DE3936363A1 - Verfahren zum aetzen von gegenstaenden sowie aetzanlage - Google Patents
Verfahren zum aetzen von gegenstaenden sowie aetzanlageInfo
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Description
Die Erfindung betrifft ein Verfahren zum Ätzen von Gegen
ständen, insbesondere zur Herstellung gedruckter Leiter
platten, bei welchem die Gegenstände zunächst mit flüssigem
Ätzmittel geätzt und danach mit Spülwasser von anhaftendem
Ätzmittel befreit werden,
sowie
eine Ätzanlage zum Ätzen von Gegenständen mit
- a) einer Ätzmaschine, durch welche die Gegenstände konti nuierlich hindurchgeführt und in der sie mit flüssigem Ätzmittel beaufschlagt werden;
- b) mindestens einer der Ätzmaschine nachgeschalteten Spül maschine, in welcher die Gegenstände mit Spülwasser von anhaftendem Ätzmittel befreit werden, wobei sich das Spülwasser mit Ätzmittel anreichert.
Ein Verfahren bzw. eine Ätzanlage dieser Art ist in der
DE-PS 24 34 305 beschrieben. Wie überall, wo in der Indu
strie Chemikalien eingesetzt werden, stellt sich das Prob
lem der Entsorgung. So gilt es im vorliegenden Zusammen
hang insbesondere, das mit verschlepptem Ätzmittel verun
reinigte Spülwasser zu entsorgen. Bei der bekannten Ätz
anlage geschieht dies dadurch, daß das verunreinigte Spül
wasser einer Regenerationseinrichtung zugeführt wird, in
welcher das im Ätzvorgang verbrauchte Ätzmittel durch Zu
gabe von Regenerationschemikalien wieder aufbereitet wird.
Die bekannte Ätzanlage setzt jedoch voraus, daß eine ge
eignete Entsorgung des Ätzmittels, welches im Laufe der
Betriebszeit volumenmäßig immer mehr zunimmt, sicherge
gestellt ist.
In jüngster Zeit gewinnt die elektrolytische Wiederaufbe
reitung verbrauchter Ätzmittel zunehmend an Bedeutung, bei
der eine Volumenzunahme des Ätzmittels sowie eine Chemika
lienzugabe weitgehend nicht erfolgen. Setzt man eine derar
tige elektrolytische Regeneration des Ätzmittels ein, so ent
fällt die oben angesprochene Möglichkeit, das verunreinigte
Spülwasser der Regenerationseinrichtung zur Entsorgung zu
zuführen.
Aufgabe der vorliegenden Erfindung ist es, ein Ätzverfahren
bzw. eine Ätzanlage der eingangs genannten Art besonders
umweltgerecht auszugestalten.
Diese Aufgabe wird, was das Ätzverfahren angeht, dadurch
gelöst, daß das mit Ätzmittel verunreinigte Spülwasser in
einem Destillationsprozeß gereinigt und danach in geschlos
senem Kreislauf erneut zum Spülen der Gegenstände verwendet
wird.
Das erfindungsgemäß vorgeschlagene Verfahren ist in doppel
ter Hinsicht umweltgerecht: Zum einen wird der Frischwasser
verbrauch minimiert; es ist laufend nur der geringe Verdun
stungsverlust durch Frischwasser zu ersetzen. Zum anderen
ist eine Entsorgung von Abwässern nicht erforderlich, da
solche nicht anfallen.
Bei dem erfindungsgemäßen Verfahren ist es möglich, auch
das von den zu ätzenden Gegenständen abgewaschene und im
Spülwasser verbliebene Ätzmittel einer erneuten Verwendung
zuzuführen, da es als Rückstand des Destillationsprozesses
zur Verfügung steht.
Sehr häufig findet man in der Praxis Ätzmittel, die zum
Ätzen von metallischem Kupfer eingesetzt werden und sehr
stark ammoniakalisch eingestellt sind. Da Ammoniak verhält
nismäßig leicht flüchtig ist, kann es vorkommen, daß das
als Rückstand des Destillationsprozesses anfallende Ätz
mittel einen zu geringen Ammoniakgehalt aufweist. Dieser
sollte daher vor der Wiederverwendung des Rückstandes als
Ätzmittel aufgefrischt werden.
