe ein. Zwischen dem Si-Atom und der additionspolymerisierbaren reagierenden Gruppe kann eine verbindende Gruppe unterschiedlicher Typen gebunden sein. Beispiele für die Alkenylgruppe schließen eine Vinylgruppe, Propenylgruppe, Allylgruppe, Butenylgruppe und Dialkylmaleimidgruppe ein, und Beispiele für die Alkinylgruppe schließen eine Acetylengruppe und Alkylacetylengruppe ein.
Beispiele für den Silankuppler schließen diejenigen ein, die beschrieben werden in Edwin P. Pleuddemann, Silane Coupling Agent, Plenum Press (1982).
Spezifische Beispiele dafür schließen ein: Tetramethoxysilan, Tetraethoxysilan, Tetraisopropoxysilan, Tetra(n-propoxy)silan, Tetra(n-butoxy)silan, Tetrakis(2-ethylbutoxy)silan, Tetrakis(2-ethylhexyloxy)silan, Tetrakis(2-methoxyethoxy)silan, Tetraphenoxysilan und Tetraacetoxysilan. Darunter ist Tetraethoxysilan bevorzugt.
Spezifische Beispiele für den Silankuppler mit einer additionspolymerisierbaren reagierenden Gruppe mit ethylenischer Doppelbindung sind nachfolgend aufgeführt, jedoch ist die vorliegende Erfindung keinesfalls darauf beschränkt.
CH₂=CH-Si(OCOCH₃)₃,
CH₂=CH-Si(OC₂H₅)₃,
CH₂=CH-Si(OCH₃)₃,
CH₂=CHCH₂-Si(OC₂H₅)₃,
CH₂=CHCH₂NH(CH₂)₃-Si(OCH₃)₃,
CH₂=CHCOO-(CH₂)₃-Si(OCH₃)₃,
CH₂=CHCOO-(CH₂)₃-Si(OC₂H₅)₃,
CH₂=CHCOO-(CH₂)₄-Si(OCH₃)₃,
CH₂=C(CH₃)COO-(CH₂)₃-Si(OCH₃)₃,
CH₂=C(CH₃)COO-(CH₂)₃-Si(OC₂H₅)₃,
CH₂=C(CH₃)COO-(CH₂)₄-Si(OCH₃)₃,
CH₂=(CH₃)COO-(CH₂)₅-Si(OCH₃)₃,
(CH₂=C(CH₃)COO-(CH₂)₃)₂-Si(OCH₃)₂,
CH₂=C(CH=CH₂)-Si(OCH₃)₃,
CH₂=CH-SO₂NH-(CH₂)₃-Si(OCH₃)₃,
CH₂=CH-Ph-O-Si(OCH₃)₃,
(worin Ph einen Benzolring darstellt)
CH₂=CH-Ph-CONH-(CH₂)₃-Si(OCH₃)₃,
CH₂=CH-Ph-CH₂NH-(CH₂)₃-Si(OCH₃)₃,
CH₂=CH-Ph-CH₂NH-C₂H₄NH(CH₂)₃-Si(OCH₃)₃·HCl,
HC≡C-Si(OC₂H₅)₃,
CH₃C≡C-Si(OC₂H₅)₃,
DMI-(CH₂)_m-CONH-(CH₂)₃-Si(OCH₃)₃,
(worin DMI eine Dimethylmaleimidgruppe darstellt und m eine Zahl von 1 bis 20 ist)
CH₂=CHCH₂O-Si(OCH₃)₃,
(CH₂=CHCH₂O)₄Si,
HO-CH₂-C≡C-Si(OC₂H₅)₃,
CH₃CH₂CO-C≡C-Si(OC₂H₅)₃,
CH₂=CHS-(CH₂)₃-Si(OCH₃)₃,
CH₂=CHCH₂O-(CH₂)₂-SCH₂-Si(OCH₃)₃,
CH₂=CHCH₂S-(CH₂)₃-S-Si(OCH₃)₃,
(CH₃)₃CCO-C≡C-Si(OC₂H₅)₃,
(CH₂=CH)₂N-(CH₂)₂-SCH₂-Si(OCH₃)₃,
CH₃COCH=C(CH₃)-O-Si(OCH₃)₃
Einige Verbindungen dieser Silankuppler können in einem beliebigen Verhältnis vermischt werden.
Zum Zeitpunkt der Auftragung einer Haftmittelschicht, die die Verbindung enthält, die durch die SG-Reaktion des Silankupplers erhalten wird, auf einem Träger können die oben beschriebenen Silankuppler entweder individuell oder in Kombination verwendet werden oder können nach Verdünnung mit einem geeigneten Lösungsmittel verwendet werden. Beispiele für das Lösungsmittel schließen Methanol, Ethanol, Propanol, Isopropanol, Ethylenglykol, Hexylenglykol, THF und DMF ein. Darunter sind Alkohole bevorzugt. Diese organischen Lösungsmittel können ebenfalls in Kombination aus zwei oder mehreren davon verwendet werden.
Die Menge des verwendeten Lösungsmittels ist allgemein 0,2- bis 500-fach, bevorzugt 0,5- bis 100-fach, besonders bevorzugt 1- bis 20-fach, bezogen auf das Gesamtgewicht des verwendeten Silankupplers. Falls die verwendete Menge weniger als 0,2-fach ist, ist die Reaktionslösung nachteilig instabil und geliert leicht im Verlauf der Zeit, wohingegen die Reaktion, wenn die Menge 500-fach überschreitet, mehrere Tage erfordert, und dies ist nicht bevorzugt.
In der vorliegenden Erfindung kann auch Wasser verwendet werden, um die Hydrolysereaktion zu beschleunigen. Die zur Hydrolyse des Silankupplers hinzugegebene Wassermenge ist allgemein 0,1 bis 1000 mol, bevorzugt 0,5 bis 200 mol, besonders bevorzugt 1,5 bis 100 mol pro Mol der Verbindung. Falls die Wassermenge weniger als 0,1 mol pro Mol der Verbindung ist, schreiten die Hydrolyse und die anschließende Polykondensationsreaktion langsam fort, und mehrere Tage sind notwendig, um eine stabile Oberflächenbehandlung zu erreichen, wohin gegen ein Haftungsversagen auftreten kann, falls die Wassermenge 1000 mol pro Mol der Verbindung übersteigt, wenn die hergestellte Zusammensetzung auf eine Metalloberfläche aufgetragen wird, oder die Zusammensetzung verschlechtert sich in der Alterungsstabilität und geliert leicht, so dass als Ergebnis die Auftragungsarbeit nicht stabil durchgeführt werden kann.
