DE4133996C2 - CCD-Bildwandler - Google Patents

CCD-Bildwandler

Info

Publication number
DE4133996C2
DE4133996C2 DE4133996A DE4133996A DE4133996C2 DE 4133996 C2 DE4133996 C2 DE 4133996C2 DE 4133996 A DE4133996 A DE 4133996A DE 4133996 A DE4133996 A DE 4133996A DE 4133996 C2 DE4133996 C2 DE 4133996C2
Authority
DE
Germany
Prior art keywords
type
layer
ccd
region
vccd
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Lifetime
Application number
DE4133996A
Other languages
English (en)
Other versions
DE4133996A1 (de
Inventor
Hun Jun Jung
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Intellectual Ventures II LLC
Original Assignee
Goldstar Electron Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Goldstar Electron Co Ltd filed Critical Goldstar Electron Co Ltd
Publication of DE4133996A1 publication Critical patent/DE4133996A1/de
Application granted granted Critical
Publication of DE4133996C2 publication Critical patent/DE4133996C2/de
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Lifetime legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L27/00Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate
    • H01L27/14Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation
    • H01L27/144Devices controlled by radiation
    • H01L27/146Imager structures
    • H01L27/148Charge coupled imagers
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L27/00Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate
    • H01L27/14Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation
    • H01L27/144Devices controlled by radiation
    • H01L27/146Imager structures
    • H01L27/148Charge coupled imagers
    • H01L27/14887Blooming suppression
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L27/00Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate
    • H01L27/14Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation
    • H01L27/144Devices controlled by radiation
    • H01L27/146Imager structures
    • H01L27/148Charge coupled imagers
    • H01L27/14831Area CCD imagers

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Electromagnetism (AREA)
  • Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Solid State Image Pick-Up Elements (AREA)
  • Transforming Light Signals Into Electric Signals (AREA)

