DE3908835A1 - Photographisches silberhalogenidmaterial - Google Patents
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Description
Die Erfindung betrifft ein photographisches Silberhalogenidmaterial
und ein Verfahren zur Erzeugung eines Negativbildes
mit superhohem Kontrast unter Verwendung desselben; sie betrifft
insbesondere ein photographisches Silberhalogenidmaterial
für die Verwendung in einer Photogravüre-Stufe, sie
betrifft speziell ein photographisches Material vom negativen
Typ mit superhohem Kontrast, das geeignet ist für die
Verwendung als photographisches Material vom Tageslicht-Typ
bzw. Raumlicht-Typ (bright room-type).
Es besteht ein Bedarf nach einem Bilderzeugungssystem mit
photographischen Eigenschaften, die einen superhohen Kontrast
(insbesondere einen Gamma-Wert von 10 oder mehr) aufweisen,
für die Wiedergabe eines kontinuierlich abgestuften
Bildes durch ein Punktbild oder für die Verbesserung der
Wiedergabe eines Strichbildes auf dem Gebiet der Graphik.
Als Verfahren zur Erzielung photographischer Eigenschaften
mit einem hohen Kontrast unter Verwendung stabiler Entwicklerlösungen
sind bereits Verfahren bekannt, in denen Hydrazinderivate
verwendet werden, wie sie in den US-PS 42 24 401,
41 68 977, 41 66 742, 43 11 781, 42 72 606, 42 21 857,
42 69 922, 46 50 746 und 46 81 836 beschrieben sind. Bei
diesen Verfahren können photographische Eigenschaften erzielt
werden, die einen superhohen Kontrast und eine hohe Empfindlichkeit
aufweisen und bei denen hochkonzentriertes Sulfit
der Entwicklerlösung zugesetzt werden kann, so daß die Stabilität
der Entwicklerlösung gegen Luftoxidation stark verbessert
werden kann, verglichen mit einer Lith-Entwicklerlösung.
Mit diesem Bilderzeugungssystem ist es jedoch schwierig, ein
photographisches Material vom Tageslicht-Typ (Raumlicht-Typ)
mit niedriger Empfindlichkeit herzustellen, wie es in großem
Umfange in der Kontaktarbeitsstufe bei der Plattenherstellung
verwendet wird, obgleich dieses System für ein kontrastreiches
System mit einer sehr hohen Empfindlichkeit geeignet
ist.
Ein photographisches Material vom Tageslicht- bzw. Raumlicht-
Typ, das einen hohen Kontrast und eine geringe Empfindlichkeit
aufweist und unter Verwendung einer stabilen Behandlungslösung
erhalten wird, ist in der US-PS 44 52 882 beschrieben. Verfahren
zur Herstellung von photographischen Materialien vom Tageslicht-Typ
(Raumlicht-Typ), die Hydrazin enthalten und eine
geringe Empfindlichkeit aufweisen, sind in JP-A-60-162 246,
JP-A-60-140 338 und JP-A-61-238 049 beschrieben (die hier verwendete
Abkürzung "JP-A" steht für eine "ungeprüfte publizierte
japanische Patentanmeldung"). Diese Verfahren sind jedoch
unbefriedigend in bezug auf die geringe Empfindlichkeit und
die Erhöhung des Kontrasts. Silberhalogenidemulsionen, die
eine Hydrazinverbindung und ein Rhodiumsalz enthalten, sind
in den US-PS 43 32 878, 46 34 661 und 46 18 574 und in
EP-A-1 38 200 beschrieben. Diese Emulsionen sind jedoch für
photographische Materialien vom Tageslicht- bzw. Raumlicht-
Typ mit niedriger Empfindlichkeit ungeeignet.
Photographische Silberhalogoenidmaterialien zur Erzielung von
Eigenschaften mit einem hohen Kontrast, in denen eine Emulsion
verwendet wird, die eine große Menge einer Rhodium- und
einer Hydrazinverbindung mit einer adsorbierenden Gruppe enthält,
sind in den japanischen Patentanmeldungen 62-65 116,
62-123 015 und 62-204 342 beschrieben. Bei diesen photographischen
Silberhalogenidmaterialien tritt jedoch das Problem auf,
daß dann, wenn sie über einen langen Zeitraum (insbesondere
unter Hochtemperaturbedingungen und niedrigen Feuchtigkeitsbedingungen)
gelagert werden, ein Schleier auftritt, obgleich
sie ausgezeichnete Eigenschaften in bezug auf die Erhöhung
des Kontrasts aufweisen.
Verfahren zur Verhinderung der Schleierzunahme während
der Langzeitlagerung einer Silberhalogenidemulsion sind in
JP-A-49-69 124, JP-A-52-11 029, JP-A-53-137 133,
JP-A-58-194 029, JP-A-59-191 031, JP-A-60-136 740 und
JP-A-62-55 644 beschrieben. Bei diesen Verfahren tritt jedoch
eine Abnahme des Gamma-Wertes (γ) insbesondere in einem
Hydrazin-Infektionsentwicklungssystem auf.
Es besteht daher eine hohe Nachfrage nach einem stabilen
photographischen Silberhalogenidmaterial, bei dem auch bei
der Lagerung über einen langen Zeitraum hinweg keine Zunahme
des Schleiers und keine Abnahme des Gamma-Wertes (γ)
auftritt.
Photographische Silberhalogenidmaterialien, die Thiosulfinsäure
enthalten, sind in den US-PS 23 94 198 und 30 47 393
und in JP-B-58-30 571 und JP-B-58-27 486 beschrieben (die
hier verwendete Abkürzung "JP-B" steht für eine "geprüfte
japanische Patentpublikation").
Unter dem hier verwendeten Ausdruck "lichtempfindliches Material
vom Tageslicht-Typ bzw. Raumlicht-Typ" ist ein photographisches
Material zu verstehen, das die gefahrlose Verwendung
von Licht mit einer Wellenlänge von im wesentlichen
mindestens 400 nm, das keine Ultraviolett-Komponente enthält,
als Sicherheitslicht über einen langen Zeitraum hinweg erlaubt.
Ziel der vorliegenden Erfindung ist es daher, ein photographisches
Material vom Tageslicht- bzw. Raumlicht-Typ zur Verfügung
zu stellen, das einen hohen Kontrast ergibt durch Verwendung
einer Hydrazinverbindung. Ziel der Erfindung ist es ferner,
ein photographisches Material vom Tageslicht- bzw. Raumlicht-
Typ zur Verfügung zu stellen, bei dem selbst bei der
Lagerung über einen langen Zeitraum hinweg (insbesondere unter
Hochtemperaturbedingungen und niedrigen Feuchtigkeitsbedingungen)
kaum ein Anstieg des Schleiers auftritt.
Die obengenannten Ziele werden erfindungsgemäß erreicht mit
einem photographischen Silberhalogenidmaterial, insbesondere
einem photographischen Silberhalogenidmaterial vom negativen
Typ mit einem superhohen Kontrast, das gekennzeichnet ist
durch einen Träger und mindestens eine darauf aufgebrachte
empfindliche Silberhalogenidemulsionsschicht, die Silberhalogenidkörnchen
mit einem Silberchloridgehalt von mindestens
90 Mol-% und ein Rhodiumsalz in einer Menge von mindestens
1×10-6 Mol pro Mol Silber enthält, wobei diese Emulsionsschicht
oder eine andere hydrophile Kolloidschicht ein Hydrazinderivat
und mindestens eine Verbindung enthält, die ausgewählt
wird aus der Gruppe, die besteht aus Verbindungen der
nachstehend angegebenen allgemeinen Formeln (A), (B) und (C):
worin bedeuten:
Z eine Alkylgruppe mit 1 bis 18 Kohlenstoffatomen (vorzugsweise eine solche mit 1 bis 10 Kohlenstoffatomen), eine Arylgruppe mit 6 bis 18 Kohlenstoffatomen oder eine heterocyclische Gruppe;
Y einen aromatischen Ring mit 6 bis 18 Kohlenstoffatomen oder eine Atomgruppe, die für die Bildung eines heterocyclischen Ringes erforderlich ist;
M ein Metallatom oder ein organisches Kation und
n eine ganze Zahl von 2 bis 10.
