DE4007428A1 - Photopolymerisierbares gemisch und daraus hergestelltes aufzeichnungsmaterial - Google Patents

Photopolymerisierbares gemisch und daraus hergestelltes aufzeichnungsmaterial

Info

Publication number
DE4007428A1
DE4007428A1 DE4007428A DE4007428A DE4007428A1 DE 4007428 A1 DE4007428 A1 DE 4007428A1 DE 4007428 A DE4007428 A DE 4007428A DE 4007428 A DE4007428 A DE 4007428A DE 4007428 A1 DE4007428 A1 DE 4007428A1
Authority
DE
Germany
Prior art keywords
mixture according
group
layer
trihalomethyl
mixt
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Withdrawn
Application number
DE4007428A
Other languages
English (en)
Inventor
Rudolf Dipl Chem Dr Zertani
Dieter Dipl Chem Dr Mohr
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Hoechst AG
Original Assignee
Hoechst AG
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Hoechst AG filed Critical Hoechst AG
Priority to DE4007428A priority Critical patent/DE4007428A1/de
Priority to DE59108650T priority patent/DE59108650D1/de
Priority to AT91102779T priority patent/ATE151540T1/de
Priority to EP91102779A priority patent/EP0445624B1/de
Priority to KR1019910003644A priority patent/KR100196589B1/ko
Priority to CA002037751A priority patent/CA2037751A1/en
Priority to FI911146A priority patent/FI911146L/fi
Priority to JP3069267A priority patent/JP2949125B2/ja
Priority to BR919100945A priority patent/BR9100945A/pt
Priority to US07/666,635 priority patent/US5229253A/en
Priority to AU72814/91A priority patent/AU634868B2/en
Publication of DE4007428A1 publication Critical patent/DE4007428A1/de
Withdrawn legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • GPHYSICS
    • G11INFORMATION STORAGE
    • G11BINFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
    • G11B7/00Recording or reproducing by optical means, e.g. recording using a thermal beam of optical radiation by modifying optical properties or the physical structure, reproducing using an optical beam at lower power by sensing optical properties; Record carriers therefor
    • G11B7/24Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material
    • G11B7/26Apparatus or processes specially adapted for the manufacture of record carriers
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004Photosensitive materials
    • G03F7/027Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
    • G03F7/032Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds with binders
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10STECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10S526/00Synthetic resins or natural rubbers -- part of the class 520 series
    • Y10S526/943Polymerization with metallocene catalysts

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
  • Polymerisation Methods In General (AREA)
  • Paints Or Removers (AREA)
  • Materials For Photolithography (AREA)
  • Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
  • Macromonomer-Based Addition Polymer (AREA)
  • Optical Record Carriers And Manufacture Thereof (AREA)
  • Developing Agents For Electrophotography (AREA)
  • Graft Or Block Polymers (AREA)
  • Catalysts (AREA)
  • Non-Silver Salt Photosensitive Materials And Non-Silver Salt Photography (AREA)

