DE3887810T2 - Verfahren zur Bildherstellung durch Verwendung der vom Objekt emittierten Sekundärelektronen. - Google Patents
Verfahren zur Bildherstellung durch Verwendung der vom Objekt emittierten Sekundärelektronen.Info
- Publication number
- DE3887810T2 DE3887810T2 DE3887810T DE3887810T DE3887810T2 DE 3887810 T2 DE3887810 T2 DE 3887810T2 DE 3887810 T DE3887810 T DE 3887810T DE 3887810 T DE3887810 T DE 3887810T DE 3887810 T2 DE3887810 T2 DE 3887810T2
- Authority
- DE
- Germany
- Prior art keywords
- pixel
- intensity
- image
- pixels
- intensities
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 43
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 title description 2
- 238000012545 processing Methods 0.000 claims description 39
- 238000009826 distribution Methods 0.000 claims description 15
- 238000012935 Averaging Methods 0.000 claims description 14
- 238000004364 calculation method Methods 0.000 claims description 3
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 claims description 3
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims description 3
- 230000005855 radiation Effects 0.000 claims description 3
- 230000001131 transforming effect Effects 0.000 claims description 2
- 230000003247 decreasing effect Effects 0.000 claims 1
- 230000015654 memory Effects 0.000 description 40
- 238000007792 addition Methods 0.000 description 22
- 238000012937 correction Methods 0.000 description 7
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 description 6
- 238000001914 filtration Methods 0.000 description 6
- 239000011159 matrix material Substances 0.000 description 4
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 4
- 238000001228 spectrum Methods 0.000 description 4
- 238000009499 grossing Methods 0.000 description 3
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 2
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 description 2
- 238000005070 sampling Methods 0.000 description 2
- 230000001133 acceleration Effects 0.000 description 1
- 230000035508 accumulation Effects 0.000 description 1
- 238000009825 accumulation Methods 0.000 description 1
- 230000004931 aggregating effect Effects 0.000 description 1
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 description 1
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 1
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 1
- 230000001419 dependent effect Effects 0.000 description 1
- 230000008030 elimination Effects 0.000 description 1
- 238000003379 elimination reaction Methods 0.000 description 1
- 238000002474 experimental method Methods 0.000 description 1
- 238000007689 inspection Methods 0.000 description 1
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 1
- 238000003672 processing method Methods 0.000 description 1
- 238000011158 quantitative evaluation Methods 0.000 description 1
- 238000001878 scanning electron micrograph Methods 0.000 description 1
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 1
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01B—MEASURING LENGTH, THICKNESS OR SIMILAR LINEAR DIMENSIONS; MEASURING ANGLES; MEASURING AREAS; MEASURING IRREGULARITIES OF SURFACES OR CONTOURS
- G01B11/00—Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques
- G01B11/24—Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques for measuring contours or curvatures
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
- H01J37/26—Electron or ion microscopes; Electron or ion diffraction tubes
- H01J37/28—Electron or ion microscopes; Electron or ion diffraction tubes with scanning beams
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Analytical Chemistry (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Image Processing (AREA)
- Analysing Materials By The Use Of Radiation (AREA)
- Length-Measuring Devices Using Wave Or Particle Radiation (AREA)
- Testing Or Measuring Of Semiconductors Or The Like (AREA)
- Facsimile Image Signal Circuits (AREA)
Description
- Die Erfindung betrifft ein Bildherstellungsverfahren und insbesondere ein Bildherstellungsverfahren, bei dem mit einem Rasterelektronenmikroskop ein Elektronenstrahl auf ein Objekt gestrahlt wird und sekundäre Elektronen von dem Objekt zur Herstellung eines Bildes des Objektes verwendet werden.
