JPH04328415A - 傾斜センサ - Google Patents
傾斜センサInfo
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- JPH04328415A JPH04328415A JP4046948A JP4694892A JPH04328415A JP H04328415 A JPH04328415 A JP H04328415A JP 4046948 A JP4046948 A JP 4046948A JP 4694892 A JP4694892 A JP 4694892A JP H04328415 A JPH04328415 A JP H04328415A
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- rotor
- sensor
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- holding device
- notch
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Links
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Classifications
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01C—MEASURING DISTANCES, LEVELS OR BEARINGS; SURVEYING; NAVIGATION; GYROSCOPIC INSTRUMENTS; PHOTOGRAMMETRY OR VIDEOGRAMMETRY
- G01C9/00—Measuring inclination, e.g. by clinometers, by levels
- G01C9/02—Details
- G01C9/06—Electric or photoelectric indication or reading means
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01C—MEASURING DISTANCES, LEVELS OR BEARINGS; SURVEYING; NAVIGATION; GYROSCOPIC INSTRUMENTS; PHOTOGRAMMETRY OR VIDEOGRAMMETRY
- G01C9/00—Measuring inclination, e.g. by clinometers, by levels
- G01C9/12—Measuring inclination, e.g. by clinometers, by levels by using a single pendulum plumb lines G01C15/10
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Radar, Positioning & Navigation (AREA)
- Remote Sensing (AREA)
- Pressure Sensors (AREA)
- Measurement Of Mechanical Vibrations Or Ultrasonic Waves (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、主請求項の種類による
、重力場の方向に対して垂直な特定の回転軸に対する傾
斜角を検定するためのセンサから出発する。
、重力場の方向に対して垂直な特定の回転軸に対する傾
斜角を検定するためのセンサから出発する。
【0002】
【従来の技術】DE−OS3604216には乗客保護
装置を事故時に自動的に解除するためのセンサが記載さ
れている。センサケーシングの内室の中心でセイスミッ
ク質量体を備えた振子が保持装置もしくは支承部に固定
されている。内室は完全に減衰媒体で充填されている。 内室の形状および振子と減衰装置の材料は、ケーシング
が振子の懸吊点を中心にして回転する際に振子の囲りの
減衰媒体は実質的に絶対的に静止状態にとどまり振子の
