DE4032181A1 - Verfahren zur herstellung keramischer elektronischer bauelemente in mehrschichtbauweise - Google Patents
Verfahren zur herstellung keramischer elektronischer bauelemente in mehrschichtbauweiseInfo
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- 239000000919 ceramic Substances 0.000 title claims description 50
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 20
- 238000010276 construction Methods 0.000 title claims description 3
- 239000010408 film Substances 0.000 claims description 83
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims description 83
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims description 83
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 30
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims description 20
- 239000000956 alloy Substances 0.000 claims description 18
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 claims description 18
- 239000010409 thin film Substances 0.000 claims description 14
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 9
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 claims description 4
- 239000007858 starting material Substances 0.000 claims description 2
- 239000003990 capacitor Substances 0.000 description 9
- KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N Palladium Chemical compound [Pd] KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000010304 firing Methods 0.000 description 3
- 229910052763 palladium Inorganic materials 0.000 description 3
- 238000005245 sintering Methods 0.000 description 3
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 238000010030 laminating Methods 0.000 description 2
- 239000002923 metal particle Substances 0.000 description 2
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000004033 plastic Substances 0.000 description 2
- 229920003023 plastic Polymers 0.000 description 2
- 238000007747 plating Methods 0.000 description 2
- -1 polyethylene terephthalate Polymers 0.000 description 2
- 229920000139 polyethylene terephthalate Polymers 0.000 description 2
- 239000005020 polyethylene terephthalate Substances 0.000 description 2
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 2
- 238000010025 steaming Methods 0.000 description 2
- 239000011882 ultra-fine particle Substances 0.000 description 2
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N Silver Chemical compound [Ag] BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910010293 ceramic material Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000007795 chemical reaction product Substances 0.000 description 1
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 1
- 238000011161 development Methods 0.000 description 1
- 230000018109 developmental process Effects 0.000 description 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 1
- 238000007731 hot pressing Methods 0.000 description 1
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 1
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 1
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 238000003825 pressing Methods 0.000 description 1
- 238000007650 screen-printing Methods 0.000 description 1
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000004332 silver Substances 0.000 description 1
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 1
- 238000003892 spreading Methods 0.000 description 1
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-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01G—CAPACITORS; CAPACITORS, RECTIFIERS, DETECTORS, SWITCHING DEVICES, LIGHT-SENSITIVE OR TEMPERATURE-SENSITIVE DEVICES OF THE ELECTROLYTIC TYPE
- H01G4/00—Fixed capacitors; Processes of their manufacture
- H01G4/002—Details
- H01G4/005—Electrodes
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01C—RESISTORS
- H01C7/00—Non-adjustable resistors formed as one or more layers or coatings; Non-adjustable resistors made from powdered conducting material or powdered semi-conducting material with or without insulating material
- H01C7/10—Non-adjustable resistors formed as one or more layers or coatings; Non-adjustable resistors made from powdered conducting material or powdered semi-conducting material with or without insulating material voltage responsive, i.e. varistors
- H01C7/102—Varistor boundary, e.g. surface layers
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01G—CAPACITORS; CAPACITORS, RECTIFIERS, DETECTORS, SWITCHING DEVICES, LIGHT-SENSITIVE OR TEMPERATURE-SENSITIVE DEVICES OF THE ELECTROLYTIC TYPE
- H01G4/00—Fixed capacitors; Processes of their manufacture
- H01G4/30—Stacked capacitors
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01G—CAPACITORS; CAPACITORS, RECTIFIERS, DETECTORS, SWITCHING DEVICES, LIGHT-SENSITIVE OR TEMPERATURE-SENSITIVE DEVICES OF THE ELECTROLYTIC TYPE
- H01G4/00—Fixed capacitors; Processes of their manufacture
- H01G4/30—Stacked capacitors
- H01G4/308—Stacked capacitors made by transfer techniques
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- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
- Y10T29/00—Metal working
- Y10T29/43—Electric condenser making
- Y10T29/435—Solid dielectric type
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
- Y10T29/00—Metal working
- Y10T29/49—Method of mechanical manufacture
- Y10T29/49002—Electrical device making
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
- Y10T29/00—Metal working
- Y10T29/49—Method of mechanical manufacture
- Y10T29/49002—Electrical device making
- Y10T29/49082—Resistor making
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- Engineering & Computer Science (AREA)
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- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
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Description
Die Erfindung betrifft ein Verfahren zur Herstellung eines elektronischen
Bauelements in Form eines monolithischen keramischen Körpers.