Die zur Herstellung einer Zusammensetzung, die für den SG-Prozess geeignet ist, verwendete Temperatur ist von Raumtemperatur bis ca. 100°C. Die Reaktion kann ebenfalls bei einer Temperatur von mehr als dem Siedepunkt des Lösungsmittels durchgeführt werden, und in diesem Fall wird nach Wunsch ein Rückflusskondensator vorzugsweise am Reaktor angeschlossen.
Rückenbeschichtung
Der Träger kann mit einer Rückenbeschichtung auf seiner anderen Oberfläche nach Bedarf versehen werden. Als eine solche Rückenbeschichtung kann bevorzugt eine Überzugsschicht verwendet werden, die aus einem Metalloxid hergestellt wird, das durch Hydrolyse und Polykondensation einer organischen hochmolekularen Verbindung, wie beschrieben in JP-A-5-45885, mit einer organischen oder anorganischen Metallverbindung, wie beschrieben in JP-A-6-35174, erhalten wird.
Besonders bevorzugt unter diesen Überzugsschichten sind diejenigen, die aus Metalloxiden hergestellt werden, die aus Alkoxyverbindungen von Silicium erhalten werden, wie Si(OCH₃)₄, Si(OC₂H₅)₄, Si(OC₃H₇)₄ und Si(OC₄H₉)₄, die kostengünstig und leicht verfügbar sind. Die Überzugsschichten besitzen eine ausgezeichnete Hydrophilie.
Auf diese Weise kann die erfindungsgemäße wärmeempfindliche lithografische Druckplatte hergestellt werden. Die so hergestellte wärmeempfindliche lithografische Druckplatte kann direkt der bildweisen thermischen Aufzeichnung mit einem thermischen Aufzeichnungskopf oder dergleichen unterworfen werden oder kann bildweise mit Licht aus einem Feststofflaser oder Halbleiterlaser belichtet werden, der Infrarotstrahlung mit einer Wellenlänge von 760 bis 1200 nm emittiert. In der vorliegenden Erfindung wird die wärmeempfindliche lithografische Druckplatte, die so der thermischen Aufzeichnung oder Bestrahlung mit einem Laserstrahl unterworfen wurde, einer wässrigen Entwicklung unterworfen, gegebenenfalls gefolgt von Gummierung, und dann auf der Druckmaschine zum Drucken montiert. Alternativ kann die wärmeempfindliche lithografische Druckplatte, die so der thermischen Aufzeichnung oder Bestrahlung mit einem Laserstrahl unterworfen wurde, unmittelbar auf der Druckmaschine zum Drucken montiert werden. In der Praxis wird die wärmeempfindliche lithografische Druckplatte, die so der thermischen Aufzeichnung oder Bestrahlung mit einem Laserstrahl unterworfen wurde, jedoch einer Wärmebehandlung unterworfen. Die Wärmebehandlung wird bevorzugt bei einer Temperatur von 80 bis 150°C für 10 Sekunden bis 5 Minuten bewirkt. Diese Wärmebehandlung ermöglicht es, die Menge der Wärme oder Laserenergie zu reduzieren, die zur thermischen Aufzeichnung oder Bestrahlung mit einem Laserstrahl erforderlich ist.
Die so erhaltene lithografische Druckplatte wird auf der Offset-Druckmaschine montiert, nachdem sie einer wässrigen Entwicklung unterworfen wurde, oder als solche. In dieser Anordnung werden viele Blätter gedruckt.
Die vorliegende Erfindung wird ferner in den folgenden Beispielen beschrieben, aber die vorliegende Erfindung sollte nicht als darauf beschränkt aufgefasst werden.
Beispiele 1 bis 4
Herstellung eines Trägers
Herstellung eines Trägers durch den Sol-Gel-Prozess:
Die Oberfläche eines 0,30 mm dicken Aluminiumblechs wurde unter Verwendung einer Nylonbürste und einer wässrigen Suspension von 400 mesh Bimsstein gekörnt und dann sorgfältig mit Wasser gewaschen. Anschließend wurde das Aluminiumblech durch Eintauchen in eine 10 Gew.-%ige wässrige Lösung von Natriumhydroxid bei 70°C für 60 Sekunden geätzt, mit fließendem Wasser gewaschen, zur Neutralisation mit 20 Gew.-%iger Salpetersäure gewaschen und dann mit Wasser gewaschen. Das erhaltene Aluminiumblech wurde einer elektrolytischen Oberflächenaufrauhungsbehandlung in einer 1 Gew.-%igen wässrigen Lösung von Salpetersäure unter Verwendung eines sinusförmigen Wechselstroms unter der Bedingung von V_A = 12,7 V mit einem Strom von 160 Coulomb/dm² an der Anode unterworfen. Die Oberflächenrauhigkeit wurde gemessen und zu 0,6 μm (Ra-Angabe) festgestellt. Anschließend wurde das Aluminiumblech in 30 Gew.-%ige wässrige Schwefelsäurelösung getaucht und für 2 Minuten bei 55°C gereinigt. Danach wurde das Aluminiumblech einer Eloxierungsbehandlung in 20 Gew.-%iger wässriger Schwefelsäurelösung bei einer Stromdichte von 2 A/dm² für 2 Minuten unterworfen, um eine anodische Oxidschicht mit einer Dicke von 2,7 g/dm² zu bilden.
Eine flüssige Zusammensetzung (Sol-Lösung) für den SG-Prozess wurde durch das folgende Verfahren hergestellt: Sol-Lösung

