DE3900593C3 - Elektrolysevorrichtung - Google Patents
ElektrolysevorrichtungInfo
- Publication number
- DE3900593C3 DE3900593C3 DE3900593A DE3900593A DE3900593C3 DE 3900593 C3 DE3900593 C3 DE 3900593C3 DE 3900593 A DE3900593 A DE 3900593A DE 3900593 A DE3900593 A DE 3900593A DE 3900593 C3 DE3900593 C3 DE 3900593C3
- Authority
- DE
- Germany
- Prior art keywords
- cathode
- anode
- component
- electrolysis device
- plate
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C30—CRYSTAL GROWTH
- C30B—SINGLE-CRYSTAL GROWTH; UNIDIRECTIONAL SOLIDIFICATION OF EUTECTIC MATERIAL OR UNIDIRECTIONAL DEMIXING OF EUTECTOID MATERIAL; REFINING BY ZONE-MELTING OF MATERIAL; PRODUCTION OF A HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; SINGLE CRYSTALS OR HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; AFTER-TREATMENT OF SINGLE CRYSTALS OR A HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; APPARATUS THEREFOR
- C30B35/00—Apparatus not otherwise provided for, specially adapted for the growth, production or after-treatment of single crystals or of a homogeneous polycrystalline material with defined structure
- C30B35/002—Crucibles or containers
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B32/00—Thermal after-treatment of glass products not provided for in groups C03B19/00, C03B25/00 - C03B31/00 or C03B37/00, e.g. crystallisation, eliminating gas inclusions or other impurities; Hot-pressing vitrified, non-porous, shaped glass products
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C23/00—Other surface treatment of glass not in the form of fibres or filaments
- C03C23/009—Poling glass
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Geochemistry & Mineralogy (AREA)
- General Chemical & Material Sciences (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Thermal Sciences (AREA)
- Silicon Compounds (AREA)
- Glass Melting And Manufacturing (AREA)
- Glass Compositions (AREA)
Description
Die Erfindung betrifft eine Elektrolysevorrichtung für
ein fertiggestelltes Bauteil aus Quarzglas, mit einem Ofen und darin
angeordnetem Heizgerät zum Erwärmen des Bauteils,
mit einer Anode und mit einer Kathode und einer mit
diesen verbundenen Energiequelle zum Anlegen einer
vorbestimmten Spannung über das Bauteil für eine
Elektrolyse in dem Ofen, wenn das Bauteil zwischen der
Anode und der Kathode in Stellung gehalten ist, und mit
Mitteln zum Halten der Anode und der Kathode, damit
eine Spannung über das Bauteil angelegt werden kann.
Eine derartige Vorrichtung ist aus der DE-AS
10 11 594 bekannt. Bei einer derartigen Vorrichtung
wird ein zu elektrolysierendes Bauteil aus Quarzglas
zwischen eine Kathode und eine Anode gebracht und
auf solche Temperaturen erwärmt, daß nach Anlegen
eines Gleichstromfeldes kationische Verunreinigungen,
insbesondere alkalische Verunreinigungen nach und
nach in Richtung Kathode wandern und sich dort im
Endbereich des Bauteiles ansammeln.
Mit einer derartigen Vorrichtung kann zwar erreicht
werden, daß die in Richtung Kathode wandernden Ver
unreinigungen sich in dem Endbereich des Bauteils an
sammeln, an dem die Kathode angelegen hat, so daß die
anderen Bereiche des Bauteiles an diesen Verunreini
gungen verarmt sind, ein Entfernen der Verunreinigun
gen aus dem Bauteil ist mit dieser Vorrichtung jedoch
nicht möglich.
Aus der US-PS 47 59 787 ist eine Vorrichtung be
kannt, bei der ein als Tiegel geformtes Bauteil einer
elektrolytischen Reinigung unterzogen werden soll. Die
Kathode weist dabei etwa eine Mulde mit der Außen
kontur des Tiegels auf, so daß dieser in die Kathode
eingelegt werden kann. Dabei wird zwischen der Katho
de und dem Quarzglastiegel eine Schicht an Kohlen
stoffpulver gebracht. Der Innenraum des Tiegels wird
ebenfalls mit Kohlenstoffpulver gefüllt, in das die Anode
eingesteckt wird. Das Kohlenstoffpulver dient somit als
leitfähiges Füllmaterial, um den Raum zwischen der Ka
thode und dem Tiegel einerseits sowie den Innenraum
des Tiegels andererseits, in den die stabförmige Anode
hineinreicht, leitend auszufüllen. Hierbei ist nachteilig,
daß lediglich ein Wandern der Verunreinigungen in
Richtung Kathode erreicht werden kann, d. h., der Tie
gel verarmt im Bereich seiner inneren Fläche, an der die
Anode angelegen hat, an Verunreinigungen, wohinge
hend die Außenfläche, an der die Kathode angelegen
hat, mit den Verunreinigungen angereichert ist. Somit
kann ein wirksames Entfernen der Verunreinigungen
aus dem Tiegel selbst nicht erreicht werden.
Beispiele für Bauteile aus Quarzglas sind Prozeßroh
re oder Tiegel zum Herstellen von Silicium-Einkri
stallen. Ein derartiges Bauteil wird durch Elektro
schmelzen von Quarzkristallpulver hergestellt, das aus
feinst pulverisierten natürlichen Bergkristall erhalten
wird.