Ein mehrschichtiges elektronisches Bauelement, beispielsweise ein Schicht
kondensator, wird bisher nach dem folgenden Verfahren hergestellt.
Zunächst werden blattförmige keramische Grünschichten im Ausstreichver
fahren mit Hilfe einer Ausstreichklinge hergestellt. Eine Leitpaste, die ein
Metall zur Bildung der inneren Elektroden wie beispielsweise Palladium, Sil
ber-Palladium oder Nickel enthält, wird in einem vorgegebenen Muster im
Siebdruckverfahren auf die obere Oberfläche der keramischen Grünschicht
aufgedruckt. Im allgemeinen werden relativ große keramische Gründschichten
verwendet, und diese Schichten werden übereinandergestapelt und im wei
teren Verlauf des Verfahrens zerschnitten, so daß eine Vielzahl von Mehr
schichtkondensatoren in einem einzigen Arbeitsgang hergestellt wird. Dem
gemäß wird die Leitpaste zur Bildung der inneren Elektroden in mehreren
Gebieten auf die obere Oberfläche der keramischen Grünschicht aufgedruckt.
Mehrere keramische Grünschichten, die jeweils mit einer aufgedruckten
Leitpaste versehen sind, werden übereinandergestapelt und in Richtung ihrer
Dicke gepreßt. Anschließend wird der auf diese Weise erhaltene Schichtkör
per in Richtung seiner Dicke geschnitten, so daß man eine Vielzahl von
Schichtkörpern erhält, die jeweils einen Mehrschichtkondensator bilden.
Jeder der Schichtkörper wird gebrannt, so daß ein gesinterter Körper ent
steht. Anschließend wird Leitpaste für äußere Elektroden in einem vorgege
benen Gebiet auf die Oberfläche des gesinterten Körpers aufgetragen und aus
geheizt, wodurch der Mehrschichtkondensator vervollständigt wird.
Um die Abmessungen des Mehrschichtkondensators zu verringern und die
Kapazität zu erhöhen, sollte die Dicke der Keramikschichten zwischen den
inneren Elektroden möglichst verringert werden.
Wenn das Verhältnis der Dicke der Keramikschichten zur Dicke der inneren
Elektroden nach dem Brennen zu klein wird, so wird jedoch der Schwund
der Keramikschichten durch den Schwund der Leitpaste beim Brennen be
einflußt. Hieraus ergibt sich das Problem, daß der gesinterte Körper leicht
zerbricht oder daß der sich beim Brennen ergebende Schwundfaktor instabil
wird.
Außerdem enthält die Leitpaste ein Lösungsmittel, das ein Quellen oder
Schmelzen der keramischen Grünschicht bewirkt. Infolgedessen besteht wei
terhin das Problem, daß die inneren Elektroden leicht kurzgeschlossen wer
den und daß die Spannungsfestigkeit des Bauelements verringert wird.
Aus diesem Grund ist vorgeschlagen worden, eine Verdünnung der Keramik
schichten dadurch zu ermöglichen, daß man als innere Elektrode einen Me
tallfilm verwendet, der in einem Dünnschichtverfahren wie beispielsweise
Bedampfen. Sputtern oder Plattieren hergestellt wird. Bei diesen Verfahren
wird die Zuverlässigkeit des Herstellungsprozesses verbessert. In diesem Fall
wird die Verdünnung der Keramikschicht dadurch erreicht, daß man anstelle
der verhältnismäßig dicken Leitpaste eine dünne innere Elektrode verwen
det, die in einem Dünnschichtverfahren hergestellt ist.