Description

Die Erfindung betrifft ein photopolymerisierbares Ge­ misch, das ein polymeres Bindemittel, eine polymeri­ sierbare Verbindung, insbesondere einen Acryl- oder Alkacrylsäureester, sowie eine Photoinitiator­ kombination enthält.
Photopolymerisierbare Gemische, die zur Erhöhung der Lichtempfindlichkeit bestimmte Kombinationen von Photoinitiatoren und Aktivatoren, z. B. von Carbonyl­ gruppen enthaltenden Initiatoren und tertiären Ami­ nen, enthalten, sind bekannt. Derartige synergistisch wirkende Gemische sind z. B. in den US-A 37 59 807, 40 54 682 und 40 71 424 beschrieben. Ein Nachteil dieser Gemische, die niedermolekulare Amine enthal­ ten, besteht darin, daß sie eine geringere Lagersta­ bilität aufweisen, da die Amine, insbesondere aus dünnen Schichten, leicht ausschwitzen können.
In der JP-A 50/1 29 214, angemeldet am 02.04.1974 unter der Nummer 49/36 614, wird ein photopolymerisierbares Gemisch beschrieben, das als polymerisierbare Verbin­ dung einen Tetra(meth)acrylsäureester eines N,N,N′,N′-Tetrahydroxyalkyl-alkylendiamins enthält. Die tetrafunktionelle Verbindung dient als Ver­ netzungsmittel.
Es ist weiterhin bekannt, daß man die radikalische Polymerisation von ethylenisch ungesättigten Verbin­ dungen durch Bestrahlung mit sichtbarem Licht in Ge­ genwart von photoreduzierbaren Farbstoffen und Reduk­ tionsmitteln, z. B. Aminen, anstoßen kann (US-A 30 97 096). Diese Initiatorkombinationen werden jedoch im wesentlichen nur in wäßriger Lösung oder in Kombi­ nation mit wasserlöslichen Bindemitteln eingesetzt. Initiatorkombinationen aus photoreduzierbaren Farb­ stoffen und anderen Reduktionsmmitteln sind in den US-A 35 97 343 und 34 88 269 beschrieben.
Photopolymerisierbare Gemische, die als Initiatoren ausschließlich photoreduzierbare Farbstoffe enthal­ ten, sind wegen ihrer zu geringen Lichtempfindlich­ keit bisher praktisch nicht eingesetzt worden.
In der JP-A 54/1 51 024 ist ein photopolymerisierbares Gemisch beschrieben, das eine Initiatorkombination aus einem Merocyaninfarbstoff und einem trihalogen­ methylsubstituierten s-Triazin enthält und gegenüber sichtbarem Licht, z. B. einem Argonlaser, empfindlich ist. Die Empfindlichkeit dieser Gemische gegenüber sichtbarem Laserlicht ist jedoch für eine wirtschaft­ liche Nutzung nicht ausreichend.
In der EP-A 2 87 817 werden photopolymerisierbare Gemische beschrieben, die (Meth)acrylsäureester mit Urethangruppen, tertiären Aminogruppen und ggf. Harn­ stoffgruppen im Molekül, polymere Bindemittel und, als Photoinitiatoren, eine Kombination aus einem photoreduzierbaren Farbstoff, einer strahlungs­ empfindlichen Trihalogenmethylverbindung und einer Acridin-, Phenazin- oder Chinoxalinverbindung enthalten.
In der EP-A 3 21 826 werden ähnliche Gemische mit (Meth)acrylsäureestern beschrieben, die keine Urethangruppen enthalten.
In der US-A 37 17 558 sind Metallocene von Elementen der Nebengruppen IIa bis VIIIa in Kombination mit einem weiteren Photoinitiator mit einer Carbonsäure­ chloridgruppe für den Einsatz in photopolymerisierba­ ren Aufzeichnungsmaterialien beschrieben. Diese Initiatorkombinationen sind sehr sauerstoff- und hydrolyseempfindlich und dadurch für die Herstellung von Druckplatten und Resistmaterialien weniger geeignet. Weitere Metallocene und deren Einsatz als Photoinitiatoren in photopolymerisierbaren Gemischen werden in den EP-A 1 19 162 und 1 22 223 beschrieben. Hierbei handelt es sich um Titanocene mit guter Stabilität gegen Luft, die eine spektrale Empfindlichkeit im Bereich vom UV-Licht bis zum sichtbaren Licht aufweisen. Sie enthalten als Liganden unter anderem Cyclopentadienylreste und fluorierte Phenylreste. Ferner werden in den EP-A 2 42 330 und 2 59 573 photopolymerisierbare Gemische beschrieben, die eine Photoinitiatormischung, bestehend aus einem Titanocen und einem flüssigen Photoinitiator vom Typ eines Hydroxy- oder Ami­ noacetophenons enthalten. Bei diesen Materialien ist die erzielbare Lichtempfindlichkeit für eine schnelle Bebilderung mit einem energieschwachen und zugleich kostengünstigen Argonionlaser nicht ausreichend.
In der nicht vorveröffentlichten älteren europäischen Patentanmmeldung 89117004.5 werden photopolymerisier­ bare Gemische beschrieben, die
  • - ein polymeres Bindemittel,
  • - eine radikalisch polymerisierbare Ver­ bindung mit mindestens einer polymeri­ sierbaren Gruppe,
  • - einen photoreduzierbaren Farbstoff,
  • - eine durch Strahlung spaltbare Trihalogen­ methylverbindung und
  • - eine Metallocenverbindung, insbesondere ein Titanocen oder Zirkonocen,
enthalten. Als Metallocene werden solche eingesetzt, die als Liganden zwei ggf. substituierte Cyclo­ pentadienylreste und zwei substituierte Phenylreste tragen. Die Phenylreste tragen in o-Stellung zur Bindung mindestens ein Fluoratom und enthalten ggf. weitere Substituenten, wie Cl, Br, Alkyl- oder Alkoxygruppen; bevorzugt und in den Beispielen beschrieben werden Verbindungen mit Penta­ fluorphenylresten. Diese Gemische weisen eine außerordentlich hohe Lichtempfindlichkeit auf. Ihre Lagerfähigkeit, insbesondere bei erhöhten Tempe­ raturen, ist aber begrenzt.
Aufgabe der Erfindung war es, photopolymerisierbare Gemische vorzuschlagen, die sich zur Herstellung von Druckplatten hoher Auflagenleistung und Photoresists mit hoher Resistenz gegen Verarbeitungslösungen im gehärteten Zustand eignen, die sich durch eine hohe Lichtempfindlichkeit im hohen Ultraviolett- und im sichtbaren Spektralbereich, sowie durch eine gute thermische Lagerstabilität auszeichnen und die ins­ besondere zur Laserstrahlaufzeichnung im sichtbaren Bereich geeignet sind.
Erfindungsgemäß wird ein photopolymerisierbares Ge­ misch vorgeschlagen, das als wesentliche Bestandteile
  • a) ein polymeres Bindemittel,
  • b) eine radikalisch polymerisierbare Verbin­ dung mit mindestens einer polymerisierbaren Gruppe,
  • c) einen photoreduzierbaren Farbstoff
enthält.
Das erfindungsgemäße Gemisch ist dadurch gekennzeich­ net, daß es ferner
  • d) ein Dicyclopentadienyl-bis-2,4,6-trifluor­ phenyl-titan oder -zirkon
enthält.
Die als Initiatorbestandteil eingesetzten Metallocene sind als solche und auch als Photoinitiatoren bekannt, z. B. aus der US-A 45 90 287. Bevorzugt wer­ den die Verbindungen des Titans. Derartige Verbindungen sind z. B. in den EP-A 1 19 162 und 1 22 223 beschrieben.
Die Cyclopentadienylgruppen können insbesondere durch Alkylreste mit 1 bis 4 Kohlenstoffatomen, Chloratome, Phenyl- oder Cyclohexylreste substituiert oder durch Alkylengruppen miteinander verknüpft sein. Die Cyclopentadienylgruppen sind bevorzugt entweder unsubstituiert oder durch Alkylreste oder Chloratome substituiert. Der Mengenanteil an Metallocen­ verbindung liegt im allgemeinen zwischen 0,01 und 10, vorzugsweise bei 0,05 bis 6 Gew.-%, bezogen auf die nichtflüchtigen Anteile des Gemischs.
Das erfindungsgemäße Gemisch enthält als weiteren Photoinitiatorbestandteil einen photoreduzierbaren Farbstoff. Geeignete Farbstoffe sind insbesondere Xanthen-, Benzoxanthen-, Benzothioxanthen-, Thiazin-, Pyronin, Porphyrin- oder Acridinfarbstoffe.
Geeignete Xanthen- und Thiazinfarbstoffe sind z. B. in der EP-A 2 87 817 beschrieben. Geeignete Benzoxanthen- und Benzothioxanthenfarbstoffe sind in der DE-A 20 25 291 und der EP-A 3 21 828 beschrieben.
Als Porphyrinfarbstoff ist z. B. Hämatoporphyrin und als Acridinfarbstoff z. B. Acriflaviniumchlorid-Hydro­ chlorid geeignet.
Beispiele für Xanthenfarbstoffe sind Eosin B (C. I. Nr. 45400), Eosin J (C. I. Nr. 45380), Eosin alkohol­ löslich (C. I. 45386), Cyanosin (C. I. Nr. 45410), Ben­ galrosa, Erythrosin (C. I. Nr. 45430), 2,3,7-Trihy­ droxy-9-phenyl-xanthen-6-on und Rhodamin 6 G (C. I. Nr. 45160).
Beispiele für Thiazinfarbstoffe sind Thionin (C. I. Nr. 52000), Azur A (C. I. Nr. 52005), und Azur C (C. I. Nr. 52002).
Beispiele für Pyroninfarbstoffe sind Pyronin B (C. I. Nr. 45010) und Pyronin GY (C. I. Nr. 45005). Die Menge des photoreduzierbaren Farbstoffs liegt im all­ gemeinen zwischen 0,01 und 10, vorzugsweise zwischen 0,05 und 4 Gew.-%, bezogen auf die nichtflüchtigen Anteile des Gemischs.
Zur Steigerung der Lichtempfindlichkeit enthalten die erfindungsgemäßen Gemische vorzugsweise noch Verbin­ dungen mit photolytisch spaltbaren Trihalogen­ methylgruppen, die als radikalbildende Photo­ initiatoren für photopolymerisierbare Gemische an sich bekannt sind. Als derartige Coinitiatoren haben sich besonders Verbindungen mit Chlor und Brom, insbesondere Chlor, als Halogene bewährt. Die Trihalogenmethylgruppen können direkt oder über eine durchkonjugierte Kette an einen aromatischen carbo- oder heterocyclischen Ring gebunden sein. Bevorzugt werden Verbindungen mit einem Triazinring im Grundkörper, der bevorzugt 2 Trihalogenmethylgruppen trägt, insbesondere solche, wie sie in der EP-A 1 37 452, der DE-A 27 18 259 und der DE-A 22 43 621 beschrieben sind. Diese Verbindungen haben starke Lichtabsorptionen im nahen UV-Bereich, etwa um 350- 400 nm. Es sind auch Coinitiatoren geeignet, die selbst im Spektralbereich des Kopierlichts nicht oder nur wenig absorbieren, wie Trihalogenmethyltriazine, die Substituenten mit kürzeren mesomeriefähigen Elek­ tronensystemen oder aliphatische Substituenten ent­ halten. Auch Verbindungen mit anderem Grundgerüst, die im kürzerwelligen UV-Bereich absorbieren, z. B. Phenyltrihalogenmethylsulfone oder Phenyltrihalo­ genmethylketone, z. B. das Phenyltribrommethylsulfon, sind geeignet.
Diese Halogenverbindungen werden im allgemeinen in einer Menge von 0,01 bis 10, vorzugsweise von 0,05 bis 4 Gew.-%, bezogen auf die nichtflüchtigen Bestandteile des Gemischs, eingesetzt.
Die erfindungsgemäßen Gemische enthalten ggf. als weiteren Initiatorbestandteil eine Acridin-, Phen­ azin- oder Chinoxalinverbindung. Diese Verbindungen sind als Photoinitiatoren bekannt und in den DE-C 20 27 467 und 20 39 861 beschrieben. Durch diese Verbin­ dungen wird die Empfindlichkeit des Gemischs vor al­ lem im nahen Ultraviolettbereich gesteigert. Ge­ eignete Vertreter dieser Verbindungsklasse sind in den genannten DE-C beschrieben. Beispiele sind in 9- Stellung substituierte Acridine, wie 9-Phenyl-, 9-p- Methoxyphenyl- oder 9-Acetylamino-acridin, oder Acri­ dinderivate mit ankondensierten aromatischen Kernen, z. B. Benz(a)acridin. Als Phenazinderivat ist z. B. das 9,10-Dimethyl-benz(a)phenazin geeignet. Als Chinoxalinderivate kommen insbesondere die 2,3-Diphe­ nylderivate in Betracht, die vorzugsweise in den bei­ den Phenylresten durch Methoxygruppen weiter substi­ tuiert sind. Im allgemeinen werden die Acridinderi­ vate bevorzugt. Die Menge dieser Komponente im Ge­ misch liegt im Bereich von 0 bis 10 Gew.-.%, vorzugs­ weise zwischen 0,05 und 5 Gew.-%. Wenn eine weitere Empfindlichkeitssteigerung des Gemischs im sichtbaren Spektralbereich erwünscht ist, kann diese durch Zu­ satz einer Verbindung vom Dibenzalaceton- oder Cuma­ rintyp erreicht werden. Dieser Zusatz bewirkt eine höhere Auflösung der Kopie und eine durchgehende Sen­ sibilisierung des Gemischs für den sichtbaren Spektralbereich bis zu Wellenlängen von etwa 600 nm. Geeignete Vertreter dieser Verbindungen sind 4,4′-disubstituierte Dibenzalacetone, z. B. Diethyl­ amino-4′-methoxy-dibenzalaceton, oder Cumarinderivate wie 3-Acetyl-7-diethylamino-, 3-Benzimidazolyl-7- diethylamino- oder Carbonyl-bis-(7-diethylamminocuma­ rin). Die Menge dieser Verbindung liegt im Bereich von 0 bis 10, vorzugsweise von 0,05 bis 4 Gew.-%, be­ zogen auf die nichtflüchtigen Bestandteile des Ge­ mischs. Die Gesamtmenge an Polymerisationsinitiatoren liegt im allgemeinen bei 0,05 bis 20, vorzugsweise bei 0,1 bis 10 Gew.-%.