Um eine hohe Packungsdichte an integrierten Schalt
kreisen hervorbringen zu können, müssen in der Halb
leiterindustrie Silicium-Einkristalle hoher Qualität her
gestellt werden. Die Qualität von Silicium-Einkristallen
wird durch Verunreinigungen, wie z. B. Kupfer und Al
kalimetalle wie Na, K und Li ernsthaft beeinträchtigt.
Bei dem aus der US-PS 47 59 787 bekannten gerei
nigten Tiegel, der zur Herstellung von Silicium-Einkri
stallen herangezogen wird, ist dennoch nicht ausge
schlossen, daß die Verunreinigungen, die lediglich zur
Außenseite des Tiegels verschoben sind, wieder in Rich
tung der verarmten Innenseite diffundieren und den aus
dem Tiegel gezogenen Einkristall verunreinigen, weil
diese Verunreinigungen nicht endgültig aus dem Tiegel
entfernt sind.
Aufgabe der vorliegenden Erfindung ist, eine Elektro
lysevorrichtung zu schaffen, mir der Verunreinigungen
aus einem Bauteil aus Quarzglas wirksam entfernt wer
den können.
Erfindungsgemäß wird die Aufgabe durch eine Elek
trolysevorrichtung dadurch gelöst, daß zwischen dem
Bauteil und der Kathode ein Quarzglaspulver zwischen
gelegt ist.
Während des Elektrolysevorganges können die Ver
unreinigungen, die sich in Richtung Kathode bewegen,
aus dem Bauteil austreten und in die zwischen Bauteil
und Kathode gelegte Quarzglaspulverschicht eintreten,
d. h., daß sie dabei das Bauteil verlassen.
Es ist dann möglich, so lange zu elektrolysieren, bis
alle Verunreinigungen aus dem Bauteil in die Quarzglas
pulverschicht übergetreten sind. Nach Beendigung des
Elektrolysevorganges kann das Bauteil von dem Quarz
glaspulver abgehoben oder abgetrennt werden, wonach
ein Bauteil erhalten wird, in dem tatsächlich die Verun
reinigungen nicht mehr vorhanden sind. Es ist dann auch
nicht mehr notwendig, weitere Bearbeitungsvorgänge
am Bauteil, wie Abschleifen des Endbereiches im Be
reich der Kathode, in der sich die Verunreinigungen
angesammelt haben, notwendig zu machen.
Unter Quarzglaspulver im Sinne der vorliegenden
Anmeldung ist ein Pulver zu verstehen, das im wesentli
chen aus SiO2 besteht. Dabei kann es sich um pulveri
siertes Quarzglas, amorphes oder kristallines SiO2 oder
um Quarzsand mit hohen SiO2-Anteil handeln.
Somit wird die Aufgabe vollkommen gelöst.
Vorzugsweise wird die Anode derart von der Halter
öhre gehalten, daß das Inertgas durch einen Raum zwi
schen der Anode und der Halteröhre strömen kann. Die
Anode und die Kathode sind mit einer Gleichstromquel
le verbunden.
Vorzugsweise ist ein Quarzglasbauteil zwischen einer
Kathoden- und einer Anodenplatte, die mit der Kathode
bzw. mit der Anode verbunden sind, in Stellung ge
bracht. Es ist beispielsweise ein Paar an ebenen Platten
in paralleler Ausrichtung angeordnet. Falls das Bauteil
die Form eines Tiegels aufweist, kann eine ebene Katho
denplatte in Verbindung mit einer tiegelförmigen Ano
denplatte verwendet werden.
Falls die Elektrolysevorrichtung in Betrieb ist, wird
eine hohe Spannung über das Quarzglasbauteil zwi
schen der Anode und der Kathode angelegt, so daß das
Bauteil elektrolysiert werden kann. Während der Elek
trolyse wird der Ofen durch das Heizgerät auf 1000°C
oder darüber erwärmt. Ferner wird das Inertgas mit
einer vorbestimmten Durchflußgeschwindigkeit in den
Raum zwischen der Anode und der Halteröhre von den
Inertgaszuführmitteln zugeführt, um dadurch eine Iso
lierung zwischen der Anode und der Halteröhre sicher
zustellen.
Verunreinigungen wie Alkalimetalle und Kupfer, die
in dem Quarzglasbauteil enthalten sind, wandern in
Richtung Kathode.
Zwischen dem Bauteil und der Kathodenplatte ist ei
ne vorbestimmte Menge an Quarzglaspulver vorgese
hen. Ferner ist zwischen dem Bauteil und der Anoden
platte eine vorbestimmte Menge an Kohlenstoffpulver
vorgesehen. Es ist nicht notwendig, die Form der Anode
und/oder Kathode zu ändern, sogar, falls das Quarzglas
bauteil die komplexe Form eines Tiegels aufweist. In
einem solchen Fall nimmt das Quarzglaspulver die in
dem Bauteil enthaltenen Verunreinigungen auf.
Ein Quarzglasbauteil, das durch ein Drehschmelzver
fahren aus einem Quarzglasrohmaterial hergestellt wur
de, kann derart in den Ofen eingebracht werden, daß ein
nichtgeschmolzener Teil sich in Kontakt mit der Katho
denplatte befindet, und daß sich der andere Teil in Kon
takt mit der Anodenplatte befindet. Das Quarzglasbau
teil wird auf 1000°C oder darüber erwärmt, während
über das Bauteil eine hohe Spannung angelegt wird. Die
Elektrolyse des Quarzglasbauteils verursacht, daß me
tallische Verunreinigungen, wie Alkalimetalle und Kup
fer, die im Quarzglasbauteil enthalten sind, sich in Rich
tung auf den nicht geschmolzenen Teil an der Katho
denplatte und anschließend in das zwischengelegte
Quarzglaspulver hinein bewegen, so daß die Verunreini
gungen vom Quarzglaspulver aufgenommen oder auf
gefangen werden können.