In diesem Fall hat allerdings auch der im Dünnschichtverfahren hergestellte
Metallfilm selbst nur eine geringe Dicke. Hieraus ergibt sich eine Anzahl von
Problemen, beispielsweise insofern, als die innere Elektrode beim Brennen
leicht beschädigt werden kann.
Die Sintertemperatur der im Dünnschichtverfahren hergestellten inneren
Elektrode ist kleiner als die herkömmlicher innerer Elektroden aus Leitpa
ste. Wenn die Keramikschicht auf eine Temperatur erhitzt wird, bei der eine
nennenswerte Sinterung der Keramik eintritt, kommt es daher zu einer
Schrumpfung des Metallfilms, so daß die innere Elektrode leicht zerreißt
oder in sonstiger Weise beschädigt wird.
Um eine solche Beschädigung der inneren Elektrode zu vermeiden, könnte
man versuchen, durch eine geeignete Legierung die Sintertemperatur des
Metalls zu erhöhen oder die Oberflächenhaftung zwischen Metall und Kera
mik zu verbessern.
Bei den üblichen Dünnschichtverfahren zur Herstellung dünner Metallfilme
ist es jedoch schwierig, aus einem Metall mit der gewünschten Legierungszu
sammensetzung einen dünnen Film herzustellen, ohne daß sich dabei die Zu
sammensetzung der Legierung ändert. In vielen Fällen weicht deshalb die Le
gierungszusammensetzung des Dünnfilms wesentlich von der gewünschten
Legierungszusammensetzung ab. Es erweist sich als äußerst schwierig, die
Legierungszusammensetzung geeignet zu steuern. Infolgedessen stößt die
Herstellung innerer Elektroden mit der gewünschten Legierungszusammen
setzung auf erhebliche Schwierigkeiten.
Der Erfindung liegt die Aufgabe zugrunde, ein vereinfachtes und zuverlässiges
Verfahren zur Herstellung keramischer elektronischer Bauelemente in Form
monolither Blöcke anzugeben, bei dem die inneren Elektroden durch Metall
filme mit der gewünschten Legierungszusammensetzung gebildet werden.
Diese Aufgabe wird erfindungsgemäß durch ein Verfahren mit den in An
spruch 1 angegebenen Merkmalen gelöst.
Die Erfinder haben ein Verfahren zur Herstellung innerer Elektroden aus
Metallfilmen mit der gewünschten Legierungszusammensetzung sorgfältig
untersucht und festgestellt, daß ein aus mehreren Schichten bestehendes
Bauelement mit inneren Elektroden mit der gewünschten Legierungszusam
mensetzung hergestellt werden kann, wenn man die dünnen Metallfilme
nicht direkt aus der Legierung herstellt, sondern mehrere dünne Filme aus
verschiedenen Metallen oder Metallzusammensetzungen laminiert, so daß
sich die letztlich gewünschte Legierung erst beim Brennen der Keramik aus
den übereinanderliegenden Metallfilmen bildet. Diese Erkenntnis bildet die
Grundlage der erfindungsgemäßen Lösung.
Bei dem erfindungsgemäßen Verfahren werden mehrere Metallfilme in
Dünnschichttechkik überlagert, so daß sich ein Metallfilm-Laminat ergibt,
das als Ausgangsmaterial für die Legierung zur Bildung der inneren Elektrode
dient. Die Metallpartikel in dem durch Dünnschichttechnik erhaltenen Me
tallfilm-Laminat weisen einen Anteil ultrafeiner Partikel in der Größenord
nung von einem Nanometer auf, so daß ihre Aktivität sehr groß ist. Beim
Brennen der Keramik verwandelt sich das Laminat daher problemlos in eine
Legierung mit der gewünschten Zusammensetzung. Auf diese Weise ist eine
einfache Herstellung eines elektronischen Mehrschicht-Bauelements mit in
neren Elektroden aus der gewünschten Legierungszusammensetzung mög
lich.