Methanol 130 g

Wasser 20 g

85%ige Phosphorsäure 16 g

Tetraethoxysilan 50 g

3-Methacryloxypropyltrimethoxysilan 60 g
Die Sol-Lösung mit der oben gezeigten Zusammensetzung wurde vermischt und gerührt, und als Ergebnis wurde nach ca. 5 Minuten Wärme erzeugt. Nach Fortschreiten der Reaktion für 60 Minuten wurde der Inhalt in einen separaten Behälter überführt, und 3.000 g Methanol wurden zum Erhalt einer Sol-Lösung hinzugegeben. Diese Sol-Lösung wurde mit Methanol/Ethylenglykol (= 9/1 (gewichtsbezogen)) verdünnt, und die verdünnte Lösung wurde auf Substrat auf eine Si-Bedeckung von 3 mg/m² aufgetragen und dann für 1 Minute bei 100°C getrocknet.
Herstellung einer Beschichtungslösung für die bilderzeugende Schicht
Als Beschichtungslösung für die bilderzeugende Schicht wurde eine Lösung mit der in der nachfolgenden Tabelle 1 gezeigten Formulierung hergestellt:
Tabelle 1
(Fußnote)

MEK: Methylethylketon
ATMMT: Pentaerythrittetraacrylat
DMAB: 4,4'-Dimethylaminobenzophenon
IR125: hergestellt von Wako Pure Chemical Industries, Ltd.