- Beim Messen einer Struktur einer integrierten Halbleiterschaltung wird ein Bild der Struktur unter Verwendung eines Rasterelektronenmikroskops (im folgenden als SEM bezeichnet) hergestellt. Es ist bekannt, daß verschiedene Rauscharten während der Herstellung eines Bildes mit einem SEM erzeugt werden, so daß das Bild mit Rauschkomponenten überlagert ist. Derartige Rauschkomponenten umfassen Verteilungsrauschkomponenten eines Primärstrahls von dem SEM und Rauschkomponenten, die während der Emission von sekundären Elektronen erzeugt werden. Die ersten Rauschkomponenten werden erzeugt, da Bruchteile eines von einer Kathode emittierten und innerhalb der Spalte eines SEM laufenden Elektronenstrahls mit einer gewissen Wahrscheinlichkeit von einer Zwischenöffnung abgefangen werden, bevor sie die Oberfläche eines Objektes erreichen. Die letzteren Rauschkomponenten werden erzeugt, da das physikalische Phänomen der sekundären Elektronenemission im wesentlichen ein Phänomen ist, welches statistisch auftritt. Andere Rauschkomponenten können von Komponenten wie beispielsweise einem Photomultiplizierer, einem A/D-Wandler und ähnlichen Bauteilen in dem Meßsystem erzeugt werden.
- Um ein Bild herzustellen, welches für derartige Rauschkomponenten nicht anfällig ist, sind die folgenden Verfahren bis jetzt verwendet worden:
- (1) Beseitigen von Hochfrequenz-Rauschkomponenten eines Bildes mittels eines Tiefpaßfilters;
- (2) mehrmaliges Abtasten eines Objektes unter Verwendung eines Additions- und Mittelungsprozesses;
- (3) Glätten eines Bildes mit Verarbeitung durch ein räumliches Filter;
- (4) Verwenden eines Medianwertes von Bildpunktintensitäten eines Bildes innerhalb eines vorgegebenen Gebiets durch eine Median-Filterverarbeitung; und
- (5) Durchführen einer Frequenzanalyse eines Bildes durch eine schnelle Fourier-Transformation.
- Zur Herstellung eines klaren Bildes können mit den obigen Verfahren Rauschkomponenten wegen der folgenden Gründe nicht ausreichend beseitigt werden:
- Zur Bildung eines klaren Bildes können mit den obigen Verfahren Rauschkomponenten wegen der folgenden Gründe nicht ausreichend beseitigt werden:
- (1) Zunächst bringt das Verfahren der Verwendung eines Tiefpaßfilters ein Problem mit sich, nämlich daß es sehr schwierig ist, eine optimale Grenzfrequenz einzustellen. Die Frequenz von Rauschkomponenten auf einem SEM-Bild verändert sich von Objekt zu Objekt. Da eine integrierte Halbleiterschaltung eine Vielzahl von Bildobjekten aufweist, ist es sehr schwierig für alle Bildobjekte eine optimale Grenzfrequenz einzustellen.
- (2) Mit einem herkömmlichen Verfahren unter Verwendung einer Additions- und Mittelungsverarbeitung ist eine geeignete Rauschbeseitigung für den Fall nicht möglich, bei dem Rauschkomponenten kontinuierlich bei einer bestimmten festen Frequenz erzeugt werden.
- (3) Das Glättungsverfahren bringt das Problem mit sich, daß die Bildqualität nach der Glättung von den Werten der räumlichen Filtermatrix abhängt und die quantitative Auswertung eines Bildes beeinflußt wird. Es weist außerdem das Problem auf, daß der Kontrast eines Bildes verkleinert wird.
- (4) Das Verfahren unter Verwendung einer Medianfilterverarbeitung ist als eine Technik verwendet worden, um Informationen an der Strukturkante zu erhalten. Dieses Verfahren ist nicht so effektiv für ein Bildherstellungssystem, bei den Informationen, deren Dimensionen im wesentlichen die gleichen sind wie der Strahldurchmesser des SEM, auf Rauschkomponenten überlagert sind.
