DE4400767A1 - Verfahren und Vorrichtung zur Dosierung von fließfähigen Zubereitungen - Google Patents
Verfahren und Vorrichtung zur Dosierung von fließfähigen ZubereitungenInfo
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- B05—SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
- B05C—APPARATUS FOR APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
- B05C5/00—Apparatus in which liquid or other fluent material is projected, poured or allowed to flow on to the surface of the work
- B05C5/02—Apparatus in which liquid or other fluent material is projected, poured or allowed to flow on to the surface of the work the liquid or other fluent material being discharged through an outlet orifice by pressure, e.g. from an outlet device in contact or almost in contact, with the work
- B05C5/0208—Apparatus in which liquid or other fluent material is projected, poured or allowed to flow on to the surface of the work the liquid or other fluent material being discharged through an outlet orifice by pressure, e.g. from an outlet device in contact or almost in contact, with the work for applying liquid or other fluent material to separate articles
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- B05C—APPARATUS FOR APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
- B05C3/00—Apparatus in which the work is brought into contact with a bulk quantity of liquid or other fluent material
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- Coating Apparatus (AREA)
- Application Of Or Painting With Fluid Materials (AREA)
- Feeding, Discharge, Calcimining, Fusing, And Gas-Generation Devices (AREA)
Description
Die Erfindung betrifft ein Verfahren sowie eine Vorrichtung
zur Dosierung von fließfähigen Zubereitungen auf flüssig
keitsaufnehmende, begrenzte flächige Substrate.
Es ist aus der Praxis bekannt, daß flüssigkeitsaufnehmende
flächige Substrate mittels eines Foulard-, Rakel- oder Wal
zenauftragswerkes (z. B. kiss coating) mit fließfähigen Zu
bereitungen getränkt oder beschichtet werden. Als weitere
Auftragsart wird fallweise das Tamponprint-Verfahren ver
wendet.
Bei den ersterwähnten Beschichtungsarten wird als nachtei
lig angesehen, daß Verluste an fließfähiger Zubereitung im
Tauchkasten des Foulard- bzw. Walzenauftragswerkes entste
hen. Weiterhin ist die Beschichtungsgenauigkeit von der
Füllhöhe der fließfähigen Zubereitung abhängig und somit
nur schwer einzuhalten.
Ein Nachteil des Tamponprint-Verfahrens ist dadurch gege
ben, daß sich fließfähige Zubereitungen nur in einem
begrenzten Viskositätsbereich dosieren lassen. Von Nach
teil ist weiterhin, daß während des Printvorganges die
fließfähige Zubereitung verstärkt zur Peripherie des Sub
strates gedrückt wird, wodurch eine ungleiche Verteilung
mit einem äußeren Wulst entsteht.
Der Erfindung liegt die Aufgabe zugrunde, ein Verfahren und
eine Vorrichtung zur Dosierung von fließfähigen Zubereitun
gen aufflüssigkeitsaufnehmende, begrenzte flächige Sub
strate anzugeben, welche die vorgenannten Nachteile,
Schwierigkeiten und technischen Grenzen überwindet und ins
besondere einen Auftrag der Zubereitung auf dem Substrat
ermöglicht, ohne daß Teile der Zubereitung über die Peri
pherie des Substrates hinausfließen.
Die Aufgabe wird erfindungsgemäß mit dem Verfahren dadurch
gelöst, daß eine der Außenflächen des begrenzten flächigen
Substrates mit einem die Zubereitung enthaltenden Dosier
kopf in Kontakt gebracht und dabei der gesamte Umfang des
Substrates vom Dosierkopf umschlossen wird, wonach ein vor
gegebenes Volumen der Zubereitung unter Anwendung von Druck
in das Substrat eingebracht wird.