Z eine Alkylgruppe mit 1 bis 18 Kohlenstoffatomen (vorzugsweise eine solche mit 1 bis 10 Kohlenstoffatomen), eine Arylgruppe mit 6 bis 18 Kohlenstoffatomen oder eine heterocyclische Gruppe;
Y einen aromatischen Ring mit 6 bis 18 Kohlenstoffatomen oder eine Atomgruppe, die für die Bildung eines heterocyclischen Ringes erforderlich ist;
M ein Metallatom oder ein organisches Kation und
n eine ganze Zahl von 2 bis 10.
Die Verbindungen der vorstehend angegebenen allgemeinen Formeln
(A), (B) und (C) werden nachstehend näher erläutert.
Die Alkylgruppe, die Arylgruppe, die heterocyclische Gruppe,
der aromatische Ring und der heterocyclische Ring, die durch
die Reste Z und Y in den Formeln (A), (B) und (C) dargestellt
werden, können gegebenenfalls substituiert sein.
Zu Beispielen für geeignete Substituenten gehören eine niedere
Alkylgruppe (z. B. Methyl, Ethyl), eine Arylgruppe (z. B.
Phenyl), eine Alkoxygruppe mit 1 bis 8 Kohlenstoffatomen,
ein Halogenatom (z. B. Chlor), eine Nitrogruppe, eine Aminogruppe
und eine Carboxylgruppe.
Zu Beispielen für den durch Z und Y dargestellten heterocyclischen
Ring gehören Thiazol, Benzthiazol, Imidazol, Benzimidazol,
Oxazol u. dgl.
Bevorzugte Beispiele für das durch M dargestellte Metallatom
sind Alkalimetallatome (wie das Natriumion, Kaliumion u. dgl.)
und organische Kationen (wie z. B. das Ammoniumion, die
Guanidingruppe u. dgl.).
Zu Beispielen für die durch die Formeln (A), (B) und (C) dargestellten
Verbindungen gehören die folgenden:
Die Verbindungen der allgemeinen Formeln (A), (B) und (C) können
allgemein unter Anwendung beliebiger konventioneller Methoden
synthetisiert werden.
Diese Verbindungen können beispielsweise synthetisiert werden
durch Umsetzung des entsprechenden Sulfonylchlorids mit Natriumsulfid
oder durch Umsetzung des Natriumsalzes der entsprechenden
Sulfinsäure mit Schwefel. Diese Verbindungen sind
im Handel erhältlich.
Die Verbindungen der Formel (A), (B) oder (C) werden in einer
Menge von 1×10-5 bis 1×10-2 Mol, vorzugsweise von
5×10-5 bis 1×10-3 Mol pro Mol Silberhalogenid verwendet.
Die Verbindungen werden während der Bildung der Körnchen
oder während der chemischen Reifung oder unmittelbar vor
dem Beschichten zugesetzt.
Als Hydrazinderivate, die erfindungsgemäß verwendet werden
können, sind Verbindungen der allgemeinen Formel (I) bevorzugt:
In der obigen Formel (I) steht A₁ für eine aliphatische
Gruppe oder eine aromatische Gruppe und besonders bevorzugt
für eine Arylgruppe oder eine ungesättigte heterocyclische
Gruppe.
Die Arylgruppe und die ungesättigte heterocyclische Gruppe,
die durch A₁ in der Formel (I) dargestellt wird, kann beliebige
Substituenten aufweisen. Zu Beispielen für geeignete
Substituenten gehören eine geradkettige, verzweigtkettige
oder cyclische Alkylgruppe (vorzugsweise eine solche mit 1
bis 20 Kohlenstoffatomen); eine Aralkylgruppe (vorzugsweise
eine Aralkylgruppe, in der der Alkylrest ein monocyclischer
Ring mit 1 bis 3 Kohlenstoffatomen oder ein bicyclischer Ring
ist); eine Alkoxygruppe (vorzugsweise eine solche mit 1 bis
20 Kohlenstoffatomen); eine substituierte Aminogruppe (vorzugsweise
eine Aminogruppe, die durch eine Alkylgruppe mit
1 bis 20 Kohlenstoffatomen substituiert ist); eine Acylaminogruppe
(vorzugsweise eine solche mit 2 bis 30 Kohlenstoffatomen);
eine Sulfonamidogruppe (vorzugsweise eine solche mit 1
bis 30 Kohlenstoffatomen); eine Ureidogruppe (vorzugsweise
eine solche mit 1 bis 30 Kohlenstoffatomen).
A₁ in der Formel (I) kann auch eine Ballastgruppe aufweisen,
die in der Regel als unbewegliches Additiv für photographische
Kuppler verwendet wird. Die Ballastgruppe ist eine
Gruppe mit nicht weniger als 8 Kohlenstoffatomen, die gegenüber
den photographischen Eigenschaften inaktiv ist. Zu Beispielen
für geeignete inaktive Gruppen gehören eine Alkylgruppe,
eine Alkoxygruppe, eine Phenylgruppe, eine Alkylphenylgruppe,
eine Phenoxygruppe und eine Alkylphenoxygruppe.
Außerdem kann A₁ in der Formel (I) eine adsorbierende Gruppe
enthalten, die an der Oberfläche der Silberhalogenidkörnchen
fest adsorbiert weren kann. Zu Beispielen für geeignete adsorbierende
Gruppen gehören Gruppen, wie z. B. eine Thioharnstoffgruppe,
eine heterocyclische Thioamidgruppe, eine mercaptoheterocyclische
Gruppe, eine Triazolgruppe u. dgl.,
wie sie in den US-PS 43 85 108, 44 59 347, in JP-A-59-195 233,
JP-A-59-200 231, JP-A-59-201 045, JP-A-59-201 046,
JP-A-59-201 047, JP-A-59-201 048, JP-A-59-201 049,
JP-A-60-179 734, JP-A-61-170 733 und in der japanischen Patentanmeldung
60-19 739 beschrieben sind.
B in der Formel (I) steht für eine Formylgruppe; eine Acylgruppe
(wie z. B. Acetyl, Propionyl, Trifluoroacetyl, Chloroacetyl,
Benzoyl, 4-Chlorobenzoyl, Pyruvoyl, Methoxalyl, Methyloxamoyl),
eine Alkylsulfonylgruppe (wie z. B. Methansulfonyl,
2-Chloroethansulfonyl), eine Arylsulfonylgruppe
(z. B. Benzolsulfonyl), eine Alkylsulfonylgruppe (z. B. Methansulfinyl),
eine Arylsulfonylgruppe (z. B. Benzolsulfinyl),
eine Carbamoylgruppe (z. B. Methylcarbamoyl, Phenylcarbamoyl),
eine Sulfamoylgruppe (z. B. Dimethylsulfamoyl), eine Alkoxycarbonylgruppe
(z. B. Methoxycarbonyl), Methoxyethoxycarbonyl),
eine Aryloxycarbonylgruppe (z. B. Phenoxycarbonyl), eine Sulfinamoylgruppe
(z. B. Methylsulfinamoyl), eine Alkoxysulfonylgruppe
(z. B. Methoxysulfonyl, Ethoxysulfonyl), eine Thioacylgruppe
(z. B. Methylthiocarbonyl), eine Thiocarbamoylgruppe
(z. B. Methylthiocarbamoyl), eine Carbamoylcarbonylgruppe, eine
Oxycarbonylcarbonylgruppe oder eine heterocyclische Gruppe,
wobei unter diesen Gruppen eine Formylgruppe und eine Acylgruppe
besonders bevorzugt sind.
Sowohl R₀ als auch R₁ in der Formel (I) stehen für ein Wasserstoffatom
oder einer der Reste R₀ und R₁ steht für ein
Wasserstoffatom und der andere steht für eine substituierte
oder unsubstituierte Alkylsulfonylgruppe, eine substituierte
oder unsubstituierte Arylsulfonylgruppe oder eine substituierte
oder unsubstituierte Acylgruppe.
B, R₁ und das Stickstoffatom, an das B und R₁ gebunden sind,
können gegebenenfalls eine Partialstruktur -N=C der Hydrazinverbindung
bilden.
Zu Beispielen für geeignete Verbindungen der Formel (I) gehören
die nachstehend angegebenen Verbindungen, die vorliegende
Erfindung ist jedoch keineswegs auf diese Verbindungen
beschränkt:
Die Hydrazinderivate, die erfindungsgemäß verwendet werden
können und von denjenigen der vorstehend beschriebenen Derivate
verschieden sind, umfassen solche, wie sie in "Research
Disclosure", RD 23 516, Seite 346 (November 1983) und den
darin angezogenen Literaturstellen, in den US-PS 40 80 207,
42 69 929, 42 76 364, 42 78 748, 43 85 108, 44 59 347,
45 60 638 und 44 78 928, in der GB-PS 20 11 391B und in
JP-A-60-179 734 beschrieben sind.
