WO2007055670A1 - Procede de recyclage de solution de gravure pour le traitement des cartes imprimees - Google Patents

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WO2007055670A1
WO2007055670A1 PCT/TN2006/000002 TN2006000002W WO2007055670A1 WO 2007055670 A1 WO2007055670 A1 WO 2007055670A1 TN 2006000002 W TN2006000002 W TN 2006000002W WO 2007055670 A1 WO2007055670 A1 WO 2007055670A1
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WO
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solution
ammonia
regenerator
etching
regeneration
Prior art date
Application number
PCT/TN2006/000002
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English (en)
Inventor
Karim Nahdi Dridi
Original Assignee
Eve Recycling Sarl
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Publication date
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    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23F—NON-MECHANICAL REMOVAL OF METALLIC MATERIAL FROM SURFACE; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL; MULTI-STEP PROCESSES FOR SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL INVOLVING AT LEAST ONE PROCESS PROVIDED FOR IN CLASS C23 AND AT LEAST ONE PROCESS COVERED BY SUBCLASS C21D OR C22F OR CLASS C25
    • C23F1/00—Etching metallic material by chemical means
    • C23F1/46—Regeneration of etching compositions
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01D—SEPARATION
    • B01D53/00—Separation of gases or vapours; Recovering vapours of volatile solvents from gases; Chemical or biological purification of waste gases, e.g. engine exhaust gases, smoke, fumes, flue gases, aerosols
    • B01D53/34—Chemical or biological purification of waste gases
    • B01D53/46—Removing components of defined structure
    • B01D53/54—Nitrogen compounds
    • B01D53/58—Ammonia
    • H—ELECTRICITY
    • H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K3/00—Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
    • H05K3/02—Apparatus or processes for manufacturing printed circuits in which the conductive material is applied to the surface of the insulating support and is thereafter removed from such areas of the surface which are not intended for current conducting or shielding
    • H05K3/06—Apparatus or processes for manufacturing printed circuits in which the conductive material is applied to the surface of the insulating support and is thereafter removed from such areas of the surface which are not intended for current conducting or shielding the conductive material being removed chemically or electrolytically, e.g. by photo-etch process
    • H05K3/068—Apparatus for etching printed circuits

Definitions

  • the present invention relates to a method for processing the printed boards by means of an etching solution in an engraving machine in which the printed boards are pulverized.
  • an etching solution however, a liquid generator and optionally an electrolyzer are connected with the etching machine as well as the system to accomplish the process.
  • the available invention is based on the task of creating a process as well as a machine with which the etching solution is processed and reused at the same time in the etching system in an efficient, simple and economical way.
  • the gases produced during the process are treated in closed circuit to reduce or to avoid the consumption of ammonia gas.
  • a substantial feature of the available invention is that a fresh or processed ⁇ process etching solution respectively from a process solution tank is fed directly to the etching machine, to the etching machine nozzles for spraying the processes. printed cards. Following this etching process, the etching solution used returns to the processing.
  • This treatment can cover several stages, through which passes a regeneration step where [Cu (NHs) 2 ] + oxidizes to [Cu (NH 3 ) 4 ] ++ using air injection. or oxygen, ammonia gas and NH 4 + ammonium in three sequence, then the solution goes to the complexation stage by enriching ammonia NH 3 gas in two sequences. To reduce the copper concentration, the solution goes through a recycling step in the electrolyser where the copper metal recovery is done.
  • etching solution used in the etching machine does not return immediately, but it goes through two large processing steps where there are multiple sequences.
  • the etching solution used passes to the first stage to a liquid regenerator, if necessary to an electrolyser installed in parallel or to the intermediate, then arrives at complexations in two phases to complete the treatment before returning to the nozzles of the machine engraving to be reused in the etching process.
  • the etching solution used is conducted in a first regeneration phase to a liquid regenerator, however the liquid regenerator consists of several regeneration phases in which the etching solution cascades.
  • the amount of etching solution is divided in the first regeneration phase in the liquid regenerator so that preferably 90% to 99% etching solution passes the liquid regenerator and the remainder 1% to 10%. % is driven to the electrolyser.
  • the copper is regenerated respectively recovered from the etching solution. Then the etching solution arrives from the electrolyser to a reservoir for intermediate storage.
  • the etching solution enters directly into the second regenerator phase of liquid regenerator to join the main cycle of the etching solution and passes through the liquid regenerator in these corresponding regeneration phases.
  • the electrolyser has the task of reducing the copper concentration in the etching solution by respecting the tolerances to have a stable speed and a high value.
  • the etching solution used from the first regeneration phase in the liquid regeneration can go to the second regeneration phase in the liquid regenerator or arrives to the buffer system to be available to the liquid generator particularly in the second regeneration phase.
  • the treated etching solution can go to the second regeneration phase in the liquid regenerator or arrives to the buffer system to be available to the liquid generator particularly in the second regeneration phase.
  • it must be considered that 1% to 10% of the etching solution of the first regeneration phase of the liquid regenerator is conducted directly to the buffer system.
  • etch solution is continuously circulating at a freely selectable rate. Then, the buffer system of the regenerated etching solution feeds the liquid regenerator directly. This is also in the context of the patent.
  • the etching solution In the third, fourth and fifth regeneration phases, separate cascades are provided in which the etching solution must pass.
  • the cascades there are vertical stairs equipped with a propeller that rotates at a constant speed to increase the residence time of the solution, therefore, the time of the regeneration reaction is increased, so is the mixture of two phases liquid and gas.
  • the etching solution is directed to a complexer, preferably in a two-phase complexer.
  • the process solution in particular the etching solution, enters a first stage of the complexing unit of a complexer to arrive at the second stage of complexation of a complexer and from there to arrive at the nozzles of the machine. engraving.
  • the available invention has proved particularly favorable that all the gases developed by the etching machine, the electrolyser, the liquid regenerator with its regeneration phases, the gas regenerator, the temporary intermediate storage, are used for the process in such a way that a complete process cycle is carried out.
  • the etching solution used respectively the process solution can be processed by a liquid regenerator and an additional complexer, however, if necessary an electrolyser which works in a discontinuous or parallel manner can take place to reduce the copper reported by the etching process.
  • the liquid regenerator preferably operates with the multiple steps and with three multiple sequences in each step.
  • the atmospheric oxygen and the ammonia sucked from the etching machine electrolyser and the tanks of the system will be mixed with the solution through a large injector to make the mixture of two liquid and gas phases
  • the rest of the gas of the first phase will be mixed by the solution through micro injectors which trigger the regeneration of the solution by the oxidation of [Cu (NH 3 ) 2 ] + and in the third phase where the complete oxidation passes through the medium injectors where the remainder of liquid regenerator gas is mixed with the solution.
  • each liquid regenerator regeneration stage there is a helical vertical staircase which rotates at a constant speed to increase the residence time of the process solution and consequently, to lengthen the regeneration reaction time and also improve the mixture of two liquid and gas phases. Then this etching solution used semi recycled process respectively will be processed by two complexing units of an additional complexer.