Die oben angesprochene Aufgabe wird, was die Ätzanlage an
geht, gelöst durch
- c) eine Destillationseinrichtung, in welcher das verschmutz te Spülwasser durch Absieden von dem weniger flüchtigen Ätzmittel getrennt und als Kondensat gesammelt wird, das dann in geschlossenem Kreislauf der bzw. den Spül maschine(n) wieder zuführbar ist.
Die Vorteile dieser erfindungsgemäßen Ätzanlage stimmen
sinngemäß mit den oben bereits erwähnten Vorteilen des er
findungsgemäßen Ätzverfahrens überein.
So empfiehlt sich insbesondere, daß das sich in der Destil
lationseinrichtung als Rückstand sammelnde Ätzmittel in die
Ätzmaschine in im wesentlichen geschlossenem Kreislauf
rückführbar ist.
Bevorzugt wird eine Ausführungsform der Ätzanlage, bei
welcher ein erster Puffertank im Weg von den Spülmaschinen
zu der Destillationseinrichtung vorgesehen ist, in welcher
verschmutztes Spülwasser zwischenspeicherbar ist, und bei
welcher ein zweiter Puffertank im Weg von der Destillations
einrichtung zu der Spülmaschine vorgesehen ist, in welchem
gereinigtes Spülwasser zwischenspeicherbar ist.
Durch diese beiden Pufferspeicher wird die das Spülwasser
reinigende Destillationseinrichtung funktionsmäßig von der
Ätzmaschine und den nachgeschalteten Spülmaschinen abge
koppelt. Störungen in der Destillationseinrichtung schlagen
somit nicht unmittelbar auf den Betrieb der Ätzanlage im
übrigen durch; außerdem können durch unterschiedliche Be
triebszeiten der Ätzmaschine und der Spülmaschinen einer
seits sowie der Destillationseinrichtung andererseits unter
schiedliche Kapazitäten dieser Bestandteile der gesamten
Ätzanlage ausgeglichen werden. So kann beispielsweise bei
einem 24-Stunden-Betrieb der Destillationseinrichtung und
einem 8-Stunden-Betrieb der Ätzmaschine sowie der Spül
maschinen die Kapazität der Destillationseinrichtung auf
ein Drittel dessen abgesenkt werden, was ohne Puffertanks
erforderlich wäre.
Zweckmäßigerweise ist die Pumpe, welche dem ersten Puffer
tank verschmutztes Spülwasser zuführt, mit der Pumpe, wel
che dem zweiten Puffertank gereinigtes Spülwasser entnimmt,
als Doppelpumpe mit einem gemeinsamen Motor ausgebildet.
Dies ist die einfachste Weise, sicherzustellen, daß die
dem Spülkreislauf zur Reinigung entnommene Spülwassermenge
immer gleich der nachgefüllten Menge gereinigten Spülwas
sers ist, daß also die im eigentlichen Spülprozeß vorhan
dene Menge an Spülwasser immer konstant ist.
Die Pumpe, welche dem ersten Puffertank verschmutztes Spül
wasser zuführt, und die Pumpe, welche dem zweiten Puffer
tank gereinigtes Spülwasser entnimmt, sollten von einer
Überwachungseinrichtung in Funktion gesetzt werden, wenn
ein in der Nähe der Eingabestation der Ätzmaschine ange
brachter Sensor den Eintritt eines Gegenstandes in die Ätz
maschine feststellt. Diese Pumpen befinden sich also nur
solange im Betrieb, wie tatsächlich ein Ätzvorgang in der
Ätzmaschine und ein Spülvorgang in den nachgeschalteten
Spülmaschinen abläuft. In den übrigen Betriebszeiten der
Ätzanlage wird diese in einem "standby"-Zustand gehalten,
in welchem die Pumpen zur Einsparung von Energie und zur
Verringerung des Verschleißes stillgesetzt sind.