減衰媒体に対する相対的な運動時における摩擦が振子の
非周期的な減衰をもたらすように選択されている。
装置を事故時に自動的に解除するためのセンサが記載さ
れている。センサケーシングの内室の中心でセイスミッ
ク質量体を備えた振子が保持装置もしくは支承部に固定
されている。内室は完全に減衰媒体で充填されている。 内室の形状および振子と減衰装置の材料は、ケーシング
が振子の懸吊点を中心にして回転する際に振子の囲りの
減衰媒体は実質的に絶対的に静止状態にとどまり振子の
減衰媒体に対する相対的な運動時における摩擦が振子の
非周期的な減衰をもたらすように選択されている。
【0003】センサーズ・アンド・アクチュエータズ、
20(1989)49−55、“IC−プロセスド・エ
レクトロスタティック・シンクロナス・マイクロモータ
ーズ(Sensors and Actuator
s,20(1989)49−55”、“IC−Proc
essed Electrostatic Syn
chronous Micromotors”から静
電動作式のマイクロモータが公知であり、かつこれはハ
ブに支承されたロータとロータの囲りに環状に配置され
たステータとを備えている。この刊行物にはこのような
モータを表面−マイクロメカニーク(Mikromec
hanik)で製造する方法が記載されている(特に表
面−ポリ珪素−構造体として)。
20(1989)49−55、“IC−プロセスド・エ
レクトロスタティック・シンクロナス・マイクロモータ
ーズ(Sensors and Actuator
s,20(1989)49−55”、“IC−Proc
essed Electrostatic Syn
chronous Micromotors”から静
電動作式のマイクロモータが公知であり、かつこれはハ
ブに支承されたロータとロータの囲りに環状に配置され
たステータとを備えている。この刊行物にはこのような
モータを表面−マイクロメカニーク(Mikromec
hanik)で製造する方法が記載されている(特に表
面−ポリ珪素−構造体として)。
【0004】ETZ 111巻(1990)20号、
1080頁、“ベベーグリッヒェ・マイクロストルクテ
ユーレン(Bewegliche Mikrostr
ukturen)”にはマイクロタービンおよびそのリ
ガ技術(Liga−Technik)が記載されている
。
1080頁、“ベベーグリッヒェ・マイクロストルクテ
ユーレン(Bewegliche Mikrostr
ukturen)”にはマイクロタービンおよびそのリ
ガ技術(Liga−Technik)が記載されている
。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】本発明の課題は従来技
術の傾斜センサを改善することである。
術の傾斜センサを改善することである。
【0006】
【課題を解決するための手段】上記の課題は主請求項の
特徴を有する本発明による傾斜センサによって達成され
る。
特徴を有する本発明による傾斜センサによって達成され
る。
【0007】
【発明の利点】本発明による傾斜センサは、これがマイ
クロメカニークにより、例えば表面−ポリ珪素構造体の
形で、またはまたリガ技術で形成された金属またはプラ
スチック構造体によって実現し得るという利点を有して
いる。マイクロメカニークのテクノロジーは本発明によ
るきわめて小さな寸法の傾斜センサのコスト上有利な大
量生産を可能にする。センサの振子を非対称的なロータ
(ロータの回転軸は関係する軸線に平行に向けられてい
る)として構成したことは特に有利である、それという
のもその作用形式は深目に調節された振子の作用形式に
等しく、かつ障害加速を抑えるのに好適であるからであ
る。本発明によるセンサのもう1つの利点は、重力場に
おける傾斜(これによりロータは静止位置から回転する
)が容量により、すなわち無接触式に測定されることで
ある。信号の検出に用いられるコンデンサ装置の立体的
な構成によりセンサの感度に影響を及ぼすことが可能で
ある。センサをマイクロメカニークで実施することは特
に有利に作用する、それというのもこのテクノロジーで
はコンデンサ電極間の距離をきわめて小さく実施可能で
ある。
クロメカニークにより、例えば表面−ポリ珪素構造体の
形で、またはまたリガ技術で形成された金属またはプラ