Description

Die Erfindung betrifft einen CCD-Bildwandler (CCD = ladungsgekoppeltes Bauelement) gemäß dem Oberbegriff des Anspruchs 1, wie er beispielsweise aus der US-PS 4 951 104 bekannt ist.
Ein CCD-Bildwandler, der unter Anwendung von ladungsgekoppelten Bauelementen arbeitet, wandelt typischerweise Lichtenergie durch eine Fotodiode in ein elektrisches Signal um, wobei der lichtelektrische Wirkungsgrad für Infrarot-Wellenlängen, in denen der Betrag der Lichtenergie klein ist, sehr niedrig ist.
Fig. 1 ist ein schematisches Schaltbild, das den üblichen Aufbau eines CCD-Bildwandlers vom Typ mit Übertragung zwischen den Leitungen zeigt. Dabei hat der CCD-Bildwandler einen n-leitenden HCCD-Bereich 3 und eine Vielzahl von n-leitenden VCCD-Bereichen 2, an die jeweils eine Serie von n-leitenden Fotodiodenbereichen 1 einzeln gekoppelt ist. Jede der n-leitenden Fotodiodenbereiche 1 ist mit dem n-leitenden VCCD- Bereich 2 so gekoppelt, daß eine davon abgegebene Bildsignal­ ladung in einer einzigen Richtung zu dem n-leitenden VCCD-Bereich 2 übertragen wird. Außerdem sind die n-leitenden VCCD-Bereiche 2 mit dem n-leitenden HCCD-Bereich 3 derart gekoppelt, daß die von den Fotodiodenbereichen 1 übertragenen Signalladungen zum n-leitenden HCCD-Bereich 3 gleichzeitig aufgrund von vorbestimmten Taktsignalen übertragen werden. An den Ausgang des n-leitenden HCCD-Bereichs 3 ist ein Abtastverstärker 4 gekoppelt, der die Signalladungen abtastet und verstärkt.
Aus der US-PS 4 951 104 ist bekannt, daß auf einem n- leitenden Substrat eine p-leitende Schicht geformt ist, in der ein n-leitender Fotodiodenbereich in einem gewünschten Abstand von dem n-leitenden VCCD-Bereich gebildet ist. Auf der Oberseite befinden sich über dem n-leitenden VCCD-Bereich Gateelektroden. Eine p-leitende Zwischenschicht ist unter dem n-leitenden VCCD-Bereich, ihn umgebend, gebildet.
Wenn viel Licht auf die Fotodiode fällt, so daß die Signalladung auf der Fotodiode zu groß wird, gehen die Überschußsignalladungen e- über die p-leitende Schicht zum n-leitenden Substrat. Dadurch wird verhindert, daß Überschußsignalladungen in den VCCD- Bereich gelangen. Dies wird bei herkömmlichen CCD-Bildwandler mitunter dadurch unterstützt, daß der Bereich der p-leitenden Schicht unterhalb des n-leitenden Fotodiodensbereichs dünner ist als die übrigen Bereiche; vgl. US-PS 4 947 224. Bevor Überschußsignalladungen also in den VCCD-Bereich ungewollt überlaufen (überstrahlen), werden sie über die p­ leitende Schicht zum n-leitenden Substrat abgeleitet.
Die konventionellen CCD-Bildwandler weisen jedoch u. a. die folgenden Nachteile auf:
Die p-leitende Zwischenschicht unter dem n-leitenden VCCD- Bereich hat zwar die unterstützende Wirkung, daß ein Überstrahlen in gewissem Umfang verhindert wird, doch die Überschußsignalladungen gelangen nicht vollständig zum n- leitenden Substrat sondern auch zu dem n-leitenden VCCD-Bereich einer anderen Zelle. Dadurch resultiert ein Überstrahlen.
Die p-leitende Schicht ist bei herkömmlichen CCD-Bildwandlern in dem Teil zwischen dem n-leitenden Fotodiodenbereich und dem n- leitenden Substrat zur besseren Übertragung der Überschußladungen e- dünner als in den übrigen Bereichen. Dadurch wird Infrarot-Strahlung nicht vollständig in der Fotodiode absorbiert, sondern gelangt teilweise in das n-leitende Substrat.
Aufgabe der Erfindung ist daher die Bereitstellung eines CCD- Bildwandlers mit verbessertem Aufbau des CCD-Bereichs, der ein ungewolltes Überlaufen von Überschußsignalladungen in den CCD- Bereich vollständig verhindern kann.
Diese Aufgabe wird gemäß der Erfindung für den eingangs genannten CCD-Bildwandler durch die im kennzeichnenden Teil des Anspruchs 1 angegebenen Merkmale gelöst.
Die Erfindung wird nachstehend anhand der Beschreibung von Ausführungsbeispielen und unter Bezugnahme auf die beiliegenden Zeichnungen näher erläutert. Die Zeichnungen zeigen in:
Fig. 1 ein schematisches Schaltbild eines CCD-Bildwandlers mit Übertragung zwischen den Zeilen;
Fig. 2 einen Schnitt durch einen CCD-Bildwandler entlang der Linie a-a′ von Fig. 1.
Fig. 3 ein Potentialprofil-Diagramm entlang der Linie d-d′ von Fig. 2;
Fig. 4 ein Potentialprofil-Diagramm entlang der Linie f-f′ von Fig. 2;
und
Fig. 5 ein Potentialprofil-Diagramm entlang der Linie f-f′ von Fig. 2 bei angelegter Blendenspannung.
Unter Bezugnahme auf Fig. 2 wird zuerst der Aufbau des CCD- Bildwandlers beschrieben.
Fig. 2 ist ein Schnitt durch den CCD-Bildwandler. Dabei ist auf einem n-leitenden Substrat 13 eine p-leitende Schicht 14 gebildet, in der ein n-leitender photoempfindlicher Bereich 15 (Fotodiode) und ein n-leitender Kanal 16 (VCCD- Bereich) gebildet sind, die voneinander einen gewünschten Abstand haben. Auf der Oberseite ist zwischen der Fotodiode 15 und dem n-leitenden VCCD-Bereich 16 eine Transfergateelektrode 17, und auf dem n-leitenden VCCD-Bereich 16 eine Gateelektrode 18 gebildet. Eine p-leitende Zwischenschicht 19 ist unter dem n-leitenden VCCD-Bereich 16, diesen umgebend, gebildet. Außerdem ist unter der p-leitenden Zwischenschicht 19 sie umgebend eine n-leitende Trennschicht 20 gebildet.