Eine Kathode wird vorzugsweise derart in einer Hal
teröhre in Stellung gebracht, daß ein Inertgas mit vorbe
stimmter Durchflußgeschwindigkeit in einen Raum zwi
schen der Halteröhre und der Kathode von Inertgaszu
führmittel zugeführt werden kann.
Verunreinigungen können entsprechend der vorlie
genden Erfindung durch Elektrolyse wirksam aus einem
Quarzglasbauteil entfernt werden.
Das Inertgas verhindert, daß ein elektrischer Strom
zwischen den Elektroden und dem Ofen fließen kann.
Falls Temperaturmeßmittel in Kombination eine
Schutzröhre und ein in die Schutzröhre eingeschobenes
Thermoelement aufweisen, ist das Thermoelement im
Ofen nicht freiliegend, so daß keine Entladung am Ther
moelement erfolgen kann.
Falls der Ofen aus Siliciumdioxidziegeln hergestellt
ist, die mehr als 20 Gew.-% SiO2 enthalten, so halten die
Ziegel Alkalimetalle in sich und verhindern, daß Alkali
metalle in den Innenraum des Ofens eintreten. Demzu
folge kann verhindert werden, daß das Quarzglasbau
teil, das elektrolysiert wird, entglast wird.
Die Erfindung wird nachfolgend anhand einiger aus
gewählter Ausführungsbeispiele in Zusammenhang mit
den beiliegenden Zeichnungen näher beschrieben und
erläutert. Es zeigt
Fig. 1 eine schematische Ansicht eines ersten Ausfüh
rungsbeispiels einer erfindungsgemäßen Elektrolyse
vorrichtung;
Fig. 2 eine schematische Ansicht eines zweiten Aus
führungsbeispiels einer erfindungsgemäßen Elektroly
sevorrichtung; und
Fig. 3 eine schematische Ansicht eines dritten Aus
führungsbeispiels einer erfindungsgemäßen Elektroly
sevorrichtung.
In Fig. 1 bezeichnet die Bezugsziffer 1 einen Ofen, der
ein Gehäuse und ein Isolationsmaterial zum Bedecken
der Innenwandung des Gehäuses aufweist. Zwischen ein
Paar an Elektrodenplatten 10, 11, die mit einer stabför
migen Anode 8 bzw. mit einer stabförmigen Kathode 9
verbunden sind, ist ein Bauteil 16, das aus Quarzglas in
zylindrischer Form hergestellt ist, in Stellung gebracht.
Im Ofen 1 sind Heizgeräte 2, 3 angeordnet, die aus Silici
umcarbid hergestellt sind, um das zwischen den Elektro
denplatten 10, 11 angeordnete Bauteil 16 zu erwärmen.
Die oberen und unteren Enden der Heizgeräte 2, 3 er
strecken sich aus dem Ofen 1 in vertikaler Richtung
hinaus und sind mit Temperaturregelmittel 4, die kon
ventioneller Art sein können, verbunden.
Im Ofen 1 sind Temperaturmeßmittel 5 angeordnet,
um in einem vorbestimmten Abschnitt des Ofens 1 Tem
peraturen zu messen. Ein Beispiel an Temperaturmeß
mittel 5 enthält in Kombination ein Thermoelement 6
und eine Schutzröhre 7, die aus Siliciumcarbid herge
stellt ist. Die Schutzröhre 7 ist so in den Ofen 1 einge
schoben, daß sie das Thermoelement 6 bedeckt. Das
obere Ende der Schutzröhre 7 springt nach oben von
der Oberseite des Ofens 1 vor. Das untere Ende der
Schutzröhre 7 reicht bis zum Boden des Ofens 1. Das
Thermoelement 6 ist mit den Temperaturregelmitteln 4
elektrisch verbunden. Der Innenraum des Ofens 1 wird
durch die Heizgeräte 2, 3 erwärmt. Das Thermoelement
6 erfaßt die Ofentemperaturen, wobei Temperaturmeß
signale zu den Temperaturreglermitteln 4 gesendet
werden, so daß der Ofen 1 bei 1000°C oder mehr gehal
ten werden kann.
Dadurch, daß die Schutzröhre 7 das Thermoelement 6
schützt, kann am unteren Ende des Thermoelements 6
keine Entladung stattfinden, da eine solche Entladung
stattinden könnte, falls das Thermoelement 6 nicht
durch die Schutzröhre 7 im Ofen 1 geschützt wäre. In
anderen Worten ausgedrückt, es wird in der Hochtem
peratur- und Hochspannungsatmosphäre im Ofen 1 kei
ne Entladung induziert.