Ein dritter Puffertank kann im Weg zwischen der Siedekammer
der Destillationseinrichtung und der Ätzmaschine angeordnet
sein, in welchem in der Destillationseinrichtung wieder
gewonnenes Ätzmittel zwischenspeicherbar ist. Auch durch
diesen dritten Puffertank wird die wechselseitige Unab
hängigkeit der Destillationseinrichtung einerseits und der
Ätzmaschine andererseits sichergestellt. So kann die De
stillationseinrichtung wiedergewonnenes Ätzmittel unabhängig
davon abgeben, ob solches in der Ätzmaschine zu diesem Zeit
punkt gerade gebraucht wird. Umgekehrt kann der Ätzmaschine
aus dem dritten Puffertank zwischengespeichertes Ätzmittel
zugeführt werden, unabhängig davon, ob in der Destillations
einrichtung selbst hierfür im jeweiligen Augenblick Ätz
mittel vorhanden ist.
Dabei ist es möglich, daß dem Ätzmittel in dem dritten Puf
fertank Ammoniak beifügbar ist. Wie bereits oben erwähnt,
werden häufig stark ammoniakalische Ätzmittel eingesetzt.
Das in dem Spülwasser enthaltene Ammoniak geht in der De
stillationseinrichtung zum Teil den Weg des Wassers, da es
leicht flüchtig ist. Hierdurch kann das sich in der Destil
lationseinrichtung als Rückstand ansammelnde Ätzmittel an
Ammoniak verarmt sein. Dieses wird dann in dem dritten
Puffertank wieder auf die richtige Konzentration gebracht.
Nach einem weiteren Merkmal der Erfindung ist ein Niveau
regler vorgesehen, welcher das Niveau des Ätzmittels im
Sumpf der Ätzmaschine überwacht und beim Absinken dieses
Niveaus unter einen Sollwert eine Pumpe in Funktion setzt,
welche dem dritten Puffertank Ätzmittel entnimmt und dem
Sumpf der Ätzmaschine zuführt.
Auf diese Weise kann die Menge des Ätzmittels im Sumpf
der Ätzmaschine praktisch ohne Zugabe neuer Chemikalien
auf im wesentlichen konstantem Niveau gehalten werden,
obwohl durch die zu ätzenden Gegenstände laufend Ätzmittel
aus der Ätzmaschine verschleppt wird.
Ein Ausführungsbeispiel der Erfindung wird nachfolgend
anhand der Zeichnung näher erläutert; die einzige Figur
zeigt schematisch eine Ätzanlage zur Herstellung gedruckter
Leiterplatten.
Hauptbestandteil der in der Zeichnung dargestellten Ätz
anlage zur Herstellung gedruckter Leiterplatten ist die
eigentliche Ätzmaschine, die mit dem Bezugszeichen 1 gekenn
zeichnet ist. Die zu ätzenden, mit Kupfer beschichteten
Leiterplatten 2 werden in der Eingabestation 3 der Ätz
maschine 1 auf ein Fördersystem 4 aufgelegt und bewegen sich
im Sinne des Pfeiles 5 durch die Ätzmaschine 1 und die nach
geschalteten, noch zu beschreibenden Komponenten der Anlage
kontinuierlich hindurch.
Innerhalb der Ätzmaschine 1 werden die Leiterplatten 2 aus
oberhalb und unterhalb des Bewegungsweges angeordneten
Düsenstöcken 6, 7 mit Ätzmittel besprüht. Einzelheiten des
Ätzvorganges sowie des verwendeten Ätzmittels werden hier
nicht beschrieben, da sie an und für sich bekannt sind.