  • the first complexing unit of a complexer passes the normal complexation with a separation of the fumes that form in it, from where the rich part in ammonia is returned to the regenerator of the liquid, preferably from the third to the fifth regeneration phase .
  • the ammonia-poor portion of the first complexing unit is led to an additional condenser, from which the remaining ammonia is reduced by additional condensation. From there, part of the exhaust air with a low concentration of the ammonia residue is conducted to the gas regenerator, from which the small amount of remaining ammonia is recovered and then returned by the pipe to the second complexing unit of a complexer, to finally accelerate the complexation process and finally receive the fully oxidized complex of [Cu (NH 3 ) 4 ] ++ .
  • the second part of the air extracted from the condenser is conducted by a pipe to the internal neutraliser and then passes to the external neutraliser. With a separation process in both neutralisers, the very small amount of remaining ammonia is totally separated from the excess air of the entire system, the air will be discharged to the environment without any ammonia contamination.
  • the gases in general, having a composition of NH 3 , O 2 and air work in a closed circuit and only in an exceptional case where a loss of ammonia following a handling error, the system adds a quantity of gas.
  • the available invention has proved that a large injector will suck extraction gas (usually a mixture of ammonia, air or oxygen) from the whole system, that is to say from the engraving machine with rinsing module, electrolyser, tanks Temporary and storage solutions and copper metal, liquid and gas regenerators to return it to the second phase of liquid regenerator.
  • the remaining gas developed in the liquid regenerator will be separated into two parts in the separator of the first complexing unit of a complexer, however the ammonia-rich portion is returned to the liquid regenerator, preferably in the third to the fifth regeneration phase and the second low ammonia part, plus gas regenerator extraction are conducted to the capacitor.
  • the separated part rich in ammonia is transferred to the gas regenerator, the second part poor in ammonia will go to the internal neutraliser for the formation of ammonium carbonate and then the excess air in the system will be evacuated after passing through the external neutralizer.
  • Figure is a schematic top view of a machine for processing the etching solution to manufacture printed boards with the solution circle;
  • Figure Ib a schematic view of a machine for processing printed cards continued figure in which included gas cycle and rinse cycle presented additional;
  • the process solution 4 can consist of different solutions and preferably contains ammonium carbonate, copper carbonate, phosphate, ammonia, ammonium sulphate and ammonia and water.
  • the collection tank 5 of the engraving machine 1 is combined with a first regeneration phase 9a of a liquid regenerator 9 via a pipe 13.
  • etching solution or of used process solution 4 can be dosed in 1 electrolyser 20 through line 17, if desired.
  • the metallic copper is recovered from the process solution 4 by electrolysis, and this metal can be stored temporarily in a tank not shown here, waiting for the operation below.
  • the treated process solution 4 arrives via a pipe 22 to an intermediate storage tank 23 where it is added by another pipe 24 preferably to the second regeneration phase 9b of liquid regenerator 9.
  • the process solution used 4 of the etching machine 1 can directly lead to the liquid regenerator 9 and after the treatment in all the regeneration phases 9a to 9e arrives at the first complexing unit 10a of a complexer 10 via the line 25 and then arrives via line 26 to the second complexing unit of a complexer 10 via line 12 of this second complexing unit 10b, the etching machine spray nozzles 1 will be fed with an etching solution 4 completely. , widely and sufficiently treated.
  • the first complexing unit 10a of the complexer 10 which is divided into two units 10a and 10b in which the process solution 4 or the etching solution cascade a first chamber 60 of the complexing unit 10a to lead into a second chamber 61, preferably downstream to line 26, and flow into the second complexing unit 10b.
  • the particularity of the second chamber 61 is the separation unit 62 provided in the upper sector, for the separation of NH 3 .
  • the gas mixture as well as the lower part of ammonia gas NH 3 can be separated into different fractions and in a fraction with one high and one with a low concentration of NH 3 .
  • liquid regenerator plant 9 which is divided into five regeneration phases 9a to 9e. From the engraving machine 1, all the etching solution used 4 arrives in the first regeneration phase 9a where it is divided into two fractions, one with a small volume, preferably between 1% and 10%, passing through the pipe 17 in electrolysis 20.
  • etching solution 4 is guided in cascade by the first regeneration phase 9a and arrives at the second regeneration phase 9b.
  • a drop separator 63 is preferably installed in the upper zone, which separates in the regenerator of liquid, in particular the existing liquid gas, in the regeneration phase 9b respectively dry the gas mixture.
  • the process solution 4 passes through a vertical cascade, as shown in FIG. to arrive at the third regeneration phase 9c to cross horizontal cascades to arrive passing through a vertical cascade to the fourth regeneration phase 9d, to pass into the lower zone of the horizontal cascades following this happens by another vertical cascade in the last regeneration phase 9e and finally arrive, after having passed through several horizontal cascades through line 25 to the mixer 10.
  • the air and gas cycles also the volumes in the system as well as the cycles of the rinsing solution or the water of the recycling system are presented. .
  • a rinsing zone 64 In an etching machine 1, following the spray zone, respectively to the spray nozzles 3, is a rinsing zone.
  • the printed cards 2 are rinsed with a cleaning solution, composed of water in general.
  • the cleaning solution, respectively, the solution which has been in contact with the printed boards 2 are collected in a rinsing cascade 65 and then pass through a pipe 66 in a gas regenerator 8, in particular, in a washing chamber 8a.
  • the gas regenerator 8 consists of a washing chamber 8a and a washing cell 8b communicating.
  • This cascade of rinsing 67 collects other additional rinsing solutions, in particular the rinsing water resulting from the cleaning carried out during the process, and passes the same. by a line 68 to the osmosis tank 69.
  • the cleaning solution in particular the water is separated and divided into a clean fraction and a mud fraction.
  • the clean water fraction of the osmosis tank returns directly to the rinsing zone via the line 70, preferably to the second rinsing flow to rinsing again.
  • the mud fraction, created in the osmosis tank 69 is conducted by a pipe 71 to the washing cell 8b and after the washing cell 8b of a gas regenerator
  • the process solution 4 which is enriched with air and ammonia, flows through a vertical cascade and then reaches the second chamber 61.
  • the mixture of ammonia and air is divided by a separation unit 62 in a fraction with a very high ammonia concentration of about 60% to 90% preferably 80% of ammonia, which is fed by the exhaust air duct 36 preferably in the third, fourth and fifth regeneration phase 9c, 9d and 9e.
  • This gas mixture with a very high ammonia concentration of preferably 80% is used for the enrichment of ammonia of process solution 4 in regeneration phases 9c, 9d and 9e.
  • the vertical cascades installed in the regeneration phases 9c, 9d and 9e, which increase the residence time in this zone and a high circulation by stirrers, form a good mixture and enrichment of the process solution 4 with 'ammonia
  • the task of the capacitor 29 is to separate respectively divide ammonia (NH 3 ) and air.
  • a separation takes place of a fraction with a low concentration of ammonia (NH 3) by an exhaust air line 38 in an internal neutralizer 28.
  • the gas mixture with a low arrives via an exhaust duct 39 to an external neutralizer 27 and will after separation and separation of complete ammonia evacuate to the environment.