- (5) Eine Fourier-Transformation kann Rauschkomponenten ausreichend beseitigen. Jedoch ist ein derzeit zur Bildverarbeitung verfügbarer Prozessor nicht so schnell, daß er eine Fourier-Transformation zufriedenstellend durchführt.
- Es ist deshalb eine Aufgabe der vorliegenden Erfindung, ein Bildherstellungsverfahren vorzusehen, weiches ein klares Bild mit besser beseitigten Rauschkomponenten herstellen kann.
- Diese Aufgabe wird gemäß Anspruch 1 dadurch gelöst, daß ein Bildherstellungsverfahren die folgenden Schritte umfaßt
- einen ersten Schritt eines Strahlens eines Primärstrahls mit einem Strahldurchmesser auf ein Objekt und Verwenden einer sekundären Strahlungsintensität entsprechend einem Bildbereich, auf den der Primärstrahl gestrahlt wurde als eine Intensität eines Bildpunktes in der Mitte des Bildbereichs und Abtasten des Untersuchungsbereichs des Objektes mit dem Primärstrahl, um ein Bild in dem Untersuchungsbereich als eine Ansammlung von Bildpunkten zu bestimmen, die in Intervallen kleiner als der Strahldurchmesser angeordnet sind; und
- einen zweiten Schritt eines Zuordnens von Koeffizienten gemäß der entsprechenden Werte der entsprechenden Primärstrahl-Intensitätsverteilung zu einem Bildpunkt der Ansammlung von zu verarbeitenden Bildpunkten und zu benachbarten Bildpunkten, wobei das Maximum dieser Primärstrahl-Intensitätsverteilung bei dem zu verarbeitenden Bildpunkt liegt, Multiplizieren der Intensität jedes Bildpunktes mit jedem zugeordneten Koeffizienten, Bestimmen einer neuen Intensität des zu verarbeitenden Bildpunktes gemäß der Summe der jeweiligen Produkte und Wiederholen des Prozesses für die Bestimmung der neuen Intensität für alle Bildpunkte, für die eine Verarbeitung erforderlich ist.
- Bevorzugte Ausführungsformen sind in den abhängigen Ansprüchen 2 bis 7 aufgeführt.
- Das Bildherstellungsverfahren der vorliegenden Erfindung ist auf ein System anwendbar, bei dem ein Objekt unter der Bedingung abgetastet wird, daß ein Strahldurchmesser größer als der Durchmesser jedes Bildpunktes ist. Bei einer derartigen Bedingung kann der Strahl auf eine Vielzahl von Bildpunktbereichen gestrahlt werden. Das Hauptmerkmal dieser Erfindung liegt darin, daß die Intensität jedes beim Strahlabtasten erhaltenen Bildpunktes gemäß der benachbarten Bildpunktintensitäten korrigiert wird, um ein klares Bild zu erhalten. Eine derartige Korrektur wird mit gewichteten benachbarten Bildpunkten durchgeführt. Die Gewichtung wird gemäß einer Strahlintensitätsverteilung bestimmt. Mit einer derartigen Korrektur wird die Herstellung eines klaren Bildes ermöglicht, dessen Rauschkomponenten beseitigt sind.
- Die Gewichtung kann nicht nur unter Berücksichtigung der Strahlintensitätsverteilung, sondern auch unter Berücksichtigung der Strahlabtastrichtung bestimmt werden. Dies basiert auf dem experimentellen Ergebnis, daß ein gutes Bild erhalten werden kann, indem der Grad der Gewichtung von benachbarten Bildpunkten, die nicht auf der Strahlabtastrichtung liegen, verkleinert wird.
