DE4404560C1 - Verfahren zur Herstellung einer Muttermatrize für die galvanische Erzeugung von nahtlosen Rotations-Siebdruckschablonen, insbesondere aus Nickel - Google Patents
Verfahren zur Herstellung einer Muttermatrize für die galvanische Erzeugung von nahtlosen Rotations-Siebdruckschablonen, insbesondere aus NickelInfo
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Description
Die Erfindung betrifft ein Verfahren zur Herstellung ei
ner Muttermatrize für die galvanische Erzeugung von naht
losen Rotations-Siebdruckschablonen insbesondere aus
Nickel, wobei ein metallischer Muttermatrizen-Grundkör
per mit zylindrischer Mantelfläche auf seinem Außenum
fang mit in einem regelmäßigen Raster verteilten Vertie
fungen versehen wird, die einen runden oder mehreckigen
Umriß aufweisen und zwischen denen ein regelmäßiges Netz
bildende Rasterstege verbleiben, und wobei die Vertiefun
gen anschließend mit einer elektrisch nichtleitenden
Füllmasse bündig bis zur Höhe der Rasterstege verfüllt
werden, wonach dann wiederholt durch galvanisches Auftra
gen von Metall und axiales Abziehen der so entstandenen
Hülse Siebdruckschablonen erzeugbar sind.
In der Praxis werden Muttermatrizen für den genannten
Verwendungszweck bisher durch das sogenannte Molettieren
hergestellt. Dabei wird mittels einer Molette das ge
wünschte Vertiefungsraster in die Mantelfläche des Mut
termatrizen-Grundkörpers eingedrückt. Die Molette ist
eine relativ kleine Walze, die auf dem Umfang des Mutter
matrizen-Grundkörpers entlang einer Schraubenlinie unter
starker Andruckkraft abgerollt wird. Die Molette trägt
auf ihrer Umfangsfläche in dem gewünschten Raster ange
ordnete Vorsprünge, die ein Negativbild der gewünschten
Vertiefungen für die Muttermatrize darstellen.
Nachteilig erfordert dieses bekannte Verfahren einen
hohen maschinellen, personellen und zeitlichen Aufwand.
Insbesondere ist es sehr schwierig und nur mit großer Er
fahrung möglich, die Molette so auf dem Außenumfang des
Muttermatrizen-Grundkörpers abzurollen, daß die über den
Außenumfang des Muttermatrizen-Grundkörpers verlaufende
Schraubenlinie in Längs- und Umfangsrichtung des Mutter
matrizen-Grundkörpers gesehen keinen Versatz im Raster
bild aufweist. Außerdem ist die Herstellung von Moletten
sehr aufwendig, da hierfür umfangreiche mechanische Be
arbeitungsschritte erforderlich sind. Jede Rasterände
rung macht auch die Fertigung einer geänderten Molette
nötig. Ein weiterer Nachteil ist darin zu sehen, daß das
Material des Muttermatrizen-Grundkörpers relativ weich
sein muß, damit durch die Molette überhaupt die gewünsch
ten Vertiefungen eingedrückt oder eingewalzt werden kön
nen. Aus diesem Grund kann bisher praktisch nur Kupfer
für den Muttermatrizen-Grundkörper verwendet werden, der
oberflächlich mit einer dünnen Verchromung versehen ist.
Zur Stabilitätserhöhung, die wegen des Abrollens der
Molette mit hoher Andruckkraft benötigt wird, muß der
Muttermatrizen-Grundkörper zudem einen stabilen Stahl
kern aufweisen, was die Muttermatrize insgesamt sehr
schwer und damit schwierig handhabbar und transportier
bar macht.