Im dargestellten Ausführungsbeispiel wird ein ammoniakali
sches Ätzmittel verwendet. Dieses wird von Pumpen 8, 9 aus
dem Sumpf 10 der Ätzmaschine kontinuierlich über die Düsen
stöcke 6, 7 umgewälzt. Da sich das Ätzmittel bei diesem
Vorgang mit Kupfer anreichert, wird es kontinuierlich rege
neriert. Hierzu ist eine Elektrolysezelle 11 vorgesehen,
welcher bei Bedarf oder kontinuierlich Ätzmittel aus dem
Sumpf 10 der Ätzmaschine 1 zugeführt wird. Nach elektro
lytischer Wiedergewinnung des Kupfers wird das an Kupfer
abgereicherte Ätzmittel wieder in den Sumpf 10 der Ätz
maschine 1 eingebracht. Auf diese Weise bleibt das Ätz
mittel im wesentlichen in einem geschlossenen Kreislauf;
Ätzmittelabfälle, die entsorgt werden müßten, ergeben sich
praktisch keine.
Die in der Ätzmaschine 1 geätzten Leiterplatten 2 verlassen
die Ätzmaschine 1 über eine Ausgabestation 12, in welcher
sie von anhaftendem Ätzmittel durch Quetschwalzenpaare 13
weitgehend befreit werden. Sie werden durch das Förder
system 4 von hier in die Eingabestation 14 einer ersten
Spülmaschine 15 gebracht, wo sie erneut ein Quetschwalzen
paar 13 durchlaufen.
Der grundsätzliche Aufbau der Spülmaschine 15 ähnelt dem
jenigen der Ätzmaschine 1. Das heißt, die Leiterplatten
2 durchlaufen die Spülmaschine 15 auf dem Fördersystem 4,
wobei sie von beidseits ihres Bewegungsweges angeordneten
Düsenstöcken 16, 17 besprüht werden. Das Sprühmedium ist
aber, der anderen Funktion der Spülmaschine 15 entsprechend,
Spülwasser. Dieses wird von einer Pumpe 18 dem Sumpf 19
der Spülmaschine 15 entnommen, über die Düsenstöcke 16,
17 geleitet und sammelt sich dann erneut im Sumpf 19. Bei
diesem Vorgang werden die Leiterplatten 2 weitgehend von
anhaftendem Ätzmittel befreit, welches sich selbstverständ
lich in dem in der Spülmaschine 15 zirkulierenden Spül
wasser im Laufe der Zeit anreichert.
Die Leiterplatten 2 verlassen die erste Spülmaschine 15
über eine Ausgabestation 20, in der wiederum ein Quetsch
walzenpaar 13 angeordnet ist. Sie werden in die Eingabe
station 21 einer zweiten Spülmaschine 22 übergeben, deren
Aufbau mit demjenigen der ersten Spülmaschine 15 überein
stimmt. Die zweite Spülmaschine 22 umfaßt also insbesondere
wiederum zwei beidseits des Bewegungsweges der Leiterplatten
2 angeordnete Düsenstöcke 23, 24, eine das Spülwasser über
die Düsenstöcke 23, 24 umwälzende Pumpe 25 sowie einen Sumpf
26, in dem sich das Spülwasser sammelt. Die Leiterplatten 2,
die in der zweiten Spülmaschine 22 ein zweites Mal von noch
anhaftendem Ätzmittel gereinigt wurden, verlassen die zwei
te Spülmaschine 22 über deren Ausgabestation 27 durch ein
Quetschwalzenpaar 13 im Sinne des Pfeiles 28 und werden
einer geeigneten Weiterverarbeitung zugeführt, die nicht
Gegenstand der vorliegenden Betrachtungen ist. Ggf. können
noch weitere Spülmaschinen in der beschriebenen Weise nach
geschaltet werden.
Das zur Reinigung der Leiterplatten 2 in den Spülmaschinen
15 und 22 verwendete Spülwasser wird durch diese Spülma
schinen 15, 22 kaskadenartig im Gegenstromverfahren hin
durchgeleitet. Das heißt, das frische Spülwasser tritt in
die in Bewegungsrichtung der Leiterplatten 2 gesehen letzte
Spülmaschine 22 über die Leitung 29 ein. Über eine Über
laufleitung 30 gelangt das Spülwasser, nunmehr bereits
geringfügig verschmutzt, in die erste Spülmaschine 15,
welcher das nunmehr stärker verschmutzte und reinigungs
bedürftige Spülwasser über die Leitung 31 entnommen werden
kann.