Vorzugsweise wird die Verbindung der Formel (I) der Silberhalogenidemulsionsschicht
des erfindungsgemäßen photographischen
Materials einverleibt. Gewünschtenfalls kann die Verbindung
einer unempfindlichen hydrophilen Kolloidschicht,
die von der Emulsionsschicht verschieden ist (beispielsweise
einer Schutzschicht, einer Zwischenschicht, einer Filterschicht,
einer Antihalationsschicht u. dgl.), einverleibt
werden.
Wenn die zu verwendende Verbindung wasserlöslich ist, wird
sie in Form einer wäßrigen Lösung einer hydrophilen Kolloidlösung
zugesetzt. Wenn die Verbindung in Wasser schwerlöslich
ist, wird sie in Form einer Lösung derselben in einem
organischen Lösungsmittel, beispielsweise einem Alkohol,
einem Ester oder einem Keton, der (das) mit Wasser mischbar
ist, zugegeben. Wenn die Verbindung der Silberhalogenidemulsionsschicht
zugegeben wird, kann sie in jeder beliebigen
Stufe ab dem Beginn der chemischen Reifung bis zum Zeitpunkt
vor dem Beschichten zugegeben werden. Vorzugsweise wird sie
nach Beendigung der chemischen Alterung, jedoch vor dem Beschichten
zugegeben. Besonders bevorzugt wird sie einer Beschichtungslösung
zugesetzt, die für die Durchführung der
Beschichtung hergestellt worden ist.
Zweckmäßig ist der Gehalt an der Verbindung der Formel (I)
die optimale Menge, die in Abhängigkeit von der Korngröße
der Silberhalogenidemulsion, der Halogenzusammensetzung,
der Methode und dem Grad der chemischen Sensibilisierung,
der Beziehung zwischen der Silberhalogenidemulsionsschicht
und der anderen Schicht, in welche die Verbindung einverleibt
werden soll, dem Typ der Antiverschleierungsverbindung
u. dgl. ausgewählt wird. Testverfahren zur Bestimmung
der Menge der Verbindung sind dem Fachmann auf diesem Gebiet
bekannt. Im allgemeinen wird die Verbindung in einer Menge
von generell 10-6 bis 10-1 Mol, vorzugsweise von 10-5 bis
4×10-2 Mol pro Mol Silberhalogenid verwendet.
Die Silberhalogenidemulsion des erfindungsgemäßen photographischen
Materials enthält ein Silberhalogenid, das im
allgemeinen zu 90 Mol-% oder mehr, vorzugsweise zu 95 Mol-%
oder mehr, aus Silberchlorid und Silberchloridbromid oder
Silberchloridjodidbromid, das 0 bis 10 Mol-% Silberbromid
enthält, besteht. Wenn der Anteil an Silberbromid oder Silberjodid
erhöht wird, nimmt die Sicherheit des Sicherheitslichts
in einem hellen Raum (bei Tageslicht) ab oder der
Gamma-Wert sinkt. Daher ist eine Erhöhung des Anteils an
Silberbromid oder Silberjodid nicht bevorzugt.
Zur Einarbeitung eines Rhodiumatoms kann Rhodium in Form
eines Metallsalzes, wie z. B. eines einfachen Salzes oder
eines komplexen Salzes, während der Herstellung der Körnchen
zugegeben werden.
Zu Beispielen für geeignete Rhodiumsalze gehören Rhodiummonochlorid,
Rhodiumdichlorid, Rhodiumtrichlorid, das Ammoniumsalz
von Hexachlorrhodium u. dgl. Unter ihnen sind die Halogenkomplexverbindungen
von wasserlöslichem Rhodium(III), wie
Hexachlororhodiumsäure(III) und ihre Salze (wie z. B. das
Ammoniumsalz, das Natriumsalz, das Kaliumsalz), bevorzugt.
Das wasserlösliche Rhodiumsalz wird in einer Menge von vorzugsweise
1,0×10-6 bis 1,0×10-3 Mol, insbesondere von 1,0
×10-5 bis 1,0×10-3 Mol, besonders bevorzugt von 5,0×10-5
bis 5,0×10-4 Mol pro Mol Silberhalogenid verwendet.
Wenn die Menge des Rhodiumsalzes mehr als 10-3 Mol beträgt,
ist es unmöglich, einen ausreichend hohen Kontrast zu erzielen,
während dann, wenn die Menge des Rhodiumsalzes weniger
als 10-6 Mol beträgt, die für ein photographisches Material
von Raumlicht-Typ bzw. Tageslicht-Typ erforderliche niedrige
Empfindlichkeit nicht erzielt werden kann.
Vorzugsweise handelt es sich bei dem erfindungsgemäß verwendeten
Silberhalogenid um ein Silberhalogenid vom Kern/Hüllen-
Typ. Bevorzugt ist insbesondere ein Silberhalogenid vom
Kern/Hüllen-Typ, bei dem die Hülle einen höheren Rhodiumgehalt
aufweist als der Kern. Das wasserlösliche Rhodiumsalz
wird vorzugsweise den Silberhalogenidkörnchen einverleibt
durch Zugabe des Rhodiumsalzes zu einem wasserlöslichen
Silbersalz oder einer wasserlöslichen Halogenidverbindung,
wenn das wasserlösliche Silbersalz und das Halogenid unter
Anwendung des Doppelstrahlverfahrens miteinander umgesetzt
werden (wenn das Silbersalz und das Halogenid miteinander
gemischt werden). Alternativ wird das Rhodiumsalz in Form
einer dritten Lösung beim Vermischen des Silbersalzes mit
der Halogenidverbindung verwendet und die Silberhalogenidkörnchen
können unter Anwendung eines Verfahrens
hergestellt werden, bei dem die drei Lösungen gleichzeitig
miteinander gemischt werden.
Die Korngröße der erfindungsgemäß verwendeten Silberhalogenidemulsion
beträgt vorzugsweise 0,15 µm oder weniger und
eine feinkörnige Emulsion mit einer Korngröße von 0,12 µm
oder weniger ist besonders bevorzugt. Gute Ergebnisse können
erhalten werden durch Herstellung von feinen Silberhalogenidkörnchen
gemäß der vorliegenden Erfindung unter solchen
Mischbedingungen, daß die Reaktionstemperatur nicht höher
als 50°C, vorzugsweise nicht höher als 40°C, insbesondere
nicht höher als 30°C ist, das Silberpotential im allgemeinen
100 mV oder mehr, vorzugsweise 150 bis 400 mV beträgt,
der pH-Wert im allgemeinen 3 bis 8, vorzugsweise 5 bis 7 beträgt,
bei einer derart hohen Rührgeschwindigkeit, daß ein
gleichmäßiges Mischen erzielt wird. Da feine Silberhalogenidkörnchen
eine gute Löslichkeit aufweisen, besteht die Möglichkeit,
daß während der Stufe des Waschens mit Wasser und während
der Dispergierstufe ein Kornwachstum auftritt. Die Herstellung
derselben erfolgt daher bei einer Temperatur von
nicht höher als 35°C oder man kann dafür sorgen, daß gleichzeitig
eine Verbindung, die das Wachstum der Körnchen hemmt,
wie z. B. eine Nukleinsäure, eine Mercaptoverbindung oder eine
Tetraazaindenverbindung, vorliegt. Obgleich im Prinzip
keine Beschränkung in bezug auf die Korngrößenverteilung
besteht, ist ein monodisperses System bevorzugt.
Unter dem hier verwendeten Ausdruck "monodispers" ist ein
System zu verstehen, das Körnchen umfaßt, von denen mindestens
95% (ausgedrückt durch das Gewicht oder die Anzahl
der Körnchen) eine Korngröße im Bereich der mittleren Korngröße
± 40%, vorzugsweise im Bereich der mittleren Korngröße
± 20%, aufweisen.
Die Gestalt der erfindungsgemäß verwendeten Silberhalogenidkörnchen
ist vorzugsweise eine reguläre Kristallform, wie
z. B. ein Würfel oder ein Octaeder. Die Gestalt eines Würfels
ist besonders bevorzugt.
Gewünschtenfalls kann zusätzlich zu dem Rhodiumsalz gleichzeitig
ein Cadmiumsalz, ein Bleisalz, ein Thalliumsalz oder
ein Iridiumsalz vorliegen.