Nach dem erfindungsgemäßen Verfahren können somit elektronische Mehr
schicht-Bauelemente hergestellt werden, die sich durch eine höhere Zuver
lässigkeit, geringe Abmessungen und eine hohe Kapazität auszeichnen, und
die Gefahr einer Beschädigung der Elektroden wird trotz der verringerten
Dicke der Elektroden vermieden, so daß eine beträchtliche Verringerung
der Dicke der Keramikschichten und der inneren Elektroden möglich ist.
Vorteilhafte Weiterbildungen und Ausgestaltungen der Erfindung ergeben
sich aus den Unteransprüchen.
Im folgenden werden bevorzugte Ausführungsbeispiele der Erfindung anhand
der Zeichnungen näher erläutert.
Es zeigt
Fig. 1 einen Schnitt durch einen keramischen Schichtkör
per, der gemäß dem erfindungsgemäßen Herstellungs
verfahren durch eine abwechselnde Folge von kerami
schen Grünschichten und Metallfilm-Laminaten gebil
det wird;
Fig. 2 eine Schnittdarstellung einer Herstellungsstufe, in der
ein erster Metallfilm hergestellt ist;
Fig. 3 eine Schnittdarstellung einer Herstellungsstufe, in der
dem ersten Metallfilm ein weiterer Metallfilm überla
gert ist;
Fig. 4 den Zustand nach der Herstellung eines Flächenmu
sters in den übereinander laminierten Metallfilmen;
Fig. 5 eine Schnittdarstellung zur Illustration eines Verfah
rens zur Übertragung des Metallfilm-Laminats auf eine
keramische Grünschicht;
Fig. 6A und 6B Grundrißdarstellungen der keramischen Grünschich
ten mit den darauf aufgebrachten Metallfilm-Laminaten;
und
Fig. 7 einen Schnitt durch einen als Endprodukt des Herstel
lungsverfahrens erhaltenen Merhschichtkondensator.
Wie im Schnitt in Fig. 2 zu erkennen ist, wird zunächst ein Film 1 aus Poly
ethylenterephthalat vorbereitet. Der Film 1 kann auch aus einem anderen
Kunststoff als Polyethylenterephthalat oder aus einem anderen Material als
Kunststoff bestehen, sofern sichergestellt ist, daß er bei einer Temperatur
von annähernd 75°C nicht verformt wird.
Auf den ersten Film 1 wird in einem Verfahren zur Dünnfilmherstellung ein
erster Metallfilm 2 aufgebracht. Der Metallfilm 2 besteht aus einem geeigne
ten Material wie beispielsweise Silber, Palladium, Nickel oder Kupfer. Die
Materialzusammensetzung des ersten Metallfilms 2 ist so gewählt, daß sich in
Verbindung mit der Materialzusammensetzung anderer Metallfilme, die spä
ter beschrieben werden, eine gewünschte Legierungszusammensetzung für
eine innere Elektrode des elektronischen Bauelements ergibt. Zur Herstel
lung des dünnen Films wird ein bekanntes Verfahren wie beispielsweise Be
dampfen, Sputtern, Plattieren oder dergleichen eingesetzt.
Gemäß Fig. 3 wird auf die Oberfläche des ersten Metallfilms 2 in Dünn
schichttechnik ein weiterer Metallfilm 3 aufgebracht, der eine andere Mate
rialzusammensetzung aufweist, so daß sich insgesamt ein geschichteter Me
tallfilm 4 oder ein Metallfilm-Laminat ergibt. Die von dem Material des ersten
Metallfilms 2 verschiedene Materialzusammensetzung des zweiten Metall
films 3 ist so gewählt, daß die gewünschte Legierungszusammensetzung der
inneren Elektrode erreicht wird, wie später näher erläutert wird.
Das Dickenverhältnis der Metallfilme 2 und 3 wird ebenfalls im Hinblick auf
die gewünschte Legierungszusammensetzung eingestellt.