Die soweit beschriebene Ätzanlage ist als solche bekannt;
wegen Einzelheiten wird auf die oben bereits angesprochene
DE-PS 24 34 305 verwiesen. Dort wird allerdings ein anderes
Entsorgungssystem für das in den Spülmaschinen 15, 22 an
fallende, verschmutzte Spülwasser beschrieben.
Bei der in der Zeichnung dargestellten Ätzanlage wird das
verwendete Spülwasser vollständig wiederaufgearbeitet, so
daß also eine Einleitung in öffentliche Abwassersysteme,
die eine betriebsinterne Aufbereitung der Abwässer voraus
setzen würde, nicht erforderlich ist. Die Entsorgung ge
schieht im einzelnen wie folgt:
Das der ersten Spülmaschine 15 entnommene verschmutzte
Spülwasser wird von einer Pumpe 32 über die Leitung 31 dem
Sumpf 19 entnommen und einem ersten Puffertank 33 zugeführt.
Es wird diesem Puffertank 33 über eine Leitung 35 wieder
entnommen und einem handelsüblichen Vakuumverdampfer zuge
führt, der in der Zeichnung insgesamt mit dem Bezugszeichen
36 versehen ist. Die Leitung 35 steht vom Vakuumverdampfer 36
her unter Unterdruck, so daß eine fördernde Pumpe hier nicht
nötig ist. Die Strömung durch die Leitung 35 wird von
einem Magnetventil 34 gesteuert. Eine detaillierte Beschrei
bung des Vakuumverdampfers 36 ist nicht erforderlich, da
er als solcher bekannt ist. Hier genügt es zu wissen, daß
innerhalb der gestrichelt eingerahmten Einheit 36 eine
Siedekammer 37 vorgesehen ist, in welcher das dort
eingeführte Spülwasser durch eine geeignete Heizeinrichtung
zum Verdampfen gebracht wird; es kondensiert an einer Kühl
schlange in einer Kondensatkammer 38. In der Siedekammer
37 und der Kondensatkammer 38 wird ein Unterdruck durch
eine Wasserstrahlpumpe 39 aufrechterhalten, welche über
eine Leitung 40 an die Kondensatkammer 38 angeschlossen
ist. Die Wasserstrahlpumpe 39 wird durch eine Pumpe 41 be
trieben, welche gereinigtes Spülwasser einem Spülwasser
sammelbehälter 42 kontinuierlich entnimmt, über die Wasser
strahlpumpe 39 leitet und dann wieder in den Spülwasser
sammelbehälter 42 zurückführt. Über die Leitung 40 gelangt
auch das sich in der Kondensatkammer 38 sammelnde, von
Ätzmittelrückständen befreite Spülwasser in den Spülwasser
sammelbehälter 42.
Das nunmehr wieder verwendungsfähige Spülwasser wird dem
Spülwassersammelbehälter 42 unter dem Einfluß eines geringen,
dort herrschenden Überdruckes oder auch nur der Schwerkraft
entnommen und über eine Leitung 44 einem zweiten Puffertank
45 zugeführt. Die Strömung durch die Leitung 44 wird durch
ein Magnetventil 45 gesteuert.
Von besonderer Bedeutung im vorliegenden Zusammenhang ist,
daß bei der Destillation des verschmutzten Spülwassers in
der Siedekammer 37 nicht nur Wasserdampf, sondern zum Teil
auch das in dem Spülwasser enthaltene Ammoniak in die
Kondensatkammer 38 und von dort in den Spülwassersammelbe
hälter 42 übertritt. Das in dem Vakuumverdampfer 36 gerei
nigte Spülwasser ist also noch ammoniakalisch (pH etwa
10). Dies ist wichtig, da andernfalls bei der Einleitung
des Spülwassers in die Spülmaschinen 22, 15 die Gefahr des
Ausfallens von Kupferhydroxid durch Hydrolyse drohen würde.