スチック構造体によって実現し得るという利点を有して
いる。マイクロメカニークのテクノロジーは本発明によ
るきわめて小さな寸法の傾斜センサのコスト上有利な大
量生産を可能にする。センサの振子を非対称的なロータ
(ロータの回転軸は関係する軸線に平行に向けられてい
る)として構成したことは特に有利である、それという
のもその作用形式は深目に調節された振子の作用形式に
等しく、かつ障害加速を抑えるのに好適であるからであ
る。本発明によるセンサのもう1つの利点は、重力場に
おける傾斜(これによりロータは静止位置から回転する
)が容量により、すなわち無接触式に測定されることで
ある。信号の検出に用いられるコンデンサ装置の立体的
な構成によりセンサの感度に影響を及ぼすことが可能で
ある。センサをマイクロメカニークで実施することは特
に有利に作用する、それというのもこのテクノロジーで
はコンデンサ電極間の距離をきわめて小さく実施可能で
ある。
【0008】請求項2以下に挙げられた手段により主請
求項に挙げられた手段の有利な構成と改良とが可能であ
る。
求項に挙げられた手段の有利な構成と改良とが可能であ
る。
【0009】ロータをピン支承部またはナイフエッジ状
の支承部によって懸架するのが特に有利である。本発明
によるセンサをシリコンで、または少なくともシリコン
基板を用いて実施することは、信号処理エレクトロニク
スをセンサチップに集積可能であるという利点を有して
いる。リガ技術での実施は有利である、それというのも
この技術で厚さ1000μmまでの構造体を製作するこ
とができるからであり、これにより比較的大きなセイス
ミック質量を有するロータが製作可能である。センサの
内室が完全に減衰媒体が充填されており、減衰媒体の比
重がロータの比重とは、ロータの減衰媒体に対する相対
運動時の摩擦がロータの非周期的な減衰をもたらす程に
異なっており、そのために共鳴現象が抑えられると有利
である。
の支承部によって懸架するのが特に有利である。本発明
によるセンサをシリコンで、または少なくともシリコン
基板を用いて実施することは、信号処理エレクトロニク
スをセンサチップに集積可能であるという利点を有して
いる。リガ技術での実施は有利である、それというのも
この技術で厚さ1000μmまでの構造体を製作するこ
とができるからであり、これにより比較的大きなセイス
ミック質量を有するロータが製作可能である。センサの
内室が完全に減衰媒体が充填されており、減衰媒体の比
重がロータの比重とは、ロータの減衰媒体に対する相対
運動時の摩擦がロータの非周期的な減衰をもたらす程に
異なっており、そのために共鳴現象が抑えられると有利
である。
【0010】
【実施例】図1のAにセンサケーシングが符号30で示
されている。センサケーシング30は図には略示されて
いるにすぎない。閉鎖された内室を有するセンサケーシ
ングの構成はすべて本発明の範囲内である。図1のAに
は符号31で基板が示されており、基板は例えばセンサ
ケーシング30の壁を形成していてもいいし、またセン
サケーシングの内室内に配置することもでき、これはセ
ンサケーシング30と固定的に結合されている。保持部
材25が基板31上に取付けられ、これと固定的に結合
されており、ロータ翼11,12を備えたロータ10は
切欠13を介して保持部材上に懸架されている。ロータ
を包囲してソケット状の縁20が基板31上に取付けら
れ、かつこれと固定的に結合されている。縁は切欠かれ
ていて、部分縁21,22,23から成っている。この
実施例のロータ10は円形板から形成されており、円板
からは円の中心の囲りに切欠13が配置され、かつ2つ
の大きさの異なるロータ翼が得られるようにセグメント
が切られており、したがってロータは非対称的ではある
。ロータ軸を重力場に対して垂直に向けるとロータ10
は、その重心が保持部材25の下方に位置するように整
列する。ロータ軸(これはセンサの回転軸に相当)は傾
斜を検出すべき軸線に平行に整列させられる。重力場に
おける傾斜時にロータは回転をし、この回転が本発明に
より容量式に検出される。ロータ翼11,12はそれぞ
れコンデンサ装置の電極側として働き、他の電極側は縁
20の部分縁21,22,23によって形成されている
。部分縁21,22,23の電気的な接触によりロータ