Die erfindungsgemäß verwendete Silberhalogenidemulsion kann
einer chemischen Sensibilisierung unterworfen werden oder
sie kann keiner chemischen Sensibilisierung unterworfen werden.
Als chemische Sensibilisierung der Silberhalogenidemulsion
sind bekannt eine Schwefelsensibilisierung, eine Reduktionssensibilisierung
und eine Edelmetallsensibilisierung.
Diese Sensibilisierungsverfahren können entweder einzeln
oder in Form einer Kombination derselben angewendet werden.
Ein typisches Beispiel für die Edelmetallsensibilisierung
ist eine Goldsensibilisierung, bei der eine Goldverbindung,
insbesondere ein Metallkomplexsalz, verwendet wird. Die Goldverbindung
kann ein Komplexsalz eines anderen Edelmetalls,
wie z. B. von Platin, Palladium, Iridium u. dgl., enthalten.
Beispiele für eine geeignete Goldsensibilisierung sind in
der US-PS 24 48 060 und in der GB-PS 6 18 061 beschrieben.
Zu Beispielen für geeignete Schwefelsensibilisierungsmitteln
gehören Schwefelverbindungen, die in Gelatine enthalten
sind, sowie verschiedene Schwefelverbindungen, wie Thiosulfate,
Thioharnstoffe, Thiazole, Rhodanin u. dgl.
Zu Beispielen für geeignete Reduktionssensibilisierungsmitteln
gehören Zinn(II)salze, Amine, Formamidinsulfinsäure und
Silanverbindungen.
Das erfindungsgemäße photographische Silberhalogenidmaterial
kann einen organischen Desensibilisator enthalten. Organische
Desensibilisatoren, die mindestens eine wasserlösliche
Gruppe oder eine in Alkali dissoziierende Gruppe aufweisen,
sind bevorzugt.
Die erfindungsgemäß verwendeten organischen Desensibilisatoren
werden vorgeschrieben durch die polarographische Halbwelle,
d. h. das Oxidations-Reduktions-Potential, das durch
Polarographie bestimmt wird, und dabei handelt es sich um
solche, bei denen die Summe aus dem polarographischen Anodenpotential
und dem Kathodenpotential positiv ist. Ein Verfahren
zur Messung des Oxidations-Reduktions-Potentials
durch Polarographie ist beispielsweise in der US-PS 35 01 307
beschrieben. Wie oben angegeben, weisen die organischen Desensibilisatoren
mindestens eine wasserlösliche Gruppe auf. Zu
Beispielen für die geeignete wasserlösliche Gruppe gehören
die Sulfogruppe, die Carboxylgruppe und die Phosphonsäuregruppe.
Diese wasserlöslichen Gruppen können in Form eines
Salzes mit einer organischen Base (wie Ammoniak, Pyridin,
Triethylamin, Piperidin, Morpholin) oder einem Alkalimetall
(wie Natrium, Kalium) vorliegen.
Der hier verwendete Ausdruck "in Alkali dissoziierende Gruppe"
steht für eine Substituentengruppe, die bei einem pH-
Wert der Entwicklerlösung (im allgemeinen in dem pH-Wertbereich
von 9 bis 13, es gibt aber auch Entwicklerlösungen
mit einem pH-Wert außerhalb des vorgenannten pH-Wertbereiches)
oder bei einem niedrigeren pH-Wert (d. h. in dem pH-
Wertbereich von 9 oder weniger) einer Protonenentfernungsreaktion
unterliegt und in ein Anion umgewandelt wird. Die
in Alkali dissoziierende Gruppe bezieht sich insbesondere
auf einen Substituenten mit mindestens einem Wasserstoffatom,
das an ein Stickstoffatom gebunden ist, und einer Hydroxylgruppe.
Zu Beispielen für die in Alkali dissozierende Gruppe
gehören substituierte oder unsubstituierte Sulfamoylgruppen,
substituierte oder unsubstituierte Carbamoylgruppen,
substituierte oder unsubstituierte Sulfonamidogruppen, Acylaminogruppen,
substituierte oder unsubstituierte Ureidogruppen
und Hydroxylgruppen.
Heterocyclische Gruppen mit einem oder mehreren Wasserstoffatomen,
die an ein Stickstoffatom gebunden sind, das Teil
des heterocyclischen Ringes eines Stickstoff enthaltenden
heterocyclischen Ringes ist, gehören ebenfalls zu der in
Alkali dissoziierenden Gruppe.
Die wasserlösliche Gruppe und die in Alkali dissoziierende
Gruppe können an irgendeinen beliebigen Rest des organischen
Desensibilisators gebunden sein. Der Desensibilisator kann
zwei oder mehr wasserlösliche Gruppen und in Alkali dissoziierende
Gruppen aufweisen.
Bevorzugte Beispiele für die organischen Desensibilisatoren,
die erfindungsgemäß verwendet werden können, sind in JP-A-
63-64 039 beschrieben. Geeignete Beispiele sind die folgenden
Verbindungen:
Der organische Desensibilisator wird in einer Menge von vorzugsweise
1,0×10-8 bis 1,0×10-4 Mol/m², insbesondere von
1,0×10-7 bis 1,0×10-5 Mol/m², in der Silberhalogenidemulsionsschicht
verwendet.
Die Emulsionsschicht oder eine andere hydrophile Kolloidschicht
kann gemäß der vorliegenden Erfindung einen wasserlöslichen
Farbstoff zusammen mit der Verbindung der Formel
(I) enthalten zum Zwecke der Vewendung des wasserlöslichen
Farbstoffes als Filterfarbstoff oder zur Verhinderung einer
Bestrahlung oder aus verschiedenen anderen Gründen. Als Filterfarbstoff
können verwendet werden Farbstoffe zur Herabsetzung
der photographischen Empfindlichkeit; UV-Licht-Absorber
mit einer maximalen spektralen Absorption im Bereich
der spezifischen Empfindlichkeit des Silberhalogenids; und
Farbstoffe, die eine Lichtabsorption im Bereich von überwiegend
350 bis 600 nm aufweisen, zur Erhöhung der Sicherheit
des photographischen Materials gegenüber Sicherheitslicht
bei der Handhabung desselben in Form eines photographischen
Materials vom Tageslicht-Typ bzw. Raumlicht-Typ.
Die Menge, in der der Farbstoff verwendet werden soll, variiert
in Abhängigkeit vom molaren Extinktionskoeffizienten des
Farbstoffes, sie liegt jedoch im allgemeinen in dem Bereich
von 10-2 bis 1 g/m², vorzugsweise von 10 bis 100 mg/m².
Beispiele für diese Farbstoffe sind in JP-A-63-64 039 angegeben.
Typische Beispiele dafür sind die folgenden Verbindungen:
Der Farbstoff wird in Wasser oder in einem geeigneten
Lösungsmittel (z. B. in Methanol, Ethanol, Propanol, Aceton,
Methylcellosolve oder einer Mischung davon) gelöst, und die
resultierende Lösung wird einer Beschichtungslösung zur Herstellung
der unempfindlichen hydrophilen Kolloidschicht gemäß
der vorliegenden Erfindung zugegeben.
Zweckmäßig kann Gelatine als Bindemittel oder Schutzkolloid
für die photographische Emulsion verwendet werden. Zu Beispielen
für andere hydrophile Kolloide, die erfindungsgemäß
verwendet werden können, gehören Protein, wie z. B. Gelatinederivate,
Propfpolymere von Gelatine mit hochmolekularen Verbindungen,
Albumin und Kasein; Cellulosederivate, wie Hydroxyethylcellulose,
Carboxymethylcellulose und Cellulosesulfat;
Natriumalginat; Saccharidderivate, wie Stärkederivate; synthetische
hydrophile Materialien, wie Polyvinylalkohol, Polyvinylalkoholpartialacetal,
Poly-N-vinylpyrrolidon, Polyacrylsäure,
Polymethacrylsäure, Polyacrylamid, Polyvinylimidazol,
Polyvinylpyrazol und Copolymere von Monomeren für die
obengenannten Homopolymeren.
Zu Beispielen für eine verwendbare Gelatine gehören säurebehandelte
Gelatine und kalkbehandelte Gelatine sowie ein
Gelatinehydrolysat und ein enzymatisches Gelatinehydrolysat.