Eine Pumpe 46 entnimmt dem zweiten Puffertank 45 über eine
Leitung 47 gereinigtes Spülwasser und führt dieses bedarfs
weise über die bereits oben erwähnte Leitung 29 der in der
Kaskade letzten Spülmaschine 22 zu.
Wie der Zeichnung zu entnehmen ist, ist die Pumpe 32, wel
che dem ersten Puffertank 33 verschmutztes Spülwasser zu
führt, mit der Pumpe 46, welche dem zweiten Puffertank 45
gereinigtes Spülwasser entnimmt, zu einer Doppelpumpe (z. B.
Doppelbalgpumpe) gekoppelt, die von einem gemeinsamem Motor
48 angetrieben wird. Auf diese Weise ist sichergestellt,
daß den Spülmaschinen 15 und 22 immer dieselbe Menge ver
schmutzten Spülwassers entnommen wie frischen Spülwassers
zugeführt wird. Die Menge des Spülwassers in der Spülkaskade
bleibt also unverändert.
Der Motor 48 der Doppelpumpe 32, 46 wird elektrisch von
einer Überwachungseinrichtung 49 gesteuert. Diese umfaßt
einen Sensor 50, der in der Nähe der Eingabestation 4 der
Ätzmaschine 1 angeordnet ist und feststellt, wenn hier eine
Leiterplatte 2 in die Ätzanlage eintritt. Bei dem Sensor 50
kann es sich um einen kapazitiven oder induktiven Annähe
rungsschalter oder auch um eine Lichtschranke oder der
gleichen handeln. Erfaßt der Sensor 50 den Eintritt einer
Leiterplatte 2 in die Ätzmaschine 1, wird der Motor 48 der
Doppelpumpe 32, 46 in Funktion gesetzt; der Betrieb dieses
Motors 48 dauert so lange an, bis die Leiterplatte 2 die
Ätzanlage wieder verlassen hat. In entsprechender Weise
werden auch die Pumpen 8, 9 der Ätzmaschine 1 sowie 18 und
25 der Spülmaschinen 15 bzw. 22 gesteuert. Die Überwachungs
einrichtung 49 stellt also sicher, daß die Ätzanlage nicht
"leer" läuft. Sie hält die gesamte Ätzanlage in einem "stand
by"-Zustand, solange keine zu ätzenden Leiterplatten 2 über
die Eingabestation 4 in die Ätzmaschine 1 einlaufen.
Im unteren Bereich der Siedekammer 37 des Vakuumverdampfers
36 sammelt sich die in dem hier gereinigten Spülwasser ent
haltene Verunreinigung, nämlich Ätzmittel an. Die in der
Siedekammer 37 stehende Flüssigkeit wird von einer Pumpe
51 über eine Leitung 52 abgezogen und in einen dritten
Puffertank 53 eingebracht. Ggf. kann hier der Ammoniakgehalt
ergänzt werden. Der Inhalt des Puffertankes 53 wird bei
Bedarf durch ein Rührwerk 54 gerührt.
Eine Pumpe 55 entnimmt über eine Leitung 56 dem dritten
Puffertank 53 Ätzmittel, das in seinem Ammoniakgehalt neu
eingestellt wurde, und führt dieses dem Sumpf 10 der Ätz
maschine 1 zu.
Ein Niveauregler 57 überwacht das Niveau im Sumpf 10 der
Ätzmaschine 1 und beaufschlagt die Pumpe 55, wenn das
Niveau unter einem bestimmten Stand abgefallen ist. Dann
wird dem dritten Puffertank 53 Ätzmittel entnommen und der
Sumpf 10 der Ätzmaschine 1 bis zum Erreichen des gewünschten
Füllstandes aufgefüllt.
Die beschriebene Ätzanlage arbeitet also bezüglich aller
wesentlichen Komponenten praktisch autark:
Das mit den Leiterplatten 2 eingeführte Kupfer wird, soweit
es in der Ätzmaschine 1 entfernt wird, durch die Elektro
lysezelle 11 in metallischer Form wiedergewonnen. Das Ätz
mittel wird dabei praktisch vollständig regeneriert.