10の偏位を接触式に測定することができる。ロータ1
0および縁20が構成される材料に応じて全構造(例え
ばポリ珪素−構造体および金属構造体の場合)か、また
はロータ10および縁20の部分のみ(例えばプラスチ
ックでの実施)が電極として使用される。プラスチック
ではキャパシタンスとして働く表面の被覆が必要である
。共鳴現象および信号を誤らせるロータの振動運動を抑
えるためにはセンサの内室は完全に減衰媒体で充填され
ている。減衰のためには液体またはガスを使用すること
ができる。振子の固有振動数ができる限り低く、かつロ
ータの減衰媒体に対する相対的な運動時の摩擦がロータ
10の非周期的な減衰をもたらす程度に減衰媒体の比重
がロータ10の比重と異なっていることが肝腎である。 したがってロータの形状と比重は所望の減衰との関連で
適当な粘度と密度とを有する減衰媒体の選択を決める。 図1のAに示されたセンサ構造は例えば基板31として
のシリコンウエーハおよびこの上に設けられたポリ珪素
構造を用いて実現することができる。これはセンサの信
号処理エレクトロニクスをマイクロメカニカルセンサチ
ップ上に積層することができるという利点を有している
。しかしここで使用されるポリ珪素−テクノロジーを用
いては厚さ約2μmのロータしか製作することができな
い。これらのロータは僅かなセイスミック質量を有して
いるにすぎず、これは測定効果を比較的小さいものにす
る。リガ技術でセンサ構造を実施する際にはセンサ構造
は金属、例えばニッケルから、またはまたプラスチック
、例えばレジストから製作することができる。この構造
はプロセス加工されたシリコンウエーハ上に形成するこ
とができ、そのためにこの場合も信号処理エレクトロニ
クスのために付加的なICは必要ない。この技術を用い
ると1000μmまでのロータ厚さを達成することがで
きる。ロータ10のセイスミック質量が高められたこと
により、このようなセンサではポリ珪素で実施されるセ
ンサの場合よりも測定効果が高い。
されている。センサケーシング30は図には略示されて
いるにすぎない。閉鎖された内室を有するセンサケーシ
ングの構成はすべて本発明の範囲内である。図1のAに
は符号31で基板が示されており、基板は例えばセンサ
ケーシング30の壁を形成していてもいいし、またセン
サケーシングの内室内に配置することもでき、これはセ
ンサケーシング30と固定的に結合されている。保持部
材25が基板31上に取付けられ、これと固定的に結合
されており、ロータ翼11,12を備えたロータ10は
切欠13を介して保持部材上に懸架されている。ロータ
を包囲してソケット状の縁20が基板31上に取付けら
れ、かつこれと固定的に結合されている。縁は切欠かれ
ていて、部分縁21,22,23から成っている。この
実施例のロータ10は円形板から形成されており、円板
からは円の中心の囲りに切欠13が配置され、かつ2つ
の大きさの異なるロータ翼が得られるようにセグメント
が切られており、したがってロータは非対称的ではある
。ロータ軸を重力場に対して垂直に向けるとロータ10
は、その重心が保持部材25の下方に位置するように整
列する。ロータ軸(これはセンサの回転軸に相当)は傾
斜を検出すべき軸線に平行に整列させられる。重力場に
おける傾斜時にロータは回転をし、この回転が本発明に
より容量式に検出される。ロータ翼11,12はそれぞ
れコンデンサ装置の電極側として働き、他の電極側は縁
20の部分縁21,22,23によって形成されている
。部分縁21,22,23の電気的な接触によりロータ
10の偏位を接触式に測定することができる。ロータ1
0および縁20が構成される材料に応じて全構造(例え
ばポリ珪素−構造体および金属構造体の場合)か、また
はロータ10および縁20の部分のみ(例えばプラスチ
ックでの実施)が電極として使用される。プラスチック
ではキャパシタンスとして働く表面の被覆が必要である
。共鳴現象および信号を誤らせるロータの振動運動を抑
えるためにはセンサの内室は完全に減衰媒体で充填され
ている。減衰のためには液体またはガスを使用すること
ができる。振子の固有振動数ができる限り低く、かつロ
ータの減衰媒体に対する相対的な運動時の摩擦がロータ
10の非周期的な減衰をもたらす程度に減衰媒体の比重