Zu Beispielen für Träger, die für das erfindungsgemäße photographische
Material verwendet werden können, gehören solche
aus Cellulosetriacetat, Cellulosediacetat, Nitrocellulose,
Polystyrol, Polyethylenterephthalat, Papier, Barytpapier und
mit Polyolefin beschichtetes Papier.
Als Entwicklungsbeschleuniger oder Beschleuniger für die
Keimbildungsinfektionsentwicklung, die für die erfindungsgemäße
Verwendung geeignet sind, können Verbindungen, wie
sie in JP-A-53-77 616, JP-A-54-37 732, JP-A-53-137 133,
JP-A-60-140 340 und JP-A-60-14 959 beschrieben sind, sowie
Verbindungen mit einem Stickstoff- oder Schwefelatom, wirksam
verwendet werden.
Typische Beispiele für solche Verbindungen sind die folgenden
Verbindungen:
Die optimalen Mengen für diese Beschleuniger variieren in
Abhängigkeit vom Typ der Verbindungen, sie werden jedoch im allgemeinen
in einer Menge in dem Bereich von 1,0×10-3 bis
0,5 g/m², vorzugsweise von 5,0×10-3 bis 0,1 g/m², verwendet.
Diese Beschleuniger werden in einem geeigneten Lösungsmittel
(z. B. in Wasser, Alkohol, wie Methanol oder Ethanol, Aceton,
Dimethylformamid, Methylcellosolve) gelöst, und die resultierende
Lösung wird einer Beschichtungslösung zugesetzt. Diese
Zusätze können entweder einzeln oder in Form einer Mischung
von zwei oder mehr derselben verwendet werden.
Das erfindungsgemäße photographische Material kann Sensibilisierungsfarbstoffe
mit einer maximalen Absorption im Bereich
des sichtbaren Lichtes (wie z. B. Cyaninfarbstoffe,
Merocyaninfarbstoffe), wie sie in JP-A-55-52 050 (Seiten 45
bis 53) beschrieben sind, zum Zwecke der Erhöhung der Empfindlichkeit
enthalten. Vorzugsweise wird jedoch kein Sensibilisierungsfarbstoff
zugegeben.
Diese Sensibilisierungsfarbstoffe können entweder einzeln oder
in Form einer Kombination derselben verwendet werden. Die Kombinationen
derselben werden häufig zum Zwecke der Supersensibilisierung
verwendet. Zusätzlich zu dem Sensibilisierungsfarbstoff
kann ein Farbstroff, der selbst keine spektrale Sensibilisierungsaktivität
aufweist, oder eine Substanz, die im
wesentlichen kein sichtbares Licht absorbiert, jedoch eine
Supersensibilisierungsaktivität aufweist, der Emulsion einverleibt
werden.
Kombinationen von Sensibilisierungsfarbstoffen mit Farbstoffen,
die eine Supersensibilisierung aufweisen, und Substanzen,
die eine Supersensibilisierung aufweisen, sind in "Research
Disclosure", Nr. 17 643, Band 176, Item IV-J, auf Seite 23
(Dezember 1978) beschrieben.
Zusätzlich zu den Thiosulfinsäureverbindungen der vorliegenden
Erfindung können verschiedene Verbindungen dem erfindungsgemäßen
photographischen Material einverleibt werden
zum Zwecke der Verhinderung einer Schleierbildung, die während
der Herstellungsstufe und während der Lagerung oder
während der photographischen Behandlung bzw. Entwicklung
auftritt, oder zum Zwecke der Stabilisierung der photographischen
Eigenschaften. So können beispielsweise Verbindungen,
die als Antischleiermittel oder Stabilisatoren fungieren,
verwendet werden. Zu Beispielen für solche Verbindungen,
die erfindungsgemäß verwendet werden können, gehören
Azole, wie Benzothiazoliumsalze, Nitroindazole, Chlorobenzimidazole,
Bromobenzimidazole, Mercaptothiazole, Mercaptobenzothiazole,
Mercaptothiadiazole, Aminotriazole, Benzothiazole
und Nitrobenzotriazole; Mercaptopyrimidine, Mercaptotriazine;
Thioketonverbindungen, wie Oxazolinthion;
Azaindene, wie Triazaindene, Tetraazaindene (insbesondere
4-Hydroxy-substituierte (1,3,3,a,7)-Tetraazaindene) und Pentaazaindene;
und Benzolthiosulfonsäure, Benzolsulfinsäure
und Benzolsulfonamid.
Die photographische Emulsionsschicht und eine andere hydrophile
Kolloidschicht des erfindungsgemäßen photographischen
Materials kann anorganische oder organische Härter enthalten.
Zu Beispielen für geeignete Härter gehören Chromsalze
(wie Chromalaun, Chromacetat), Aldehyde (wie Formaldehyd,
Glyoxal, Glutaraldehyd), N-Methylolverbindungen (wie Dimethylolharnstoff,
Methyloldimethylhydantoin), Dioxanderivate
(wie 2,3-Dihydroxydioxan), aktive Vinylverbindungen
(wie 1,3,5-Triacryloyl-hexahydro-s-triazin, 1,3-Vinylsulfonyl-
2-propanol), aktive Halogenverbindungen (wie 2,4-Dichloro-
6-hydroxy-s-triazin) und Mucohalogensäuren (wie Mucochlorsäure,
Mucophenoxychlorsäure). Diese Agentien können entweder
einzeln oder in Form einer Kombination von zwei oder
mehr derselben verwendet werden.
Die photographische Emulsionsschicht oder eine andere hydrophile
Kolloidschicht des erfindungsgemäßen photographischen Materials
kann ein Beschichtungshilfsmittel und verschiedene oberflächenaktive
Agentien zum Zwecke der Verleihung antistatischer
Eigenschaften und zur Verbesserung der Gleiteigenschaften, der
Verbesserung der Emulsionsdispersion und der photographischen
Eigenschaften (wie z. B. zur Beschleunigung der Entwicklung,
zur Erhöhung des Kontrasts, zur Sensibilisierung) oder zum
Zwecke der Verhinderung einer Adhäsion enthalten.
Zu Beispielen für geeignete oberflächenaktive Agentien gehören
nicht-ionische oberflächenaktive Agentien, wie Saponin
(Steroid), Alkylenoxidderivate (wie Polyethylenglycol, ein
Kondensat von Polyethylenglycol mit Polypropylenglycol,
Polyethylenglycolalkyläther oder Polyethylenglycolalkylaryläther,
Polyethylenglycolester, Polyethylenglycolsorbitanester,
Polyalkylenglycolalkylamine oder Polyalkylenglycolalkylamide
und Addukte von Polyethylenoxidaddukten von
Silikon), Glycidolderivate (wie Alkenylbernsteinsäurepolyglycerid,
Alkylphenolpolyglycerid), Ester von Polyhydroxyalkoholen
mit Fettsäuren und Alkylester von Saccharose; anionische
oberflächenaktive Agentien mit einer Säuregruppe,
wie z. B. einer Carboxygruppe, Sulfogruppe, Phosphorgruppe,
Schwefelsäureestergruppe oder Phosphorsäureestergruppe, wie
z. B. Salze von Alkylcarbonsäuren, Salze von Alkylsulfonsäuren,
Salze von Alkylbenzolsulfonsäuren, Salze von Alkylnaphthalinsulfonsäuren,
Alkylschwefelsäureester, Alkylphosphorsäureester,
N-Acyl-N-alkyltaurine, Sulfobernsteinsäureester,
Sulfoalkylpolyoxyethylenalkylphenyläther und Polyoxyethylenalkylphosphate;
ampholytische oberflächenaktive
Agentien, wie z. B. Aminosäuren, Aminoalkylsulfonsäuren,
Aminoialkylschwefelsäure- oder Aminoalkylphosphorsäureester, Alkylbetaine
und Aminoxide; und kationische oberflächenaktive
Agentien, wie z. B. Alkylaminsalze, aliphatische oder aromatische
quaternäre Ammoniumsalze, heterocyclische quaternäre
Ammoniumsalze (wie z. B. Pyridiniumsalze, Imidazoliumsalze)
und aliphatische oder heterocyclische Phosphonium- oder Sulfoniumsalze.
Besonders bevorzugte oberflächenaktive Agentien, die erfindungsgemäß
verwendet werden können, sind Polyalkylenoxide
mit einem Molekulargewicht von nicht weniger als 600, wie
in JP-B-58-9412 beschrieben.
Vorzugsweise werden Fluor enthaltende oberflächenaktive
Agentien, wie sie in JP-A-60-80 849 beschrieben sind, verwendet
zum Zwecke der Verleihung von antistatischen Eigenschaften.
