DE4106932A1 - Neigungssensor - Google Patents
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- 238000013016 damping Methods 0.000 claims description 18
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 claims description 9
- 239000003990 capacitor Substances 0.000 claims description 8
- 229910021420 polycrystalline silicon Inorganic materials 0.000 claims description 8
- 229920005591 polysilicon Polymers 0.000 claims description 8
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 8
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 claims description 6
- 239000010703 silicon Substances 0.000 claims description 6
- 238000005520 cutting process Methods 0.000 claims description 4
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims description 4
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 230000005484 gravity Effects 0.000 claims description 2
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 2
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 230000001154 acute effect Effects 0.000 claims 1
- 229910052814 silicon oxide Inorganic materials 0.000 claims 1
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 3
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 3
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 3
- 239000000725 suspension Substances 0.000 description 3
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000013461 design Methods 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 2
- 239000000463 material Substances 0.000 description 2
- 235000012431 wafers Nutrition 0.000 description 2
- 230000001133 acceleration Effects 0.000 description 1
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 1
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 1
- 238000001514 detection method Methods 0.000 description 1
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 1
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 1
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000010422 painting Methods 0.000 description 1
- 230000003068 static effect Effects 0.000 description 1
- 230000001360 synchronised effect Effects 0.000 description 1
- 238000012549 training Methods 0.000 description 1
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01C—MEASURING DISTANCES, LEVELS OR BEARINGS; SURVEYING; NAVIGATION; GYROSCOPIC INSTRUMENTS; PHOTOGRAMMETRY OR VIDEOGRAMMETRY
- G01C9/00—Measuring inclination, e.g. by clinometers, by levels
- G01C9/02—Details
- G01C9/06—Electric or photoelectric indication or reading means
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01C—MEASURING DISTANCES, LEVELS OR BEARINGS; SURVEYING; NAVIGATION; GYROSCOPIC INSTRUMENTS; PHOTOGRAMMETRY OR VIDEOGRAMMETRY
- G01C9/00—Measuring inclination, e.g. by clinometers, by levels
- G01C9/12—Measuring inclination, e.g. by clinometers, by levels by using a single pendulum plumb lines G01C15/10
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- Remote Sensing (AREA)
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Description
Die Erfindung geht aus von einem Sensor zur Erfassung von Neigungs
winkeln bezüglich einer bestimmten Drehachse senkrecht zur Richtung
des Schwerefeldes nach der Gattung des Hauptanspruchs.
In der DE-OS 36 04 216 wird ein Sensor zum selbsttätigen Auslösen von
Insassenschutzvorrichtungen bei einem Unfall beschrieben. Im Mittel
punkt des Innenraumes des Sensorgehäuses ist an einer Halterung bzw.
einem Lager ein Pendel mit einer seismischen Masse befestigt. Der
Innenraum ist vollständig mit einem Dämpfungsmedium gefüllt. Die
Form des Innenraumes und die Materialien des Pendels und des Dämp
fungsmediums sind so gewählt, daß bei einer Rotation des Gehäuses um
den Aufhängungspunkt des Pendels das Dämpfungsmedium um das Pendel
praktisch absolut in Ruhe bleibt und die Reibung bei der Bewegung
des Pendels relativ zum Dämpfungsmedium zu einer aperiodischen
Dämpfung des Pendels führt.
Aus Sensors and Actuators, 20 (1989) 49-55, "IC-processed Electro
static Synchronous Micromotors" sind elektrostatisch betriebene
Mikromotoren bekannt mit einem auf einer Habe gelagerten Rotor und
ringförmig um den Rotor angeordneten Statoren. In dieser Schrift
werden Verfahren zur Herstellung solcher Motoren in Oberflächen
mikromechanik beschrieben, insbesondere als Oberflächen-Polysili
zium-Strukturen.
In ETZ Band 111 (1990) Heft 20, Seite 1080, "Bewegliche Mikrostruk
turen" wird eine Mikroturbine und deren Herstellung in Liga-Technik
beschrieben.