Für die Zwecke der Erfindung geeignete polymerisier­ bare Verbindungen sind bekannt und z. B. in den US-A 27 60 863 und 30 60 023 beschrieben.
Bevorzugte Beispiele sind Acryl- und Methacrylsäure­ ester von zwei- oder mehrwertigen Alkoholen, wie Ethylenglykoldiacrylat, Polyethylenglykoldimethacry­ lat, Acrylat und Methacrylate von Trimethylolethan, Trimethylolpropan, Pentaerythrit und Dipentaerythrit und von mehrwertigen alicyclischen Alkoholen oder N- substituierte Acryl- und Methacrylsäureamide. Mit Vorteil werden auch Umsetzungsprodukte von Mono- oder Diisocyanaten mit Partialestern mehrwertiger Alkohole eingesetzt. Derartige Monomere sind in den DE-A 20 64 079, 23 61 041 und 28 22 190 beschrieben.
Besonders bevorzugt werden polymerisierbare Verbindungen, die mindestens eine photooxydierbare und gegebenenfalls mindestens eine Urethangruppe im Molekül enthalten. Als photooxydierbare Gruppen kommen insbesondere Aminogruppen, Harnstoffgruppen, Thiogruppen, die auch Bestandteile heterocyclischer Ringe sein können, Enolgruppen und Carboxylgruppen in Kombination mit olefinischen Doppelbindungen in Be­ tracht. Beispiele für derartige Gruppen sind Trietha­ nolamino-, Triphenylamino-, Thioharnstoff-, Imid­ azol-, Oxazol-, Thiazol-, Acetylacetonyl-, N-Phenyl­ glycin- und Ascorbinsäuregruppen. Polymerisierbare Verbindungen mit primären, sekundären und ins­ besondere tertiären Aminogruppen werden bevorzugt.
Beispiele für Verbindungen mit photooxydierbaren Gruppen sind Acryl- und Alkacrylsäureester der Formel
worin
R eine Alkyl-, Hydroxyalkyl- oder Aryl­ gruppe,
R⁵ und R⁶ jeweils ein Wasserstoffatom, eine Al­ kylgruppe oder Alkoxyalkylgruppe,
R⁷ ein Wasserstoffatom, eine Methyl- oder Ethylgruppe,
X¹ eine gesättigte Kohlenwasserstoff­ gruppe mit 2 bis 12 Kohlenstoffatomen,
X² eine (c+1)-wertige gesättigte Kohlen­ wasserstoffgruppe, in der bis zu 5 Me­ thylgruppen durch Sauerstoffatome er­ setzt sein können,
D¹ und D² jeweils eine gesättigte Kohlenwasser­ stoffgruppe mit 1 bis 5 Kohlenstoff­ atomen,
E eine gesättigte Kohlenwasserstoff­ gruppe mit 2 bis 12 Kohenstoffatomen, eine cycloaliphatische Gruppe mit 5 bis 7 Ringgliedern, die ggf. bis zu zwei N-, O- oder S-Atome als Ringglie­ der enthält, eine Arylengruppe mit 6 bis 12 Kohlenstoffatomen oder eine he­ terocyclische aromatische Gruppe mit 5 oder 6 Ringgliedern,
a 0 oder eine Zahl von 1 bis 4,
b 0 oder 1,
c eine ganze Zahl von 1 bis 3,
m je nach Wertigkeit von Q 2, 3 oder 4 und
n eine ganze Zahl von 1 bis m
bedeutet, wobei alle Symbole gleicher Definition untereinander gleich oder verschieden sein können. Die Verbindungen dieser Formel, ihre Herstellung und Verwendung sind ausführlich in der EP-A 2 87 818 beschrieben. Wenn in der Verbindung der allgemeinen Formel I mehr als ein Rest R oder mehr als ein Rest des in eckigen Klammern angegebenen Typs an die zentrale Gruppe Q gebunden ist, so können diese Reste untereinander verschieden sein.
Verbindungen, in denen alle Substituenten von Q poly­ merisierbare Reste sind, d. h. in denen m=n ist, werden im allgemeinen bevorzugt. Im allgemeinen ist in nicht mehr als einem, bevorzugt in keinem Rest a=o, vorzugsweise ist a=1.
Wenn R eine Alkyl- oder Hydroxyalkylgruppe ist, hat diese im allgemeinen 2 bis 8, vorzugsweise 2 bis 4, Kohlenstoffatome. Der Arylrest R kann im allgemeinen ein- oder zweikernig, bevorzugt einkernig und gegebe­ nenfalls durch Alkyl- oder Alkoxygruppen mit bis zu 5 Kohlenstoffatomen oder Halogenatomen substituiert sein.
Wenn R⁵ und R⁶ Alkyl- oder Alkoxyalkylgruppen sind, können diese 1 bis 5 Kohlenstoffatome enthalten. R⁷ ist bevorzugt ein Wasserstoffatom oder eine Methyl­ gruppe, insbesondere eine Methylgruppe.
X¹ ist bevorzugt ein geradkettiger oder verzweigter aliphatischer oder cycloaliphatischer Rest mit vorzugsweise 4 bis 10 Kohlenstoffatomen. X² hat vorzugsweise 2 bis 15 Kohlenstoffatome, von denen bis zu 5 durch Sauerstoffatome ersetzt sein können. Wenn es sich um reine Kohlenstoffketten handelt, werden im allgemeinen solche mit 2 bis 12, vorzugsweise 2 bis 6 Kohlenstoffatomen eingesetzt. X² kann auch eine cycloaliphatische Gruppe mit 5 bis 10 Kohlenstoffato­ men, insbesondere eine Cyclohexylengruppe sein. D¹ und D² können gleich oder verschieden sein und bilden zusammen mit den beiden Stickstoffatomen einen gesät­ tigten heterocyclischen Ring mit 5 bis 10, vorzugs­ weise 6 Ringgliedern.
Wenn E eine Alkylengruppe ist, hat diese vorzugsweise 2 bis 6 Kohlenstoffatome, als Arylengruppe ist es be­ vorzugt eine Phenylgruppe. Als cycloaliphatische Gruppen werden Cyclohexylengruppen, als aromatische Heterocyclen solche mit N oder S als Heteroatomen und mit 5 oder 6 Ringgliedern bevorzugt. Der Wert von c ist vorzugsweise 1.
Weitere geeignete Verbindungen mit photooxydierbaren Gruppen sind Verbindungen der Formel II
worin Q, R, R⁵, R⁶, R⁷, m und n die oben angegebene Bedeutung haben und Q zusätzlich eine Gruppe
sein kann, worin E′ eine Gruppe der Formel III
ist, in der c die Bedeutung wie in Formel I hat; a′ und b′ sind ganze Zahlen von 1 bis 4.
Die Verbindungen dieser Formel, ihre Herstellung und Verwendung sind ausführlich in der EP-A 3 16 706 beschrieben.
Weitere geeignete Verbindungen mit photooxydierbaren Gruppen sind Acryl- und Alkacrylsäureester der For­ mel IV
i und k ganze Zahlen von 1 bis 12,
n′ je nach Wertigkeit von Q′ 1, 2 oder 3
bedeutet, und R⁷, X¹, X², D¹, D², a und b die bei Formel I angegebene Bedeutung haben, wobei alle Sym­ bole gleicher Definition untereinander gleich oder verschieden sein können und wobei in mindestens einem Substituenten an der Gruppe Q a=0 ist.
Von den Verbindungen der Formel IV werden solche be­ vorzugt, die außer einer Harnstoffgruppe mindestens eine Urethangruppe enthalten. Als Harnstoffgruppen sollen Gruppen der Formel
angesehen werden, bei denen die Valenzen am Stick­ stoff mit ggf. substituierten Kohlenwasserstoffresten abgesättigt sind. Es kann aber auch eine Valenz an einem Stickstoffatom an eine weitere Carbonylamid­ gruppe (CONH) gebunden sein, so daß eine Biuretstruk­ tur entsteht.
Das Symbol a ist in Formel IV vorzugsweise 0 oder 1; i ist vorzugsweise eine Zahl von 2 bis 10.
Die polymerisierbaren Verbindungen der Formel IV wer­ den analog zu den Verbindungen der Formel I herge­ stellt. Die Verbindungen der Formel IV und ihre Her­ stellung sind ausführlich in der EP-A 3 55 387 beschrieben.
Der Mengenanteil der photopolymerisierbaren Schicht an polymerisierbaren Verbindungen beträgt im allge­ meinen etwa 10 bis 80, bevorzugt 20 bis 60 Gew.-%, bezogen auf die nichtflüchtigen Bestandteile.
Beispiele für verwendbare Bindemittel sind chlorier­ tes Polyethylen, chloriertes Polypropylen, Poly­ (meth)acrylsäurealkylester, bei denen die Alkylgruppe z. B. Methyl, Ethyl, n-Butyl, i-Butyl, n-Hexyl oder 2- Ethylhexyl ist, Copolymere der genannten (Meth)­ acrylsäurealkylester mit mindestens einem Monomeren, wir Acrylnitril, Vinylchlorid, Vinylidenchlorid, Sty­ rol oder Butadien; Polyvinylchlorid, Vinylchlo­ rid/Acrylnitril-Copolymere, Polyvinylidenchlorid, Vi­ nylidenchlorid/Acrylnitril-Copolymere, Polyvinylace­ tat, Polyvinylalkohol, Polyacrylnitril, Acrylnitril/­ Styrol-Copolymere, Acrylnitril/Butadien/Styrol-Copo­ lymere, Polystyrol, Polymethylstyrol, Polyamide (z. B. Nylon-6), Polyurethane, Methylcellulose, Ethyl­ cellulose, Acetylcellulose, Polyvinylformal und Poly­ vinylbutyral.
Besonders geeignet sind Bindemittel, die in Wasser unlöslich, in organischen Lösemitteln löslich und in wässrig alkalischen Lösungen löslich oder zumindest quellbar sind.
Besonders erwähnt werden sollen Carboxylgruppen ent­ haltende Bindemittel, z. B. Copolymerisate aus (Meth)acrylsäure und/oder deren ungesättigten Homolo­ gen, wie Crotonsäure, Copolymerisate des Maleinsäure­ anhydrids oder seiner Halbester, Umsetzungsprodukte hydroxylgruppenhaltiger Polymerer mit Dicarbonsäure­ anhydriden sowie deren Mischungen.
Weiterhin geeignet sind Umsetzungsprodukte aus Poly­ meren, die H-acide Gruppen tragen, welche ganz oder teilweise mit aktivierten Isocyanaten umgesetzt wur­ den, wie beispielsweise Umsetzungsprodukte aus hydro­ xylgruppenhaltigen Polymeren mit aliphathischen oder aromatischen Sulfonylisocyanaten oder Phosphinsäure­ isocyanaten.
Darüber hinaus sind geeignet: Hydroxylgruppen enthal­ tende Polymere, wie beispielsweise Copolymere von Hydroxyalkyl(meth)acrylaten, Copolymere des Allylal­ kohols, Copolymere des Vinylalkohols, Polyurethane oder Polyester, sowie Epoxyharze, sofern sie eine ausreichende Anzahl von freien OH-Gruppen tragen, oder derart modifiziert sind, daß sie in wäßrig-alka­ lischen Lösungen löslich sind, oder solche Polymere, die aromatisch gebundene Hydroxylgruppen tragen, wie beispielsweise Kondensationsprodukte von kondensa­ tionsfähigen Carbonylverbindungen insbesondere Form­ aldehyd, Actaldehyd oder Aceton, mit Phenolen oder Copolymerisate der Hydroxystyrole. Schließlich lassen sich auch Copolymerisate des (Meth)acrylsäureamids mit Alkyl(meth)acrylaten verwenden.
Die vorstehend beschriebenen Polymeren sind insbeson­ dere dann geeignet, wenn sie ein Molekulargewicht zwischen 500 und 200 000 oder darüber, bevorzugt 1000 bis 100 000 aufweisen und entweder Säurezahlen zwi­ schen 10 und 250, bevorzugt von 20 bis 200, oder Hydroxylzahlen zwischen 50 und 750, bevorzugt von 100 bis 500, aufweisen.
Als bevorzugte alkalilösliche Bindemittel seien nach­ stehend erwähnt:
Copolymerisate der (Meth)acrylsäure mit Alkyl(meth)­ acrylaten, (Meth)acrylsäurenitril oder dergleichen, Copolymerisate der Crotonsäure mit Alkyl(meth)­ acrylaten, (Meth)acrylsäurenitril oder dergleichen, Copolymerisate der Vinylessigsäure mit Alkyl(meth)­ acrylaten, Copolymerisate des Maleinsäureanhydrids mit ggf. substituierten Styrolen, ungesättigten Koh­ lenwasserstoffen, ungesättigten Ethern oder Estern, Veresterungsprodukte der Copolymerisate des Malein­ säureanhydrids, Veresterungsprodukte von Hyroxyl­ gruppen enthaltenden Polymeren mit Anhydriden von Di- oder Polycarbonsäuren, Copolymerisate der Hydroxy­ alkyl(meth)acrylate mit Alkyl(meth)acrylaten, (Meth)­ acrylsäurenitril oder dergleichen, Copolymerisate des Allylalkohols mit ggf. substituierten Styrolen, Copolymerisate des Vinylalkohols mit Alkyl­ (meth)acrylaten oder anderen polymerisationsfähigen ungesättigten Verbindungen, Polyurethane, sofern sie eine ausreichende Anzahl freier OH-Gruppen aufweisen, Epoxyharze, Polyester, teilverseifte Vinylacetat- Copolymere, Polyvinylacetale mit freien OH-Gruppen, Copolymerisate der Hydroxystyrole mit Alkyl­ (meth)acrylaten oder dergleichen, Phenol-Formaldehyd- Harze, z. B. Novolake. Die Menge des Bindemittels in der lichtempfindlichen Schicht beträgt im allgemeinen 20 bis 90, vorzugsweise 40 bis 80 Gew.-%.
Die photopolymerisierbaren Schichten können je nach geplanter Anwendung und je nach den gewünschten Eigenschaften verschiedenartige Stoffe als Zusätze enthalten. Beispiele sind: Inhibitoren zur Verhinde­ rung der thermischen Polymerisation der Monomeren, Wasserstoffdonatoren, Farbstoffe, gefärbte und unge­ färbte Pigmente, Farbbildner, Indikatoren, Weichma­ cher und Kettenüberträger. Diese Bestandteile sind zweckmäßig so auszuwählen, daß sie in dem für den Initiierungsvorgang wichtigen aktinischen Strah­ lungsbereich möglichst wenig absorbieren.