がロータ10の比重と異なっていることが肝腎である。 したがってロータの形状と比重は所望の減衰との関連で
適当な粘度と密度とを有する減衰媒体の選択を決める。 図1のAに示されたセンサ構造は例えば基板31として
のシリコンウエーハおよびこの上に設けられたポリ珪素
構造を用いて実現することができる。これはセンサの信
号処理エレクトロニクスをマイクロメカニカルセンサチ
ップ上に積層することができるという利点を有している
。しかしここで使用されるポリ珪素−テクノロジーを用
いては厚さ約2μmのロータしか製作することができな
い。これらのロータは僅かなセイスミック質量を有して
いるにすぎず、これは測定効果を比較的小さいものにす
る。リガ技術でセンサ構造を実施する際にはセンサ構造
は金属、例えばニッケルから、またはまたプラスチック
、例えばレジストから製作することができる。この構造
はプロセス加工されたシリコンウエーハ上に形成するこ
とができ、そのためにこの場合も信号処理エレクトロニ
クスのために付加的なICは必要ない。この技術を用い
ると1000μmまでのロータ厚さを達成することがで
きる。ロータ10のセイスミック質量が高められたこと
により、このようなセンサではポリ珪素で実施されるセ
ンサの場合よりも測定効果が高い。
【0011】図1のBは図1のAの部分図であり、ロー
タ10の支承部を拡大して示してある。保持部材25は
ここではナイフのエッジ状に構成されている。すなわち
保持部材は鋭い縁を有している。切欠13の横断面も角
度を有しており、この角度においてロータ10は保持部
材25の鋭い縁に載っている。ロータ10のこのナイフ
のエッジ状の支承部は特に摩擦が少なく、かつ摩耗しな
い。
タ10の支承部を拡大して示してある。保持部材25は
ここではナイフのエッジ状に構成されている。すなわち
保持部材は鋭い縁を有している。切欠13の横断面も角
度を有しており、この角度においてロータ10は保持部
材25の鋭い縁に載っている。ロータ10のこのナイフ
のエッジ状の支承部は特に摩擦が少なく、かつ摩耗しな
い。
【0012】図2に示されたセンサ構造は図1のAに示
されたセンサ構想にはほぼ等しいので、同一の構造部材
は同一の符号で示されている。図2に示されたセンサと
図1のAに示されたセンサとの違いは支承部の形式にあ
る。保持部材25はこの例えば円形横断面を持つピンに
よって形成されている。したがってロータ10の切欠1
3も円形に構成されている。保持装置25および切欠1
3の横断面は例えばだ円形に構成されていてもよい。こ
のピン支承はロータ懸架もう1つの方法を示す。
されたセンサ構想にはほぼ等しいので、同一の構造部材
は同一の符号で示されている。図2に示されたセンサと
図1のAに示されたセンサとの違いは支承部の形式にあ
る。保持部材25はこの例えば円形横断面を持つピンに
よって形成されている。したがってロータ10の切欠1
3も円形に構成されている。保持装置25および切欠1
3の横断面は例えばだ円形に構成されていてもよい。こ
のピン支承はロータ懸架もう1つの方法を示す。
【0013】図3には図1のAおよび図2に示されたセ
ンサ構造によて実施されたコンデンサ装置の簡単な回路
図が略示されている。2つの部分縁21と22はそれぞ
れロータ翼12と一緒になって容量C1とC2を形成し
ている。部分縁21はポテンシャルU+にかつ部分縁2
2はポテンシャルU−に設定されている。ロータ翼11
は部分縁23と一緒になってコンデンサCKを形成して
いる。ロータ翼11,12が等しいポテンシャルにあり
、かつ可動部として評価回路とは接触していないことに
注意すべきである。ロータ10の回転によるコンデンサ
装置の離調は部分縁23において測定することができ、
かつ図3に示された評価回路で増幅器Vに導かれる。
ンサ構造によて実施されたコンデンサ装置の簡単な回路
図が略示されている。2つの部分縁21と22はそれぞ
れロータ翼12と一緒になって容量C1とC2を形成し
ている。部分縁21はポテンシャルU+にかつ部分縁2
2はポテンシャルU−に設定されている。ロータ翼11
は部分縁23と一緒になってコンデンサCKを形成して
いる。ロータ翼11,12が等しいポテンシャルにあり
、かつ可動部として評価回路とは接触していないことに