Die photographische Emulsionsschicht und eine andere hydrophile
Kolloidschicht des erfindungsgemäßen photographischen
Materials kann Hydrochinonderivate, die während der Entwicklung
in Abhängigkeit von der Bilddichte ein Entwicklungsbeschränkungsmittel
(d. h. einen Entwicklungsinhibitor) freisetzen
(ein sogenanntes DIR-Hydrochinon) enthalten.
Zu Beispielen für geeignete Hydrochinonderivate gehören die
Verbindungen, wie sie in den US-PS 33 79 529, 36 20 746,
43 77 634 und 43 32 878, in JP-A-49-129 536, JP-A-54-67 419,
JP-A-56-153 336, JP-A-56-153 342, JP-A-61-156 043,
JP-A-60-233 642, JP-A-60-233 648 und JP-A-61-18 946 beschrieben
sind.
Die photographische Emulsionsschicht und eine andere hydrophile
Kolloidschicht des erfindungsgemäßen photographischen Materials
kann ein Mattierungsmittel, wie z. B. Siliciumdioxid,
Magnesiumoxid und Polymethylmethacrylat, zum Zwecke der Verhinderung
einer Adhäsion enthalten.
Das erfindungsgemäße lichtempfindliche Material kann zur Stabilisierung
seiner Abmessungen eine Dispersion eines in Wasser
unlöslichen oder schwerlöslichen synthetischen Polymeren
enthalten. Zu Beispielen für geeignete Polymere gehören
Alkyl(meth)acrylate, Alkoxyalkyl(meth)acrylate, Glycidyl(meth)acrylat
und Copolymere von Acrylsäure oder (Meth)acrylsäure
und den obengenannten Verbindungen. Diese Polymeren
können entweder einzeln oder in Form einer Kombination
derselben verwendet werden.
Vorzugsweise enthält (enthalten) die Silberhalogenidemulsionsschicht
und andere Schichten des erfindungsgemäßen lichtempfindlichen
Materials eine Verbindung mit einem Säurerest.
Zu Beispielen für geeignete Verbindungen mit einem Säurerest
gehören Polymere und Copolymere mit wiederkehrenden Einheiten,
die aus einem Säuremonomeren, wie Acrylsäure, Maleinsäure und
Phthalsäure, und organischen Säuren, wie Salicylsäure, Essigsäure
und Ascorbinsäure, aufgebaut sind. Diese Verbindungen
sind in JP-A-61-223 834, JP-A-61-228 437, JP-A-62-25 745 und
JP-A-62-55 642 näher beschrieben. Unter diesen Verbindungen
besonders bevorzugte Verbindungen sind Ascorbinsäure als eine
Verbindung mit einem niedrigen Molekulargewicht und in Wasser
dispergierbare Latices von Copolymeren, die aus einem
Säuremonomeren, wie Acrylsäure, und einem vernetzenden Monomeren
mit zwei oder mehr ungesättigten Gruppen, wie Divinylbenzol,
bestehen, als Verbindungen mit einem hohen Molekulargewicht.
Um unter Verwendung des erfindungsgemäßen photographischen
Silberhalogenidmaterials photographische Eigenschaften mit
einem superhohen Kontrast und einer hohen Empfindlichkeit zu
erzielen, kann eine stabile Entwicklerlösung verwendet werden,
ohne daß eine konventionelle Infektionsentwicklerlösung oder
eine hochalkalische Entwicklerlösung mit einem pH-Wert von nahezu
13, wie in der US-PS 24 19 975 beschrieben, verwendet
wird.
Das erfindungsgemäße photographische Silberhalogenidmaterial
ergibt nämlich ein negatives Bild mit einem ausreichend superhohen
Kontrast durch Verwendung einer Entwicklerlösung, die
Sulfitionen als Konservierungsmittel in einer Menge von mindestens
0,15 Mol/l enthält und einen pH-Wert von 10,5 bis 12,3,
insbesondere von 11,0 bis 12,0 hat.
Obwohl in bezug auf die Entwicklerverbindungen, die den
erfindungsgemäßen Entwicklerlösungen einverleibt werden können,
keine spezielle Beschränkung besteht, ist es vom Standpunkt
der Erzielung qualitativ guter Punktbilder bevorzugt,
Dihydroxybenzole zu verwenden. Es können auch Kombinationen
von Dihydroxybenzolen mit 1-Phenyl-3-pyrazolidonen oder Kombinationen
von Dihydroxybenzolen mit p-Aminophenolen verwendet
werden.
Zu Beispielen für Dihydroxybenzol-Entwicklerverbindungen, die
erfindungsgemäß verwendet werden können, gehören Hydrochinon,
Chlorhydrochinon, Bromhydrochinon, Isopropylhydrochinon,
Methylhydrochinon, 2,3-Dichlorhydrochinon, 2,5-Dichlorhydrochinon,
2,3-Dibromhydrochinon und 2,5-Dimethylhydrochinon. Unter
diesen ist Hydrochinon besonders bevorzugt.
Zu Beispielen für Entwicklerverbindungen, die aus 1-Phenyl-
3-pyrazolidon oder Derivaten davon bestehen, gehören 1-
Phenyl-pyrazolidon, 1-Phenyl-4,4-dimethyl-3-pyrazolidon, 1-
Phenyl-4-methyl-4-hydroxymethyl-3-pyrazolidon, 1-Phenyl-4,4-
dihydroxymethyl-3-pyrazolidon, 1-Phenyl-5-methyl-3-pyrazolidon,
1-p-Aminophenyl-4,4-dimethyl-3-pyrazolidon und 1-p-Tolyl-
4,4-dimethyl-3-pyrazolidon.
Zu Beispielen für die p-Aminophenol-Entwicklerverbindungen gehören
N-Methyl-p-aminophenol, p-Aminophenol, N-(β-Hydroxyethyl)-
p-aminophenol, N-(4-Hydroxyphenyl)glycin, 2-Methyl-p-
aminophenol und p-Benzylaminophenol. Unter ihnen ist N-Methyl-
p-aminophenol bevorzugt.
Die Entwicklerverbindung wird in einer Menge von vorzugsweise
0,05 bis 0,8 Mol/l verwendet. Wenn eine Kombination aus einem
Dihydroxybenzol und 1-Phenyl-3-pyrazolidon oder p-Aminophenol
verwendet wird, wird ersteres vorzugsweise in einer Menge von
0,05 bis 0,5 Mol/l und letzteres vorzugsweise in einer Menge
von nicht mehr als 0,06 Mol/l verwendet.
Zu Beispielen für Sulfit-Konservierungsmittel, die erfindungsgemäß
verwendet werden können, gehören Natriumsulfit,
Kaliumsulfit, Lithiumsulfit, Ammoniumsulfit, Natriumbisulfit,
Kaliummetabisulfit und Formaldehydnatriumbisulfit. Das
Sulfit wird vorzugsweise in einer Menge von nicht weniger als
0,4 Mol/l, insbesondere von nicht weniger als 0,5 Mol/l, verwendet.
Zweckmäßig sollte die obere Grenze 2,5 Mol/l betragen.
Zur Einstellung des pH-Wertes wird ein Alkali-Agens verwendet.
Zu Beispielen für geeignete Alkali-Agentien gehören p-Einstellungsmittel
und Puffermittel, wie z. B. Natriumhydroxid, Kaliumhydroxid,
Natriumcarbonat, Kaliumcarbonat, Natrium-tert-phosphat
und Kalium-tert-phosphat. Der pH-Wert der Entwicklerlösung
wird auf 10,5 bis 12,3 eingestellt.
Zu Beispielen für andere Zusätze, die zusätzlich zu den obengenannten
Komponenten verwendet werden können, gehören Verbindungen,
wie Borsäure und Borax; Entwicklungsbeschränkungsmittel
(d. h. Entwicklungsinhibitoren), wie Natriumbromid, Kaliumbromid
und Kaliumjodid; organische Lösungsmittel, wie Ethylenglycol,
Diethylenglycol, Triethylenglycol, Dimethylformamid,
Methylcellosolve, Hexylenglycol, Ethanol und Methanol; und
Antischleiermittel oder schwarze Pfefferkörner-Inhibitoren, wie
Indazolverbindungen (z. B. 5-Nitroindazol, 1-Phenyl-5-mercaptotetrazol)
und Benzotriazolverbindungen (z. B. 5-Methylbenzotriazol).