  • the remaining small amount of ammonia will be totally separated and divided by air.
  • the part or the fraction of mixture with a higher ammonia concentration, produced in the capacitor 29, is led by another exhaust air line 40 to the gas regenerator 8, in particular to the washing chamber 8a.
  • the gas mixture produced in particular in the washing chamber 8b will be separated, however a mixture of gases with an ammonia concentration will be conducted by an exhaust air line 41 to the mixer 10, in particular the complexing unit 10b, the ammonia-rich gas of gas regenerator 8, respectively its washing chamber 8b will be added to using an injector for example to the process solution 4 and the latter enriched with ammonia.
  • the process solution 4 receives a complete enrichment of NH 3 for total complexation and then returns to the etching machine nozzles.
  • this high portion of ammonia produced at the gas regenerator 8 is necessary for complete complexation of the process solution 4 by enriching the process solution 4 with ammonia.
  • the part or the fraction of mixture with a low ammonia concentration, produced in the gas regenerator 8, in particular in its washing chamber 8b, will be returned to the condenser 29 by another exhaust air pipe 42. This way the gas circuit, in particular the ammonia circuit is completely closed. Except in the event of a mechanical problem or a defect in the use of machinery in general, the ammonia will not vent to the outside nor additional ammonia gas must be added. The same is valid for the process solution circuits and the rinsing water of the rinsing zone.

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Abstract

A un procédé pour le traitement des cartes imprimés (2) avec une solution de procédé (4), en particulier avec une solution de gravure dans une machine de gravure (1), dans laquelle les cartes imprimés (2) sont pulvérisées par la solution de procédé (4), en particulier avec la solution de gravure, cependant à la machine de gravure (1) un régénérateur de liquide (9) est connecté, le cas échéant avec un électrolyseur (20) intercalé, la solution de procédé (4) en particulier une solution de gravure doit passer par un complexeur avec une ou plusieurs phases et ensuite est rendue à la machine de gravure (1) pour une nouvelle gravure d'autres cartes imprimées.

Description

Procédé de recyclage de solution de gravure pour le Traitement des cartes imprimées
L'invention disponible concerne un procédé pour traiter les cartes imprimées au moyen d'une solution de gravure dans une machine de gravure dans laquelle les cartes imprimées sont pulvérisées. En particulier, une solution de gravure, cependant un générateur de liquide et le cas échéant un électrolyseur sont connectés avec la machine de gravure aussi bien qu'au système pour accomplir le procédé.
Avec des procédures conventionnelles pour traiter les cartes imprimées, ces dernières sont traitées par des solutions de gravure dans une machine de gravure. L'érosion de la surface du cuivre de la carte imprimée où il y a de l'étain, de l'argent ou d' autres alliages métalliques a effectué de ce fait des limites temporaires . Par convention, une épaisseur du cuivre en métal par exemple d'environ βOμm par minute est possible.
En même temps, la solution de gravure, respectivement, de procédé doit être remplacée continuellement, ce qui est indésirable .
L'invention disponible est basée sur la tâche de créer un procédé ainsi qu'une machine avec laquelle la solution de gravure est traitée et réutilisée en même temps dans le système de gravure d'une manière efficace, simple et économique. En plus, les gaz produits pendant le procédé sont traités en circuit fermé pour réduire ou bien pour éviter la consommation de gaz d'ammoniac.
A la solution de cette tâche, mènent les caractéristiques de la revendication 1 du brevet comme ceux des réclamations de côté de brevet .
Une caractéristique substantielle de l'invention disponible est qu'une solution de gravure respectivement de procédé λfrais' ou traité venant d' un réservoir de solution de procédé est alimentée directement la machine de gravure, vers les buses de machine de gravure pour pulvériser les cartes imprimées. Suite à ce procédé de gravure, la solution de gravure utilisée retourne vers le traitement. Ce traitement peut couvrir plusieurs étapes, par lequel passe par une étape de régénération où le [Cu(NHs) 2] + s'oxyde vers le [Cu (NH3) 4] ++ à l'aide d'injection d'air ou oxygène, gaz d'ammoniac et l'ammonium NH4 + en trois séquence, puis la solution passe à l'étape de complexation par l'enrichissement en ammoniac NH3 gaz en deux séquences. Pour réduire la concentration de cuivre, la solution passe par une étape de recyclage dans l' électrolyseur où se fait la récupération de Cuivre métal. II est important pourtant que la solution de gravure utilisée dans la machine de gravure ne retourne pas immédiatement mais, elle passe par deux grandes étapes de traitement où il y a des séquences multiples. La solution de gravure utilisée passe à la première étape à un régénérateur de liquide, le cas échéant à un électrolyseur installé en parallèle ou à l'intermédiaire, puis arrive aux complexations en deux phases pour compléter le traitement avant de revenir aux buses de la machine de gravure pour être réutilisée dans le procédé de gravure.
La solution de gravure utilisée est menée dans une première phase de régénération vers un régénérateur de liquide, cependant le régénérateur de liquide se compose de plusieurs phases de régénération dans laquelle la solution de gravure passe en cascade.
De préférence, la quantité de solution de gravure est divisée dans la première phase de régénération dans le régénérateur de liquide de telle façon que de préférence 90% à 99% de solution de gravure passe le régénérateur de liquide et le reste de 1% à 10% est entraîné vers l' électrolyseur . Dans l' électrolyseur, le cuivre est régénéré respectivement récupéré de la solution de gravure. Ensuite la solution de gravure arrive de 1' électrolyseur vers un réservoir pour le stockage intermédiaire .
De là, la solution de gravure entre directement dans la deuxième phase de régénération de régénérateur de liquide pour rejoindre le cycle principal de la solution de gravure et passe par le régénérateur de liquide dans ces phases de régénération correspondantes . L' électrolyseur a la tâche de réduire la concentration de cuivre dans la solution de gravure en respectant les tolérances pour avoir une vitesse stable et à une valeur haute.
A la place de verser directement dans l' électrolyseur une partie de la solution de gravure, il est possible de diriger de la solution de gravure utilisée de la première phase de régénération dans le régénération de liquide vers le système tampon qui après alimente l' électrolyseur avec des quantités éligibles de solution de gravure utilisé pour la traiter. Directement de l' électrolyseur, de la solution de gravure traitée peut aller à la deuxième phase de régénération dans le régénérateur de liquide ou arrive vers le système tampon pour être à la disposition du générateur liquide particulièrement à la deuxième phase de régénération. En même temps, il faut considérer que 1% à 10% de la solution de gravure de la première phase de régénération du régénérateur de liquide est menée directement au système tampon. Cependant, entre le système à tampon et l' électrolyseur, de la solution de gravure circule d'une façon permanente à une vitesse éligible librement. Ensuite, le système tampon de la solution de gravure régénérée alimente le régénérateur de liquide directement. Ceci est aussi dans le cadre du brevet.