Der erfindungsgemäße Neigungssensor mit den kennzeichnenden Merk
malen des Hauptanspruchs hat den Vorteil, daß er sich mikro
mechanisch, z. B. in Form von Oberflächen-Polysilizium-Strukturen
oder auch durch in Liga-Technik erzeugte Metall- oder Kunststoff
strukturen realisieren läßt. Die Technologie der Mikromechanik
ermöglicht eine kostengünstige Massenfertigung des erfindungsgemäßen
Neigungssensors mit einer sehr geringen Größe. Die Ausgestaltung des
Sensorpendels als asymmetrischer Rotor, dessen Drehachse parallel
zur interessierenden Achse orientiert ist, ist besonders vorteil
haft, da seine Funktionsweise der eines tief abgestimmten Pendels
entspricht und gut dazu geeignet ist, Störbeschleunigungen zu unter
drücken. Ein weiterer Vorteil des erfindungsgemäßen Sensors besteht
darin, daß Neigungen im Schwerefeld, durch die der Rotor eine
Drehung aus seiner Ruhelage erfährt, kapazitiv also berührungslos,
abgegriffen werden. Durch die räumliche Ausgestaltung der zur
Signalerfassung dienenden Kondensatoranordnung ist die Empfindlich
keit des Sensors beeinflußbar. Dabei wirkt sich die Realisierung des
Sensors in Mikromechanik besonders vorteilhaft aus, da in dieser
Technologie sehr geringe Abstände zwischen den Kondensatorelektroden
realisierbar sind.
Durch die in den Unteransprüchen aufgeführten Maßnahmen sind vor
teilhafte Weiterbildungen und Verbesserungen der im Hauptanspruch
angegebenen Maßnahmen möglich.
Besonders vorteilhaft ist es, den Rotor durch eine Zapfenlagerung
oder einer Schneidenlagerung aufzuhängen. Die Schneidenlagerung
stellt eine besonders reibungsarme und verschleißfreie Aufhängung
des Rotors dar. Die Realisierung des erfindungsgemäßen Sensors in
Silizium oder zumindest mit einem Siliziumsubstrat hat den Vorteil,
daß die Signalverarbeitungselektronik auf dem Sensorchip integrier
bar ist. Eine Realisierung in Liga-Technik ist vorteilhaft, da in
dieser Technik Strukturen mit Dicken bis zu 1000 µm gefertigt
werden können, wodurch Rotoren mit einer relativ großen seismischen
Masse herstellbar sind. Es ist von Vorteil, wenn der Innenraum des
Sensors vollständig mit einem Dämpfungsmedium gefüllt ist, dessen
spezifisches Gewicht sich dermaßen vom spezifischen Gewicht des
Rotors unterscheidet, daß die Reibung bei der Bewegung des Rotors
relativ zum Dämpfungsmedium zu einer aperiodischen Dämpfung des
Rotors führt, so daß Resonanzerscheinungen unterdrückt werden.
Ausführungsbeispiele der Erfindung sind in der Zeichnung dargestellt
und in der nachfolgenden Beschreibung näher erläutert. Es zeigen die
Fig. 1a den Schnitt durch einen Sensor in der Rotorebene, die Fig.
1b eine Rotorlagerung vergrößert, Fig. 2 den Schnitt durch einen
weiteren Sensor in der Rotorebene und Fig. 3 eine Auswerteschaltung.