Soweit Ätzmittel aus der Ätzmaschine 1 durch die Leiter
platten 2 in die Spülmaschinen 15 und 22 verschleppt wird,
wird dieses in dem Vakuumverdampfer 36 wiedergewonnen und
über die Zwischenstation des Puffertankes 53 dem in der
Ätzmaschine 1 enthaltenen Ätzmittel wieder zugeführt.
Auch das Spülwasser, welches zum Reinigen der Leiterplatten
in den Spülmaschinen 15 und 22 benutzt wird, zirkuliert
kontinuierlich; Abwasser entsteht nicht.
Der beschriebenen Ätzanlage müssen also im wesentlichen
keine Chemikalien oder sonstigen Substanzen zugeführt wer
den; auch Entsorgungsprobleme entstehen in keiner Richtung.
Allenfalls gewisse Verdunstungsverluste an Wasser und Ammo
niak müssen ausgeglichen werden.
Claims (12)
1. Verfahren zum Ätzen von Gegenständen, insbesondere zur
Herstellung gedruckter Leiterplatten, bei welchem die
Gegenstände zunächst mit flüssigem Ätzmittel geätzt und
danach mit Spülwasser von anhaftendem Ätzmittel befreit
werden,
dadurch gekennzeichnet, daß
das mit Ätzmittel verunreinigte Spülwasser in einem Destil
lationsprozeß gereinigt und danach in geschlossenem Kreis
lauf erneut zum Spülen der Gegenstände (2) verwendet wird.
2. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß
das als Rückstand im Destillationsprozeß des Spülwas
sers wiedergewonnene Ätzmittel erneut in geschlossenem
Kreislauf zum Ätzen der Gegenstände (2) verwendet wird.
3. Verfahren nach Anspruch 2, bei welchem ein ammoniaka
lisches Ätzmittel zum Ätzen von metallischem Kupfer
eingesetzt wird, dadurch gekennzeichnet, daß dem als Rück
stand des Destillationsprozesses gewonnenen Ätzmittel vor
der Wiederverwendung Ammoniak zugegeben wird.
4. Ätzanlage zum Ätzen von Gegenständen mit
- a) einer Ätzmaschine, durch welche die Gegenstände konti nuierlich durchgeführt und in der sie mit flüssigem Ätz mittel beaufschlagt werden;
- b) mindestens einer der Ätzmaschine nachgeschalteten Spül maschine, in welcher die Gegenstände mit Spülwasser von anhaftendem Ätzmittel befreit werden, wobei sich das Spülwasser mit Ätzmittel anreichert,
gekennzeichnet durch
- c) eine Destillationseinrichtung (36), in welcher das ver schmutzte Spülwasser durch Absieden von dem weniger flüchtigen Ätzmittel getrennt und als Kondensat gesam melt wird, das dann in geschlossenem Kreislauf der bzw. den Spülmaschine(n) (15, 22) wieder zuführbar ist.
5. Ätzanlage nach Anspruch 4, dadurch gekennzeichnet, daß
das sich in der Destillationseinrichtung (36) als Rück
stand sammelnde Ätzmittel in die Ätzmaschine (1) in im
wesentlichen geschlossenem Kreislauf zurückführbar ist.
6. Ätzanlage nach Anspruch 4 oder 5, dadurch gekennzeich
net, daß ein erster Puffertank (33) im Weg von der oder
den Spülmaschine(n) (15, 22) zu der Destillationseinrich
tung (36) vorgesehen ist, in welchem verschmutztes Spülwasser
zwischenspeicherbar ist, und daß ein zweiter Puffertank
(45) im Weg von der Destillationseinrichtung (36) zu der
oder den Spülmaschine(n) (15, 22) vorgesehen ist, in welchem
gereinigtes Spülwasser zwischenspeicherbar ist.