Dans la troisième, quatrième et cinquième phase de régénération, des cascades séparées sont prévues dans lesquelles la solution de gravure doit passer. En plus des cascades, il y a des escaliers verticaux munis une hélice qui tourne à une vitesse constante pour augmenter le temps de séjour de la solution, par conséquent, le temps de la réaction de régénération est augmenté, de même est amélioré la mixture de deux phases liquide et gaz . De la cinquième phase de régénération dans le régénérateur de liquide, la solution de gravure est dirigée vers un complexeur, de préférence dans un complexeur avec deux phases. A cette occasion, la solution de procédé en particulier la solution de gravure entre dans une première phase de l'unité de complexation d'un complexeur pour arriver à la deuxième phase de complexation d'un complexeur et de là arriver aux buses de la machine de gravure. A cette occasion, l'invention disponible a prouvé particulièrement favorable que tous les gaz développés par la machine de gravure, l' électrolyseur, le régénérateur de liquide avec ses phases de régénération, le régénérateur de gaz, le stockage intermédiaire temporaire, sont utilisés pour le procédé de telle façon q'un cycle complet de procédé est réalisé.
Avec l'invention disponible, il était prouvé particulièrement favorable que le mélange atmosphérique de l'oxygène et d'ammoniac dégagée de la machine de gravure est ajouté au traitement de la solution de gravure, qui alimente la machine de gravure .
En même temps, la solution de gravure utilisée respectivement la solution de procédé peuvent être traitées par un régénérateur de liquide et un complexeur supplémentaire, cependant, le cas échéant un électrolyseur qui travaille d'une façon discontinue ou parallèle peut avoir lieu pour réduire le cuivre rapporté par le procédé de gravure. Dans ce cas-ci, le régénérateur de liquide fonctionne de préférence avec les étapes multiples et avec trois multiples séquences dans chaque étape. De préférence dans la première phase de régénération dans le régénérateur de liquide l'oxygène atmosphérique et l'ammoniac aspiré de la machine de gravure, d' électrolyseur et des réservoirs du système vont être mélangés avec la solution à travers un gros injecteur pour faire le mélange de deux phases liquide et gaz, dans la deuxième phase de régénération le reste de gaz de la première phase sera mélangée par la solution à travers des micro injecteurs qui déclanchent la régénération de la solution par l'oxydation de [Cu (NH3) 2]+ et dans la troisième phase où passe l'oxydation complète à l'aide des injecteurs moyens où on mélange le reste de gaz de régénérateur de liquide avec la solution. En plus, dans chaque phase de régénération de régénérateur liquide, il y a un escalier vertical muni d'hélice qui tourne à vitesse constante pour augmenter le temps de séjour de la solution de procédé et par conséquent, allonger le temps de réaction de régénération et aussi améliorer la mixture de deux phases liquide et gaz. En suite cette solution de gravure utilisée respectivement de procédé semi recyclé va être traitée par deux unités de complexation d'un complexeur supplémentaire. Dans la première unité de complexation d'un complexeur passe la complexation normale avec une séparation des fumées qui se forment dedans, d'où la partie riche en ammoniac est retournée au régénérateur du liquide, de préférence de la troisième à la cinquième phase de régénération.
La partie pauvre en ammoniac de la première unité de complexation est menée à un condensateur supplémentaire, d'où l'ammoniac encore restant est réduit par une condensation en plus. De là, une partie de l'air d'extraction avec une faible concentration du reste d' ammoniac est menée au régénérateur de gaz, d'où la petite quantité d'ammoniac restant est récupérée et puis retournée par la conduite dans la deuxième unité de complexation d'un complexeur, pour finalement accélérer le procédé de complexation et recevoir en fin le complexe totalement oxydé de [Cu (NH3) 4] ++.
La deuxième partie de l'air extrait du condensateur est menée par une conduite au neutralisateur interne et puis passe au neutralisateur externe. Avec un procédé de séparation dans les deux neutralisateurs, la toute petite quantité d'ammoniac restante est séparée totalement de l'excès d'air de tout le système, l'air sera évacué à l'environnement sans aucune contamination par ammoniac.
En continu, la solution de procédé qui coule des buses de la machine de gravure qui est riche en [Cu (NH3) 2]+ sera amenée dans la première phase de régénération dans le régénérateur de liquide. D'ici une partie de cette solution utilisée qui est riche en [Cu(NH3)O] + est alimentée à l' électrolyseur pour la réduction de cuivre par récupération électrolytique et le reste passe à la deuxième phase de régénération de liquide où il commence la régénération de la solution par l'oxydation du
[Cu (NH3) 2] + en [Cu (NH3) 4] ++.
La solution traitée dans l' électrolyseur par électrolyse de cuivre et puis collectée dans un tampon intermédiaire, revient à la deuxième phase de régénération de régénérateur de liquide selon la demande du système de contrôle.
Les gaz, en général, ayant une composition de NH3, O2 et d'air travaillent en circuit fermé et seulement dans un cas exceptionnel où une perte d'ammoniac suite à une erreur de manipulation, le système ajoute une quantité de gaz d'ammoniac nécessaire pour le procédé en suivant l'indication de PH-mètre. L'invention disponible a prouvé qu'un grand injecteur va aspirer du gaz d'extraction (en général une mixture d' ammoniac, d'air ou d'oxygène) de tout le système, c'est-à-dire de la machine de gravure avec module de rinçage, d' électrolyseur, des tanks temporaires et de stockage des solutions et de cuivre métallique, des régénérateurs de liquide et de gaz pour le retourner à la deuxième phase de régénérateur de liquide. Le reste de gaz développé dans le régénérateur de liquide va être séparé en deux parties dans le séparateur de la première unité de complexation d'un complexeur, cependant la partie riche en ammoniac est retournée dans régénérateur de liquide, de préférence dans la troisième à la cinquième phase de régénération et la deuxième partie faible en ammoniac, plus l'extraction de régénérateur de gaz sont menés vers la condensateur. La partie séparée riche en ammoniac est transférée au régénérateur de gaz, la deuxième partie pauvre en ammoniac va aller au neutralisateur interne pour la formation de carbonate d'ammonium et puis l'excès d'air dans le système sera évacué après le passage par le neutralisateur externe.
D'autres avantages, caractéristiques et détails de l'invention résultent de la description selon d'exemples préférentiels, ainsi que sur la base des schémas ; celles-ci montre dans
Figure la une vue supérieure schématique d'une machine pour le traitement de la solution de gravure pour fabriquer des cartes imprimées avec le cercle de solution ;
Figure Ib une vue schématique d'une machine pour le traitement des cartes imprimées suite figure la dans laquelle inclus cycle de gaz et le cycle de rinçage présentés supplémentaire ;
Suite figure la dans une machine de gravure 1 des cartes imprimées 2 sont pulvérisées par des buses de pulvérisation 3 avec une solution de procédé 4, en particulier avec une solution de gravure 4, au quelle la solution de solution de gravure utilisée 4, respectivement la solution de procédé utilisée 4 est collectée dans un tank 5 de la machine de gravure 1. A cette occasion la solution de procédé 4 peut se composer des solutions différentes et contient de préférence Carbonate d'ammonium, Carbonate de cuivre, phosphate, ammoniac, Sulfate d'Ammonium et Nikel d'ammonium et d'eau.