Gewünschtenfalls können ein Tönungsmittel, ein oberflächenaktives
Agens, ein Antischaummittel, ein Wasserenthärter,
ein Härter und Aminoverbindungen, wie in JP-A-56-106 244
beschrieben, gegebenenfalls verwendet werden.
Die Entwicklerlösung kann Verbindungen enthalten, wie z. B.
Silberverfärbungsinhibitoren, wie in JP-A-56-24 347 beschrieben.
Es können auch Verbindungen, wie sie in JP-A-61-267 759
beschrieben sind, als Auflösungshilfsmittel der Entwicklerlösung
zugesetzt werden. Außerdem können Verbindungen, wie sie
in JP-A-60-93 433 beschrieben sind, oder Verbindungen, wie sie
in JP-A-62-186 259 beschrieben sind, als pH-Puffermittel für
die Entwicklerlösung verwendet werden.
Als Fixiermittel können solche verwendet werden, die eine konventionelle
Zusammensetzung haben. Zu Beispielen für Fixiermittel,
die erfindungsgemäß verwendet werden können, gehören Thiosulfate
und Thiocyanate sowie bekannte organische Schwefelverbindungen,
die eine Wirkung als Fixiermittel haben. Fixierlösungen
können ein wasserlösliches Aluminiumsalz (wie z. B. Aluminiumsulfatalaun)
als Härter enthalten. Das wasserlösliche
Aluminiumsalz wird im allgemeinen in einer Menge von 0,4 bis
2,0 g Al pro l verwendet. Außerdem kann ein Komplex von Ethylendiamintetraessigsäure
mit einer Eisen(III)verbindung als
Oxidationsmittel verwendet werden.
Die Entwicklung wird im allgemeinen bei einer Temperatur von
18 bis 50°C, vorzugsweise von 25 bis 43°C, durchgeführt.
Die Erfindung wird nachstehend unter Bezugnahme auf das folgende
Beispiel näher erläutert. In diesem Beispiel wurde eine
Entwicklerlösung mit der nachstehend angegebenen Zusammensetzung
verwendet.
Entwicklerlösung | |
Hydrochinon|50,0 g | |
N-Methyl-p-aminophenol × 1/2 Sulfat | 0,3 g |
Natriumhydroxid | 18,0 g |
5-Sulfosalicylsäure | 55,0 g |
Kaliumsulfit | 110,0 g |
Dinatriummethylendiamintetraessigsäure | 1,0 g |
2-Mercaptobenzimidazol-5-sulfonsäure | 0,3 g |
Kaliumbromid | 10,0 g |
5-Methylbenzotriazol | 0,6 g |
N-Butyldiethanolamin | 15,0 g |
Natriumtoluolsulfat | 8,0 g |
Wasser, ad | 1 Liter |
(Der pH-Wert wurde durch Zugabe von Kaliumhydroxid auf 11,6
eingestellt.)
Eine wäßrige Lösung von Silbersulfat und eine wäßrige Lösung
von Natriumchlorid, die 1×10-4 Mol (NH₄)₂RhCl₆ enthielt,
wurden gleichzeitig zu einer wäßrigen Gelatinelösung,
die bei 35°C gehalten wurde, über einen Zeitraum von
10 Minuten zugegeben, wobei das Potential bei 200 mV gehalten
wurde, zur Herstellung von monodispersen kubischen Silberchloridkörnchen
mit einer mittleren Korngröße von 0,10
µm. Nachdem die löslichen Salze auf konventionelle Weise
(beispielsweise durch Ausflockung) entfernt worden waren,
wurden Gelatine und 6-Methyl-4-hydroxy-1,3,3a,7-tetraazainden
als Stabilisator zugegeben (primitive Emulsion).
Dann wurden die Verbindungen der Formeln (A) bis (C) und
die Hydrazinverbindung der Formel (I) gemäß der vorliegenden
Erfindung der Emulsion zugesetzt, wobei die jeweilige
Menge dieser Verbindungen in der nachstehenden Tabelle I angegeben
ist. Anschließend wurden ein Keimbildungsbeschleuniger
der nachstehend angegebenen Formel (1) in einer Menge
von 50 mg/m², die Hydrazinverbindung I-5 in einer Menge von
1×10-3 Mol/Mol Ag, ein Farbstoff der nachstehend angegebenen
Formel (2) in einer Menge von 30 mg/m² und 30 Gew.-%
(auf Feststoffbasis, bezogen auf die Menge der Gelatine)
Polyethylacrylat-Latex zugegeben.
Außerdem wurde 1,3-Divinyl-sulfonyl-2-propanol als Härter zugegeben.
Ein Polyesterträger wurde mit der resultierenden Beschichtungslösung
in einer solchen Menge beschichtet, daß der
Silbergehalt in der Überzugsschicht 3,8 g/m² betrug. Das Gelatine-
Beschichtungsgewicht betrug 1,8 g/m².
Die aufgebrachte Schicht wurde dann beschichtet mit der Gelatine
(1,5 g/m²), Polymethylmethacrylat mit einem Teilchendurchmesser
von 3,0 µm, Hydrochinon (50 mg/m²), Thioctinsäure
(60 mg), Natriumdodecylbenzolsulfonsäure als Beschichtungshilfsmittel,
mit den oberflächenaktiven Agentien der nachstehend
angegebenen Formeln (3) und (4) und einem Farbstoff
(75 mg/m²), der UV-Licht absorbieren kann, der nachstehend
angegebenen Formel (5) unter Bildung einer Schutzschicht.
Die so erhaltenen Proben wurden durch einen optischen Keil
(Stufenkeil) unter Verwendung eines Raumlicht-Druckers 607
(hergestellt von der Firma Dainippon Screen KK) belichtet,
20 Sekunden lang bei 38°C entwickelt, fixiert, mit Wasser
gewaschen und dann getrocknet (es wurde ein automatischer
Entwickler FG-660F verwendet.
Aus der Tabelle I ist klar zu ersehen, daß bei den erfindungsgemäßen
Proben Nr. 3 bis 8 jund 17 bis 20 kaum ein Anstieg des
Schleiers in dem Test der Lagerbeständigkeit auftritt, während
die Vergleichsproben den erfindungsgemäßen Proben in bezug auf
den Schleier (ausgedrückt durch den Anstieg des Schleiers) und
in bezug auf den Gamma-Wert (ausgedrückt durch die Abnahme des
Gamma-Wertes) unterlegen sind.
Die Erfindung wurde zwar vorstehend unter Bezugnahme auf spezifische
bevorzugte Ausführungsformen näher erläutert, es ist jedoch
für den Fachmann selbstverständlich, daß sie darauf keineswegs
beschränkt ist, sondern daß diese in vielfacher Hinsicht
abgeändert und modifiziert werden können, ohne daß dadurch der
Rahmen der vorliegenden Erfindung verlassen wird.
Claims (8)
1. Photographisches Silberhalogenidmaterial,
gekennzeichnet durch einen Träger und mindestens
eine darauf aufgebrachte empfindliche Silberhalogenidemulsionsschicht,
die Silberhalogenidkörnchen mit einem
Silberchloridgehalt von mindestens 90 mOl-% und ein
Rhodiumsalz in einer Menge von mindestens 1×10-6 Mol pro
Mol Silber enthält, wobei diese Emulsionsschicht oder eine
andere hydrophile Kolloidschicht ein Hydrazinderivat und
mindestens eine Verbindung enthält, die ausgewählt wird
aus der Gruppe, die besteht aus Verbindungen der nachstehend
angegebenen allgemeinen Formeln (A), (B) und (C):
worin bedeuten:
Z eine Alkylgruppe mit 1 bis 18 Kohlenstoffatomen, eine Arylgruppe mit 6 bis 18 Kohlenstoffatomen oder eine heterocyclische Gruppe;
Y einen aromatischen Ring mit 6 bis 18 Kohlenstoffatomen oder eine Atomgruppe, die für die Bildung eines heterocyclischen Ringes erforderlich ist;
M ein Metallatom oder ein organisches Kation, und
n eine ganze Zahl von 2 bis 10.
Z eine Alkylgruppe mit 1 bis 18 Kohlenstoffatomen, eine Arylgruppe mit 6 bis 18 Kohlenstoffatomen oder eine heterocyclische Gruppe;
Y einen aromatischen Ring mit 6 bis 18 Kohlenstoffatomen oder eine Atomgruppe, die für die Bildung eines heterocyclischen Ringes erforderlich ist;
M ein Metallatom oder ein organisches Kation, und
n eine ganze Zahl von 2 bis 10.