In Fig. 1a ist mit 30 ein Sensorgehäuse bezeichnet. Das Sensorge
häuse 30 ist hier nur schematisch dargestellt. Im Rahmen der Erfin
dung liegen alle Ausgestaltungen eines Sensorgehäuses, die einen ab
geschlossenen Innenraum aufweisen. In Fig. 1a ist mit 31 ein Sub
strat bezeichnet, das beispielsweise eine Wand des Sensorgehäuses 30
bilden kann oder im Innenraum des Sensorgehäuses angeordnet sein
kann und fest mit dem Sensorgehäuse 30 verbunden ist. Auf das Sub
strat 31 aufgebracht und fest mit diesem verbunden ist eine Halte
rung 25, über der ein Rotor 10 mit Rotorflügeln 11 und 12 über einen
Durchbruch 13 aufgehängt ist. Den Rotor umgebend, auf das Substrat
31 aufgebracht und fest mit diesem verbunden ist eine sockelartige
Umrandung 20, die durchbrochen ist und sich aus Teilumrandungen 21,
22 und 23 zusammensetzt. Der Rotor 10 in diesem Ausführungsbeispiel
ist aus einer kreisförmigen Scheibe gebildet, aus der Segmente
derart ausgeschnitten sind, daß der Durchbruch 13 um den Kreis
mittelpunkt angeordnet ist und daß zwei unterschiedlich große Rotor
flügel 11, 12 ausgebildet sind, so daß der Rotor asymmetrisch ist.
Bei einer Orientierung der Rotorachse senkrecht zum Schwerefeld
richtet sich der Rotor 10 so aus, daß sein Schwerpunkt unterhalb der
Halterung 25 liegt. Die Rotorachse, die der Drehachse des Sensors
entspricht, wird parallel der Achse ausgerichtet, um die Neigungen
erfaßt werden sollen. Bei Neigungen im Schwerefeld erfährt der Rotor
eine Drehung, die erfindungsgemäß kapazitiv erfaßt wird. Die Rotor
flügel 11 und 12 dienen jeweils als eine Elektrodenseite einer
Kondensatoranordnung deren andere Elektrodenseiten durch die Teil
umrandungen 21, 22 und 23 der Umrandung 20 gebildet werden. Durch
elektrische Kontaktierung der Teilumrandungen 21, 22 und 23 kann die
Auslenkung des Rotors 10 berührungslos abgegriffen werden. Je nach
dem Material, aus dem der Rotor 10 und die Umrandung 20 strukturiert
sind, können entweder die Gesamtstrukturen als Elektroden dienen,
wie z. B. bei Polysilizium-Strukturen und Metall-Strukturen, oder nur
Teile des Rotors 10 und der Umrandung 20, wie z. B. bei einer Reali
sierung in Kunststoff, bei der eine Beschichtung der als Kapazitäten
dienenden Oberflächen notwendig ist. Um Resonanzerscheinungen und
signalverfälschende Schwingungsbewegungen des Rotors so unterbinden,
ist der Innenraum des Sensors vollständig mit einem Dämpfungsmedium
gefüllt. Zur Dämpfung kann entweder eine Flüssigkeit oder ein Gas
verwendet werden. Wesentlich ist, daß das spezifische Gewicht des
Dämpfungsmediums sich vom spezifischen Gewicht des Rotors 10 so
unterscheidet, daß die Eigenfrequenz des Pendels möglichst niedrig
ist und daß die Reibung bei der Bewegung des Rotors 10 relativ zum
Dämpfungsmedium zu einer aperiodischen Dämpfung des Rotors 10 führt.
Die Form und das spezifische Gewicht des Rotors bestimmen also in
Verbindung mit der gewünschten Dämpfung die Auswahl eines Dämpfungs
mediums mit geeigneter Viskosität und Dichte. Die in Fig. 1a dar
gestellte Sensorstruktur läßt sich beispielsweise mit einem Sili
ziumwafer als Substrat 31 und darauf aufgebrachten Polysili
zium-Strukturen realisieren. Dies hat den Vorteil, daß sich die
Signalverarbeitungselektronik des Sensors auf dem mikromechanischen
Sensorchip integrieren läßt. Mit der dabei verwendeten Polysili
zium-Technologie lassen sich aber nur Rotoren mit einer Dicke von
ca. 2 µm herstellen. Diese Rotoren weisen nur eine geringe seis
mische Masse auf, was den Meßeffekt relativ gering hält. Bei einer
Realisierung der Sensorstruktur in Liga-Technik kann die Sensor
struktur aus Metall, wie z. B. Nickel, oder auch aus Kunststoff, wie
z. B. Resist, gefertigt sein. Diese Strukturen können auf prozessier
te Siliziumwafer abgeformt sein, so daß auch hier für die Signal
verarbeitungselektronik kein zusätzlicher IC erforderlich ist. Mit
dieser Technik lassen sich Rotordicken von bis zu 1000 µm
erzielen. Bedingt durch die erhöhte seismische Masse des Rotors 10
ist bei solchen Sensoren der Meßeffekt größer als bei den in
Polysilizium realisierten Sensoren.