Dadurch, daß die Zubereitung, die im Sinne der Erfindung
auch Einkomponenten-Systeme umfaßt, mit Hilfe eines diese
enthaltenden Dosierkopfes auf das flächige Substrat in der
Weise aufgebracht wird, daß der Dosierkopf bei seinem Kon
takt mit dem Substrat dessen gesamten Umfang umschließt und
damit die Peripherie des Substrates nach außen hin herme
tisch abschließt, wird ein Austritt der fließfähigen Zube
reitung über die Peripherie des Substrates hinaus verhin
dert, weiterhin wird ein sehr gleichmäßiger Auftrag er
bracht, ohne daß an der Peripherie des Substrates eine
Wulst entsteht und ohne Verlust an fließfähiger Zubereitung.
Die Anwendung des Dosierkopfes erlaubt es auch, die fließ
fähige Zubereitung unter Anwendung einer vorgegebenen
Druckhöhe bzw. eines vorgegebenen Volumens in das Substrat
einzubringen.
Dabei kann die Dosierung auch über eine intermittierende
Druckeinwirkung auf die fließfähige Zubereitung erfolgen,
wobei die Dosiervorrichtung oder das begrenzte flächige
Substrat taktweise auf- beziehungsweise und abbewegt werden
können.
Weitere wesentliche Vorteile werden mit der Erfindung auch
dadurch erzielt, daß fließfähige Zubereitungen mit hohen
Viskositäten, z. B. 500 DPa·s (z. B. Salben, Cremes) aber
auch mit niedrigen Viskositäten (z. B. wäßrige Zubereitung)
dosiert werden können. Dabei ergibt sich auch die Möglich
keit, eine gewünschte Viskosität durch Einstellung der Tem
peratur der Zubereitung zu erreichen.
Dazu ist die Ausrüstung des Dosierkopfes mit einer Tempe
riereinrichtung vorteilhaft.
Schließlich ergibt sich als weiterer Vorteil, daß die unter
Verwendung eines geeigneten Dosierkopfes unter Druck auf
das Substrat geförderte Zubereitung in der gesamten Fläche
des Substrates homogen verteilt wird.
Eine Vorrichtung zur Dosierung einer fließfähigen Zuberei
tung auf ein flüssigkeitsaufnehmendes Substrat, zur Durch
führung des Verfahrens nach den Ansprüchen 1-9 ist dadurch
gekennzeichnet, daß diese einen Vorratsbehälter mit einem
ersten Förderkanal, einer Förderpumpe für die Zubereitung,
einem zweiten Förderkanal mit einer Entlüftung und daran
anschließend einem Dosierkopf mit einer mindestens eine
Durchlaßöffnung aufweisenden Verteilerplatte und am unteren
Bereich des Dosierkopfes eine an dessen Peripherie höhen
einstellbare, den Umfang des Substrats umgreifende Abschir
mung aufweist und diese der äußeren Form des Substrates
entspricht.
Weitere Ausgestaltungen sind entsprechend den Unteran
sprüchen vorgesehen.
Im folgenden wird ein Ausführungsbeispiel der Erfindung in
der Zeichnung gezeigt, wobei aus deren Erläuterung weitere
wesentliche Einzelheiten der Vorrichtung entnehmbar sind.
Die Figur zeigt eine Fördereinrichtung 14, beispielsweise
ein Förderband, welches als Unterlage für eine Folge von
darauf liegenden Substraten (8a, 8b, 8c usw.) dient und
diese in Förderrichtung 15 unter der Dosiervorrichtung be
wegt. Die Transportbewegung geschieht bevorzugt taktweise,
wobei jedesmal die Dosiervorrichtung nach Beschichtung ei
nes Substrats 8 von diesem abgehoben, das nächste Substrat
unter die Dosiervorrichtung gefördert und darauf die
Dosiervorrichtung zur Beschichtung des Substrates 8 auf
dieses wieder abgesenkt wird. Die Dosiervorrichtung umfaßt
in der Darstellung von oben nach unten einen Vorratsbehäl
ter 1 für die darin befindliche Zubereitung 2, daran an
schließend einen ersten Förderkanal 10 mit Anschluß an eine
Förderpumpe 3, an welche sich ein Förderkanal 12 mit einer
darin angeordneten Entlüftung 4 anschließt, wonach am Ende
einer konischen Erweiterung 13 der Dosierkopf angeordnet
ist. Diesem ist die Verteilerplatte 11 mit einer Vielzahl
von Durchlaßöffnungen 6 und als erfindungswesentliches Ele
ment die höheneinstellbare Abschirmung 7 zugeordnet. Nach
Aufsetzen der Vorrichtung auf ein Substrat 8 wird mit Hilfe
der Dosierpumpe eine vorgegebene Menge an Zubereitung unter
Druck durch die Verteilerplatte 11 und die darin befindli
chen Durchlaßöffnungen 6 in das Substrat 8 eingegeben. Da
bei drückt die verstellbare Abschirmung 7 die Peripherie
des saugfähigen Substrates 8 zusammen, wodurch ein Austritt
von flüssiger Zubereitung aus den Randbereichen des Sub
strats verhindert wird. Da hier das Substrat an seiner
rückseitigen Fläche mit einer für die fließfähige Zuberei
tung undurchlässigen Abdeckung 9 beschichtet ist, wird auch
auf der unteren Fläche des Substrats 8 ein Austritt oder
Hindurchtreten von flüssiger Zubereitung verhindert.