- Es können drei Bildverarbeitungsschritte durchgeführt werden, nämlich eine Additions/Mittelungsverarbeitung, eine räumliche Filterverarbeitung und eine lineare Bildverbesserungsverarbeitung. Bei der Additions/Mittelungsverarbeitung wird das Mittel von bei mehreren Abtastungen erhaltenen Intensitäten als die Intensität jedes Bildpunktes verwendet. Die räumliche Filterverarbeitung ist ein Korrekturprozeß gemäß der benachbarten Bildpunktintensitäten, wobei der Prozeß den Hauptgegenstand der ersten und zweiten Aspekte darstellt. Die lineare Bildverbesserungsverarbeitung ist ein Prozeß, um die Intensität so linear zu transformieren, daß jeweilige Bildpunktintensitäten innerhalb eines vorgegebenen Bereichs verteilt werden. Mit den obigen drei Verarbeitungsverfahren ist es möglich, Rauschkomponenten wirksam zu beseitigen und ein klares Bild mit hohem Kontrast herzustellen.
- In den Zeichnungen zeigen
- Fig. 1 ein Flußdiagramm, das die Vorgehensweise einer Ausführungsform des Bildherstellungsverfahrens gemäß der vorliegenden Erfindung zeigt;
- Fig. 2A und 2B das Abtastverfahren eines Objekts gemäß der vorliegenden Erfindung;
- Fig. 3 die Speicheranordnung, die im Schritt A des Bildherstellungsverfahrens gemäß der vorliegenden Erfindung verwendet wird;
- Fig. 4A und 4B und Fig. 5A und 5B Kurvendarstellungen, die das Leistungsspektrum von Intensitäten vor und nach der Additions/Mittelungsverarbeitung im Schritt A des Bildherstellungsverfahrens dieser Erfindung zeigen;
- Fig. 6A bis 6E eine Illustration des Schrittes B des Bildherstellungsverfahrens dieser Erfindung;
- Fig. 7A und 7B Kurvendarstellungen, die die Bildpunktintensitätsverteilung vor und nach der räumlichen Filterverarbeitung im Schritt B des Bildherstellungsverfahrens dieser Erfindung zeigen;
- Fig. 8 eine Kurvendarstellung, die die Bildpunktintensitätsverteilung an den jeweiligen Schritten des Bildherstellungsverfahrens dieser Erfindung zeigen; und
- Fig. 9 einen Querschnitt eines Objektes, von dem die in Fig. 8 gezeigte Kurvendarstellung erhalten wurde.
- Eine bevorzugte Ausführungsform der vorliegenden Erfindung wird im folgenden unter Bezugnahme auf die bei liegenden Zeichnungen beschrieben. Fig. 1 ist ein Flußdiagramm, welches eine Ausführungsform der Vorgehensweise des Bildherstellungsverfahrens zeigt. Wie in dem Flußdiagramm dargestellt, besteht diese Ausführungsform aus ersten bis dritten Schritten, nämlich einer Additions/Mittelungsverarbeitung A, einer räumlichen Filterverarbeitung B und einer linearen Bildverbesserungsverarbeitung C. Die obigen Schritte werden im folgenden in dieser Reihenfolge unter Verwendung eines SEM beschrieben.