Die durch das Molettieren erzeugbaren Vertiefungen kön
nen nur pyramidenstumpf- oder kegelstumpfförmig mit rela
tiv flach geneigten Flanken sein. Dies führt zu dem Nach
teil, daß die in den Vertiefungen liegende elektrisch
nichtleitende Füllmasse an den Rändern der Vertiefungen
sehr dünn wird und dort leicht ausbricht. Beim späteren
galvanischen Auftragen von Metall auf die Muttermatrize
zur Bildung der Siebdruckschablone kommt es dann beim Ab
ziehen der fertig galvanisierten Schablone zu einem Be
schädigen der Oberfläche der Muttermatrize durch von der
Schablone nach innen vorragende Metallnasen, die sich in
den Ausbruchstellen der Füllmasse bilden konnten. Da zu
dem die Muttermatrize aus relativ weichem Kupfer be
steht, gegenüber welchem beispielsweise Nickel als bevor
zugtes Siebdruckschablonenmaterial relativ hart ist, bil
den sich trotz der Verchromung, die aber nur sehr dünn
sein kann, leicht Riefen in Längsrichtung der Mutterma
trize, die deren Verwendbarkeit auf relativ wenige Pro
duktionsdurchgänge für die Erzeugung von Siebdruckscha
blonen begrenzen.
Außer dem zuvor beschriebenen mechanischen Molettieren
sind aus EP 0 030 774 A1 weitere Verfahren der eingangs
genannten Art bekannt. Als erstes bekanntes Verfahren
zur Herstellung einer Muttermatrize ist dort beschrie
ben, daß die Vertiefungen, die mit nicht leitendem Ma
terial gefüllt werden sollen, durch Ätzung hergestellt
werden. Wie diese Ätzung vorgenommen werden soll, ist in
der Schrift nicht beschrieben, jedoch ist es für den
Fachmann selbstverständlich, daß hierzu eine Ätzmaske
verwendet werden muß. Zur Herstellung, Art und Behand
lung der Ätzmaske gibt die Schrift aber ebenfalls keiner
lei Hinweise. Als zweites Herstellungsverfahren zur Her
stellung einer Muttermatrize ist der Schrift zu entneh
men, mit einem gesteuerten Energiestrahl durch thermi
sche Einwirkung direkt näpfchenartige Bereiche des Mut
termatrizen-Grundkörpers in einen nichtleitenden Zustand
zu versetzen. Beispielsweise wird bei einem aus elek
trisch leitendem Aluminium bestehenden Muttermatrizen-
Grundkörper durch den Energiestrahl Aluminium oberfläch
lich in Aluminiumoxyd umgewandelt, das nicht elektrisch
leitend ist.
Als nachteilig wird bei dem aus EP 0 030 774 A1 bekann
ten Stand der Technik angesehen, daß die erreichbare Ge
nauigkeit der Konturen der nichtleitenden Bereiche auf
der Oberfläche der Muttermatrize begrenzt ist und daß da
durch die Qualität der auf dieser Muttermatrize erzeug
ten Siebdruckschablonen nicht optimal ist.
Es stellt sich daher die Aufgabe, ein Verfahren der ein
gangs genannten Art anzugeben, welches die Herstellung
einer Muttermatrize für die galvanische Erzeugung von
nahtlosen Rotations-Siebdruckschablonen, insbesondere
aus Nickel, mit einem geringen maschinellen, personellen
und zeitlichen Aufwand erlaubt und mittels welchem Mut
termatrizen mit hoher Qualität, d. h. insbesondere mit ei
ner großen Genauigkeit der Konturen der nichtleitenden
und leitenden Bereiche auf ihrer Oberfläche, und mit lan
ger Standzeit herstellbar sind.
Die Lösung dieser Aufgabe gelingt erfindungsgemäß durch
ein Verfahren der eingangs genannten Art, welches gekenn
zeichnet ist durch folgende Verfahrensschritte:
- a) die Mantelfläche des Muttermatrizen-Grundkörpers wird mit einer photo- oder thermo- oder elektrosensitiven Beschichtung überzogen,
- b) die Beschichtung wird mittels eines nach Maßgabe elek tronisch gespeicherter Daten gesteuerten Strahls mit dem Positiv- oder Negativbild des gewünschten Vertie fungsrasters belichtet und danach unmittelbar oder nach Durchlaufen eines Entwicklungsprozesses in den Bereichen, in denen die Vertiefungen vorgesehen sind, mittels eines chemischen und/oder physikalischen Ent fernungsprozesses abgetragen,
- c) in den von der Beschichtung befreiten Bereichen der Mantelfläche des Muttermatrizen-Grundkörpers werden durch Ätzen oder elektrolytischen Metallabtrag die Vertiefungen gebildet,
- d) die verbliebenen Teile der Beschichtung werden voll ständig entfernt und
- e) die Vertiefungen werden mit der elektrisch nichtlei tenden Füllmasse verfüllt.