Le tank de collection 5 de la machine de gravure 1 est combiné avec une première phase de régénération 9a d'un régénérateur de liquide 9 par une conduite 13.
D'une zone d'embouchure de première phase de régénération 9a de régénérateur de liquide 9, une petite quantité de solution de gravure respectivement de solution de procédé utilisée 4, en préférence 1% à 10% de partie de volume peut être dosé dans 1' électrolyseur 20 par la conduite 17, si souhaité. Là dedans le cuivre métallique est récupéré de la solution de procédé 4 par électrolyse, ainsi que ce métal peut être stocké temporairement dans un tank non représenté ici, attendant l'exploitation ci après. Après la solution de procédé traitée 4 arrive par une conduite 22 à un tank de stockage intermédiaire 23 d'où elle est ajoutée par une autre conduite 24 de préférence à la deuxième phase de régénération 9 b de régénérateur de liquide 9. de cette façon, la solution de procédé utilisée 4 de la machine de gravure 1 peut directement mener au régénérateur de liquide 9 et après le traitement dans toutes les phases de régénération 9a au 9e arrive à la première unité de complexation 10a d'un complexeur 10 par la conduite 25 et ensuite arrive par la conduite 26 à la deuxième unité de complexation d'un complexeur 10. par la conduite 12 de cette deuxième unité de complexation 10b, les buses de pulvérisation de machine de gravure 1 vont être alimentées avec une solution de gravure 4 complètement , largement et suffisamment traitées. La première unité de complexation 10a de complexeur 10 qui est divisée en deux unités 10a et 10b dans laquelle la solution de procédé 4, respectivement la solution de gravure passe en cascade une première chambre 60 de l'unité de complexation 10a pour déboucher dans une deuxième chambre 61 de préférence en bas à la conduite 26, et affluer dans la deuxième unité de complexation 10b.
La particularité de la deuxième chambre 61 est l'unité de séparation 62 prévue dans le secteur supérieure, pour la séparation de NH3. A cette occasion, la mixture de gaz de même que la partie basse de gaz d'ammoniac NH3 peuvent être séparés en différentes fractions et ce en fraction avec une haute et une autre avec une basse concentration de NH3. Les détails vont être présentés ci dessous
Une autre particularité de l'invention disponible est l'installation de régénérateur de liquide 9, qui est divisé en cinq phases de régénération 9a à 9e. venant de la machine de gravure 1 , toute la solution de gravure utilisée 4 arrive dans la première phase de régénération 9a où elle est divisée en deux fractions l'une avec un petit volume de préférence entre 1% et 10% passe par la conduite 17 dans l' électrolyse 20.
Le reste 90% jusqu'à 99% de solution de gravure 4 est guidé en cascade par la première phase de régénération 9a et arrive à la deuxième phase de régénération 9b. dans cette phase de régénération 9 b un séparateur de goutte 63 est installé de préférence dans la zone supérieure, qui sépare dans le régénérateur de liquide, en particulier la gaz de liquide existant, dans le phase de régénération 9b respectivement sèche la mixture des gaz. De ce point, la solution de procédé 4 passe par une cascade verticale, comme montré dans figure la, pour arriver à la troisième phase de régénération 9c pour traverser des cascades horizontales pour arriver en passant par une cascade verticale à la quatrième phase de régénération 9d, pour passer dans la zone inférieure des cascades horizontales suite à cela arrive par une autre cascade verticale dans la dernière phase de régénération 9e et d'arriver finalement, après avoir traversé plusieurs cascades horizontales par la conduite 25 au complexeur 10.
A cette occasion, il est installé de préférence dans les 3 dernières phases de régénération 9c, 9d, et 9e, chaque fois de préférence dans les cascades horizontales des agitateurs (sans explication détaillées) pour mélanger les solutions de procédé à chaque phase de régénération, et augmenter suite à cela le temps de séjour à chaque phase de régénération 9c, 9d, et 9e en combinaison avec les cascades horizontales.
Dans l'exemple préférentiel de l'exécution d'invention disponible selon figure Ib, les cycles d'air et gaz, aussi les volumes dans le système ainsi que les cycles de solution de rinçage ou bien l'eau de système de recyclage sont présentées.
A une machine de gravure 1, il se trouve suite à la zone de pulvérisation, respectivement aux buses de pulvérisation 3, une zone de rinçage. Dans la zone de rinçage 64, les cartes imprimées 2 sont rincées avec une solution de nettoyage, composée d'eau en général.
A cette occasion, la solution de nettoyage, respectivement, la solution qui a été en contact avec les cartes imprimées 2 sont collectées dans une cascade de rinçage 65 et puis passent par une conduite 66 dans un régénérateur de gaz 8, en particulier, dans une chambre de lavage 8a. le régénérateur de gaz 8 se compose d'une chambre de lavage 8a et d'une cellule de lavage 8b communiquant .
En correspondance à la première cascade de rince 65 il se trouve une autre cascade de rince 67. cette cascade de rince 67 collecte d'autres solutions de rinçage supplémentaires en particulier l'eau de rinçage résultant du nettoyage effectué pendant le procédé et passe celle-ci par une conduite 68 au tank d'osmose 69.
Dans le tank d'osmose 69, la solution de nettoyage, en particulier l'eau est séparée et divisée dans une fraction propre et une fraction boueuse. La fraction d'eau propre du tank d' osmose retourne directement à la zone de rinçage par la conduite 70, de préférence à la deuxième cascade de rinçage pour refaire le rinçage. La fraction boueuse, créée dans le tank d'osmose 69 est menée par une conduite 71 à la cellule de lavage 8b et après à la cellule de lavage 8b d'un régénérateur de gaz
De la chambre de lavage 8a du régénérateur de gaz 8 d'eau traité et enrichie par ammoniac arrive par la conduite 72 dans régénérateur de liquide 9, en particulier dans la deuxième phase de régénération 9b.
A l'invention disponible, il était prouvé particulièrement favorable d'aspirer l'air d'échappement de la machine de gravure 1, le module de gravure et la zone de rinçage 64, ainsi que l' électrolyseur 20 et les tanks de système 23, de préférence avec un injecteur par la conduite 45 et de le rendre à la solution de gravure 4 dans une deuxième phase de régénération 9b du régénérateur de liquide 9. A cette occasion il était prouvé particulièrement favorable d'ajouter l'air d'échappement, même contaminé avec une grande quantité d'ammoniac au séparateur de goutte 63 pour séparer le gaz des parties liquides. Dans le séparateur de goutte 63, l'ammoniac, l'air et l'oxygène tous séchés sont collectés et retournés à la deuxième phase de régénération 9b de régénérateur de liquide 9 à la solution de procédé 4. A cette occasion la solution de procédé 4 peut être enrichie dans la deuxième phase de régénération 9b avec de l'ammoniac de telle manière que la solution de procédé 4 dans la deuxième phase de régénération 9b reçoit une partie d' ammoniac plus élevée.