- Der erste Schritt der Additions/Mittelungsverarbeitung A beginnt mit der Abtastung eines Objektes mit einem Strahl. Die Fig. 2A und 2B zeigen eine derartige Strahlabtastung. Wie in Fig. 2A gezeigt, wird der Untersuchungsbereich 1 des Objektes in der mit einem Pfeil angezeigten Richtung mit einem Primärelektronenstrahl von einem SEM abgetastet. Die Abtastrichtung ist in der Zeichnung horizontal und es wird angenommen, daß die horizontale Richtung in der folgenden Beschreibung verwendet wird. Nach Beenden der Abtastung einer ersten Zeile wird eine zweite Zeile in der gleichen Weise abgetastet und alle Zeilen werden genauso abgetastet. Sekundäre Elektronen werden bei Bestrahlung eines Primärelektronenstrahls auf das Objekt von dem Objekt emittiert. Die Menge der sekundären Elektronen wird mit vorgegebenen Abtastzeiten so gemessen, daß die bei diesen Abtastzeiten in einem Matrixbereich angeordneten Bildpunkte wie in Fig. 2B ermittelt werden. Die Menge von Sekundärelektronen, die zu diesen Abtastzeiten gemessen werden, entsprechen der Intensität eines betreffenden Bildpunktes. Sobald die Abtastung für alle Zeilen beendet ist, kann ein aus einer Ansammlung von Bildpunkten in einer m·n zweidimensionalen Matrix erzeugtes Bild erhalten werden. In dieser Ausführungsform sind sechs Speicher M1 bis M6 vorgesehen, um das in Fig. 3 gezeigte Bild zu speichern. Jeder Speicher besitzt Speicherzellen, die in einer m·n zweidimensionalen Matrix angeordnet sind, die der in Fig. 2B gezeigten Bildpunktanordnung entspricht. Jede Speicherzelle besitzt eine Tiefe von 8 Bits. Somit wird die Bildpunktintensität durch einen Wert von 0 bis 255 ausgedrückt und in der entsprechenden Speicherzelle gespeichert.
- Unter Bezugnahme auf das in Fig. 1 gezeigte Flußdiagramm wird zunächst im Schritt S1 dem Speicher M1 ein Bild eingegeben. Nach der vollständigen Abtastung des gesamten Untersuchungsbereiches 1 werden nämlich die Intensitäten aller Bildpunkte, wie in Fig. 2B gezeigt, dem Speicher M1 eingegeben. Dies wird durchgeführt, indem in den Speicher M1 an bestimmte adressierte Bereiche digitale Signale geschrieben werden, die durch eine A/D-Wandlung von Ausgangssignalen von dem SEM erhalten werden. In dieser Ausführungsform werden die von der SEM-Abtastung direkt ermittelten Daten immer dem Speicher M1 eingegeben.
- Bei Beendigung der ersten Abtastung werden die Daten des Speichers M1 im Schritt S2 in den Speicher M2 kopiert. Die zweite Abtastung wird in der ähnlichen Weise wie im Schritt S1 ausgeführt, um die ermittelten Daten in den Speicher M1 zu schreiben. Im Schritt S3 werden die Daten der Speicher M1 und M2 zusammenaddiert und die Summe wird im Speicher M3 eingegeben. Insbesondere werden die Daten in einer Speicherzelle des Speichers M1 zu den Daten in einer entsprechenden Speicherzelle des Speichers M2 addiert und das Additionsergebnis wird in einer entsprechenden Speicherzelle des Speichers M3 gespeichert. Wenn ein Überlauf des Additionsergebnisses auftritt, werden die Daten in einer entsprechenden Speicherzelle im Speicher M4 um 1 inkrementiert. Falls ein Überlauf des Additionsergebnisses auftritt, werden ferner die Daten in einer entsprechenden Speicherzelle im Speicher M5 um 1 inkrementiert. Mit anderen Worten dient der Speicher M4 für die oberen Bits des Speichers M3, wohingegen der Speicher M3 für die oberen Bits des Speichers M4 dient. Somit kann ein akkumulierter Wert bis zu 24 Bits gespeichert werden.
- Nach der Addition im Schritt S3 wird überprüft, ob die vorgegebene Anzahl von Additionen ausgeführt worden ist oder nicht. Mit steigender Anzahl von Additionen kann ein zuverlässigeres Mittel bestimmt werden. Jedoch sollte die Anzahl von Additionen so eingestellt werden, daß sie der tatsächlichen Meßbedingung angepaßt ist, weil es erforderlich ist, die Abtastung des Objektes genauso oft wie die Anzahl der Additionen zu wiederholen.