Als aktinische Strahlung soll im Rahmen dieser Beschreibung jede Strahlung verstanden werden, deren Energie mindestens der des sichtbaren Lichts ent­ spricht. Geeignet ist vor allem sichtbares Licht und langwellige UV-Strahlung, aber auch kurzwellige UV- Strahlung, Laserstrahlung, Elektronen- und Röntgen­ strahlung. Die Lichtempfindlichkeit reicht von etwa 300 nm bis 70 nm und umspannt damit einen sehr breiten Bereich. Durch die Kombination von photoredu­ zierbaren Farbstoffen mit photolytisch spaltbaren Halogenverbindungen und Metallocenen wird ein syner­ gistisch wirkendes Initiatorsystem erhalten, dessen Aktivität, besonders im langwelligen Spektralbereich bei oder oberhalb 455 nm, in photopolymerisierbaren Gemischen den bekannten Photoinitiatorkombinationen überlegen ist. Durch die erfindungsgemäß eingesetzten speziellen Metallocene, insbesondere von Dicyclopen­ tadienyl-bis-2,4,6-trifluorphenyl-titan, ergibt sich neben einer sehr hohen Lichtempfindlichkeit überraschenderweise eine sehr gute thermische Stabilität der Schichten.
Besonders hohe Lichtempfindlichkeiten werden in Kom­ bination mit polymerisierbaren Verbindungen erhalten, die photooxydierbare Gruppen enthalten. Durch den Er­ satz von Acridin-, Phenazin- oder Chinoxalinverbin­ dungen, die als Coinitiatoren in sonst gleichen pho­ topolymerisierbaren Gemischen, wie sie z. B. in der EP-A 2 87 817 beschrieben sind, durch die oben beschriebenen Metallocenverbindungen oder durch zu­ sätzliche Verwendung der Metalloncene neben den genanten Mehrkernheterocyclen werden Gemische mit wesentlich höherer Lichtempfindlichkeit erhalten. Auch gegenüber Gemischen mit bekannten, Metallocene enthaltenden Initiatorkombinationen zeigen die erfin­ dungsgemäßen Gemische eine erheblich höhere Licht­ empfindlichkeit.
Als Anwendungsmöglichkeiten für das erfindungsgemäße Material seien genannt: Aufzeichnungsschichten für die photomechanische Herstellung von Druckformen für den Hochdruck, den Flachdruck, den Tiefdruck, den Siebdruck, von Reliefkopien, z. B. Herstellung von Texten in Blindenschrift, von Einzelkopien, Gerbbil­ dern, Pigmentbildern usw. Weiter sind die Gemische zur photomechanischen Herstellung von Ätzreservagen, z. B. für die Fertigung von Namensschildern, von kopierten Schaltungen und für das Formteilätzen, anwendbar.
Besondere Bedeutung haben die erfindungsgemäßen Gemi­ sche als Aufzeichnungsschichten für die Herstellung von Flachdruckplatten und für die Photoresisttechnik. Als Schichtträger für das erfindungsgemäße Aufzeich­ nungsmaterial sind z. B. Aluminium, Stahl, Zink, Kup­ fer und Kunststoff-Folien, z. B. aus Polyethylen­ terephthalat oder Celluloseacetat, sowie Siebdruck­ träger, wie Perlongaze, geeignet. Es ist in vielen Fällen günstig, die Trägeroberfläche einer Vorbehand­ lung (chemisch oder mechanisch) zu unterwerfen, deren Ziel es ist, die Haftung der Schicht richtig einzu­ stellen, die lithographischen Eigenschaften der Trä­ geroberfläche zu verbessern oder das Reflexionsvermö­ gen des Trägers im aktinischen Bereich der Kopier­ schicht herabzusetzen (Lichthofschutz).
Die Herstellung der lichtempfindlichen Materialien erfolgt in bekannter Weise. So kann man die Schicht­ bestandteile in einem Lösemittel aufnehmen und die Lösung bzw. Dispersion durch Gießen, Sprühen, Tau­ chen, Antrag mit Walzen usw. auf den vorgesehenen Träger aufbringen und anschließend trocknen. Durch die breite spektrale Empfindlichkeit des erfindungs­ gemäßen Aufzeichnungsmaterials können alle dem Fach­ mann geläufigen Lichtquellen verwendet werden, z. B. Röhrenlampen, Xenonimpulslampen, metallhalogeniddo­ tierte Quecksilberdampf-Hochdrucklampen und Kohlen­ bogenlampen. Darüber hinaus ist bei den erfin­ dungsgemäßen lichtempfindlichen Gemischen das Be­ lichten in üblichen Projektions- und Vergröße­ rungsgeräten unter dem Licht der Metallfadenlampe und Kontaktbelichtung mit gewöhnlichen Glühbirnen mög­ lich. Die Belichtung kann auch mit kohärentem Licht eines Lasers erfolgen. Geeignet für die Zwecke vor­ liegender Erfindung sind leistungsgerechte Laser, beispielsweise Argon-Ionen-, Krypton-Ionen-, Farb­ stoff-, Helium-Cadmium- und Helium-Neon-Laser, die insbesondere zwischen 250 und 650 nm emittieren. Der Laserstrahl kann mittels einer vorgegebenen pro­ grammierten Strich- und/oder Raster-Bewegung ge­ steuert werden.
Es ist im allgemeinen günstig, die Gemische während der Lichtpolymerisation dem Einfluß des Luftsauer­ stoffs weitgehend zu entziehen. Im Fall der Anwendung des Gemischs in Form dünner Kopierschichten ist es empfehlenswert, einen geeigneten, für Sauerstoff we­ nig durchlässigen Deckfilm aufzubringen. Dieser kann selbsttragend sein und vor der Entwicklung der Kopierschicht abgezogen werden. Für diesen Zweck sind z. B. Polyesterfilme geeignet. Der Deckfilm kann auch aus einem Material bestehen, das sich in der Entwick­ lerflüssigkeit oder mindestens an den nicht gehärte­ ten Stellen bei der Entwicklung entfernen läßt.
Hierfür geeignete Materialien sind z. B. Polyvinylal­ kohol, Polyphosphate, Zucker usw. Solche Deckschich­ ten haben im allgemeinen eine Dicke von 0,1 bis 10, vorzugsweise 1 bis 5 µm. Die weitere Verarbeitung der Materialien wird in bekannter Weise vorgenommen. Zur besseren Vernetzung der Schicht kann eine Nacherwär­ mung nach dem Belichten erfolgen. Zur Entwicklung werden sie mit einer geeigneten Entwicklerlösung, z. B. mit organischen Lösemitteln, aber bevorzugt mit einer schwach alkalischen wäßrigen Lösung, behandelt, wobei die unbelichteten Anteile der Schicht entfernt werden und die belichteten Bereiche der Kopierschicht auf dem Träger zurückbleiben. Die Entwicklerlösungen können einen kleinen Anteil, vorzugsweise weniger als 5 Gew.-%, an mit Wasser mischbaren organischen Löse­ mitteln enthalten. Sie können ferner Netzmittel, Farbstoffe, Salze und andere Zusätze enthalten.
Bei der Entwicklung wird die gesamte Deckschicht zu­ sammen mit den unbelichteten Bereichen der photopoly­ merisierbaren Schicht entfernt.
Im folgenden werden Ausführungsbeispiele für die Er­ findung angegeben. Darin stehen Gewichtsteile (Gt) und Volumteile (Vt) im Verhätnis von g zu ccm. Pro­ zent- und Mengenverhältnisse sind, wenn nichts an­ deres angegeben ist, in Gewichtseinheiten zu verste­ hen.
Beispiele 1-6 (Vergleichsbeispiele)
Als Schichtträger für Druckplatten wurde elektroche­ misch aufgerauhtes und anodisiertes Aluminium mit einer Oxidschicht von 3 g/m² verwendet, das mit einer wäßrigen Lösung von Polyvinylphosphonsäure vorbehan­ delt worden war. Der Träger wurde mit einer Lösung der folgenden Zusammensetzung überzogen. Dabei wurden alle Operationen unter Rotlicht durchgeführt:
2,84 Gt einer 22,3%igen Lösung eines Terpolymeri­ sats aus Styrol, n-Hexylmethacrylat und Methacrylsäure (10 : 60 : 30) mit der Säurezahl 190 in Methylethylketon,
1,49 Gt Monomeres gemäß Tabelle 1,
0,04 Gt Eosin alkohollöslich (C. I. 45386),
0,03 Gt 2,4-Bis-trichlormethyl-6-(4-styrylphenyl)- s-triazin und
0,01 Gt Dicyclopentadienyl-bis-pentafluorphenyl-ti­ tan in
22 Gt Propylenglykolmonomethylether.
Das Auftragen erfolgte durch Aufschleudern in der Weise, daß ein Trockengewicht von 2,4 bis 2,8 g/m² erhalten wurde. Anschließend wurde die Platte zwei Minuten bei 100°C im Umlufttrockenschrank getrock­ net. Die Platte wurde dann mit einer 15%igen wäßri­ gen Lösung von Polyvinylalkohol (12% Restacetylgrup­ pen, K-Wert 4) beschichtet. Nach dem Trocknen wurde eine Deckschicht mit einem Gewicht von 2,5 bis 4 g/m² erhalten. Die erhaltene Druckplatte wurde mittels einer 2-kW-Metallhalogenidlampe im Abstand von 110 cm unter einem 13stufigen Belichtungskeil mit Dichteinkrementen von 0,15 belichtet. Um die Empfind­ lichkeit der Druckplatten im sichtbaren Licht zu testen, wurden auf den Belichtungskeil ein 3 mm star­ kes Kantenfilter der Firma Schott mit der Kanten­ durchlässigkeit von 455 nm und ein Silberfilm mit gleichmäßiger Schwärzung (Dichte 1,4) und gleichmäßi­ ger Absorption über den wirksamen Spektralbereich als Graufilter montiert. Die Platten wurden 20 Sekunden belichtet, und danach eine Minute auf 100°C erwärmt. Anschließend wurden sie mit einem Entwickler fol­ gender Zusammensetzung entwickelt:
120 Gt Natriummetasilikat × 9 H₂O,
2,13 Gt Strontiumchlorid,
1,2 Gt nichtionogenes Netzmittel (Kokosfett­ alkohol-Polyoxyethylenether mit ca. 8 Oxyethyleneinheiten) und
0,12 Gt Antischaummittel in
4000 Gt vollentsalztem Wasser.
Die Platten wurden mit fetter Druckfarbe eingefärbt. Es wurden die in Tabelle 2 angegebenen vollvernetzten Keilstufen erhalten.
Tabelle 1
Tabelle 2
Beispiel 7-12
Auf den in Beispiel 1 angegebenen Schichtträger wur­ den unter gleichen Bedingungen wie dort Lösungen fol­ gender Zusammensetzung so aufgeschleudert, daß je­ weils ein Schichtgewicht von 2,5 g/m² erhalten wurde:
2,84 Gt der in Beispiel 1 angegebenen Terpolyme­ risatlösung,
1,49 Gt Monomeres gemäß Tabelle 1,
0,04 Gt Eosin alkohollöslich (C. I. 45386),
0,03 Gt 2,4-Bis-trichlormethyl-6-(4-styrylphenyl)- s-triazin und
0,01 Gt Dicyclopentadienyl-bis-2,4,6-trifluorphe­ nyl-titan
22 Gt Propylenglykolmonomethylether.
Nach Auftragen einer Deckschicht aus Polyvinylalkohol wurden die Platten in gleicher Weise wie in Bei­ spiel 1 20 Sekunden belichtet und dann entwickelt. Um die Empfindlichkeit der Druckplatten im sichtbaren Licht zu testen, wurden auf den Belichtungskeil ein 3 mm starkes Kantenfilter der Firma Schott mit der Kantendurchlässigkeit von 455 nm und - soweit an­ gegeben - ein Silberfilm mit gleichmäßiger Schwärzung (Dichte 1,1) als Graufilter montiert. Es wurden die in Tabelle 3 angeführten vollvernetzten Keilstufen erhalten:
Tabelle 3
Mit den Druckplatten aus den Beispielen 1-12 wurde ein Lagertest bei 80°C über den Zeitraum von 4 Stun­ den in einem Umlufttrockenschrank durchgeführt. Die Belichtung und Entwicklung wurden nach 4 Stunden wie oben angegeben durchgeführt.
Folgendes Ergebnis wurde gefunden: Beispiele 1-6 ergaben kein Bild auf dem Aluminiumträger. Für die Beispiele 7-12 wurden die in der Tabelle 4 angeführten vollvernetzten Keilstufen gefunden.
Tabelle 4
Die bei 80°C gelagerten Druckplatten ergaben auch nach 4 Stunden Lagerzeit über 100 000 einwandfreie Drucke.
Beispiel 13
Die Beschichtungslösung aus Beispiel 7 wurde auf eine biaxial verstreckte 35 µm dicke Polyethylenterephtha­ latfolie so aufgeschleudert, daß nach dem Trocknen ein Schichtgewicht von 15 g/m² erhalten wurde. Die Schicht wurde drei Minuten bei 100°C im Umluft­ trockenschrank nachgetrocknet. Anschließend wurde die Schicht bei 115°C mit 1,5 m/min auf einen gereinig­ ten Träger laminiert, der aus einer Isolierstoff­ platte mit 35 µm Kupferauflage bestand.
Die Schicht wurde mittels einer 2-kW-Metallhalogenid­ lampe (140 cm Abstand) unter einem Kantenfilter 455 nm, wie im Beispiel 1 beschrieben, mit einem Stufen­ keil als Vorlage 30 Sekunden belichtet und nach dem Abziehen der Folie mit 0,8%iger Sodalösung in einem Sprühprozessor 20 Sekunden entwickelt. Es wurden 6 vollvernetzte Keilstufen erhalten. Die vernetzte Schicht war gegen die in der Leiterplattentechnik üb­ liche Eisen-III-chlorid-Lösung resistent. Die Ätz­ festigkeit war gut.