Die Anode 8 und die Kathode 9 sind aus Kohlenstoff
hergestellt. Sie sind in vertikaler Richtung koaxial ange
ordnet. Die Anode 8 ist mit der Anodenplatte 10 ver
bunden. Die Kathode 9 ist mit der Kathodenplatte 11
verbunden. Die Platten 10 und 11 verlaufen in einer
horizontalen Richtung parallel zueinander. Das Quarz
glasbauteil 16 kann zwischen diesen beiden gehalten
werden. In anderen Worten ausgedrückt, es befindet
sich, wie dies aus Fig. 1 zu entnehmen ist, die Anoden
platte 10 in Kontakt mit dem oberen Ende des Quarz
glasbauteiles 16. Zwischen Kathodenplatte 11 und dem
unteren Ende des Quarzglasbauteiles 16 ist ein Quarz
glaspulver gelegt.
An einen oberen Abschnitt des Ofens 1 ist eine kap
penförmige Halteröhre 12 befestigt. Die Anode 8 er
streckt sich nach oben in die Halteröhre 12 hinein und
reicht durch diese hindurch. Die Anode 8 wird in der
Halteröhe 12 durch hier nicht näher dargestellte Halte
mittel, die aus einem Isolationsmaterial hergestellt sind,
gehalten. Die Kathode 9 wird im Boden des Ofens 1
mittels eines Isolationsmaterials getragen.
Die Halteröhre 12 ist über eine Gasblasleitung 13 mit
Mittel 14a zum Steuern der Durchflußgeschwindigkeit
eines Inertgases verbunden, das von Inertgaszuführmit
tel 14 in die Gasblasleitung 13 zugeführt wird. Die Inert
gaszuführmittel 14 enthalten eine vorbestimmte Menge
an Inertgas, wie beispielsweise Stickstoffgas. Ein Bei
spiel eines Steuermittels 14a ist ein Durchflußmesser.
Das Inertgas kann mit einer Durchflußgeschwindigkeit
von 10 bis 15 mm/sec zugeführt werden.
Die Anode 8 und die Kathode 9 sind an eine Gleich
stromquelle mit einer Kapazität von 20 kV und 200 mA
verbunden.
Ein Beispiel für ein Quarzglasbauteil 16 ist ein Pro
zeßrohr.
Im Betrieb wird das Bauteil 16 zwischen die Anoden
platte 10 und die Kathodenplatte 11 gebracht und an
schließend durch die Heizgeräte 2 und 3 im Ofen 1 auf
1000°C oder darüber erwärmt. Eine Gleichspannung
von 1 bis 10 kV wird für 3 Stunden oder mehr über die
Elektrodenplatten 10 und 11 angelegt, so daß eine Elek
trolyse des Bauteils 16 durchgeführt wird, wobei die in
dem Bauteil 16 enthaltenen Verunreinigungen auf die
Kathodenplatte 11 und in das zwischengelegte Quarz
glaspulver hinein bewegt werden. Beispiele für Verun
reinigungen sind Alkalimetalle (Li, K und Na) und Kup
fer.
Während des zuvor beschriebenen Vorganges wird
das Inertgas kontinuierlich mit einer Durchflußge
schwindigkeit von 10 bis 15 mm/sec über die Gasblaslei
tung 13 und die Halteröhre 12 in den Ofen 1 längs der
Anode 8 zugeführt. Das Inertgas kühlt nicht nur die
Halteröhre 12, so daß diese bei einer Temperatur von
etwa 400°C gehalten wird, sondern stellt auch eine Iso
lierung zwischen der Halteröhre 12 und der Anode 8
sicher, wobei ein Isolationswiderstand von etwa
108 Ohm cm erhalten wird.
Ist die Durchflußgeschwindigkeit des Inertgases ge
ringer als 10 mm/sec, so wird die Halteröhre 12 nicht
ausreichend gekühlt, und die Isolation der Halteröhre 12
wird schlecht. Ist die Durchflußgeschwindigkeit größer
als 15 mm/sec, wird die Anode 8 und der obere Ab
schnitt des Bauteiles 16 zu stark gekühlt, wodurch die
Wirksamkeit der Elektrolyse verringert wird.
Falls das Inertgas zwischen der Anode 8 und der Hal
teröhre 12 strömt, ist die Isolierung derart verbessert,
daß ein elektrischer Stromfluß zwischen der Halteröhre
12 und dem Ofen 1 vollständig verhindert wird. Es ist
somit eine insgesamte Isolation des Ofens 1 sicherge
stellt, so daß jeglicher Stromverlust durch Unfälle ver
hindert wird, woraus eine wirksame Elektrolyse des
Bauteiles 16 resultiert.
Obwohl während der Elektrolyse zwischen der An
ode 8 und der Kathode 9 über das Bauteil eine Hoch
spannung angelegt wird, findet am unteren Ende des
Thermoelements 6 keine Entladung statt, da das Ther
moelement 6 durch die Schutzröhre 7 geschützt ist.
In Fig. 2 ist ein weiteres Ausführungsbeispiel der vor
liegenden Erfindung dargestellt. Der Aufbau der in
Fig. 2 dargestellten Elektrolysevorrichtung ist im we
sentlichen gleich wie der der in Fig. 1 gezeigten, jedoch
mit der Ausnahme der Isolationsmaterialien 20, 30 und
31. Demzufolge werden gleiche oder entsprechende
Bauteile mit gleichen Bezugsziffern bezeichnet. Diese
werden auch nicht erneut erläutert.