Die p-leitende Zwischenschicht 19 soll Störungen wie etwa ein Überstrahlen verhindern, das auftritt, wenn überschüssige elektronische Signalladungen (Verschmierung der Bildsignalladungen) zu dem n-leitenden VCCD-Bereich 16 übertragen werden. Auch absorbiert die n-leitende Trennschicht 20 diejenigen Überschußsignalladungen, deren Übertragung zum n-leitenden VCCD-Bereich 16 die p-leitende Zwischenschicht 19 nicht verhindern kann, und verhindert dadurch eine Übertragung der Überschußsignalladungen zum n-leitenden VCCD-Bereich 16.
Ferner ist auf der Oberfläche der Fotodiode 15 eine dünne p⁺-leitende Schicht 21 gebildet.
Bevorzugt bestehen die Transfergateelektrode 17 und die Gateelektrode 18 aus Polysilicium. Isolationsschichten (nicht gezeigt) sind zwischen der Transfergateelektrode 17, der Gateelektrode 18 und der Oberfläche der p-leitenden Schicht 14 gebildet.
Unter Bezugnahme auf die Fig. 3-5 wird nachstehend der Betrieb des CCD-Bildwandlers mit dem oben beschriebenen Aufbau erläutert.
Fig. 3 ist ein Potentialprofil-Diagramm entlang der Linie d-d′ von Fig. 2, das eine vertikale Potentialverteilung unter der Bedingung zeigt, daß die Ladungen e- in dem n-leitenden VCCD- Bereich 16 enthalten sind. Die Bildsignalladungen e- werden von den Fotodioden 15 zum n-leitenden VCCD-Bereich 16 verschoben, wenn an die Transfergateelektrode 17 eine hohe Spannung angelegt wird. Zu diesem Zeitpunkt verhindert die zwischen dem n-leitenden VCCD-Bereich 16 und der p-leitenden Schicht 14 gebildete p⁺-leitende Zwischenschicht 19, daß die p-leitende Schicht vollständig verarmt, was in der höheren Potentialschwelle resultiert. Infolgedessen werden die aus einem Überstrahlen (Verschmierung) resultierenden unerwünschten Ladungen nicht zum n-leitenden VCCD-Bereich 16 verschoben, sondern von der n-leitenden Trennschicht 20 eingefangen.
Wie Fig. 2 zeigt, wird an das Substrat typischerweise eine Blendenspannung Vst angelegt, aber gemäß dem bevorzugten Ausführungsbeispiel der Erfindung kann sie auch an die n- leitende Trennschicht 20 angelegt werden. Dabei wird der Zeitraum, in dem die Blendenspannung angelegt wird, in einem Bereich zwischen 1/60 und 1/2000 s bestimmt und typischerweise verkürzt, um die Erzeugung der Überschußsignalladungen e- durch den Einfall von zu viel Licht zu verhindern.
Fig. 4 ist ein Potentialprofil-Diagramm entlang der Linie f-f′ von Fig. 2, das den Zustand zeigt, daß die p-leitende Schicht 14 aufgrund von physikalischen Eigenschaften des pn-Übergangs beim Anlegen einer hohen Spannung an das n-leitende Substrat 13 vollständig verarmt ist, was in der niedrigeren Potentialschwelle resultiert.
Wenn viel Licht auf die Fotodiode 15 fällt, so daß die Signalladungen von der Fotodiode 15 zu groß sind, gehen die Überschußsignalladungen e⁻ über die untere p-leitende Schicht 14 zur n-leitenden Trennschicht 20. Da die n-leitende Trennschicht 20 somit den Überlauf verhindert, ist der Teil der p-leitenden Schicht 14 zwischen dem leitenden Fotodiodenbereich 15 und dem n-leitenden Substrat 13 hinsichtlich seiner Konzentration und Tiefe nicht eingeschränkt. Außerdem kann ein ebenes n-leitendes Substrat 13 verwendet werden.
Fig. 5 ist ein Potentialprofil-Diagramm entlang der Linie f-f′ von Fig. 2 bei angelegter Blendenspannung. Wie das Diagramm zeigt, ist beim Anlegen der Blendenspannung an die n-leitende Trennschicht 20 die Potentialschwelle der p-leitenden Schicht 14 nicht mehr vorhanden, so daß alle Signalladungen vollständig entfernt werden. Daher kann der fotoelektrische Wirkungsgrad im Infrarot- Wellenlängenbereich, in dem die Lichtenergie gering ist, gesteigert werden. Außerdem kann die Konzentration der p- leitenden Schicht 14 so geändert werden, daß sie an die Vermeidung des Überlaufabzugs angepaßt wird, und zwar unabhängig vom fotoelektrischen Wirkungsgrad im Infrarotbereich.
Wie vorstehend beschrieben, bietet der CCD-Bildwandler gemäß der Erfindung folgende Vorteile:
Erstens kann die n-leitende Trennschicht 20 die aus einer Verschmierung resultierenden Überschußladungen absorbieren, so daß die Überschußladungen von der p-leitenden Schicht 14 nicht zu einem anderen n-leitenden VCCD-Bereich 16 übertragen werden; infolgedessen wird das Auftreten von Störungen verhindert.
Zweitens brauchen Konzentration und Tiefe der p-leitenden Schicht nicht zum Zweck der Erhöhung des fotoelektrischen Wirkungsgrads im Infrarotbereich eingeschränkt zu werden, was in einer größeren Konstruktionsfreiheit für den Bildwandler resultiert.
Drittens steigert das Anlegen der Blendenspannung an die n-leitende Trennschicht 20 den photoelektrischen Wirkungsgrad des CCD-Bildwandlers im Infrarotbereich.