2. Photographisches Silberhalogenidmaterial nach Anspruch
1, dadurch gekennzeichnet, daß es mindestens eine Verbindung,
die ausgewählt wird aus der Gruppe, die besteht aus Verbindungen
der allgemeinen Formeln (A), (B) und (C), in einer Menge
von 1×10-5 bis 1×10-2 Mol pro Mol Silberhalogenid enthält.
3. Photographisches Silberhalogenidmaterial nach Anspruch
1 oder 2, dadurch gekennzeichnet, daß es als Hydrazinderivat
eine Verbindung der allgemeinen Formel (I) enthält:
worin bedeuten:
A₁ eine aliphatische Gruppe oder eine aromatische Gruppe;
B eine Formylgruppe, eine Acylgrupe, eine Alkyl- oder Arylsulfonylgruppe, eine Alkyl- oder Arylsulfinylgruppe, eine Carbamoylgruppe, eine Alkoxy- oder Arylocycarbonylgruppe, eine Sulfinamoylgruppe, eine Alkoxysulfonylgruppe, eine Thioacylgruppe, eine Thiocarbamoylgruppe, eine Sulfamoylgruppe, eine Carbamoylcarbonylgruppe, eine Oxycarbonylcarbonylgruppe oder eine heterocyclische Gruppe; und
R₀ und R₁ beide jeweils ein Wasserstoffatom oder einer der Reste R₀ und R₁ ein Wasserstoffatom und der andere eine substituierte oder unsubstituierte Alkylsulfonylgruppe, eine substituierte oder unsubstituierte Arylsulfonylgruppe oder eine substituierte oder unsubstituierte Acylgruppe.
A₁ eine aliphatische Gruppe oder eine aromatische Gruppe;
B eine Formylgruppe, eine Acylgrupe, eine Alkyl- oder Arylsulfonylgruppe, eine Alkyl- oder Arylsulfinylgruppe, eine Carbamoylgruppe, eine Alkoxy- oder Arylocycarbonylgruppe, eine Sulfinamoylgruppe, eine Alkoxysulfonylgruppe, eine Thioacylgruppe, eine Thiocarbamoylgruppe, eine Sulfamoylgruppe, eine Carbamoylcarbonylgruppe, eine Oxycarbonylcarbonylgruppe oder eine heterocyclische Gruppe; und
R₀ und R₁ beide jeweils ein Wasserstoffatom oder einer der Reste R₀ und R₁ ein Wasserstoffatom und der andere eine substituierte oder unsubstituierte Alkylsulfonylgruppe, eine substituierte oder unsubstituierte Arylsulfonylgruppe oder eine substituierte oder unsubstituierte Acylgruppe.
4. Photographisches Silberhalogenidmaterial nach Anspruch
2 oder 3, dadurch gekennzeichnet, daß es die Verbindung der
Formel (I) in einer Silberhalogenidemulsionsschicht enthält.
5. Photographisches Silberhalogenidmaterial nach einem der
Ansprüche 2 bis 4, dadurch gekennzeichnet, daß die Verbindung
der Formel (I) in einer Stufe ab Beendigung der chemischen
Alterung bis zum Beschichten zugegeben worden ist.
6. Photographisches Silberhalogenidmaterial nach einem der
Ansprüche 1 bis 5, dadurch gekennzeichnet, daß es das Hydrazinderivat
in einer Menge von 1×10-6 bis 1×10-1 Mol pro
Mol Silberhalogenid enthält.
7. Photographisches Silberhalogenidmaterial nach einem der
Ansprüche 1 bis 6, dadurch gekennzeichnet, daß es das Rhodiumsalz
in einer Menge von 1,0×10-6 bis 1,0×10-3 Mol pro Mol
Silberhalogenid enthält.
8. Photographisches Silberhalogenidmaterial nach einem der
Ansprüche 1 bis 7, dadurch gekennzeichnet, daß die Emulsionsschicht
Silberchloridbromid oder Silberchloridjodidbromid mit
einem Silberchloridgehalt von mindestens 95 Mol-% und einem
Silberbromidgehalt von 0 bis 10 Mol-% enthält.
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP63064117A JPH07119940B2 (ja) | 1988-03-17 | 1988-03-17 | ハロゲン化銀写真感光材料 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE3908835A1 true DE3908835A1 (de) | 1989-09-28 |
DE3908835C2 DE3908835C2 (de) | 1999-06-17 |
Family
ID=13248803
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE19893908835 Expired - Lifetime DE3908835C2 (de) | 1988-03-17 | 1989-03-17 | Photographisches Silberhalogenidmaterial |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH07119940B2 (de) |
DE (1) | DE3908835C2 (de) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP0578170A1 (de) * | 1992-07-07 | 1994-01-12 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Photographisches Bildverarbeitungsverfahren |
US5399479A (en) * | 1993-12-16 | 1995-03-21 | Eastman Kodak Company | Photographic element exhibiting improved speed and stability |
US5411855A (en) * | 1993-12-16 | 1995-05-02 | Eastman Kodak Company | Photographic element exhibiting improved speed and stability |
Families Citing this family (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2632052B2 (ja) * | 1989-10-06 | 1997-07-16 | 富士写真フイルム株式会社 | ハロゲン化銀写真感光材料 |
JP3023484B2 (ja) * | 1990-05-15 | 2000-03-21 | 富士写真フイルム株式会社 | ハロゲン化銀写真感光材料及びその現像処理方法 |
JP2764352B2 (ja) * | 1991-02-21 | 1998-06-11 | 富士写真フイルム株式会社 | ハロゲン化銀写真感光材料 |
JP2794254B2 (ja) * | 1992-09-04 | 1998-09-03 | 富士写真フイルム株式会社 | ハロゲン化銀写真感光材料 |
WO1995022786A1 (fr) * | 1994-02-21 | 1995-08-24 | Soken Chemical & Engineering Co., Ltd. | Materiau photosensible a base d'halogenure d'argent |
US8513878B2 (en) | 2006-09-28 | 2013-08-20 | Fujifilm Corporation | Spontaneous emission display, spontaneous emission display manufacturing method, transparent conductive film, electroluminescence device, solar cell transparent electrode, and electronic paper transparent electrode |
JP5213433B2 (ja) | 2006-12-21 | 2013-06-19 | 富士フイルム株式会社 | 導電膜およびその製造方法 |
Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US3047393A (en) * | 1960-01-11 | 1962-07-31 | Eastman Kodak Co | Esters of thiosulfonic acids as antifoggants |
US4681836A (en) * | 1983-10-13 | 1987-07-21 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Silver halide photographic material and method for forming high contrast negative image using the same |
Family Cites Families (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5827486B2 (ja) * | 1977-06-03 | 1983-06-09 | 富士写真フイルム株式会社 | ハロゲン化銀写真乳剤 |
JPS62235938A (ja) * | 1986-04-07 | 1987-10-16 | Fuji Photo Film Co Ltd | 明室用ハロゲン化銀感光材料の画像形成方法 |
JPS62258446A (ja) * | 1986-05-01 | 1987-11-10 | Fuji Photo Film Co Ltd | 明室用ハロゲン化銀写真感光材料 |
-
1988
- 1988-03-17 JP JP63064117A patent/JPH07119940B2/ja not_active Expired - Fee Related
-
1989
- 1989-03-17 DE DE19893908835 patent/DE3908835C2/de not_active Expired - Lifetime
Patent Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US3047393A (en) * | 1960-01-11 | 1962-07-31 | Eastman Kodak Co | Esters of thiosulfonic acids as antifoggants |
US4681836A (en) * | 1983-10-13 | 1987-07-21 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Silver halide photographic material and method for forming high contrast negative image using the same |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP0578170A1 (de) * | 1992-07-07 | 1994-01-12 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Photographisches Bildverarbeitungsverfahren |
US5340704A (en) * | 1992-07-07 | 1994-08-23 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Method for processing a silver halide photographic material |
US5399479A (en) * | 1993-12-16 | 1995-03-21 | Eastman Kodak Company | Photographic element exhibiting improved speed and stability |
US5411855A (en) * | 1993-12-16 | 1995-05-02 | Eastman Kodak Company | Photographic element exhibiting improved speed and stability |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
DE3908835C2 (de) | 1999-06-17 |
JPH01237538A (ja) | 1989-09-22 |
JPH07119940B2 (ja) | 1995-12-20 |
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