Encore de plus l'air, de préférence une mixture d'ammoniac, oxygène et d'air de première phase de régénération 9a de régénérateur de liquide 9 est aspirée par une conduite d'air d'échappement 34 et alimenter à l'unité de complexation 10b d'un complexeur 10.
Encore de plus de la dernière phase de régénération 9e un mélange d'ammoniac et d'air est aspiré par la conduite l'air d'échappement 35 et alimenter à la chambre 60 d'unité de complexation 10a.
Dans la chambre 60 de l'unité de complexation 10a, la solution de procédé 4 qui est enrichie avec l'air et l'ammoniac, s'écoule à travers une cascade verticale et puis arrive à la deuxième chambre 61. à la deuxième chambre 61, le mélange d'ammoniac et d'air est divisé par une unité de séparation 62 dans une fraction avec une concentration d'ammoniac très élevée d'environ 60% à 90% de préférence 80% d'ammoniac, qui est alimenté par la conduite d'air d'échappement 36 de préférence dans la troisième, quatrième et cinquième phase de régénération 9c, 9d et 9e. Ce mélange de gaz avec une concentration d'ammoniac très élevé de préférence 80% sert à l'enrichissement d'ammoniac de solution de procédé 4 dans les phases de régénération 9 c, 9d et 9e. Les cascades verticales installées dans les phases de régénération 9c, 9d et 9e qui augmentent le temps de séjour dans cette zone là et une circulation bien élevée par des agitateurs, il se forme un bon mélange et un enrichissement de la solution de procédé 4 avec l'ammoniac
La fraction d'air d'échappement restante avec une concentration d'ammoniac faible de 5% à 25%, de préférence 20%, arrive par une autre conduite d'air d'échappement 37 de l'unité de séparation 62 de chambre 61 de l'unité de complexation 10a au condensateur 29. la tâche du condensateur 29 est de séparer respectivement diviser d'ammoniac (NH3) et l'air. A cette occasion une séparation a lieu d'une fraction avec une basse concentration d'ammoniac (NH3) par une conduite d'air d'échappement 38 dans un neutralisateur interne 28. De ce neutralisateur interne 28 le mélange de gaz avec une faible concentration d' ammoniac restante arrive par une conduite d' ait d'échappement 39 à un neutralisateur externe 27 et sera après une séparation et division d'ammoniac complet évacué à l'environnement. Dans le neutralisateur interne 28 et dans le neutralisateur externe 27 le faible restant d'ammoniac sera totalement séparé et divisé de l'air.
La partie respectivement la fraction de mélange avec une concentration d'ammoniac supérieur, produit dans le condensateur 29, est mené par une autre conduite d'air d'échappement 40 au régénérateur de gaz 8, en particulier à la chambre de lavage 8a. A cette occasion le mélange de gaz produit en particulier dans la chambre de lavage 8b sera séparé, cependant un mélange de gaz avec une concentration d' ammoniac sera mené par une conduite d'air d'échappement 41 au complexeur 10, en particulier l'unité de complexation 10b, le gaz riche en ammoniac de régénérateur de gaz 8, respectivement sa chambre de lavage 8b sera ajoutée à l'aide d'un injecteur par exemple à la solution de procédé 4 et celle-ci enrichie avec l'ammoniac. De cette façon la solution de procédé 4 reçoit un enrichissement complète de NH3 pour une complexation totale puis retourne aux buses de machine de gravure. Donc exactement cette haute partie d'ammoniac produit au régénérateur de gaz 8 est nécessaire pour une complexation totale de la solution de procédé 4 par l'enrichissement de la solution de procédé 4 avec l'ammoniac.
La partie respectivement la fraction de mélange avec une concentration d'ammoniac faible, produit dans le régénérateur de gaz 8, en particulier dans sa chambre de lavage 8b, sera retournée au condensateur 29 par une autre conduite d'air d'échappement 42. De cette façon le circuit de gaz, en particulier le circuit d'ammoniac est totalement fermé. Sauf en cas d'un problème mécanique ou un défaut dans l'utilisation des machines en général, l'ammoniac ne sera pas évacuer à l'extérieur ni de gaz d'ammoniac supplémentaire doit être ajouté. Le même est valable pour les circuits de solution des procédés et l'eau de rinçage de la zone de rinçage.

Claims

REVENDICATIONS
1. Procédé pour traiter des cartes imprimées (2) avec une solution de procédé (4), en particulier une solution de gravure dans une machine de gravure (1), dans laquelle des cartes imprimées (2) sont pulvérisées avec une solution de procédé (4) en particulier une solution de gravure, cependant un régénérateur de liquide (9) sera connecté avec la machine de gravure (1) le cas échéant avec un électrolyseur (20) supplémentaire,
Caractérisé de cette façon,
Que la solution de procédé (4), en particulier la solution de gravure traverse un complexeur avec une ou plusieurs phases et finalement sera retournée à la machine de gravure (1) pour la réutilisation à la gravure des cartes imprimées.
2. procédé pour traiter des cartes imprimées (2) avec une solution de procédé (4), en particulier une solution de gravure dans une machine de gravure (1) , dans quelle des cartes imprimées (2) sont pulvérisées avec une solution de procédé (4), en particulier une solution de gravure, cependant un régénérateur de liquide (9) sera connecté avec une machine de gravure (1) le cas échéant avec un électrolyseur (20) supplémentaire, caractérisé de cette façon que la solution de gravure est menée à la première phase de régénération (9a) d'un régénérateur de liquide (9), où elle est divisée en fractions, qui d'un côté arrive à l' électrolyseur (20) et l'autre côté traverse les différentes phases de régénération (9a à 9e ) d'un régénérateur liquide (9).
3. Procédé selon revendication 2, caractérisé de cette façon, q'une faible partie de solution de procédé (4) de la première phase de régénération (9a) du régénérateur de liquide (9) de 1% à 9% est mené à l' électrolyse (20) d'où elle arrive direct ou par un tank (23) une deuxième phase de régénération (9b) de régénérateur de liquide (9).
4. Procédé selon revendication 2 ou 3, caractérisé de cette façon, que dans la deuxième phase de régénération (9b) de régénérateur de liquide (9) la solution de procédé (4) du tank (23) - et la solution du procédé (4) de la première phase de régénération (9a) traversent complètement une deuxième phase de régénération (9b) avec un séparateur de goutte (63) installé au-dessus et ensuite elles passent par les différentes phases de régénération (9c, 9d et 9e) de régénérateur de liquide (9) avec nombreux cascade verticales et horizontales et arrive au complexeur (10).
5. Procédé pour traiter des cartes imprimées (2) avec une
Solution de procédé (4), en particulier une solution de gravure dans une machine de gravure (1), dans laquelle des cartes imprimés (2) sont pulvérisées avec une solution de procédé (4), en particulier une solution de gravure, cependant un régénérateur de liquide (9) sera connecté avec la machine de gravure (1) le cas échéant avec un électrolyseur (20) supplémentaire, caractérisé de cette façon, qu'un mélange d'air d'échappement, se compose d'ammoniac, d'air et d'oxygène de la machine de gravure, en particulier de la zone de gravure et de la zone de rinçage (64) ainsi que l' électrolyseur (20) et le tank (23) sont collectés et alimentés à une deuxième phase de régénération (9b) de régénérateur de liquide (9).