Dabei ist es unerheblich, ob die Übertragung der Zuberei
tung von oben oder von unten auf das Substrat 8 erfolgt.
Eine sehr gleichmäßige Einbringung von fließfähiger Zube
reitung wird dadurch begünstigt, daß die Verteilerplatte 11
über ihre gesamte zum Substrat 8 parallele Fläche eine
Vielzahl in gleichmäßiger Verteilung angeordneter Durch
laßöffnungen 6 aufweist. Weiterhin kann der Dosierkopf 5
mit einer nicht dargestellten Temperiervorrichtung ausge
stattet sein.
Die Dosiervorrichtung ist unkompliziert, funktionell von
hoher Qualität und erfüllt in optimaler Weise die eingangs
genannte Aufgabe.
Claims (14)
1. Verfahren zur Dosierung einer fließfähigen Zubereitung
auf ein begrenztes flächiges Substrat, dadurch gekenn
zeichnet, daß eine der Außenfläche des Substrates mit
einem die Zubereitung enthaltenden Dosierkopf senkrecht
zur Substratebene in Kontakt gebracht und dabei der
gesamte Umfang des Substrates vom Dosierkopf um
schlossen wird, wonach ein vorgegebenes Volumen der
Zubereitung unter Anwendung von Druck in das Substrat
eingebracht wird.
2. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß
die Dosierung über eine intermittierende Druckeinwir
kung auf die fließfähige Zubereitung erfolgt.
3. Verfahren nach Anspruch 1 oder 2, dadurch gekenn
zeichnet, daß die Dosierung über das Volumen der fließ
fähigen Zubereitung erfolgt.
4. Verfahren nach einem oder mehreren der Ansprüche 1 bis
3, dadurch gekennzeichnet, daß wirkstoffhaltige fließ
fähige Zubereitungen verarbeitet werden.
5. Verfahren nach Anspruch 4, dadurch gekennzeichnet, daß
die wirkstoffhaltige Zubereitung eine medizinische In
dikation besitzt.
6. Verfahren nach Anspruch 4, dadurch gekennzeichnet, daß
die wirkstoffhaltige Zubereitung eine kosmetische Indi
kation besitzt.
7. Verfahren nach einem oder mehreren der Ansprüche 1 bis
6, dadurch gekennzeichnet, daß das Substrat aus der
Gruppe, bestehend aus offenporigen Schaumstoffen, Ge
len, textilen Flächengebilden und aus metallhaltigen
flüssigkeitsaufnehmenden Gebilden, ausgewählt ist.
8. Verfahren nach einem oder mehreren der Ansprüche 1 bis
6, dadurch gekennzeichnet, daß textile Flächengebilde
aus anorganischen oder organischen Materialien natürli
cher oder synthetischer Herkunft verwendet werden.
9. Verfahren nach einem oder mehreren der Ansprüche 1 bis
8, dadurch gekennzeichnet, daß als begrenzte flächige
Substrate Substratabschnitte beliebiger geometrischer
Form eingesetzt werden.