Claims (14)

1. Photopolymerisierbares Gemisch, das als wesent­ liche Bestandteile
  • a) ein polymeres Bindemittel
  • b) eine radikalisch polymerisierbare Ver­ bindung mit mindestens einer polymeri­ sierbaren Gruppe und
  • c) einen photoreduzierbaren Farbstoff
enthält, dadurch gekennzeichnet, daß es ferner
  • d) ein Dicyclopentadienyl-bis-2,4,6-trifluor­ phenyl-titan oder -zirkon enthält.
2. Gemisch nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß es zusätzlich
  • e) eine durch Strahlung spaltbare Trihalogen­ methylverbindung
enthält.
3. Gemisch nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß mindestens einer der Cyclopentadienylreste substituiert ist.
4. Gemisch nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die radikalisch polymerisierbare Verbindung ein Acryl- oder Alkacrylsäureester mit mindestens einer bei Belichtung in Gegenwart des photoreduzierbaren Farbstoffs photooxidierbaren Gruppe ist.
5. Gemisch nach Anspruch 4, dadurch gekennzeichnet, daß die photooxidierbare Gruppe eine Amino-, Harnstoff-, Thio- oder Enolgruppe ist.
6. Gemisch nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß der photoreduzierbare Farbstoff ein Xan­ then-, Thiazin-, Pyronin-, Porphyrin- oder Acridinfarbstoff ist.
7. Gemisch nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die durch Strahlung spaltbare Trihalogen­ methylverbindung ein s-Triazin, das durch mindestens eine Trihalogenmethylgruppe und ggf. eine weitere Gruppe substituiert ist, oder ein Aryltrihalogenmethylsulfon ist.
8. Gemisch nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß es als Photoinitiator ferner eine als Photoinitiator wirksame Acridin-, Phenazin- oder Chinoxalinverbindung enthält.
9. Gemisch nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß das Bindemittel wasserunlöslich und in wäßrig-alkalischen Lösungen löslich ist.
10. Gemisch nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß es 10 bis 80 Gew.-% polymerisierbare Ver­ bindung, 20 bis 90 Gew.-% polymeres Bindemittel und 0,05 bis 20 Gew.-%, bezogen auf die nicht­ flüchtigen Bestandteile des Gemischs, an strah­ lungsaktivierbaren Polymerisationsinitiatoren enthält.
11. Photopolymerisierbares Aufzeichnungsmaterial mit einem Schichtträger und einer photopolyme­ risierbaren Schicht, dadurch gekennzeichnet, daß die photopolymerisierbare Schicht aus einem Gemisch gemäß Anspruch 1 besteht.
12. Aufzeichnungsmaterial nach Anspruch 15, dadurch gekennzeichnet, daß es auf der photopolymeri­ sierbaren Schicht eine weitere, transparente, für Luftsauerstoff wenig durchlässige Schicht enthält, die in einer Entwicklerflüssigkeit für die photopolymerisierbare Schicht löslich ist.
DE4007428A 1990-03-09 1990-03-09 Photopolymerisierbares gemisch und daraus hergestelltes aufzeichnungsmaterial Withdrawn DE4007428A1 (de)

Priority Applications (11)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE4007428A DE4007428A1 (de) 1990-03-09 1990-03-09 Photopolymerisierbares gemisch und daraus hergestelltes aufzeichnungsmaterial
DE59108650T DE59108650D1 (de) 1990-03-09 1991-02-26 Photopolymerisierbares Gemisch und daraus hergestelltes Aufzeichnungsmaterial
AT91102779T ATE151540T1 (de) 1990-03-09 1991-02-26 Photopolymerisierbares gemisch und daraus hergestelltes aufzeichnungsmaterial
EP91102779A EP0445624B1 (de) 1990-03-09 1991-02-26 Photopolymerisierbares Gemisch und daraus hergestelltes Aufzeichnungsmaterial
KR1019910003644A KR100196589B1 (ko) 1990-03-09 1991-03-07 광중합성 혼합물 및 이로부터 제조된 기록물질
CA002037751A CA2037751A1 (en) 1990-03-09 1991-03-07 Photopolymerizable mixture and recording material produced therefrom
FI911146A FI911146L (fi) 1990-03-09 1991-03-07 Fotopolymeriserbar blandning och daerav framstaellt registreringsmaterial.
JP3069267A JP2949125B2 (ja) 1990-03-09 1991-03-08 光重合性混合物およびそれから調製される記録材料
BR919100945A BR9100945A (pt) 1990-03-09 1991-03-08 Mistura fotopolimerizavel e material de registro preparado da mesma
US07/666,635 US5229253A (en) 1990-03-09 1991-03-08 Photopolymerizable mixture and recording material produced therefrom
AU72814/91A AU634868B2 (en) 1990-03-09 1991-03-11 Photopolymerizable mixture and recording material produced therefrom

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE4007428A DE4007428A1 (de) 1990-03-09 1990-03-09 Photopolymerisierbares gemisch und daraus hergestelltes aufzeichnungsmaterial

Publications (1)

Publication Number Publication Date
DE4007428A1 true DE4007428A1 (de) 1991-09-12

Family

ID=6401757

Family Applications (2)

Application Number Title Priority Date Filing Date
DE4007428A Withdrawn DE4007428A1 (de) 1990-03-09 1990-03-09 Photopolymerisierbares gemisch und daraus hergestelltes aufzeichnungsmaterial
DE59108650T Expired - Lifetime DE59108650D1 (de) 1990-03-09 1991-02-26 Photopolymerisierbares Gemisch und daraus hergestelltes Aufzeichnungsmaterial

Family Applications After (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
DE59108650T Expired - Lifetime DE59108650D1 (de) 1990-03-09 1991-02-26 Photopolymerisierbares Gemisch und daraus hergestelltes Aufzeichnungsmaterial

Country Status (10)

Country Link
US (1) US5229253A (de)
EP (1) EP0445624B1 (de)
JP (1) JP2949125B2 (de)
KR (1) KR100196589B1 (de)
AT (1) ATE151540T1 (de)
AU (1) AU634868B2 (de)
BR (1) BR9100945A (de)
CA (1) CA2037751A1 (de)
DE (2) DE4007428A1 (de)
FI (1) FI911146L (de)