7. Ätzanlage nach Anspruch 6, dadurch gekennzeichnet, daß
die Pumpe (32) welche dem ersten Puffertank (33) ver
schmutztes Spülwasser zuführt, mit der Pumpe (46), welche
dem zweiten Puffertank (45) gereinigtes Spülwasser ent
nimmt, als Doppelpumpe mit einem gemeinsamen Motor (48)
ausgebildet ist.
8. Ätzanlage nach Anspruch 6 oder 7, dadurch gekennzeich
net, daß die Pumpe (32), welche dem ersten Puffertank
(33) verschmutztes Spülwasser zuführt, und die Pumpe (46),
welche dem zweiten Puffertank (45) gereinigtes Spülwasser
entnimmt, von einer Überwachungseinrichtung (49) in Funk
tion gesetzt werden, wenn ein in der Nähe der Eingabestation
(4) der Ätzmaschine (1) angebrachter Sensor (50) den Ein
tritt eines Gegenstandes (2) in die Ätzmaschine (1) fest
stellt.
9. Ätzanlage nach Anspruch 5, dadurch gekennzeichnet, daß
ein dritter Puffertank (53) im Weg zwischen der Siede
kammer (37) der Destillationseinrichtung (36) und der Ätz
maschine (1) angeordnet ist, in welchem in der Destilla
tionseinrichtung (36) wiedergewonnenes Ätzmittel zwischen
speicherbar ist.
10. Ätzanlage nach Anspruch 9, dadurch gekennzeichnet, daß
dem Ätzmittel in dem dritten Puffertank (53) Ammoniak
beifügbar ist.
11. Ätzanlage nach Anspruch 9 oder 10, dadurch gekennzeich
net, daß ein Niveauregler (57) vorgesehen ist, welcher
das Niveau des Ätzmittels im Sumpf (10) der Ätzmaschine
(1) überwacht und beim Absinken dieses Niveaus unter einen
Sollwert eine Pumpe (55) in Funktion setzt, welche dem
dritten Puffertank (53) Ätzmittel entnimmt und dem Sumpf
(10) der Ätzmaschine (1) zuführt.
Priority Applications (1)
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---|---|---|---|
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Applications Claiming Priority (1)
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DE19893936363 DE3936363A1 (de) | 1989-11-02 | 1989-11-02 | Verfahren zum aetzen von gegenstaenden sowie aetzanlage |
Publications (2)
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Family
ID=6392651
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Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
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DE19893936363 Granted DE3936363A1 (de) | 1989-11-02 | 1989-11-02 | Verfahren zum aetzen von gegenstaenden sowie aetzanlage |
Country Status (1)
Country | Link |
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DE (1) | DE3936363A1 (de) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2001079589A1 (en) * | 2000-04-13 | 2001-10-25 | Obducat Aktiebolag | Method in and apparatus for etching or plating of substrates |
WO2007055670A1 (fr) * | 2005-11-11 | 2007-05-18 | Eve Recycling Sarl | Procede de recyclage de solution de gravure pour le traitement des cartes imprimees |
Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE1521993B1 (de) * | 1966-04-04 | 1970-02-19 | Siemens Ag | Verfahren zum Regenerieren einer Chromschwefelsäurel¦sung zum Aetzen von Kupfer |
DE1621648A1 (de) * | 1966-05-18 | 1971-07-22 | Siemens Ag | Aufbereitungsverfahren fuer bei Metallbehandlungsprozessen abfallende Spuelabwaesser |
AT313671B (de) * | 1971-03-08 | 1974-02-25 | Hoellmueller Maschbau H | Verfahren zum Regenerieren von Ätzlösungen für Kupfer und Kupferlegierungen, Regenerationsanlage zur Durchführung dieses Verfahrens sowie Meß- und Steuereinrichtung für diese Regenerationsanlage |
DE2651675A1 (de) * | 1976-01-09 | 1977-07-14 | C Paul Pesek | Anordnung zur kontinuierlichen wiedergewinnung von aetzmaterial und geaetztem material |
-
1989
- 1989-11-02 DE DE19893936363 patent/DE3936363A1/de active Granted
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Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
DE3936363C2 (de) | 1992-12-03 |
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