Der in Fig. 2 dargestellte Ofen 1 enthält Isolationsma
terialien 20, 30 und 31. Das Isolationsmaterial 30 ist am
Isolationsmaterial 20 befestigt. Das Isolationsmaterial
31 ist am Boden des Ofens 1 befestigt, so daß diese das
Bauteil 16 umrunden. Das Isolationsmaterial 20 ist aus
Glasfasern oder dgl. hergestellt. Die Isolationsmateria
lien 30 und 31 bestehen aus Aluminiumsilikatziegeln, die
20 Gew.-% oder mehr an SiO2 enthalten. Ist der
SiO2-Anteil geringer als 20 Gew.-%, so sind die Alumi
niumsilikatziegel in der Lage, Alkalimetalle freizuset
zen, was in einer Entglasung des Bauteiles 16 resultiert.
Aluminiumsilikat-(Mullit-)Ziegel, die etwa 28 Gew.-%
an SiO2 enthalten, halten Alkalimetalle darin gefangen
und kontaminieren den Ofen 1 nicht mit Alkalimetallen.
Demzufolge kann das Bauteil 16 frei von Entglasung
gehalten werden.
Die Aluminiumsilikatziegel halten die Alkalimetalle
aufgrund des in ihnen enthaltenen SiO2. Sie verhindern
somit, daß der Ofen 1 mit Alkalimetallen verunreinigt
wird, und halten das Bauteil 16 frei von Entglasung.
In den in Fig. 1 und 2 dargestellten Ausführungen
wird vor der Elektrolyse zwischen das untere Ende des
Bauteils 16 und der Kathodenplatte 11 eine bestimmte
Menge eines Quarzglaspulvers, in Form einer Schicht
zwischengelegt werden, die eine Dicke von vorzugswei
se 5 bis 20 mm aufweist. Ist die Schicht dünner als 5 mm,
so kann der kathodenseitige Abschnitt des Bauteils ent
glast werden. Entgegengesetzt kann, falls die Schicht
dicker als 20 mm ist, diese einen extrem hohen elektri
schen Widerstand aufweisen, wodurch die für die Elek
trolyse benötigte Zeit verlängert wird. Wird das Bauteil
16 auf 1000°C oder höher erwärmt, während über das
Bauteil zwischen den Elektroden 8 und 9 eine Hoch
spannung angelegt wird, bewegen sich die in dem Bau
teil 16 enthaltenen Verunreinigungen auf die Kathoden
platte 11 zu, so daß diese durch das zwischen der Katho
denplatte 11 und dem Bauteil 16 angeordnete Glaspul
ver aufgefangen werden. Demzufolge wird das Bauteil
16 als Ganzes gesehen hoch rein. Es kann sofort als
Endprodukt verwendet werden. Dadurch wird Abfall
ausgeschlossen.
In Fig. 3 ist ein weiteres Ausführungsbeispiel der vor
liegenden Erfindung dargestellt. Ein Bauteil 46 in Form
eines Tiegels ist aus Quarzglas hergestellt. Ausgangsma
terial ist ein fein gekörntes Pulver, das aus natürlichem
Bergkristall hergestellt wird. Ein bevorzugtes Pulver hat
einen mittleren Partikeldurchmesser von 100 bis
200 µm. Nachdem das Pulver einer Enteisenungsbe
handlung unterzogen wurde, wird das Pulver durch eine
Flotation gereinigt und es wird anschließend weiter da
durch gereinigt, daß es für 20 Stunden bei 50°C oder
mehr in 10%ige Fluorwasserstoffsäure eingetaucht
wird. Das gereinigte Pulver wird durch ein Dreh
schmelzverfahren in einen Tiegel geformt. Das Bauteil
46 wird zwischen ein Paar an Elektrodenplatten 40, 41,
die mit einer Anode 48 bzw. mit einer Kathode 49 ver
bunden sind, in Stellung gebracht. Die Elektrodenplatte
41 ist eben, wohingegen die andere Elektrodenplatte 40
als Kern mit der Form eines Tiegels ausgebildet ist. Im
Ofen 1 ist ein spiral- oder spulenförmiges Heizgerät 42,
das aus Siliciumcarbid hergestellt ist, angeordnet, um
das zwischen den Elektrodenplatten 40, 41 in Stellung
gebrachte Bauteil 46 zu erwärmen. Das Heizgerät 42 ist
mit den Temperaturregelmitteln 4 verbunden, und im
Ofen 1 sind Temperaturmeßmittel 5 angeordnet (in
Fig. 3 nicht dargestellt), um an einer vorbestimmten
Stelle im Ofen 1 Temperaturen zu messen.
Die Anode 48 und die Kathode 49 sind aus Kohlen
stoff hergestellt. Sie sind in vertikaler Richtung koaxial
angeordnet. Die Anode 48 reicht geringfügig durch die
Anodenplatte 40 hindurch und ist mit einem Bodenbe
reich dieser verbunden. Die Kathode 49 ist mit der Ka
thodenplatte 41 verbunden. Die Anodenplatte 40 ist in
nerhalb des Bauteiles 46 angeordnet. Der Raum zwi
schen der Anodenplatte 40 und dem Bauteil 46 ist mit
Kohlenstoffpulver 50 aufgefüllt, das einen mittleren
Teilchendurchmesser von 5 bis 40 µm aufweist. Eine zy
lindrische Hauptform 51 und eine scheibenförmige Bo
denform 52, die beide aus Kohlenstoff oder Siliciumcar
bid hergestellt sein können, und sind auf einem Boden
bereich des Ofens 1 in Form einer Tasse zusammenge
setzt. Das Bauteil 46 ist innerhalb der Hauptform 51
derart angeordnet, daß der Raum zwischen den Formen
51 und 52 und dem Bauteil 46 mit Quarzglaspulver 53
aufgefüllt ist. Die Kathodenplatte 41 ist derart unterhalb
des Bauteiles 46 zwischen der Bodenform 52 und dem
Bodenabschnitt des Ofens 1 angeordnet, daß die Katho
denplatte 41 und die Kathode 49 elektrisch isoliert vom
Ofen sind.