6. Procédé selon revendication 5, caractérisé de cette façon, que d'air d'échappement dans la deuxième phase de régénération (9b) de régénérateur de liquide (9) est séparé à l'aide d'un séparateur de goutte (63) et en générale l'ammoniac est ajouté au solution de procédé (4) à la première phase de régénération (9b) à l'aide des inj ecteurs .
7. Procédé selon au moins revendication 1 à 6, caractérisé de cette façon, que l'air d'échappement, en Particulier avec des parties d' ammoniac de la première phase de régénération (9a) de régénérateur de liquide (9) et alimenté à l'unité de complexation (10b) d'un complexeur (10).
8. Procédé selon au moins revendication 1 à 7, caractérisé de cette façon, que l'air d'échappement, en particulier un mélange d' ammoniac et d' air de la dernière phase de régénération (9e) de régénérateur de liquide (9) et alimenté à une première chambre (60) d'une première unité de complexation (10a) de complexeur (10) et la solution de procédé (4) est enrichie avec l'ammoniac.
9. Procédé selon revendication 8, caractérisé de cette façon, qu'une partie de la fraction d'air d'échappement de la deuxième chambre (61) d'unité de complexation (10a) et alimenté par une unité de séparation (62) au moins à une des dernières ou à toutes les trois dernières phases de régénération (9c et /ou 9d et/ou 9e ) de régénérateur de liquide (9), cependant une partie restante d'air d' échappement avec une faible concentration d' ammoniac et alimentée au condensateur (29) .
10. Procédé selon revendication 9, caractérisé de cette façon, que dans le condensateur (29) une fraction d'air d'échappement avec une faible concentration d'ammoniac entre au neutralisateur interne (28) et puis un neutralisateur externe (27) au cours de laquelle l'ammoniac est séparé totalement, seulement un mélange d'air et/ou oxygène est évacué à l'environnement
11. Procédé selon revendication 10, caractérisé de cette façon, qu'une autre fraction de l'air d'échappement de condensateur (29), contient une partie plus élevé d'ammoniac et alimenté au régénérateur de gaz (8), en particulier au chambre de lavage (8a), pour enrichir l'eau déversée la dedans, qui est enrichie avec ammoniac et solution de gravure, avec d'ammoniac supplémentaire.
12. Procédé selon au moins revendication 1 à 11, caractérisé de cette façon, qu'en particulier d'une chambre de lavage (8b) une fraction d'air d'échappement avec une faible partie d'ammoniac est séparée et alimentée au condensateur ( 29 ) .
13. Procédé selon au moins revendication 1 à 12, caractérisé de cette façon, que d'une chambre de lavage (8b) de régénération de gaz (8) une fraction d'air d'échappement avec une partie d' ammoniac élevé est séparée et alimentée pour la complexation de solution de procédé (4), en particulier de la solution de gravure au complexeur (10), en particulier à la dernière unité de complexation (10b) .
14. Procédé pour traiter des cartes imprimées (2) avec une solution de procédé (4), en particulier une solution de gravure dans la machine de gravure (1), dans laquelle des cartes imprimés (2) sont pulvérisées avec une solution de procédé (4), en particulier une solution de gravure, cependant un régénérateur de liquide (9) sera connecté avec la machine de gravure (1) le cas échéant avec un électrolyseur (20) supplémentaire, caractérisé de cette façon, qu'une fraction d'air d'échappement avec une partie de NH3 plus élevé d'un régénérateur de gaz (8) et alimenté à un complexeur (10) , en particulier à une unité de complexation (10b) pour' l'enrichissement de la solution de procédé (4), en particulier de la solution de gravure avec l'ammoniac, cependant l'ammoniac séparée au régénérateur de gaz (8) en général vient d'eau respectivement d'eau utilisé de la zone de rinçage de la machine de gravure (1) .
15. Procédé pour traiter des cartes imprimés (2) avec une solution de procédé (4), en particulier une solution de gravure dans une machine de gravure (1), dans laquelle des cartes imprimés (2) sont pulvérisées avec une solution de gravure, cependant un générateur de liquide (9) sera connecté avec la machine de gravure (1) le cas échéant avec un électrolyseur (20) supplémentaire, caractérisé de cette façon, que le mélange d'eau produite dans une zone de rinçage (64) de la machine de gravure (1) ainsi que de solution de gravure utilisée avec des parties d'ammoniac est collectée et menée totalement ou partiellement à un régénérateur de gaz pour la séparation d'ammoniac.
16. Procédé selon revendication 15, caractérisé de cette façon, que la solution produite dans la cascade de rinçage (65) de la zone de rinçage (64) est alimenté au régénérateur de gaz (8) .
17. Procédé selon revendication 15 ou 16, caractérisé de cette façon, que la solution produite dans la cascade de rinçage (67) est mené à un tank d'osmoses (69) et une quantité de solution nettoyée, le condensât, est rendu à la zone de rinçage (64), en particulier à la cascade de rinçage (67) .
18. Procédé selon revendication 17, caractérisé de cette façon, que la solution de nettoyage boueuse, le concentrât, restant au tank d'osmoses (69) et mené au régénérateur de gaz (8), au cours de laquelle une séparation d'ammoniac supplémentaire ait lieu dans cette partie.
19. Procédé selon au moins revendication 15 à 18, caractérisé de cette façon, que la solution enrichie d'ammoniac dans le régénérateur de gaz (8), en particulier dans la chambre de lavage (8a), en particulier la solution procédé (4) est menée à la deuxième phase de régénération (9b) de régénération de liquide (9) .
20. Système pour le traitement des cartes imprimés avec une solution de procédé (4), en particulier une solution de gravure dans une machine de gravure (1) , dans laquelle des cartes imprimées (2) sont pulvérisées par la solution de procédé (4), en particulier avec la solution de gravure, au cours de laquelle à la machine de gravure est connectée un régénérateur de liquide (9), caractérisé de cette façon, qu'au régénérateur de liquide (9) se joindre au moins un complexeur (10), dans laquelle la solution de procédé (4), en particulier la solution de gravure peut être enrichie avec l'ammoniac.
21. Système selon revendication 20, caractérisé de cette façon, que le complexeur (10) présente une unité de complexation (10a) et une unité de complexation (10b) .
22. Système selon revendication 20 ou 21, caractérisé de cette façon, que l'unité de complexeur (10a) et divisée en une chambre (60) et en une chambre (61), cependant à la chambre (61) une unité de séparation (62) est installée et par une conduite d'air d'échappement (36) la fraction d'air d'échappement, contenir une partie d'ammoniac élevé est alimentée à la dernière et/ou aux dernières phases de régénération (9c, 9d, 9e ), cependant par une conduite d'air d'échappement (27) la fraction d'air d'échappement, contient une partie d'ammoniac faible peut être mené à un condensateur (29) .