Anschließend wird in dem laminierten Metallfilm 4 ein Flächenmuster er
zeugt, beispielsweise indem Teile des Metallfilms entfernt werden, wie in
Fig. 4 gezeigt ist, so daß einzelne laminierte Metallfilme 4a, 4b, . . . entstehen.
Zur Herstellung dieses Flächenmusters wird der laminierte Metallfilm 4 nach
Auftragen einer Maske aus einem geeigneten Resistmaterial geätzt.
Die einzelnen laminierten Metallfilme 4a und 4b werden anschließend auf ei
ne keramische Grünschicht übertragen. Wie in Fig. 5 gezeigt ist, wird die
Grünschicht auf einer unteren Metallform 5 abgelegt, und der in Fig. 4 ge
zeigte Film 1 wird in umgekehrter Stellung auf die keramische Grünschicht 6
aufgelegt, so daß die laminierten Metallfilme 4a und 4b der Oberfläche der
Grünschicht 6 zugewandt sind. Die Schichtstruktur aus der Grünschicht 6,
den laminierten Metallfilmen 4a und 4b und dem Film 1 wird mit Hilfe einer
oberen Metallform 7 gepreßt.
Die obere Form 7 weist in ihrem Inneren eine Heizeinrichtung 7a auf, mit
der der Film 1 auf eine Temperatur von annähernd 75°C erhitzt wird. Durch
dieses Heißpressen werden die laminierten Metallfilme 4a und 4b auf die ke
ramische Grünschicht 6 übertragen. Der Anpreßdruck bei diesem Preßvor
gang beträgt annähernd 2 bis 50 MPa (20 bis 50° Kg/cm2).
Bei dem oben beschriebenen Verfahren erhält man eine keramische Grün
schicht 6, auf deren Oberfläche sich die laminierten Metallfilme 4a und 4b
befinden. Es wird jeweils eine Vielzahl keramischer Grünschichten mit lami
nierten Metallfilmen in einem Arbeitsgang hergestellt, wie im einzelnen un
ter Bezugnahme auf Fig. 6A und 6B beschrieben werden soll.
Fig. 6A und 6B zeigen jeweils in der Draufsicht zwei keramische Grün
schichten, die jeweils mehrere laminierte Metallfilme tragen, wobei die Me
tallfilme in mehreren verschiedenen Gebieten auf der Oberfläche der Grün
schicht angeordnet sind. Die keramische Grünschicht 6, die in Fig. 6A ge
zeigt ist, trägt laminierte Metallfilme 4a bis 4r, und die in Fig. 6B gezeigte
Grünschicht 9 trägt laminierte Metallfilme 8a bis 8l. Mehrere keramische
Grünschichten 6 und 9 mit der in Fig. 6A bzw. 6B gezeigten Anordnung von
laminierten Metallfilmen werden abwechselnd übereinandergelegt, und der
so erhaltene Schichtkörper wird längs Linien geschnitten, die in Fig. 6A
und 6B durch strichpunktierte Linien angedeutet sind. Auf diese Weise wird
der Schichtkörper in eine Vielzahl kleinerer Schichtkörper zerteilt.
Einer dieser kleineren Schichtkörper ist im Schnitt in Fig. 1 gezeigt und
mit dem Bezugszeichen 10 bezeichnet. Die laminierten Metallfilme 4a und 8a
sind abwechselnd zwischen den Lagen der keramischen Grünschichten in
dem Schichtkörper 10 angeordnet. Die laminierten Metallfilme 4a liegen an
einer Stirnfläche 10a des Schichtkörpers 10 frei, während die Metallfilme 8a
an der entgegengesetzten Stirnfläche 10b freiliegen.
Der Schichtkörper 10 wird anschließend in gleicher Weise wie bei dem be
kannten Verfahren zur Herstellung von Mehrschichtkondensatoren gebrannt.