Die Glaspulverschicht 53 weist vorzugsweise eine
Dicke zwischen 5 und 20 mm auf.
Die kappenförmige Halteröhre 12, die Gasblasleitung
13, die Inertgaszuführmittel 14 und die Durchflußge
schwindigkeitsteuermittel 14a sind wie in Fig. 1 ange
ordnet und funktionieren auf die gleiche Art und Weise.
Die Anode 48 und die Kathode 49 sind mit einer Gleich
stromquelle 55, die eine Kapazität von 1,5 kV und
200 mA aufweist, verbunden.
Im Betrieb ist das tiegelförmige Bauteil 46 zwischen
der Anodenplatte 40 und der Kathodenplatte 41 ange
ordnet und ist durch das Heizgerät 42 im Ofen auf
1200°C erwärmt, währenddessen für 45 Minuten oder
mehr eine Gleichspannung von 1,5 kV über das Bauteil
zwischen den Elektroden 48 und 49 angelegt ist, um
dadurch die Elektrolyse des Bauteiles 46 durchzuführen,
wobei die in dem Bauteil 46 enthaltenen Verunreinigun
gen sich auf das Quarzglaspulver 53 zu bewegen bzw.
verschieben, bis die Verunreinigungen von diesem in
ausreichender Art und Weise aufgenommen oder aufge
fangen werden können.
Während des Betriebes wird das Inertgas in der zuvor
beschriebenen Art und Weise kontinuierlich zugeführt.
Die vorliegende Erfindung ist nicht auf die zuvor er
wähnten Ausführungsbeispiele beschränkt. Das Quarz
glasbauteil 16 ist nicht auf die Form eines Tiegels oder
eines Prozeßrohres beschränkt. Die Temperaturmeß
mittel können auch andersartige Meßvorrichtungen
sein. Das Heizgerät kann durch eine Bedienungsperson
manuell gesteuert werden.
Claims (16)
1. Elektrolysevorrichtung für ein fertiggestellte Bauteil (16, 46) aus
Quarzglas, mit einem Ofen (1) und darin angeord
netem Heizgerät (2, 3, 42) zum Erwärmen des Bau
teiles (16, 46), mit einer Anode (8, 48) und mit einer
Kathode (9, 49) und einer mit diesen verbundenen
Energiequelle (15, 55) zum Anlegen einer vorbe
stimmten Spannung über das Bauteil (16, 46) für
eine Elektrolyse in dem Ofen (1), wenn das Bauteil
(16, 46) zwischen der Anode (8, 48) und der Katho
de (9, 49) in Stellung gehalten ist, und mit Mitteln
zum Halten der Anode (8, 48) und der Kathode (9,
49), damit eine Spannung über das Bauteil (16, 46)
angelegt werden kann, dadurch gekennzeichnet,
daß zwischen dem Bauteil (16, 46) und der Kathode
(9, 49) ein Quarzglaspulver zwischengelegt ist.
2. Elektrolysevorrichtung nach Anspruch 1, da
durch gekennzeichnet, daß das Quarzglaspulver ei
ne Schichtdicke von 5 bis 20 mm aufweist.
3. Elektrolysevorrichtung nach Anspruch 1 oder 2,
dadurch gekennzeichnet, daß die Anode (8, 48) mit
einer Anodenplatte (10, 40) und daß die Kathode (9,
49) mit einer Kathodenplatte (11, 41) verbunden ist,
und daß das Bauteil (16, 46) zwischen der Katho
denplatte (11, 41) und der Anodenplatte (10, 40) für
eine Elektrolyse in Stellung gehalten ist, wobei das
Quarzglaspulver zwischen Kathodenplatte (11, 41)
und Bauteil (16, 46) gelegt ist.
4. Elektrolysevorrichtung nach einem der Ansprü
che 1 bis 3, dadurch gekennzeichnet, daß die Anode
(8, 48) und die Kathode (9, 49) in vertikaler Rich
tung koaxial zueinander verlaufend angeordnet
sind.
5. Elektrolysevorrichtung nach Anspruch 3 oder 4,
dadurch gekennzeichnet, daß die Anodenplatte (10)
und die Kathodenplatte (11) eben sind, und daß sie
parallel zueinander verlaufend angeordnet sind.
6. Elektrolysevorrichtung nach Anspruch 3 oder 4,
dadurch gekennzeichnet, daß die Kathodenplatte
(41) eben ist und daß die Anodenplatte (40) in Form
eines Tiegels ausgebildet ist.
7. Elektrolysevorrichtung nach Anspruch 6, da
durch gekennzeichnet, daß eine Form (51, 52) aus
Kohlenstoff oder Siliciumcarbid vorgesehen ist,
daß die Form (51, 52) mit der Kathodenplatte (41)
verbunden ist und die Anodenplatte (40) innerhalb
der Form (51, 52) angeordnet ist.