Eine alternative Ausgestaltung des erfindungsgemäßen Ver
fahrens schlägt gemäß Anspruch 2 vor, daß der Verfahrens
schritt b) wie folgt ausgeführt wird:
- b) die Beschichtung wird mittels eines nach Maßgabe elek tronisch gespeicherter Daten gesteuerten Strahls in den Bereichen, in denen die Vertiefungen vorgesehen sind, unmittelbar abgetragen.
Die Erfindung bietet den Vorteil, daß alle Molettierwerk
zeuge und die hierfür benötigten Vorrichtungen nicht
mehr erforderlich sind. Dadurch wird eine große Einspa
rung hinsichtlich des technischen, personellen und zeit
lichen Aufwandes erreicht. Da die Umrißform der Vertie
fungen und das Raster, in dem diese Vertiefungen angeord
net sind, nun elektronisch gespeichert sind, können die
Umrißform der Vertiefungen und deren Verteilung inner
halb des Rasters sehr genau hergestellt und mit geringem
Aufwand verändert und an die jeweiligen Bedürfnisse ange
paßt werden, ohne daß, wie dies zuvor erforderlich war,
neue Molettierwerkzeuge herzustellen wären.
Durch das Ätzen oder den elektrolytischen Metallabtrag
erhalten die Vertiefungen eine Kontur, die einen verbes
serten Halt der elektrisch nichtleitenden Füllmasse bie
tet. Dies beruht darauf, daß die Vertiefungen nun nicht
mehr mit flachen Flanken ausgebildete Kegelstümpfe oder
Pyramidenstümpfe sind, sondern im Querschnitt betrachtet
eher die Form von ovalen Näpfen erhalten. Hierdurch be
hält die Füllmasse innerhalb der Vertiefungen auch in
deren Randbereichen eine vergleichsweise große Dicke, so
daß Ausbrüche der Füllmasse vermieden werden. Hierdurch
können sich auch keine vorspringenden Metallnasen bei
der späteren Aufgalvanisierung der Siebdruckschablone
bilden, was eine bessere Qualität der Siebdruckschablo
nen ergibt und Beschädigungen der Muttermatrize beim
axialen Abziehen der Schablone vermeidet. Hierdurch er
hält die Muttermatrize eine höhere Standzeit, die in der
Praxis zwei- bis dreimal so lang sein kann, wie dies bei
bisher verwendeten Muttermatrizen erreichbar war.
Bevorzugt ist weiter vorgesehen, daß als Strahl ein Ul
traviolett-Laserstrahl oder ein thermisch wirkender La
serstrahl oder ein Elektronenstrahl verwendet wird. Die
genannten Strahlen lassen sich vergleichsweise einfach
erzeugen und fokussieren, so daß, im Zusammenwirken mit
einer entsprechend ausgewählten Beschichtung mit passen
der Sensitivität, Vertiefungen und Raster mit einer ho
hen Auflösung und Genauigkeit sowie großen MESH-Zahlen
erzeugen lassen.
Da bei dem erfindungsgemäßen Verfahren kein mechanisches
Eindrücken der Vertiefungen in den Muttermatrizen-Grund
körper mehr erfolgt, muß dieser nicht mehr aus dem rela
tiv weichen Kupfer bestehen, sondern kann auch aus einem
härteren Metall bestehen, wobei dieses bevorzugt Nickel
ist. Das Metall Nickel bietet den Vorteil einer hohen
Härte, einer hohen Festigkeit und einer hohen Gefügedich
te. Weiterhin weist es eine gute elektrische Leitfähig
keit auf und ist gut galvanisierbar. Hierdurch kann eine
Verchromung der Oberfläche der Muttermatrize entfallen,
was das Recyceln von nicht mehr einsetzbaren Muttermatri
zen erleichtert. Ein weiterer durch die Verwendung von
Nickel als Material für die Muttermatrize erreichbarer
Vorteil besteht darin, daß sich die Nickeloberfläche der
Muttermatrize selbsttätig durch die Bildung einer Nickel
oxydschicht schützt, die aber elektrisch leitend bleibt.
Zugleich sorgt diese Nickeloxydschicht aber dafür, daß
sich die auf die Muttermatrize aufgalvanisierte Sieb
druckschablone leicht von der Muttermatrize abziehen
läßt, da die Nickeloxydschicht auf der Muttermatrize als
Trennmittel wirkt.