Beim Brennen wird das den Schichtkörper 10 im wesentlichen bildende Ke
ramikmaterial zu einem gesinterten Körper 12 gesintert, und die Metallfilm-
Laminate 4a, 8a werden legiert, so daß hieraus innere Elektroden 11a bis 11d
entstehen, wie in Fig. 7 gezeigt ist. Wie oben beschrieben wurde, bestehen
die laminierten Metallfilme jeweils aus ersten und zweiten Metallfilmen, die
im Dünnschichtverfahren hergestellt wurden. Die Metallpartikel in jedem der
Metallfilme bestehen deshalb zumindest zum Teil aus ultrafeinen Partikeln
mit einer Körnung in der Größenordnung von einem Nanometer, so daß sie
eine beträchtlich hohe Aktivität aufweisen. Wenn das Material der ersten und
zweiten Metallfilme beim Brennen legiert wird, entsteht daher mit hoher Zu
verlässigkeit eine Legierung, die die gewünschte Zusammensetzung aufweist.
Schließlich werden die beiden Stirnflächen 12a und 12b des gesinterten
Körpers 12 mit Leitpaste beschichtet und anschließend gebrannt, so daß äu
ßere Elektroden 13a und 13b gebildet werden. Für die Herstellung dieser äu
ßeren Elektroden 13a, 13b kann das bekannte Verfahren zur Herstellung der
äußeren Elektroden eines Mehrschichtkondensators eingesetzt werden.
Während bei dem oben beschriebenen Ausführungsbeispiel mehrere kerami
sche Grünschichten 6 und 9 gemäß Fig. 6A und 6B übereinanderge
schichtet werden, läßt sich ein Schichtkörper auch dadurch erhalten, daß
man eine unbeschichtete keramische Grünschicht auf eine mit auflaminierten
Metallfilmen versehene Grünschicht auflegt und anschließend die laminier
ten Metallfilme auf die ursprünglich unbeschichtete Grünschicht überträgt
und daß man diesen Prozeß mehrfach wiederholt.
In einer weiteren Abwandlung des oben beschriebenen Ausführungsbeispiels
läßt sich der Schichtkörper dadurch erhalten, daß man einen laminierten
Metallfilm auf einem Film ausbildet, eine keramische Grünschicht auf dem la
minierten Metallfilm ausbildet, so daß sie diesen überlagert, und anschlie
ßend den laminierten Metallfilm auf die aufgelegte keramische Grünschicht
zusammen überträgt und daß man diesen Prozeß mehrfach wiederholt.
Während bei dem oben beschriebenen Verfahren relativ große keramische
Grünschichten 6 und 9 übereinandergelegt werden und der so erhaltene
Schichtkörper längs der strichpunktierten Linien A und B in Fig. 6a und
6B in Teile zerschnitten wird, so daß man eine Vielzahl von Schichtkörpern
erhält, ist es auch möglich, die Schichtkörper einzeln aus kleineren kerami
schen Grünschichten herzustellen.
Der laminierte Metallfilm kann abweichend von dem beschriebenen Ausfüh
rungsbeispiel auch aus drei oder mehr übereinanderliegenden Metallfilmen
bestehen.
Das oben beschriebene Verfahren ist nicht auf die Herstellung von Mehr
schichtkondensatoren beschränkt, sondern kann auch zur Herstellung ande
rer elektronischer Bauelemente in Mehrschichtbauweise eingesetzt werden,
beispielsweise zur Herstellung monolithischer Widerstände gemäß dem US-
Patent 42 90 041. Bei der Herstellung des in diesem Patent beschriebenen
Widerstands werden dann die inneren Elektroden nach dem oben beschrie
benen Verfahren gebildet.