23. Procédé selon au moins revendication 20 à 22, caractérisé de cette façon, que dans l'unité de complexation (10b) de complexeur (10) l'air d'échappement, en particulier un mélange d'air et une partie de NH3 de la première phase de régénération (9a) du régénérateur de liquide (9) par une conduite d'air d'échappement (34) au complexeur (10), en particulier l'unité de complexation (10b) peut être ajouté d' un côté et une fraction d' air d' échappement avec une partie d'ammoniac élevé de régénérateur de gaz (8) en particulier de la chambre de lavage (8b) de complexeur (10) en particulier l'unité de complexation (10b) peut être ajouté de l'autre côté.
24. Système pour le traitement des cartes imprimés avec une solution de procédé (4), en particulier une solution de gravure dans une machine de gravure (1) , dans laquelle des cartes imprimés (2) sont pulvérisées par la solution de procédé (4), en particulier avec la solution de gravure, cependant à la machine de gravure un régénérateur de liquide est connecté, caractérisé de cette façon, que de solution produite en particulier dans une zone de rinçage (64) de la machine de gravure (1) peut être mené direct et/ou indirecte à un régénérateur de gaz (8), pour séparer une fraction d'air d'échappement avec une partie élevé d'ammoniac, cependant la fraction d' air d' échappement avec une partie élevé d'ammoniac peut être mené à un complexeur (10) installé après un régénérateur (9) pour l'enrichissement et complexation d'une solution de procédé (4).
25. système selon revendication 24, caractérisé de cette façon que d'une première cascade de rince (65) de la zone de rinçage (64) de la solution peut être alimentée par une conduite (66) au régénérateur de la gaz (8) , en particulier à sa chambre de lavage (8a) .
26. Système selon revendication 24 ou 25, caractérisé de cette façon, que d'une zone de rinçage (64), en particulier de la zone de cascade de rince (67) de solution de rinçage peut être mené par une conduite (68) à un tank d'osmoses
(69), cependant une partie nettoyée de la solution, le condensât, en particulier d'eau du tank d'osmoses (69) peut être rendu par une conduite (70) au zone de rinçage (64), en particulier la cascade de rinçage (67) et une partie de solution de nettoyage restant, boueuse, le concentrât, peut être mené par une conduite (71) au régénérateur de gaz (8), en particulier à la chambre de lavage (8b) d'un régénérateur de gaz (8), dans laquelle une séparation d'ammoniac s'effectue.
27. Régénérateur de liquide pour le traitement de la solution de procédé 4, en particulière de solution de gravure pour le traitement des cartes imprimés (2) dans une machine de gravure (1), caractérisé de cette façon, que le régénérateur de liquide se compose des plusieurs phases de régénération (9a à 9e) .
28. Régénérateur de liquide selon revendication 27, caractérisé de cette façon, qu'au moins dans une phase de régénération (9b à 9e) au minimum un séparateur de goutte (63) est installé.
29. Régénérateur de liquide selon revendication 28, caractérisé de cette façon, que le séparateur de goutte (63) est installé dans la deuxième phase de régénération (9b), et d'un mélange d'air d'échappement contenir d'ammoniac, d'air et d'oxygène sépare la solution, cependant le mélange d'air d'échappement de solution de procédé (4), en particulier de solution de gravure peut être mené à la deuxième phase de régénération (9b).
30. Régénérateur de liquide selon au moins une des revendications 27 à 29, caractérisé de cette façon, que dans une majorité des phases de régénération (9b, 9d, 9e), une majorité des cascades horizontales des agitateurs est prévue .
31. régénérateur de liquide selon au moins une des revendication 27 à 30, caractérisé de cette façon que dans la zone des cascades horizontales des agitateurs sont prévues.
32. Régénérateur de liquide selon au moins une des revendications 27 à 31, caractérisé de cette façon, qu'à une première phase de régénération (9a) de régénérateur de liquide (9) un électrolyseur (20) le cas échéant avec un tank suivant (23) est connectable.
33. Régénérateur de liquide selon au moins une des revendications 27 à 32, caractérisé de cette façon, qu'une solution de procédé (4), en particulier une solution de gravure dans la première phase de régénération (9a) de régénérateur de liquide (9) est séparable dans une partie d'une fraction pour l'alimentation vers l' électrolyseur (20) et une autre partie de fraction pour l'alimentation aux phases de régénération de (9b à 9e) .
34. Régénérateur de liquide selon revendication 33, caractérisé de cette façon, qu'une petite partie de solution de procédé (4) de la phase de régénération (9a) est alimentable au l' électrolyseur (20), cependant une partie essentiellement plus importante de solution de procédé (4) passe en même temps les phases de régénération (9b à 9e) .
35. Régénérateur de liquide selon au moins une des revendication 27 à 34, caractérisé de cette façon, qu'aux dernières phases de régénération (9c et/ou 9d et/ou 9e) de régénérateur de liquide (9) un mélange d'air d'échappement, consiste d'une partie élevé d'ammoniac, d'air et d'oxygène, descendue de complexeur (10) , est retournable au-dessous des cascades .
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Families Citing this family (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP2927347A1 (fr) * 2014-04-01 2015-10-07 Sigma Engineering Ab Oxydation de cuivre dans une solution d'attaque de cuivre par l'utilisation d'oxygène et/ou de l'air comme agent oxydant
CN111644036A (zh) * 2020-05-28 2020-09-11 深圳市祺鑫环保科技有限公司 酸性蚀刻电解提铜系统中尾气的处理方法及其处理系统

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE3738022A1 (de) * 1987-11-09 1989-05-18 Holzer Walter Verfahren zur regenerierung von alkalischen aetzmitteln und vorrichtungen zur ausuebung des verfahrens
DE3936363A1 (de) * 1989-11-02 1991-05-08 Hoellmueller Maschbau H Verfahren zum aetzen von gegenstaenden sowie aetzanlage
EP0448870A1 (fr) * 1990-03-21 1991-10-02 Macdermid Incorporated Système et procédé pour décaper à l'aide de solutions de décapage alcalines et ammoniacales et leur régénération
EP0459928A1 (fr) * 1990-05-31 1991-12-04 Anjou Recherche (Groupement D'interet Economique Dit:) Installation pour le traitement de flux de liquides à contacteur monophasique, et dispositifrecirculateur-dégazeur pour une telle installation

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE3738022A1 (de) * 1987-11-09 1989-05-18 Holzer Walter Verfahren zur regenerierung von alkalischen aetzmitteln und vorrichtungen zur ausuebung des verfahrens
DE3936363A1 (de) * 1989-11-02 1991-05-08 Hoellmueller Maschbau H Verfahren zum aetzen von gegenstaenden sowie aetzanlage
EP0448870A1 (fr) * 1990-03-21 1991-10-02 Macdermid Incorporated Système et procédé pour décaper à l'aide de solutions de décapage alcalines et ammoniacales et leur régénération
EP0459928A1 (fr) * 1990-05-31 1991-12-04 Anjou Recherche (Groupement D'interet Economique Dit:) Installation pour le traitement de flux de liquides à contacteur monophasique, et dispositifrecirculateur-dégazeur pour une telle installation

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