- Falls eine vorgegebene Anzahl von Additionen durchgeführt wurde, werden dann im Schritt S5 die Daten des Speichers M3 direkt in den Speicher M2 kopiert. Im Schritt S6 wird dem Speicher M1 ein Bild eingegeben. Diese Operation im Schritt 56 ist genau die gleiche wie in den Schritten S1 und S2, wobei die Intensitätsdaten von Bildpunkten, die beim Abtasten des Untersuchungsbereiches 1 ermittelt werden, dem Speicher M1 eingegeben werden. Nach der dritten Abtastung wie der im Schritt S3 werden die Daten der Speicher M1 und M2 zusammenaddiert, um das Additionsergebnis in den Speicher M3 zu schreiben. Die Schleifenverarbeitung in den Schritten S4, S5, S6 und S3 wird für eine vorgegebene Anzahl von Malen wiederholt. Nachdem der Untersuchungsbereich 1 für eine vorgegebene Anzahl von Malen abgetastet worden ist, wird das Ergebnis in Echtzeit in den Speichern M3 bis M5 akkumuliert. Danach wird im Schritt S7 der akkumulierte Wert jeder Pixelintensität durch die Anzahl von Akkumulationen geteilt, um so eine Durchschnitts- oder Mittelungsintensität zu bestimmen, die in dem Speicher M6 gespeichert wird. Somit kann das letzte ausgegebene Bild beider Additions/Mittelungsverarbeitung A im Speicher M6 ermittelt werden.
- Hochfrequente Rauschkomponenten, die charakteristisch für ein SEM sind, können durch die oben beschriebene Additions/Mittelungsverarbeitung beseitigt werden. Eine derartige Rauschbeseitigung ist in den Fig. 4A und 4B und in den Fig. 5A und 5B dargestellt. Fig. 4A zeigt ein Leistungsspektrum einer Intensität eines abgetasteten Bildes (entsprechend demjenigen, das in Fig. 2B gezeigt ist) relativ zu der Abtastrichtung (der horizontalen Richtung in Fig. 2A). Fig. 4B zeigt ein Leistungsspektrum relativ zu der Richtung senkrecht zu der Abtastrichtung (der vertikalen Richtung in Fig. 2A). In den Fig. 4A und 4B und den Fig. 5A und 5B ist auf der Abszisse eine Frequenz (Kx, Ky) mit einer durch 0 angezeigten Mittenfrequenz aufgetragen und die Frequenz verschiebt sich davon um + und - in die rechte beziehungsweise linke Richtung und auf der Ordinate ist eine Intensität der Frequenzkomponenten aufgetragen. Beide Kurvendarstellungen zeigen eine DC-Komponentenspitze an der Mittenfrequenz und hochfrequente Komponenten (Rauschkomponenten) auf beiden Seiten. Die Fig. 5A und 5B zeigen die Leistungsspektren relativ zu der Abtastrichtung und zu der dazu senkrechten Richtung, nachdem die Abtastung eines Objektes beendet wurde und nachdem die Additions/Mittelungsverarbeitung acht mal durchgeführt wurde. Aus dem Vergleich der Fig. 4A und 4B und der Fig. 5A und 5B ist ersichtlich, daß wesentliche Rauschkomponenten durch die Additions/Mittelungsverarbeitung beseitigt worden sind.