Claims (7)
1. Verfahren zur Herstellung eines elektronischen Bauelements in Mehr
schichtbauweise, bei dem mehrere innere Elektroden (11a, 11b, 11c, 11d)
einander überlappend und unter Zwischenfügung von Keramikschichten (6)
in einem gesinterten Keramikkörper (12) angeordnet sind, gekennzeichnet
durch die folgenden Schritte:
- - mehrere Metallfilme (2, 3), die sich in ihrer Metallzusammensetzung unterscheiden, werden der Reihe nach übereinandergeschichtet, so daß sich ein laminierter Metallfilm (4; 4a, 8a) bildet, wobei die Materia lien der einzelnen Metallfilme zusammen das Ausgangsmaterial für eine Legierung mit der für die inneren Elektroden gewünschten Metallzu sammensetzung bilden,
- - durch abwechselndes Übereinanderlegen mehrerer keramischer Grün sichten (6, 9) und der laminierten Metallfilme (4a, 8a) wird ein Schichtkörper (10) gebildet und
- - der Schichtkörper (10) wird gebrannt, wodurch die laminierten Me tallfilme zu einem die inneren Elektroden (11a, 11b, 11c, 11d) bilden den Material legiert werden.
2. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß man die la
minierten Metallfilme (4) herstellt, indem man die einzelnen Metallfilme
(2, 3) in Dünnschichttechnik nacheinander auf einem Träger-Film (1) ausbil
det.
3. Verfahren nach Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet, daß der Schicht
körper (10) hergestellt wird, indem man die auf dem Träger-Film (1) gebil
deten laminierten Metallfilme (4) jeweils auf eine keramische Grünschicht
(6) überträgt und die mit den laminierten Metallfilmen versehenen kerami
schen Grünschichten übereinandergelegt.
4. Verfahren nach Anspruch 3, dadurch gekennzeichnet, daß man bei der
Herstellung des Schichtkörpers (10) in der Schichtfolge der keramischen
Grünschichten außer den mit laminierten Metallfilmen auf jeweils einer
Hauptfläche versehenen Grünschichten (6) wenigstens eine keramische
Grünschicht ohne Metallfilm vorsieht.
5. Verfahren nach Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet, daß man eine
zweite keramische Grünschicht auf eine mit dem laminierten Metallfilm (4)
versehene keramische Grünschicht (6) auflegt und einen laminierten Metall
film auf die obere Oberfläche der zweiten Grünschicht aufprägt und daß man
diese Schritte wiederholt, um den Schichtkörper (10) aufzubauen.
6. Verfahren nach Anspruch 3, dadurch gekennzeichnet, daß man den
Schichtkörper (10) aufbaut, indem man eine keramische Grünschicht auf
dem auf dem Träger-Film (1) ausgebildeten laminierten Metallfilm (4) auflegt
und anschließend den laminierten Metallfilm zusammen mit der aufliegenden
Grünschicht überträgt und indem man diese Schritte wiederholt.
7. Verfahren nach Anspruch 3, dadurch gekennzeichnet, daß der laminier
te Metallfilm (4) vor der Übertragung auf die keramische Grünschicht in
mehrere Bereiche (4a-4r; 8a-8l) aufgeteilt wird, daß man die mehreren Be
reiche des laminierten Metallfilms auf die keramische Grünschicht überträgt
und den aus mehreren in dieser Weise mit Metallfilm-Bereichen versehenen
Grünschichten gebildeten Schichtkörper in Richtung seiner Dicke zerschnei
det, so daß mehrere kleinere Schichtkörper gebildet werden.
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1264579A JP2504223B2 (ja) | 1989-10-11 | 1989-10-11 | 積層コンデンサの製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE4032181A1 true DE4032181A1 (de) | 1991-04-18 |
DE4032181C2 DE4032181C2 (de) | 1993-12-09 |
Family
ID=17405250
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE4032181A Expired - Lifetime DE4032181C2 (de) | 1989-10-11 | 1990-10-10 | Verfahren zur Herstellung eines elektronischen Bauelements in Mehrschichtbauweise |
Country Status (3)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US5046236A (de) |
JP (1) | JP2504223B2 (de) |
DE (1) | DE4032181C2 (de) |
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|
D2 | Grant after examination | ||
8364 | No opposition during term of opposition |