Um Material und insbesondere Gewicht einzusparen, kann
als Muttermatrizen-Grundkörper auch eine hohlzylindri
sche Nickelhülse eingesetzt werden. Dies ist ohne weite
res möglich, weil wegen des Wegfalls der mechanischen
Andruckkräfte zwischen Molette und Muttermatrizen-Grund
körper letzterer keine besonders hohe mechanische Stabi
lität mehr aufweisen muß. Zudem erlaubt die Verwendung
einer hohlzylindrischen Nickelhülse eine leichtere Hand
habung und einen erleichterten und kostengünstigeren
Transport oder Versand zwischen dem Hersteller der Mut
termatrize und dem im allgemeinen damit nicht identi
schen Hersteller von Siebdruckschablonen.
Als elektrisch nichtleitende Füllmasse wird bevorzugt
ein aushärtbares Kunstharz oder eine aushärtbare kerami
sche Masse eingesetzt. Diese Materialien bieten den Vor
teil, daß sie einerseits zunächst als noch viskose Masse
in die Vertiefungen einbringbar sind und daß sie anderer
seits nach dem Aushärten sehr fest in den Vertiefungen
haften und eine hohe Festigkeit und Oberflächengüte auf
weisen. Insbesondere sind diese Materialien nach dem Aus
härten auch durch mechanische Verfahren, z. B. Drehen
oder Schleifen, bearbeitbar, ohne daß sie sich aus den
Vertiefungen lösen oder am Rand der Vertiefungen ausbre
chen.
Die Vertiefungen werden vorzugsweise mit einem regelmäßi
gen sechseckigen Umriß erzeugt; weiterhin werden die Ver
tiefungen bevorzugt wabenförmig in einem Hexagonalraster
verteilt angeordnet. Dies bietet den Vorteil, daß die
auf dieser Muttermatrize erzeugten Siebdruckschablonen
eine hohe Festigkeit und Stabilität bei geringem Gewicht
sowie ein gutes Steg-Durchlaß-Verhältnis aufweisen. Ver
tiefungen mit einem regelmäßigen sechseckigen Umriß, die
wabenförmig in einem Hexagonalraster verteilt angeordnet
sind, sind zwar an sich aus JP-4-347 635 bekannt, jedoch
erfolgt hier die Herstellung der Vertiefungen nach einem
anderen als dem erfindungsgemäßen Verfahren. Bei dem
vorangehend beschriebenen Verfahren gemäß Erfindung be
steht zudem der Vorteil, daß aufgrund der elektronischen
Speicherbarkeit der Umrißform der Vertiefungen und deren
Verteilung im Raster jede Freiheit bei der Gestaltung
dieser Parameter gegeben ist.
Im folgenden wird anhand einer Zeichnung ein Ablaufbei
spiel des erfindungsgemäßen Verfahrens beschrieben. Die
Fig. 1 bis 5 der Zeichnung zeigen einen Ausschnitt
aus dem Umfangsbereich eines Muttermatrizen-Grundkörpers
während verschiedener Verfahrensschritte; die Fig. 6
der Zeichnung zeigt einen Ausschnitt aus dem Umfangsbe
reich einer fertigen Muttermatrize.
Gemäß Fig. 1 der Zeichnung besteht der Muttermatrizen-
Grundkörper 1 aus Metall und weist eine zylindrische Man
telfläche 10 auf. Der Grundkörper 1 kann als Zylinder
oder hohlzylindrische Hülse ausgeführt sein.
Auf die Mantelfläche 10 des Grundkörpers 1 ist eine sen
sitive Beschichtung 2 in Form einer vergleichsweise dün
nen Schicht aufgetragen, die in der Zeichnung übertrie
ben dick dargestellt ist. Bei dieser Beschichtung 2 kann
es sich um ein photo-, thermo- oder elektrosensitives Ma
terial handeln, wie dies an sich bekannt ist. Auch Auf
tragverfahren für derartige Beschichtungen zur Erzielung
einer gleichmäßigen Schichtdicke sind bekannt und brau
chen hier nicht näher erläutert zu werden.