Fig. 1b ist ein Ausschnitt aus Fig. 1a und stellt die Lagerung des
Rotors 10 vergrößert dar. Die Halterung 25 ist hier schneidenförmig
ausgebildet; sie weist eine spitze Kante auf. Auch der Querschnitt
des Durchbruchs 13 weist einen Winkel auf, in dem der Rotor 10 auf
der spitzen Kante der Halterung 25 aufsitzt. Diese Schneidenlagerung
des Rotors 10 ist besonders reibungsarm und verschleißfrei.
Die in Fig. 2 dargestellte Sensorstruktur entspricht im wesentli
chen der in Fig. 1a dargestellten Sensorstruktur, weshalb gleiche
Strukturelemente mit gleichen Bezugszeichen bezeichnet sind. Der
Unterschied des in Fig. 2 dargestellten Sensors zu dem in Fig. 1a
dargestellten Sensor besteht in der Art der Lagerung. Die Halterung
25 ist hier durch einen Stift mit einem runden Querschnitt gebildet.
Entsprechend ist auch der Durchbruch 13 im Rotor 10 rund ausge
bildet. Die Querschnitte der Halterung 25 und der Bohrung 13 können
beispielsweise auch oval ausgebildet sein. Diese Zapfenlagerung
stellt eine weitere Möglichkeit der Rotoraufhängung dar.
In Fig. 3 ist eine einfache Verschaltung der durch die in den Fig.
1a und 2 dargestellten Sensorstrukturen realisierte Kondensator
anordnung schematisch dargestellt. Die beiden Teilumrandungen 21 und
22 bilden jeweils zusammen mit dem Rotorflügel 12 die Kapazitäten C1
und C2. Die Teilstruktur 21 ist auf ein Potential U+ und die Teil
struktur 22 auf ein Potential U- gelegt. Der Rotorflügel 11 bildet
zusammen mit der Teilumrandung 23 einen Kondensator CK. Zu beachten
ist, daß die Rotorflügel 11 und 12 auf gleichem Potential liegen und
als bewegliche Teile nicht von der Auswerteschaltung kontaktiert
werden. Eine Verstimmung der Kondensatoranordnung durch eine Drehung
des Rotors 10 kann an der Teilumrandung 23 abgegriffen werden und
wird in der in Fig. 3 dargestellten Auswerteschaltung über einen
Verstärker V geleitet.
Claims (12)
1. Sensor zur Erfassung von Neigungswinkeln bezüglich einer
bestimmten Drehachse senkrecht zur Richtung des Schwerefeldes mit
einem durch ein Gehäuse abgeschlossenen Innenraum, in dessen
Mittelbereich sich eine bezüglich des Gehäuses feste Halterung
befindet, und mit einer seismischen Masse, die schwingungsfähig an
der festen Halterung aufgehängt ist, dadurch gekennzeichnet,
- - daß die seismische Masse als ein bezüglich der Halterung (25) asymmetrischer Rotor (10) ausgebildet ist,
- - daß der Rotor (10) um eine durch die Halterung (25) bestimmte Achse auslenkbar ist,
- - daß Teile (11, 12) des Rotors (10) Elektroden einer Kondensator anordnung bilden,
- - daß rund um den Rotor (10), parallel zu der durch die Halterung (25) bestimmten Achse eine bezüglich des Gehäuses (30) feste Um randung (20) angeordnet ist
- - und daß Teile (21, 22, 23) der Umrandung (20) die Gegenelektroden der Kondensatoranordnung bilden.