Cited By (26)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE4338437C2 (de) * 1992-11-10 1998-11-05 Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd Lichtempfindliche Harzzusammensetzung
EP0908306A2 (de) 1997-10-08 1999-04-14 Agfa-Gevaert N.V. Verfahren zur Herstellung einer positiv arbeitenden Druckplatte aus wärmempfindlichem Bildaufzeichnungsmaterial
EP1256444A1 (de) 2001-04-09 2002-11-13 Agfa-Gevaert Positivarbeitende lithographische Druckplattenvorläufer
WO2005058605A1 (en) 2003-12-18 2005-06-30 Agfa-Gevaert Positive-working lithographic printing plate precursor
US7198877B2 (en) 2002-10-15 2007-04-03 Agfa-Gevaert Heat-sensitive lithographic printing plate precursor
EP1834803A1 (de) 2006-03-17 2007-09-19 Agfa Graphics N.V. Verfahren zur Herstellung einer Lithografiedruckform
US7455949B2 (en) 2002-10-15 2008-11-25 Agfa Graphics, N.V. Polymer for heat-sensitive lithographic printing plate precursor
US7458320B2 (en) 2002-10-15 2008-12-02 Agfa Graphics, N.V. Polymer for heat-sensitive lithographic printing plate precursor
EP2065211A1 (de) 2007-11-30 2009-06-03 Agfa Graphics N.V. Verfahren zur Behandlung einer Lithografiedruckplatte
EP2098376A1 (de) 2008-03-04 2009-09-09 Agfa Graphics N.V. Verfahren zur Herstellung eines Lithographiedruckplattenträgers
EP2106924A1 (de) 2008-03-31 2009-10-07 Agfa Graphics N.V. Verfahren zur Behandlung einer Lithografischedruckplatte
EP2159049A1 (de) 2008-09-02 2010-03-03 Agfa Graphics N.V. Wärmeempfindlicher, positiv arbeitender Lithographiedruckformvorläufer
US7678533B2 (en) 2005-06-30 2010-03-16 Agfa Graphics, N.V. Heat-sensitive lithographic printing plate precursor
EP2213690A1 (de) 2009-01-30 2010-08-04 Agfa Graphics N.V. Neues alkalisches lösliches Harz
EP2263874A1 (de) 2009-06-18 2010-12-22 Agfa Graphics N.V. Lithographiedruckplattenvorläufer
WO2011067382A1 (en) 2009-12-04 2011-06-09 Agfa Graphics Nv A lithographic printing plate precursor
EP2366545A1 (de) 2010-03-19 2011-09-21 Agfa Graphics N.V. Lithographiedruckplattenvorläufer
WO2012101046A1 (en) 2011-01-25 2012-08-02 Agfa Graphics Nv A lithographic printing plate precursor
EP2489512A1 (de) 2011-02-18 2012-08-22 Agfa Graphics N.V. Lithographiedruckplattenvorläufer
US8419923B2 (en) 2006-08-03 2013-04-16 Agfa Graphics Nv Lithographic printing plate support
EP3032334A1 (de) 2014-12-08 2016-06-15 Agfa Graphics Nv System zur Reduzierung von Ablationsrückständen
EP3170662A1 (de) 2015-11-20 2017-05-24 Agfa Graphics Nv Flachdruckplattenvorläufer
WO2017157578A1 (en) 2016-03-16 2017-09-21 Agfa Graphics Nv Method for processing a lithographic printing plate
DE69901642T3 (de) 1998-03-14 2019-03-21 Agfa Nv Verfahren zur Herstellung einer positiv arbeitenden Druckplatte aus einem wärmeempfindlichem Bildaufzeichnungsmaterial
EP3637188A1 (de) 2018-10-08 2020-04-15 Agfa Nv Sprudelnder entwicklervorläufer zur verarbeitung eines lithografischen druckplattenvorläufers
EP3778253A1 (de) 2019-08-13 2021-02-17 Agfa Nv Verfahren zur verarbeitung einer lithografiedruckplatte