Fig. 2 der Zeichnung zeigt den Muttermatrizen-Grundkör
per 1 während eines Verfahrensschrittes, in welchem mit
tels eines Lasers 30, der einen Laserstrahl 3 gesteuert
aussendet, eine Belichtung der sensitiven Beschichtung
2, hier mit dem Negativ-Bild der gewünschten Vertiefun
gen erfolgt. Dabei werden der Muttermatrizen-Grundkörper
1 und der Laser 30 relativ zueinander in zwei Richtun
gen, vorzugsweise die Axialrichtung und die Umfangsrich
tung bewegt, so daß nach und nach die gesamte Umfangs
flä
che des Muttermatrizen-Grundkörpers 1 überstrichen wird.
Während dieser relativen Bewegung zueinander wird der
Strahl 3 nach Maßgabe elektronisch gespeicherter Daten
ein- und ausgeschaltet, um das Positiv- oder Negativbild
eines gewünschten Rasters auf die Beschichtung 2 aufzube
lichten, je nachdem, ob diese photopositiv oder photone
gativ reagiert. Im vorliegenden Fall, der in der Zeich
nung dargestellt ist, wird die Beschichtung 2 durch die
Belichtung in den Bereichen 20 so verändert, daß sie für
einen nachfolgenden chemischen und/oder physikalischen
Abtragprozeß unlöslich wird. Zwischen den belichteten Be
reichen 20 verbleiben unbelichtete Bereiche 21, die den
Bereichen entsprechen, in denen später Vertiefungen in
dem Grundkörper 1 erzeugt werden sollen.
Fig. 3 der Zeichnung zeigt den Muttermatrizen-Grundkör
per 1 nach Durchlaufen des Abtragprozesses, in welchem
die unbelichteten Bereiche 21 der Beschichtung 2 abge
tragen worden sind. Nunmehr verbleiben von der Beschich
tung 2 auf der Mantelfläche 10 lediglich noch die belich
teten Bereiche 20, die ein netzförmiges Raster von nach
außen vorragenden Stegen bilden, die jeweils regelmäßige
Sechsecke einschließen.
In der Fig. 4 der Zeichnung ist der Muttermatrizen-
Grundkörper nach Durchlaufen eines Ätzbades oder eines
elektrolytischen Abtragvorganges gezeigt. Durch dieses
Ätzen oder elektrolytische Abtragen wird Metall des Mut
termatrizen-Grundkörpers 1 dort abgetragen, wo die ätzen
de Säure oder die Elektrolytflüssigkeit Zugang zur Man
telfläche 10 hat. Unterhalb der Bereiche 20 der Beschich
tung 2 hat die Säure oder die Elektrolytflüssigkeit kei
nen Zugang zur Mantelfläche 10 des Grundkörpers 1, so
daß hier ein Metallabtrag nicht erfolgen kann.
In einem weiteren Verfahrensschritt wird durch ein geeig
netes Abtragverfahren der verbleibende Teil 20 der Be
schichtung 2 ebenfalls abgetragen, wonach der Mutter
matrizen-Grundkörper die in Fig. 5 gezeigte Oberflächen
form aufweist. Diese ist charakterisiert durch ein Ra
ster von im Umriß sechseckigen Vertiefungen 11, zwischen
denen netzförmig verteilt Stege 12 liegen. Die äußere
Oberfläche der Stege 12 entspricht dabei der Mantelflä
che 10 des Grundkörpers 1.
Fig. 6 der Zeichnung schließlich zeigt die fertige Mut
termatrize 1′, bei welcher nun die Vertiefungen 11 voll
ständig mit einer Füllmasse 4 bis in Höhe der Oberkante
der Stege 12 und damit bis zur ursprünglichen Mantelflä
che 10 des Muttermatrizen-Grundkörpers 1 ausgefüllt
sind. Hierdurch werden auf der Mantelfläche 10 der Mut
termatrize 1′ in der gewünschten Verteilung Bereiche mit
unterschiedlichen elektrischen Eigenschaften gebildet,
nämlich im Bereich der Oberfläche der Füllmasse 4 elek
trisch nichtleitende Bereiche und im Bereich der Ober
fläche der Stege 12 elektrisch leitfähige Bereiche.