2. Sensor nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet,
- - daß die Halterung (25) als ein zumindest einseitig mittelbar mit dem Gehäuse (30) fest verbundener Stift ausgebildet ist,
- - daß der Rotor (10) einen Durchbruch (13) aufweist, dessen Quer schnitt größer als der Querschnitt des Stiftes (25) ist,
- - und daß der Rotor (10) über den Durchbruch (13) auf den Stift (25) gesteckt ist.
3. Sensor nach Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet,
- - daß der Stift (25) einen runden oder ovalen Querschnitt aufweist.
4. Sensor nach Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet,
- - daß der Stift (25) einen Querschnitt mit zumindest einem vorzugs weise spitzen Winkel aufweist
- - und daß der Querschnitt des Durchbruchs (13) zumindest einen Win kel aufweist, so daß der Durchbruch (13) zusammen mit dem Stift (25) ein Schneidenlager für den Rotor (10) bildet.
5. Sensor nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekenn
zeichnet,
- - daß der Rotor (10) aus einer kreisförmigen Scheibe gebildet ist, aus der Segmente derart ausgeschnitten sind, daß der Durchbruch (13) um den Kreismittelpunkt angeordnet ist und daß ein oder meh rere Rotorflügel (11, 12) ausgebildet sind, so daß sich der Schwerpunkt des Rotors (10) in Ruheposition des Sensors unterhalb der Halterung (25) befindet.
6. Sensor nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekenn
zeichnet,
- - daß die Umrandung (20) Durchbrüche aufweist, so daß Teil-Umran dungen (21, 22, 23) ausgebildet sind.
7. Sensor nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekenn
zeichnet,
- - daß die Halterung (25) und die Umrandung (20) auf ein Substrat (31) aufgebracht sind, das fest mit dem Gehäuse (30) verbunden ist.
8. Sensor nach Anspruch 7, dadurch gekennzeichnet,
- - daß das Substrat (31) ein Siliziumwafer ist, auf den eine Folge von dünnen Schichten, insbesondere Siliziumoxidschichten und Polysiliziumschichten, aufgebracht ist,
- - und daß der Rotor (10), die Halterung (25) und die Umrandung (20) aus der Folge von dünnen Schichten mit Verfahren der Oberflä chen-Mikromechanik herausstrukturiert sind und zumindest teilwei se aus Polysilizium bestehen.
9. Sensor nach Anspruch 7, dadurch gekennzeichnet,
- - daß der Rotor (10), die Halterung (25) und die Umrandung (20) aus einem Metall oder einem Kunststoff in Liga-Technik strukturiert sind.
10. Sensor nach Anspruch 9, dadurch gekennzeichnet,
- - daß der Rotor (10), die Halterung (25) und die Umrandung (20) auf ein Siliziumsubstrat aufgebracht sind.
11. Sensor nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekenn
zeichnet,
- - daß der Innenraum des Sensors vollständig mit einem Dämpfungsme dium gefüllt ist.
12. Sensor nach Anspruch 11, dadurch gekennzeichnet,
- - daß das spezifische Gewicht des Rotors (10) sich vom spezifischen Gewicht des Dämpfungsmediums so unterscheidet, daß die Reibung bei der Bewegung des Rotors (10) relativ zum Dämpfungsmedium zu einer aperiodischen Dämpfung des Rotors (10) führt.
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Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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DE4106932A DE4106932A1 (de) | 1991-03-05 | 1991-03-05 | Neigungssensor |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE4106932A1 true DE4106932A1 (de) | 1992-09-10 |
Family
ID=6426482
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE4106932A Withdrawn DE4106932A1 (de) | 1991-03-05 | 1991-03-05 | Neigungssensor |
Country Status (3)
Country | Link |
---|---|
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DE10013389A1 (de) * | 2000-03-15 | 2001-09-27 | Ronald Muench | Pendelwaage |
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US7420160B2 (en) | 2005-06-30 | 2008-09-02 | Siemens Aktiengesellschaft | Phantom for measuring ionizing radiation |
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Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH04328415A (ja) | 1992-11-17 |
US5261279A (en) | 1993-11-16 |
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Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
8141 | Disposal/no request for examination |