8. Elektrolysevorrichtung nach einem der Ansprü
che 1 bis 7, dadurch gekennzeichnet, daß die Mittel
zum Halten eine an den Ofen (1) angebrachte Hal
teröhre (12) aufweisen, um die Anode (8, 48) zu
halten.
9. Elektrolysevorrichtung nach einem der Ansprü
che 1 bis 8, dadurch gekennzeichnet, daß Mittel
zum Zuführen eines Intertgases in einen Raum zwi
schen der Anode (8, 48) und den Mitteln zum Hal
ten vorgesehen sind.
10. Elektrolysevorrichtung nach Anspruch 9, da
durch gekennzeichnet, daß ferner Mittel (14, 14a)
zum Steuern der Strömungsgeschwindigkeit des
zuzuführenden Inertgases vorgesehen sind.
11. Elektrolysevorrichtung nach einem der Ansprü
che 1 bis 10, dadurch gekennzeichnet, daß der Ofen
(1) eine Isolierung (20, 30, 31) aufweist.
12. Elektrolysevorrichtung nach Anspruch 11, da
durch gekennzeichnet, daß die Isolierung Alumi
niumsilikatziegel enthält, die zumindest 20 Gew.-%
an SiO2 enthalten.
13. Elektrolysevorrichtung nach einem der Ansprü
che 1 bis 12, dadurch gekennzeichnet, daß eine am
Ofen (1) angebrachte Schutzröhre (7) mit einge
schobenem Thermoelement (6) vorgesehen ist.
14. Elektrolysevorrichtung nach einem der Ansprü
che 1 bis 13, dadurch gekennzeichnet, daß die An
ode (8, 48) und die Kathode (9, 49) aus Kohlenstoff
hergestellt sind.
15. Elektrolysevorrichtung nach einem der Ansprü
che 1 bis 14, dadurch gekennzeichnet, daß die Mit
tel zum Halten eine Halteröhre aufweisen, in die
sich die Kathode hineinerstreckt, und daß die Hal
teröhre die Kathode trägt.
16. Elektrolysevorrichtung nach einem der Ansprü
che 3 bis 6, dadurch gekennzeichnet, daß zwischen
die Anodenplatte (40) und das Bauteil (46) eine
Schicht aus Kohlenstoffpulver (50) gelegt ist.
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
GB8900635A GB2227026B (en) | 1989-01-12 | 1989-01-12 | Electrolysis apparatus |
Publications (3)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE3900593A1 DE3900593A1 (de) | 1990-07-12 |
DE3900593C2 DE3900593C2 (de) | 1993-08-12 |
DE3900593C3 true DE3900593C3 (de) | 1998-11-12 |
Family
ID=10649924
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE3900593A Expired - Fee Related DE3900593C3 (de) | 1989-01-12 | 1989-01-11 | Elektrolysevorrichtung |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US5076902A (de) |
DE (1) | DE3900593C3 (de) |
FR (1) | FR2641549B1 (de) |
GB (1) | GB2227026B (de) |
Families Citing this family (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5242563A (en) * | 1992-03-12 | 1993-09-07 | The United States Of America As Represented By The Secretary Of The Navy | Molten salt reactor for potentiostatic electroplating |
JPH0967138A (ja) * | 1995-06-22 | 1997-03-11 | Toshiba Corp | 半導体製造用石英及びその製造装置並びに製造方法 |
US5628887A (en) * | 1996-04-15 | 1997-05-13 | Patterson; James A. | Electrolytic system and cell |
FR2782077B1 (fr) * | 1998-08-04 | 2001-11-30 | Cerdec France Sa | Procede de reduction de collage a chaud dans des processus de moulage, et dispositif pour la mise en oeuvre de ce procede |
Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE1011594B (de) * | 1955-03-05 | 1957-07-04 | Quartz & Silice Soc | Verfahren zur Herstellung von Quarzglas |
US4759787A (en) * | 1984-11-05 | 1988-07-26 | Tsl Group Plc | Method of purifying molten silica |
Family Cites Families (15)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
FR533753A (de) * | 1922-03-10 | |||
US1299947A (en) * | 1917-10-30 | 1919-04-08 | Norsk Hydro Elektrisk | Electrolysis of fused electrolytes. |
GB616451A (en) * | 1945-09-15 | 1949-01-21 | Saint Gobain | Improvements in or relating to the manufacture of glass |
US2952591A (en) * | 1959-02-26 | 1960-09-13 | Union Carbide Corp | Electrolytic preparation of calcium carbide |
DE1114614B (de) * | 1960-04-11 | 1961-10-05 | Der Gerresheimer Glashuettenwe | Verfahren und Vorrichtung zur Erhoehung der Festigkeit von Gegenstaenden aus Glas und anderen elektrisch nichtleitenden Stoffen |
US3440153A (en) * | 1964-04-24 | 1969-04-22 | United Aircraft Corp | Electrolytic method of producing highly oriented crystalline structures |
BE674212A (de) * | 1964-12-23 | |||
CH426279A (fr) * | 1965-06-15 | 1966-12-15 | Fiduciaire Generale S A | Cellule électrolytique pour la fabrication de silicium |
GB1266862A (de) * | 1968-05-14 | 1972-03-15 | ||
GB1290856A (de) * | 1969-06-09 | 1972-09-27 | ||
US3811855A (en) * | 1972-10-10 | 1974-05-21 | Rca Corp | Method of treating a glass body to provide an ion-depleted region therein |