10. Vorrichtung zur Dosierung einer fließfähigen Zuberei
tung auf ein flüssigkeitsaufnehmendes Substrat zur
Durchführung des Verfahrens nach den Ansprüchen 1 bis
9, dadurch gekennzeichnet, daß diese einen Vorratsbe
hälter (1) mit einem ersten Förderkanal (10), einer
Förderpumpe (3) für die Zubereitung (2), einen zweiten
Förderkanal (12) mit einer Entlüftung (4) und daran
anschließend einem Dosierkopf (5) mit einer mindestens
eine Durchlaßöffnungen aufweisenden Verteilerplatte
(11) und am unteren Bereich des Dosierkopfes (5) eine
an dessen Peripherie höheneinstellbare, den Umfang des
Substrats (8) umgreifende Abschirmung (7) aufweist und
diese der äußeren Form des Substrates (8) entspricht.
11. Vorrichtung nach Anspruch 10, dadurch gekennzeichnet,
daß die Abschirmung (7) den gesamten Umfang des Sub
strates (8) umschließt und mit dem Dosierkopf relativ
zur Verteilerplatte höheneinstellbar verbunden ist.
12. Vorrichtung nach Anspruch 10, dadurch gekennzeichnet,
daß der Förderkanal (12) zwischen der Pumpe (3) und dem
Dosierkopf (5) eine schlank-konische Erweiterung (13)
aufweist.
13. Vorrichtung nach Anspruch 10, dadurch gekennzeichnet,
daß die Verteilerplatte (11) über ihre gesamte zum Sub
strat (8) parallele Fläche eine Vielzahl in gleichmäßi
ger Verteilung angeordneter Durchlaßöffnungen (6) auf
weist.
14. Vorrichtung nach einem oder mehreren der Ansprüche 10
bis 13, dadurch gekennzeichnet, daß der Dosierkopf (5)
mit einer Temperiervorrichtung ausgebildet ist.
Priority Applications (5)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE19944400767 DE4400767A1 (de) | 1994-01-13 | 1994-01-13 | Verfahren und Vorrichtung zur Dosierung von fließfähigen Zubereitungen |
JP7518812A JPH09511435A (ja) | 1994-01-13 | 1995-01-05 | 流動可能な製剤を定量分与する方法と装置 |
EP95906299A EP0739246A1 (de) | 1994-01-13 | 1995-01-05 | Verfahren und vorrichtung zur dosierung von fliessfähigen zubereitungen |
PCT/EP1995/000029 WO1995019229A1 (de) | 1994-01-13 | 1995-01-05 | Verfahren und vorrichtung zur dosierung von fliessfähigen zubereitungen |
CA 2181069 CA2181069A1 (en) | 1994-01-13 | 1995-01-05 | Process and device for metering pourable preparations |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE19944400767 DE4400767A1 (de) | 1994-01-13 | 1994-01-13 | Verfahren und Vorrichtung zur Dosierung von fließfähigen Zubereitungen |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
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DE4400767A1 true DE4400767A1 (de) | 1995-07-20 |
Family
ID=6507819
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
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DE19944400767 Ceased DE4400767A1 (de) | 1994-01-13 | 1994-01-13 | Verfahren und Vorrichtung zur Dosierung von fließfähigen Zubereitungen |
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JP (1) | JPH09511435A (de) |
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DE (1) | DE4400767A1 (de) |
WO (1) | WO1995019229A1 (de) |
Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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JPH06349275A (ja) * | 1993-06-10 | 1994-12-22 | Toshiba Corp | 半導体記憶装置 |
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1994
- 1994-01-13 DE DE19944400767 patent/DE4400767A1/de not_active Ceased
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1995
- 1995-01-05 WO PCT/EP1995/000029 patent/WO1995019229A1/de not_active Application Discontinuation
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- 1995-01-05 CA CA 2181069 patent/CA2181069A1/en not_active Abandoned
- 1995-01-05 JP JP7518812A patent/JPH09511435A/ja active Pending
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Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
CA2181069A1 (en) | 1995-07-20 |
WO1995019229A1 (de) | 1995-07-20 |
JPH09511435A (ja) | 1997-11-18 |
EP0739246A1 (de) | 1996-10-30 |
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