Claims (3)

1. CCD-Bildwandler, bei dem auf einem n-leitenden Substrat (13) eine p-leitende Schicht (14) liegt, in der voneinander getrennte, n-leitende photoempfindliche Bereiche (15) und n- leitende CCD-Kanäle (16) ausgebildet sind, dadurch gekennzeichnet, daß jeder CCD-Kanal (16) durch eine Doppelschicht von der p- leitenden Schicht (14) getrennt ist, daß die Doppelschicht aus einer Aufeinanderfolge einer p- leitenden Zwischenschicht (19) und einer n-leitenden Trennschicht (20) besteht und daß die Trennschicht (20) einen Anschluß für eine Spannungsquelle aufweist.
2. CCD-Bildwandler nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die p-leitende Zwischenschicht (19) eine höhere Störstellenkonzentration als die p-leitende Schicht (14) aufweist.
3. CCD-Bildwandler nach Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet, daß die n-leitende Trennschicht (20) eine niedrigere Störstellenkonzentration als der n-leitende CCD-Kanal (16) und als der n-leitende photoempfindliche Bereich (15), aber eine höhere Störstellenkonzentration als das n-leitende Substrat (13) aufweist.
DE4133996A 1990-10-13 1991-10-14 CCD-Bildwandler Expired - Lifetime DE4133996C2 (de)

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1019900016259A KR930008527B1 (ko) 1990-10-13 1990-10-13 Npn형 vccd 구조의 고체촬상 소자

Publications (2)

Publication Number Publication Date
DE4133996A1 DE4133996A1 (de) 1992-04-16
DE4133996C2 true DE4133996C2 (de) 1996-10-31

Family

ID=19304610

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
DE4133996A Expired - Lifetime DE4133996C2 (de) 1990-10-13 1991-10-14 CCD-Bildwandler

Country Status (4)

Country Link
US (1) US5233429A (de)
JP (1) JP2858179B2 (de)
KR (1) KR930008527B1 (de)
DE (1) DE4133996C2 (de)

Families Citing this family (12)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP3160382B2 (ja) * 1992-08-27 2001-04-25 株式会社東芝 固体撮像装置
JP3252487B2 (ja) * 1992-10-23 2002-02-04 松下電器産業株式会社 セルラ無線電話システム
JP2788388B2 (ja) * 1993-03-30 1998-08-20 株式会社東芝 固体撮像装置
KR970011376B1 (ko) * 1993-12-13 1997-07-10 금성일렉트론 주식회사 씨씨디(ccd)형 고체촬상소자
TW269744B (en) * 1994-08-08 1996-02-01 Matsushita Electron Co Ltd Solid-state imaging device and method of manufacturing the same
US5608242A (en) * 1994-10-11 1997-03-04 Dalsa, Inc. Variable width CCD register with uniform pitch and charge storage capacity
US5786607A (en) * 1995-05-29 1998-07-28 Matsushita Electronics Corporation Solid-state image pick-up device and method for manufacturing the same
KR100515019B1 (ko) * 1997-08-28 2005-11-29 삼성전자주식회사 전하결합소자형이미지센서
JP3460225B2 (ja) * 2000-04-06 2003-10-27 日本電気株式会社 電荷結合素子及びその製造法
US8878255B2 (en) 2013-01-07 2014-11-04 Semiconductor Components Industries, Llc Image sensors with multiple output structures
US8878256B2 (en) 2013-01-07 2014-11-04 Semiconductor Components Industries, Llc Image sensors with multiple output structures
US9621864B2 (en) 2014-01-14 2017-04-11 Microsoft Technology Licensing, Llc Spectral imaging system