US3879183A (en) * | 1973-08-15 | 1975-04-22 | Rca Corp | Corona discharge method of depleting mobile ions from a glass region |
JPS5611329A (en) * | 1979-07-09 | 1981-02-04 | Nippon Kokan Kk <Nkk> | Measuring method of melted metal temperature in vessel |
GB8624561D0 (en) * | 1986-10-14 | 1986-11-19 | British Petroleum Co Plc | Separation process |
JPH06104577B2 (ja) * | 1987-07-14 | 1994-12-21 | 東芝セラミックス株式会社 | 電解装置 |
-
1988
- 1988-12-29 US US07/291,592 patent/US5076902A/en not_active Expired - Lifetime
-
1989
- 1989-01-11 DE DE3900593A patent/DE3900593C3/de not_active Expired - Fee Related
- 1989-01-12 FR FR898900310A patent/FR2641549B1/fr not_active Expired - Fee Related
- 1989-01-12 GB GB8900635A patent/GB2227026B/en not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE1011594B (de) * | 1955-03-05 | 1957-07-04 | Quartz & Silice Soc | Verfahren zur Herstellung von Quarzglas |
US4759787A (en) * | 1984-11-05 | 1988-07-26 | Tsl Group Plc | Method of purifying molten silica |
Non-Patent Citations (1)
Title |
---|
J. Mat.Sci., Bd. 15, 1980, S. 2973-2977 * |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
GB2227026B (en) | 1992-12-23 |
GB2227026A (en) | 1990-07-18 |
FR2641549A1 (fr) | 1990-07-13 |
US5076902A (en) | 1991-12-31 |
DE3900593A1 (de) | 1990-07-12 |
FR2641549B1 (fr) | 1991-12-27 |
DE3900593C2 (de) | 1993-08-12 |
GB8900635D0 (en) | 1989-03-08 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
EP0344360B1 (de) | Verfahren zur kontinuierlichen Herstellung eines Rohres oder Stabes aus Quarzglas | |
DE10393837B4 (de) | Verfahren und Vorrichtung zur Beheizung von Schmelzen | |
DE1025631B (de) | Verfahren zur Raffination eines laenglichen Metallkoerpers nach dem Zonenschmelzverfahren | |
CH631741A5 (de) | Verfahren zum raffinieren eines geschmolzenen metalls sowie zelle zur durchfuehrung des verfahrens. | |
AT397241B (de) | Elektroschmelzverfahren für glas | |
DE4207694A1 (de) | Vorrichtung fuer die herstellung von metallen und metall-legierungen hoher reinheit | |
DE2635900A1 (de) | Natrium-schwefel-batterie oder -zelle mit aeusserem lager | |
DE3900593C3 (de) | Elektrolysevorrichtung | |
DE4015785C2 (de) | ||
EP0786531A1 (de) | Verfahren zum Umschmelzen von Metallen zu einem Strang sowie Vorrichtung dafür | |
DE69724939T2 (de) | Verfahren zur herstellung von glas | |
DE3022091A1 (de) | Verfahren und vorrichtung zur herstellung von blaeschenfreiem erschmolzenen glas | |
EP1671518B1 (de) | Aggregat f r konduktiv beheizbares schmelzen | |
DE102006004637B4 (de) | Induktiv beheizbarer Skulltiegel, Schmelzanlage und Verfahren zum kontinuierlichen Herstellen einer Glasschmelze | |
CH670456A5 (de) | ||
EP0003019B1 (de) | Verfahren und Vorrichtung zum Schmelzen von Fritten für anorganische oxidische Oberflächenbeschichtungen durch elektrische Widerstandsbeheizung | |
DE832986C (de) | Verfahren und Vorrichtung zur Herstellung von Email | |
DE2731908B1 (de) | Verfahren und Vorrichtung zum Herstellen von Aluminium | |
DE2153305A1 (de) | Verfahren zum Schmelzen von Ferrosilizium mit hoher Qualität | |
DE716916C (de) | Elektrischer Schmelzofen zur Erzeugung von Glas | |
DE1758630C (de) | Verfahren und Vorrichtung zur kontinuierlichen Herstellung von metallischem Aluminium durch Elektrolyse von Aluminiumoxyd | |
DE1916082C (de) | Elektrolytisches Verfahren zum Verändern der Oberflächeneigenschaften von bewegtem Flachglas durch Materialeinwanderung aus einem geschmolzenen Körper | |
DE805088C (de) | Elektrolysezelle zum elektrolytischen Raffinieren von Aluminium | |
AT215610B (de) | Verfahren und Vorrichtung zum Gießen von chemisch hoch reaktionsfähigem Schmelzgut | |
DE1014292B (de) | Verfahren zur Vermeidung oder Verringerung der elektrolytischen Zersetzung von besonders beanspruchten Teilen eines Schmelzbehaelters |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
8110 | Request for examination paragraph 44 | ||
D2 | Grant after examination | ||
8363 | Opposition against the patent | ||
8366 | Restricted maintained after opposition proceedings | ||
8305 | Restricted maintenance of patent after opposition | ||
D4 | Patent maintained restricted | ||
8327 | Change in the person/name/address of the patent owner |
Owner name: COVALENT MATERIALS CORP., TOKYO, JP |
|
8328 | Change in the person/name/address of the agent |
Representative=s name: WITTE, WELLER & PARTNER, 70178 STUTTGART |
|
8339 | Ceased/non-payment of the annual fee |