Families Citing this family (84)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5728633A (en) * 1992-01-23 1998-03-17 Jacobs; Richard L. Interpenetrating network compositions and structures
US6010824A (en) * 1992-11-10 2000-01-04 Tokyo Ohka Kogyo Co., Ltd. Photosensitive resin composition containing a triazine compound and a pre-sensitized plate using the same, and photosensitive resin composition containing acridine and triazine compounds and a color filter and a pre-sensitized plate using the same
GB9319961D0 (en) * 1993-09-28 1993-11-17 Horsell Plc Photopolymerisable composition
DE4418645C1 (de) 1994-05-27 1995-12-14 Sun Chemical Corp Lichtempfindliches Gemisch und daraus herstellbares Aufzeichnungsmaterial
US5738974A (en) 1994-09-05 1998-04-14 Mitsubishi Chemical Corporation Photopolymerizable composition and photosensitive lithographic printing plate
CA2158915A1 (en) 1994-09-30 1996-03-31 Dekai Loo Liquid photoimageable resist
JPH08240908A (ja) * 1994-12-29 1996-09-17 Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd 感光性樹脂組成物、それを用いた感光性平版印刷版、および平版印刷用版材の製造方法
JP3441246B2 (ja) * 1995-06-07 2003-08-25 富士写真フイルム株式会社 光重合性組成物
DE69620723T2 (de) 1995-12-22 2002-12-05 Mitsubishi Chemical Corp., Tokio/Tokyo Fotopolymerisierbare Zusammensetzung für einen Farbfilter, Farbfilter und Flüssigkristallanzeigevorrichtung
JP3651713B2 (ja) * 1996-02-29 2005-05-25 富士写真フイルム株式会社 光重合性組成物
US6140384A (en) * 1996-10-02 2000-10-31 Fuji Photo Film Co., Ltd. Photopolymerizable composition containing a sensitizing dye with cyano or substituted carbonyl groups
GB2352718A (en) * 1999-08-04 2001-02-07 Coates Brothers Plc Photoinitiators
DE19940921A1 (de) * 1999-08-27 2001-03-01 Agfa Gevaert Ag Photopolymerisierbares Gemisch und damit hergestelltes Aufzeichnungsmaterial
US6610173B1 (en) 2000-11-03 2003-08-26 Kimberly-Clark Worldwide, Inc. Three-dimensional tissue and methods for making the same
US6664025B2 (en) 2002-02-12 2003-12-16 Kodak Polychrome Graphics Llc Visible radiation sensitive composition
US7074546B2 (en) * 2002-06-24 2006-07-11 Konica Corporation Light sensitive planographic printing plate precursor and its processing method
US6936384B2 (en) 2002-08-01 2005-08-30 Kodak Polychrome Graphics Llc Infrared-sensitive composition containing a metallocene derivative
US20060060096A1 (en) * 2002-10-15 2006-03-23 Agfa-Gevaert Polymer for heat-sensitive lithographic printing plate precursor
US20060107858A1 (en) * 2003-02-11 2006-05-25 Marc Van Damme Heat-sensitive lithographic printing plate precursor
JP4161850B2 (ja) * 2003-05-13 2008-10-08 コニカミノルタエムジー株式会社 感光性組成物、感光性平版印刷版、及びその画像形成方法
US7467587B2 (en) * 2004-04-21 2008-12-23 Agfa Graphics, N.V. Method for accurate exposure of small dots on a heat-sensitive positive-working lithographic printing plate material
KR101010880B1 (ko) 2004-04-26 2011-01-25 미쓰비시 가가꾸 가부시키가이샤 컬러 필터용 청색 조성물, 컬러 필터 및 컬러 화상 표시장치
US7348126B2 (en) * 2004-04-27 2008-03-25 Agfa Graphics N.V. Negative working, heat-sensitive lithographic printing plate precursor
WO2005111674A1 (ja) * 2004-05-13 2005-11-24 Showa Denko K.K. カラーフィルター用黒色レジスト組成物
JP2006065074A (ja) 2004-08-27 2006-03-09 Fuji Photo Film Co Ltd 感光性平版印刷版
JP5089866B2 (ja) 2004-09-10 2012-12-05 富士フイルム株式会社 平版印刷方法
DE602005019091D1 (de) 2005-06-13 2010-03-11 Toshiba Tec Kk Tintenstrahltinte, tintenstrahlaufzeichnungsverfahren, verfahren zur beurteilung von tintenstrahltinte sowie verfahren zur herstellung von tintenstrahltinte
US20070003875A1 (en) * 2005-06-30 2007-01-04 Agfa-Gevaert Method for preparing a lithographic printing plate precursor
US20070003869A1 (en) * 2005-06-30 2007-01-04 Agfa-Gevaert Heat-sensitive lithographic printing plate-precursor
JP4701042B2 (ja) 2005-08-22 2011-06-15 富士フイルム株式会社 感光性平版印刷版
TW200807104A (en) 2006-04-19 2008-02-01 Mitsubishi Chem Corp Color image display device
US20110123929A1 (en) 2007-01-23 2011-05-26 Fujifilm Corporation Oxime compound, photosensitive composition, color filter, production method for the color filter, and liquid crystal display element
CN101679394B (zh) 2007-05-11 2013-10-16 巴斯夫欧洲公司 肟酯光引发剂
CN102702073B (zh) 2007-05-11 2015-06-10 巴斯夫欧洲公司 肟酯光引发剂
JP4890408B2 (ja) 2007-09-28 2012-03-07 富士フイルム株式会社 重合性組成物及びそれを用いた平版印刷版原版、アルカリ可溶性ポリウレタン樹脂、並びに、ジオール化合物の製造方法
KR100943421B1 (ko) 2007-12-24 2010-02-19 연세대학교 산학협력단 에폭시기와 불포화이중결합을 갖는 광중합성 단량체 및이를 함유한 광중합 조성물
KR101592836B1 (ko) 2008-02-07 2016-02-05 미쓰비시 가가꾸 가부시키가이샤 반도체 발광 장치, 백라이트, 컬러 화상 표시 장치, 및 그들에 사용하는 형광체
WO2010003026A1 (en) * 2008-07-01 2010-01-07 The Regents Of The University Of Colorado Methods for extensive dark curing based on visible-light initiated, controlled radical polymerization
PL2352488T3 (pl) 2008-11-07 2017-07-31 Klox Technologies Inc. Utleniająca, aktywowana światłem kompozycja do odmładzania skóry zawierająca kwas hialuronowy, glukozaminę lub alantoinę
US8883872B2 (en) 2009-07-06 2014-11-11 Basf Se Polymer-bound bisacylphosphine oxides
HUE035716T2 (en) 2009-07-17 2018-05-28 Klox Tech Inc Antibacterial oral composition
US9051397B2 (en) 2010-10-05 2015-06-09 Basf Se Oxime ester
WO2012045736A1 (en) 2010-10-05 2012-04-12 Basf Se Oxime ester derivatives of benzocarbazole compounds and their use as photoinitiators in photopolymerizable compositions
WO2013039235A1 (ja) 2011-09-15 2013-03-21 富士フイルム株式会社 製版処理廃液のリサイクル方法
EP2762977B1 (de) 2011-11-04 2017-09-27 FUJIFILM Corporation Verfahren zur wiederverwertung von ablaugen aus der plattenherstellung
US9365515B2 (en) 2011-12-07 2016-06-14 Basf Se Oxime ester photoinitiators
US20130281913A1 (en) 2012-04-20 2013-10-24 Klox Technologies Inc. Biophotonic compositions and methods for providing biophotonic treatment
KR101968462B1 (ko) 2012-05-09 2019-04-11 바스프 에스이 옥심 에스테르 광개시제
KR20150082189A (ko) 2012-09-14 2015-07-15 밸리언트 파마슈티컬즈 인터내셔널, 인코퍼레이션 치아미백용 조성물 및 치아미백 방법
HK1219890A1 (zh) 2013-07-03 2017-04-21 广东科洛克生物医药集团有限公司 治疗不癒合伤口的组合物和方法
JP6469669B2 (ja) 2013-07-08 2019-02-13 ビーエーエスエフ ソシエタス・ヨーロピアBasf Se オキシムエステル光開始剤
JP2017509433A (ja) 2014-04-01 2017-04-06 クロックス テクノロジーズ インコーポレイテッドKlox Technologies Inc. 組織充填剤組成物および使用方法
ES2706881T3 (es) 2014-05-30 2019-04-01 Igm Resins Italia Srl Fotoiniciadores de óxido de acilfosfina multifuncionales
JP6449445B2 (ja) 2014-09-04 2019-01-09 アイ ジー エム マルタ リミテッド 多環式光開始剤
ES2856841T3 (es) 2014-10-31 2021-09-28 Klox Tech Inc Fibras y medios de tela fotoactivables
EP3147335A1 (de) 2015-09-23 2017-03-29 BYK-Chemie GmbH Farbmittelzusammensetzungen mit netz- und/oder dispergiermittel mit geringer aminzahl
ES2831086T3 (es) 2016-09-02 2021-06-07 Igm Group B V Glioxilatos policíclicos como fotoiniciadores
BR112019025345B1 (pt) 2017-06-02 2022-09-27 Covestro (Netherlands) B.V. Fibra óptica revestida, composição curável por radiação para revestir uma fibra óptica, método para produzir uma fibra óptica revestida e cabo de fibra óptica
CN111315701B (zh) 2017-11-03 2022-10-14 科思创(荷兰)有限公司 包含用液体可辐射固化超吸收性聚合物组合物涂布的纤维的阻水体系
EP3710542B1 (de) 2017-11-15 2022-01-05 BYK-Chemie GmbH Blockcopolymer
CN111344319B (zh) 2017-11-15 2022-12-23 毕克化学有限公司 嵌段共聚物
CN112437761B (zh) 2018-06-01 2023-01-20 科思创(荷兰)有限公司 用于涂覆光纤的辐射可固化组合物及由其生产的涂层
JP7504865B2 (ja) 2018-08-30 2024-06-24 コベストロ (ネザーランズ) ビー.ヴィー. 光ファイバーをコーティングするための放射線硬化性組成物
KR102824944B1 (ko) 2018-09-07 2025-06-24 아이지엠 레진스 이탈리아 에스.알.엘. 다관능성 비스아실포스핀 옥사이드 광개시제
US20220017773A1 (en) 2018-12-03 2022-01-20 Ms Holding B.V. Filled radiation curable compositions for coating optical fiber and the coatings produced therefrom
WO2020136522A1 (en) 2018-12-28 2020-07-02 Igm Resins Italia S.R.L. Photoinitiators
US11932571B2 (en) 2019-05-24 2024-03-19 Covestro (Netherland) B.V. Radiation curable compositions for coating optical fiber with enhanced high-speed processability
WO2020239563A1 (en) 2019-05-24 2020-12-03 Dsm Ip Assets B.V. Radiation curable compositions for coating optical fiber with enhanced high-speed processability
CN114207063B (zh) 2019-07-31 2023-07-25 科思创(荷兰)有限公司 具有多功能长臂低聚物的涂覆光纤用辐射固化组合物
US11981650B2 (en) 2019-10-11 2024-05-14 Igm Resins Italia S.R.L. Coumarin glyoxylates for LED photocuring
CN115515784A (zh) 2020-04-03 2022-12-23 科思创(荷兰)有限公司 多层光学器件
JP7793535B2 (ja) 2020-04-03 2026-01-05 コベストロ (ネザーランズ) ビー.ヴィー. 多水素結合オリゴマーの合成方法
CN115427853B (zh) 2020-04-03 2026-03-13 科思创(荷兰)有限公司 自我修复光纤和用于制造其的组合物
WO2022002909A1 (en) 2020-06-30 2022-01-06 Covestro (Netherlands) B.V. Viscosity index improvers in optical fiber coatings
IT202000023815A1 (it) 2020-10-09 2022-04-09 Igm Resins Italia Srl Ketoquinolones as photonitiators
IT202100014885A1 (it) 2021-06-08 2022-12-08 Igm Resins Italia Srl Fotoiniziatori a base di silicio bifunzionali
IT202100025868A1 (it) 2021-10-08 2023-04-08 Igm Resins Italia Srl Nuovi fotoiniziatori
WO2023161049A1 (en) 2022-02-24 2023-08-31 Igm Resins Italia S.R.L. Photoinitiators
JP2025521371A (ja) 2022-04-21 2025-07-09 コベストロ (ネザーランズ) ビー.ヴィー. 光ファイバを被覆するための低揮発性放射線硬化性組成物
JP2025533845A (ja) 2022-10-05 2025-10-09 アイジーエム レシンス イタリア ソチエタ レスポンサビリタ リミタータ ポリマー性(メタ)アクリレート光開始剤
IT202300004737A1 (it) 2023-03-14 2024-09-14 Igm Resins Italia Srl Uso di fotoiniziatori specifici in un processo di fotopolimerizzazione utilizzando lunghezze d’onda combinate di luce a led
CN121646581A (zh) 2023-08-03 2026-03-10 意大利艾坚蒙树脂有限公司 10,11-二氢-5h-二苯并[b,f]氮杂䓬衍生物作为光聚合中的光引发剂用于光固化组合物
IT202300028218A1 (it) 2023-12-28 2025-06-28 Igm Resins Italia Srl Nuova forma solida di bis(2,4,6-trimetilbenzoil)-n-ottilfosfina ossido
WO2026057274A1 (en) 2024-09-13 2026-03-19 Basf Se Oxime ester photoinitiators

Family Cites Families (28)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3488269A (en) * 1965-09-15 1970-01-06 Technical Operations Inc Labile hydrogen initiators for visible light photopolymerization
GB1165570A (en) * 1966-12-08 1969-10-01 Agfa Gevaert Nv Photopolymerization of Ethylenically Unsaturated Compounds
US3759807A (en) * 1969-01-28 1973-09-18 Union Carbide Corp Photopolymerization process using combination of organic carbonyls and amines
DE2027467C3 (de) * 1970-06-04 1974-08-15 Kalle Ag, 6202 Wiesbaden-Biebrich Photopolymerisierbare Kopiermasse
GB1408265A (en) * 1971-10-18 1975-10-01 Ici Ltd Photopolymerisable composition
US3717558A (en) * 1972-03-30 1973-02-20 Scm Corp Photopolymerization catalyst comprising a metallocene and an active halogen-containing compound
JPS5328205B2 (de) * 1974-04-02 1978-08-12
DE2602419A1 (de) * 1976-01-23 1977-07-28 Basf Ag Photopolymerisierbare masse
JPS5555335A (en) * 1978-10-19 1980-04-23 Fuji Photo Film Co Ltd Photosensitive composition
US4590287A (en) * 1983-02-11 1986-05-20 Ciba-Geigy Corporation Fluorinated titanocenes and photopolymerizable composition containing same
US4548891A (en) * 1983-02-11 1985-10-22 Ciba Geigy Corporation Photopolymerizable compositions containing prepolymers with olefin double bonds and titanium metallocene photoinitiators
US4636459A (en) * 1985-03-06 1987-01-13 Fuji Photo Film Co., Ltd. Photopolymerizable compositions
US4937159A (en) * 1985-11-20 1990-06-26 The Mead Corporation Photosensitive materials and compositions containing ionic dye compounds as initiators and thiols as autooxidizers
KR910000199B1 (ko) * 1986-04-15 1991-01-23 시바-가이기 코오포레이숀 액체 광개시제 혼합물
DE3613632A1 (de) * 1986-04-23 1987-10-29 Hoechst Ag Photopolymerisierbares gemisch und dieses enthaltendes photopolymerisierbares aufzeichnungsmaterial
EP0256981B1 (de) * 1986-08-01 1993-02-17 Ciba-Geigy Ag Titanocene und deren Verwendung
AU599400B2 (en) * 1986-08-01 1990-07-19 Ciba-Geigy Ag Titanocenes and their use
DE3768919D1 (en) * 1986-11-26 1991-05-02 Ciba Geigy Ag Fluessige photoinitiatorgemische.
DE3864530D1 (de) * 1987-02-02 1991-10-10 Ciba Geigy Ag Photoinitiatorengemische enthaltend ein titanocen und ein 3-ketocoumarin.
DE3710281A1 (de) * 1987-03-28 1988-10-06 Hoechst Ag Photopolymerisierbares gemisch und daraus hergestelltes aufzeichnungsmaterial
US4751102A (en) * 1987-07-27 1988-06-14 The Mead Corporation Radiation-curable ink and coating compositions containing ionic dye compounds as initiators
DE3839394A1 (de) * 1987-11-25 1989-06-08 Ciba Geigy Ag Verfahren zur herstellung von reliefbildern
US5008302A (en) * 1987-12-01 1991-04-16 Ciba-Geigy Corporation Titanocenes, the use thereof, and N-substituted pyrroles
DE3743455A1 (de) * 1987-12-22 1989-07-06 Hoechst Ag Photopolymerisierbares gemisch und daraus hergestelltes aufzeichnungsmaterial
DE3743457A1 (de) * 1987-12-22 1989-07-06 Hoechst Ag Photopolymerisierbares gemisch und daraus hergestelltes aufzeichnungsmaterial
DE3824903A1 (de) * 1988-07-22 1990-02-01 Hoechst Ag Photopolymerisierbares gemisch und daraus hergestelltes aufzeichnungsmaterial
JPH0820734B2 (ja) * 1988-08-11 1996-03-04 富士写真フイルム株式会社 感光性組成物及びそれを用いた光重合性組成物
DE3832032A1 (de) * 1988-09-21 1990-03-22 Hoechst Ag Photopolymerisierbares gemisch und daraus hergestelltes aufzeichnungsmaterial