Die fertige Muttermatrize 1′ kann dann in bekannter Wei
se mehrmals zur galvanischen Erzeugung von nahtlosen Ro
tations-Siebdruckschablonen verwendet werden, wobei sich
dann im Bereich der elektrisch leitfähigen Stege 12 an
der Mantelfläche 10 der Muttermatrize 1′ Metall
galvanisch ablagert, bis eine gewünschte Schichtdicke
erreicht ist. Diese so gebildete Siebdruckhülse kann
dann in Axialrichtung der Muttermatrize 1′, d. h. paral
lel zur Mantelfläche 10, von der Muttermatrize 1′ abge
zogen werden.
Claims (8)
1. Verfahren zur Herstellung einer Muttermatrize (1′)
für die galvanische Erzeugung von nahtlosen Rota
tions-Siebdruckschablonen, insbesondere aus Nickel,
wobei ein metallischer Muttermatrizen-Grundkörper
(1) mit zylindrischer Mantelfläche (10) auf seinem
Außenumfang mit in einem regelmäßigen Raster ver
teilten Vertiefungen (11) versehen wird, die einen
runden oder mehreckigen Umriß aufweisen und zwischen
denen ein regelmäßiges Netz bildende Rasterstege
(12) verbleiben, und wobei die Vertiefungen (11) an
schließend mit einer elektrisch nichtleitenden Füll
masse (4) bündig bis zur Höhe der Rasterstege (12)
verfüllt werden, wonach dann wiederholt durch galva
nisches Auftragen von Metall und axiales Abziehen
der so entstandenen Hülse Siebdruckschablonen erzeug
bar sind,
gekennzeichnet durch
folgende Verfahrensschritte:
- a) die Mantelfläche (10) des Muttermatrizen-Grund körpers (1) wird mit einer photo- oder thermo- oder elektrosensitiven Beschichtung (2) überzo gen,
- b) die Beschichtung (2) wird mittels eines nach Maß gabe elektronisch gespeicherter Daten gesteuerten Strahls (3) mit dem Positiv- oder Negativbild des gewünschten Vertiefungsrasters belichtet und da nach unmittelbar oder nach Durchlaufen eines Ent wicklungsprozesses in den Bereichen (21), in denen die Vertiefungen (11) vorgesehen sind, mit tels eines chemischen und/oder physikalischen Ent fernungsprozesses abgetragen,
- c) in den von der Beschichtung (2) befreiten Berei chen der Mantelfläche (10) des Muttermatrizen- Grundkörpers (1) werden durch Ätzen oder elektro lytischen Metallabtrag die Vertiefungen (11) ge bildet,
- d) die verbliebenen Teile (20) der Beschichtung (2) werden vollständig entfernt und
- e) die Vertiefungen (11) werden mit der elektrisch nichtleitenden Füllmasse (4) verfüllt.
2. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet,
daß der Verfahrensschritt b) wie folgt ausgeführt
wird:
- b) die Beschichtung (2) wird mittels eines nach Maß gabe elektronisch gespeicherter Daten gesteuerten Strahls (3) in den Bereichen (21), in denen die Vertiefungen (11) vorgesehen sind, unmittelbar abgetragen.
3. Verfahren nach Anspruch 1 oder 2, dadurch gekenn
zeichnet, daß als Strahl (3) ein Ultraviolett-Laser
strahl oder ein thermisch wirkender Laserstrahl oder
ein Elektronenstrahl verwendet wird.
4. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 3, dadurch
gekennzeichnet, daß als Muttermatrizen-Grundkörper
(1) ein Nickelzylinder eingesetzt wird.
5. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 3, dadurch
gekennzeichnet, daß als Muttermatrizen-Grundkörper
(1) eine hohlzylindrische Nickelhülse eingesetzt
wird.
6. Verfahren nach einem der vorangehenden Ansprüche,
dadurch gekennzeichnet, daß als elektrisch nicht
leitende Füllmasse (4) ein aushärtbares Kunstharz
oder eine aushärtbare keramische Masse eingesetzt
wird.
7. Verfahren nach einem der vorangehenden Ansprüche,
dadurch gekennzeichnet, daß die Vertiefungen (11)
mit einem regelmäßigen sechseckigen Umriß erzeugt
werden.
8. Verfahren nach Anspruch 7, dadurch gekennzeichnet,
daß die Vertiefungen (11) wabenförmig in einem
Hexagonalraster verteilt angeordnet werden.
Priority Applications (10)
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