Family Cites Families (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS6020687A (ja) * 1983-07-15 1985-02-01 Nippon Kogaku Kk <Nikon> 電子スチルカメラ
DE3586452T2 (de) * 1984-10-18 1993-03-18 Matsushita Electronics Corp Festkoerperbildsensor und verfahren zu seiner herstellung.
EP0186162B1 (de) * 1984-12-24 1989-05-31 Kabushiki Kaisha Toshiba Festkörperbildsensor
US4836788A (en) * 1985-11-12 1989-06-06 Sony Corporation Production of solid-state image pick-up device with uniform distribution of dopants
JPS62181465A (ja) * 1986-02-05 1987-08-08 Victor Co Of Japan Ltd Ccd固体撮像素子
US4814848A (en) * 1986-06-12 1989-03-21 Hitachi, Ltd. Solid-state imaging device
US4875100A (en) * 1986-10-23 1989-10-17 Sony Corporation Electronic shutter for a CCD image sensor
JP2594992B2 (ja) * 1987-12-04 1997-03-26 株式会社日立製作所 固体撮像装置
JPH0834568B2 (ja) * 1988-04-19 1996-03-29 三洋電機株式会社 固体撮像装置の駆動方法
JP2720478B2 (ja) * 1988-10-18 1998-03-04 株式会社ニコン 縦型オーバーフロードレインを備える固体撮像素子を用いた測光装置
JPH02113678A (ja) * 1988-10-21 1990-04-25 Nec Corp 固体撮像装置

Also Published As

Publication number Publication date
US5233429A (en) 1993-08-03
JPH06181302A (ja) 1994-06-28
DE4133996A1 (de) 1992-04-16
JP2858179B2 (ja) 1999-02-17
KR920008947A (ko) 1992-05-28
KR930008527B1 (ko) 1993-09-09

Similar Documents

Publication Publication Date Title
DE3227826C2 (de)
DE2439799C2 (de) Ladungsgekoppelte Anordnung, insbesondere Bildsensor
DE3689409T2 (de) Verfahren zum Betreiben eines Festkörperbildsensors.
DE4136827C2 (de) Solarzelle mit einer Bypassdiode
DE19641305A1 (de) Aktive Pixelsensorzelle
DE4133996C2 (de) CCD-Bildwandler
DE4413824C2 (de) Festkörperbildsensor
EP0007384B1 (de) Eindimensionaler CCD-Sensor mit Überlaufvorrichtung
DE3120458A1 (de) Festkoerper-bildsensoranordnung
DE69328984T2 (de) Festkörperbildaufnahmeanordnung und Herstellungsprozess
DE112011106038T5 (de) Bildaufnahmevorrichtung
DE69216261T2 (de) Festkörperbildaufnahmeanordnung und deren Herstellungsprozess
DE2933412C3 (de) Festkörper-Abbildungsvorrichtung
DE4425100A1 (de) Festkörper-Bildsensor
DE3751342T2 (de) Halbleiter-Bildaufnahmevorrichtung.
DE2456131A1 (de) Fotosensible vorrichtung
DE3640434C2 (de)
DE69426689T2 (de) CCD-Bildsensor mit reduziertem Übersprechen zwischen Fotodioden
DE3850271T2 (de) Ladungsverschiebeanordnung und Kamera mit einer solchen Anordnung.
DE69030164T2 (de) Festkörper-Bildaufnahmevorrichtung und deren Herstellungsmethode
DE102005011300B4 (de) Vorspannungsschaltung, Festkörper-Abbildungssystem und zugehöriges Herstellungsverfahren
DE4115060C2 (de) CCD-Bildsensor und Verfahren zu dessen Herstellung
DE69327608T2 (de) Ladungübertragungsbildsensor
DE4316906C2 (de) Festkörperbildsensor
DE2713876A1 (de) Ladungsgekoppeltes element (ccd)

Legal Events

Date Code Title Description
OP8 Request for examination as to paragraph 44 patent law
D2 Grant after examination
8364 No opposition during term of opposition
8327 Change in the person/name/address of the patent owner

Owner name: HYNIX SEMICONDUCTOR INC., ICHON, KYONGGI, KR

8327 Change in the person/name/address of the patent owner

Owner name: MAGNACHIP SEMICONDUCTOR, LTD., CHEONGJU, KR

8327 Change in the person/name/address of the patent owner

Owner name: CROSSTEK CAPITAL, LLC, WILMINGTON, DEL., US

R071 Expiry of right
R071 Expiry of right