Cited By (41)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE4338437C2 (de) * 1992-11-10 1998-11-05 Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd Lichtempfindliche Harzzusammensetzung
EP0908306A2 (de) 1997-10-08 1999-04-14 Agfa-Gevaert N.V. Verfahren zur Herstellung einer positiv arbeitenden Druckplatte aus wärmempfindlichem Bildaufzeichnungsmaterial
DE69901642T3 (de) 1998-03-14 2019-03-21 Agfa Nv Verfahren zur Herstellung einer positiv arbeitenden Druckplatte aus einem wärmeempfindlichem Bildaufzeichnungsmaterial
EP1256444A1 (de) 2001-04-09 2002-11-13 Agfa-Gevaert Positivarbeitende lithographische Druckplattenvorläufer
US7198877B2 (en) 2002-10-15 2007-04-03 Agfa-Gevaert Heat-sensitive lithographic printing plate precursor
US7455949B2 (en) 2002-10-15 2008-11-25 Agfa Graphics, N.V. Polymer for heat-sensitive lithographic printing plate precursor
US7458320B2 (en) 2002-10-15 2008-12-02 Agfa Graphics, N.V. Polymer for heat-sensitive lithographic printing plate precursor
WO2005058605A1 (en) 2003-12-18 2005-06-30 Agfa-Gevaert Positive-working lithographic printing plate precursor
US7678533B2 (en) 2005-06-30 2010-03-16 Agfa Graphics, N.V. Heat-sensitive lithographic printing plate precursor
EP1834803A1 (de) 2006-03-17 2007-09-19 Agfa Graphics N.V. Verfahren zur Herstellung einer Lithografiedruckform
US8419923B2 (en) 2006-08-03 2013-04-16 Agfa Graphics Nv Lithographic printing plate support
EP2065211A1 (de) 2007-11-30 2009-06-03 Agfa Graphics N.V. Verfahren zur Behandlung einer Lithografiedruckplatte
EP2098376A1 (de) 2008-03-04 2009-09-09 Agfa Graphics N.V. Verfahren zur Herstellung eines Lithographiedruckplattenträgers
EP2106924A1 (de) 2008-03-31 2009-10-07 Agfa Graphics N.V. Verfahren zur Behandlung einer Lithografischedruckplatte
EP2159049A1 (de) 2008-09-02 2010-03-03 Agfa Graphics N.V. Wärmeempfindlicher, positiv arbeitender Lithographiedruckformvorläufer
EP2213690A1 (de) 2009-01-30 2010-08-04 Agfa Graphics N.V. Neues alkalisches lösliches Harz
WO2010086211A1 (en) 2009-01-30 2010-08-05 Agfa Graphics Nv A new alkali soluble resin
US8978554B2 (en) 2009-01-30 2015-03-17 Agfa Graphics N.V. Alkali soluble resin
EP2263874A1 (de) 2009-06-18 2010-12-22 Agfa Graphics N.V. Lithographiedruckplattenvorläufer
US8771918B2 (en) 2009-06-18 2014-07-08 Agfa Graphics N.V. Lithographic printing plate precursor
WO2011067382A1 (en) 2009-12-04 2011-06-09 Agfa Graphics Nv A lithographic printing plate precursor
US9738064B2 (en) 2009-12-04 2017-08-22 Agfa Graphics N.V. Lithographic printing plate precursor
EP2366545A1 (de) 2010-03-19 2011-09-21 Agfa Graphics N.V. Lithographiedruckplattenvorläufer
WO2011113693A1 (en) 2010-03-19 2011-09-22 Agfa Graphics Nv A lithographic printing plate precursor
WO2012101046A1 (en) 2011-01-25 2012-08-02 Agfa Graphics Nv A lithographic printing plate precursor
EP2489512A1 (de) 2011-02-18 2012-08-22 Agfa Graphics N.V. Lithographiedruckplattenvorläufer
US9029066B2 (en) 2011-02-18 2015-05-12 Agfa Graphics Nv Lithographic printing plate precursor
WO2012110359A1 (en) 2011-02-18 2012-08-23 Agfa Graphics Nv A lithographic printing plate precursor
EP3032334A1 (de) 2014-12-08 2016-06-15 Agfa Graphics Nv System zur Reduzierung von Ablationsrückständen
EP3170662A1 (de) 2015-11-20 2017-05-24 Agfa Graphics Nv Flachdruckplattenvorläufer
WO2017085002A1 (en) 2015-11-20 2017-05-26 Agfa Graphics Nv A lithographic printing plate precursor
WO2017157576A1 (en) 2016-03-16 2017-09-21 Agfa Graphics Nv Method for processing a lithographic printing plate
WO2017157575A1 (en) 2016-03-16 2017-09-21 Agfa Graphics Nv Method and apparatus for processing a lithographic printing plate
WO2017157571A1 (en) 2016-03-16 2017-09-21 Agfa Graphics Nv Method and apparatus for processing a lithographic printing plate
WO2017157579A1 (en) 2016-03-16 2017-09-21 Agfa Graphics Nv Method for processing a lithographic printing plate
WO2017157572A1 (en) 2016-03-16 2017-09-21 Agfa Graphics Nv Apparatus for processing a lithographic printing plate and corresponding method
WO2017157578A1 (en) 2016-03-16 2017-09-21 Agfa Graphics Nv Method for processing a lithographic printing plate
EP3637188A1 (de) 2018-10-08 2020-04-15 Agfa Nv Sprudelnder entwicklervorläufer zur verarbeitung eines lithografischen druckplattenvorläufers
WO2020074258A1 (en) 2018-10-08 2020-04-16 Agfa Nv An effervescent developer precursor for processing a lithographic printing plate precursor
EP3778253A1 (de) 2019-08-13 2021-02-17 Agfa Nv Verfahren zur verarbeitung einer lithografiedruckplatte
WO2021028385A1 (en) 2019-08-13 2021-02-18 Agfa Nv Method for processing a lithographic printing plate

Also Published As

Publication number Publication date
ATE151540T1 (de) 1997-04-15
FI911146A0 (fi) 1991-03-07
EP0445624A3 (en) 1992-02-26
FI911146A7 (fi) 1991-09-10
DE59108650D1 (de) 1997-05-15
AU634868B2 (en) 1993-03-04
EP0445624A2 (de) 1991-09-11
FI911146L (fi) 1991-09-10
CA2037751A1 (en) 1991-09-10
JPH04219756A (ja) 1992-08-10
KR100196589B1 (ko) 1999-06-15
EP0445624B1 (de) 1997-04-09
US5229253A (en) 1993-07-20
KR910017382A (ko) 1991-11-05
AU7281491A (en) 1991-09-12
BR9100945A (pt) 1991-11-05
JP2949125B2 (ja) 1999-09-13

Similar Documents

Publication Publication Date Title
EP0445624B1 (de) Photopolymerisierbares Gemisch und daraus hergestelltes Aufzeichnungsmaterial
EP0364735B1 (de) Photopolymerisierbares Gemisch und daraus hergestelltes Aufzeichnungsmaterial
EP0359060B1 (de) Photopolymerisierbares Gemisch, daraus hergestelltes Aufzeichnungsmaterial und Verfahren zur Herstellung von Kopien
EP0287817B1 (de) Photopolymerisierbares Gemisch und daraus hergestelltes Aufzeichnungsmaterial
EP0447930B1 (de) Photopolymerisierbares Gemisch und daraus hergestelltes Aufzeichnungsmaterial
EP0284938B1 (de) Photopolymerisierbares Gemisch und daraus hergestelltes Aufzeichnungsmaterial
EP0374705B1 (de) Photopolymerisierbare Verbindungen, diese enthaltendes photopolymerisierbares Gemisch und daraus hergestelltes photopolymerisierbares Aufzeichnungsmaterial
EP0354475B1 (de) Photopolymerisierbares Aufzeichnungsmaterial
EP0453953B1 (de) Verfahren zur Herstellung von Druckformen oder Photoresists durch bildmässiges Bestrahlen eines photopolymerisierbaren Aufzeichnungsmaterials
EP0352630B1 (de) Photopolymerisierbares Aufzeichnungsmaterial
EP0355387B1 (de) Photopolymerisierbares Gemisch und daraus hergestelltes Aufzeichnungsmaterial
EP0321828B1 (de) Photopolymerisierbares Gemisch und daraus hergestelltes Aufzeichnungsmaterial
EP0374704B1 (de) Photopolymerisierbares Gemisch und dieses enthaltendes photopolymerisierbares Aufzeichnungsmaterial
DE3602093A1 (de) Photopolymerisierbare zusammensetzung
DE4217495A1 (de) Photopolymerisierbares Gemisch und daraus hergestelltes Aufzeichnungsmaterial
EP0321826B1 (de) Photopolymerisierbares Gemisch und daraus hergestelltes Aufzeichnungsmaterial
DE69621173T2 (de) Benzanthron als Polymerisierungsregler in fotopolymerisierbarer Zusammensetzung
EP0321827B1 (de) Photopolymerisierbares Gemisch und daraus hergestelltes Aufzeichnungsmaterial
EP0220589B1 (de) Photopolymerisierbares Gemisch und dieses enthaltendes photopolymerisierbares Aufzeichnungsmaterial
EP0360151A2 (de) Photopolymerisierbares Gemisch und daraus hergestelltes Aufzeichnungsmaterial
DE2710417A1 (de) Photopolymerisierbare massen und verfahren zur erzeugung von positiven oder negativen bildern

Legal Events

Date Code Title Description
8139 Disposal/non-payment of the annual fee