Die so hergestellte Lösung wurde auf den so hergestellten Träger aufgetragen und dann bei einer Temperatur von 80°C für 1 Minute getrocknet. Anschließend wurde das beschichtete Material mit Ultraviolettstrahlung unter Verwendung einer Metallhalogenidlampe mit 1.000 Impulsen belichtet, um eine lithografische Druckplattenvorstufe mit einer darauf gebildeten fotovernetzten bilderzeugenden Schicht zu erhalten.
Drucktest
Die so erhaltene lithografische Druckplattenvorstufe wurde dann bildweise mit Licht aus einem YAG-Laser belichtet, der Infrarotstrahlung mit einer Wellenlänge von 1.064 nm emittiert. Die so belichtete lithografische Druckplatte wurde dann einem Drucktest unter Verwendung eines Heidel SOR-M zur Auswertung der Abfärbungsfähigkeit unterworfen.
Keines dieser Beispiele litt an Abfärbung, selbst nach 20.000 gedruckten Blättern.
Beispiele 5 bis 8
Eine Lösung mit den in der nachfolgenden Tabelle 2 gezeigten Komponenten wurde als Beschichtungslösung für eine bilderzeugende Schicht hergestellt.
Tabelle 2
Farbstoff A
Die erhaltene Lösung wurde auf einen oben hergestellten Träger aufgetragen und für 1 Minute bei 80°C getrocknet. Die gebildete Beschichtung wurde der UV-Belichtung unterworfen (unter Verwendung einer Metallhalogenidlampe für 1.000 Impulse), um eine lithografische Druckplattenvorstufe mit einer fotovernetzten bilderzeugenden Schicht zu erhalten.
Drucktest
Die erhaltene lithografische Druckplattenvorstufe wurde bildweise mit einem Halbleiterlaser belichtet, der Infrarotstrahlung mit einer Wellenlänge von 830 nm emittieren konnte. Nach der Belichtung wurde die lithografische Originaldruckplatte als solche für einen Drucktest in einem Heidel SOR-M verwendet und auf Erzeugung von Abfärbung ausgewertet.
In allen Beispielen wurde keine Abfärbung erzeugt, selbst wenn 20.000 Blätter gedruckt wurden.
Wie oben erwähnt wurde, kann die vorliegende Erfindung eine wärmeempfindliche lithografische Druckplatte bereitstellen, die einer wässrigen Entwicklung unterworfen werden kann oder eine beliebige spezielle Behandlung erfordert, wie z.B. eine Nassentwicklung und Reiben nach der Bildaufzeichnung. Insbesondere kann die vorliegende Erfindung eine wärmeempfindliche lithografische Druckplatte bereitstellen, die der Aufzeichnung mit einem Feststofflaser oder Halbleiterlaser unterworfen werden kann, der Infrarotstrahlung emittiert, was die direkte Plattenherstellung aus digitalen Daten erlaubt.
Die vorliegende Erfindung kann ferner eine wärmeempfindliche lithografische Druckplatte mit ausgezeichneter Drucklebensdauer bereitstellen.

Claims

Wärmeempfindliche lithografische Druckplatte, die eine bildgebende Schicht umfasst, die ein Polymer enthält, das sich durch Wärme von hydrophob zu hydrophil verändern kann und durch eine Fotovernetzungsreaktion vernetzt ist.
Wärmeempfindliche lithografische Druckplatte gemäss Anspruch 1, worin das Polymer in seiner Seitenkette eine Gruppe umfasst, die sich bei Einwirkung von Wärme von hydrophob zu hydrophil verändert.
Wärmeempfindliche lithografische Druckplatte gemäss Anspruch 2, worin die Gruppe, die sich bei Einwirkung von Wärme von hydrophob zu hydrophil verändert, aus der Gruppe ausgewählt ist, die aus einer Sulfonsäureestergruppe, einer Disulfongruppe, einer Sulfonimidgruppe und einer Alkoxyalkylestergruppe besteht.