注意すべきである。ロータ10の回転によるコンデンサ
装置の離調は部分縁23において測定することができ、
かつ図3に示された評価回路で増幅器Vに導かれる。
【図1】センサをロータ平面内で断面した図である。
【図2】別のセンサをロータ平面内で断面した図である
。
。
【図3】評価回路を示した図である。
10 ロータ
11,12 ロータ翼
13 切欠
20 縁
21,22,23 部分縁
25 保持部材
30 センサケーシング
31 基板
Claims (12)
- 【請求項1】 重力場の方向に対して垂直な特定の回
転軸に対する傾斜角を検出するためのセンサであって、
ケーシングによって閉鎖された内室が設けられており、
内室の中央領域内にケーシングに対して固定的な保持装
置が存在しており、かつセイスミック質量体が設けられ
ており、セイスミック質量体が震動可能に固定の保持装
置に懸架されている形式のものにおいて、セイスミック
質量体が保持装置(25)に対して非対称的なロータ(
10)として構成されており、ロータ(10)が保持装
置(25)によって決められる軸線を中心にして偏位可
能であり、ロータ(10)の部分(11,12)がコン
デンサ装置の電極を構成しており、ロータ(10)の囲
りに丸く、かつ保持装置(25)によって決められる軸
線に平行にケーシング(30)に対して固定的な縁(2
0)が配置されており、かつ縁(20)の部分(21,
22,23)がコンデンサ装置の対向電極を構成してい
ることを特徴とする、傾斜センサ。 - 【請求項2】 保持装置(25)が少なくとも片側で
間接的にケーシング(30)と固定的に結合されたピン
として構成されており、ロータ(10)が切欠(31)
を有しており、切欠の横断面がピン(25)の横断面よ
り大きく、かつロータ(10)が切欠(13)を介して
ピン(25)に差嵌められている、請求項1記載のセン
サ。 - 【請求項3】 ピン(25)が円形またはだ円形の横
断面を有している、請求項1または2記載のセンサ。 - 【請求項4】 ピン(25)が角度を少なくとも1つ
有する横断面を有しており、かつ切欠(13)がピン(
25)と一緒になってロータ(10)のためのナイフエ
ッジ状の支承部を形成するように切欠(13)の横断面
が少なくとも1つの角度を有している、請求項1または
2記載のセンサ。 - 【請求項5】 ロータ(10)が円形の板から形成さ
れており、切欠(13)が円の中心の囲りに配置されて
おり、かつ1個以上のロータ翼(11,12)が形成さ
れるように上記の円形の板からセグメントが切断されて
おり、そのためにセンサの静止位置におけるロータ(1
0)の重心が保持部材(25)の下方に存在する、請求
項1から4までのいずれか1項記載のセンサ。 - 【請求項6】 縁(20)が切欠を有しており、その
ために部分縁(21,22,23)が形成されている、
請求項1から5までのいずれか1項記載のセンサ。 - 【請求項7】 保持部材(25)と縁(20)が、ケ
ーシング(30)と固定的に結合された基板(31)に
取付けられている、請求項1から6までのいずれか1項
記載のセンサ。 - 【請求項8】 基板(31)がシリコンウエーハであ
り、シリコンウエーハ上に薄膜の組が設けられており、
かつロータ(10)、保持装置(25)および縁(20
)が薄膜の組から表面−マイクロメカニークの方法を用
いて構成されており、かつ少なくとも部分的にはポリ珪
素から製作されている、請求項7記載のセンサ。 - 【請求項9】 ロータ(10)、保持装置(25)お
よび縁(20)が金属またはプラスチックからリガ技術
で構成されている、請求項7記載のセンサ。 - 【請求項10】 ロータ(10)、保持装置(25)
および縁(20)がシリコン基板上に設けられている、
請求項9記載のセンサ。 - 【請求項11】 センサの内室が完全に減衰媒体で充
填されている、請求項1から10までのいずれか1項記
載のセンサ。 - 【請求項12】 ロータ(10)の比重が減衰媒体の
比重とは、ロータ(10)の減衰媒体に対する相対的な
運動時の摩擦がロータ(10)の非周期的な減衰をもた
らすように異なっている、請求項11項記載のセンサ。
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