- Der zweite Schritt einer räumlichen Filterverarbeitung B stellt einen Schritt dar, um jede Bildpunktintensität eines in dem ersten Schritt ausgegebenen Bildes (das Bild im Speicher M6) gemäß der Intensitäten von benachbarten Bildpunkten zu korrigieren. Das Hauptprinzip davon wird zunächst unter Bezugnahme auf Fig. 6A beschrieben. Der Durchmesser eines Strahlflecks, der durch eine strichpunktierte Linie dargestellt ist, ist größer als der Durchmesser jedes Bildpunktes, der mit einer durchgezogenen Linie angedeutet ist. Ein Strahl wird somit auf insgesamt 21 Bildpunkte gestrahlt, das heißt auf einen mittleren Bildpunkt P0 benachbart zu 8 Bildpunkten P1 und 12 Bildpunkten P2 außerhalb der benachbarten Bildpunkte. Die Menge von sekundären Elektronen, die an diesem Bestrahlungsbereich des Strahls gemessen wird, wird als die Intensität des mittleren Bildpunktes P0 verwendet und in dem oben beschriebenen ersten Schritt im Speicher M1 gespeichert. Die Intensität eines nächsten Bildpunktes auf der rechten Seite des Bildpunktes P0 entspricht der Menge von sekundären Elektronen, die gemessen werden, wenn der Strahlfleck 2 um einen Bildpunktbetrag nach rechts verschoben wird. Der Durchmesser eines Strahlflecks wird relativ groß, wenn das SEM bei einer niedrigen Beschleunigungsspannung betrieben wird. In dieser Ausführungsform wurden der Strahldurchmesser von 85 nm (850 Å) und ein Bildpunktdurchmesser von 17,4 nm (174 Å) verwendet.
- Allgemein weist der primäre Elektronenstrahl eines SEM eine Strahl-Stromintensitätsverteilung (normalerweise eine Gauss-Verteilung) auf, wie mit einer strichpunktierten Linie in Fig. 6B angedeutet. Das Strahlintensitätsverhältnis zwischen jeweiligen Bildpunkten P0 bis P2 kann durch einen Vergleich der Positionen der Bildpunkte und der in Fig. 6B gezeigten Strahl-Stromintensitätsverteilung ermittelt werden. In diesem Beispiel ist das Strahlintensitätsverhältnis zwischen Bildpunkten P0, P1 und P2 ungefähr 10 : 5:1. Entsprechend dem Strahlintensitätsverhältnis werden jeweiligen Bildpunkten Koeffizienten zugeordnet, wie in Fig. 6C gezeigt. Die Intensität jedes Bildpunktes wird mit dem Koeffizienten multipliziert. Alle Produkte werden zusammenaddiert, um eine neue Intensität des Bildpunktes P0 zu ermitteln. Dies bedeutet, daß die Intensität des Bildpunktes P0 gemäß der Intensitäten von benachbarten Bildpunkten korrigiert worden ist.
- In der vorliegenden Ausführungsform sind nur die acht Bildpunkte (die in Fig. 6C gezeigten Bildpunkte P1) benachbart zu dem zu korrigierenden Bildpunkt bei einem derartigen Korrekturprozeß verwendet worden und die Gewichtungswerte der Koeffizienten der Bildpunkte, die nicht auf der Abtastrichtung liegen, sind verkleinert worden. Die tatsächlichen Koeffizienten, so wie sie verwendet werden, werden somit wie in Fig. 6D gezeigt. Die Koeffizienten des Bildpunktes P0 und P1 sind 4 bzw. 2 gemäß der strahl-Stromintensitätsverteilung und die Koeffizienten von benachbarten Bildpunkten P1', die nicht auf der Abtastrichtung liegen, sind auf 1 anstelle von 2 verkleinert. Wie aus dem Vergleich zwischen den Fig. 4A und 4B ersichtlich ist, ist die Menge von Rauschkomponenten in der Abtastrichtung und in der dazu senkrechten Richtung unterschiedlich. Aus den Experimenten wurde bestätigt, daß eine gute Bildherstellung möglich ist, indem die Werte der Koeffizienten von benachbarten Pixeln, die nicht auf der Abtastrichtung liegen, verkleinert werden.
- Die oben beschriebene räumliche Filterverarbeitung wird gemäß der Prozedur ausgeführt, die im Flußdiagramm aus Fig. 1 gezeigt ist. Zunächst werden im Schritt S8 ein zu verarbeitender Bildpunkt und 8 benachbarte Bildpunkte extrahiert. Beispielsweise werden die in den Fig. 6A bis 6E gezeigten Bildpunkte P0 und P1 extrahiert. Danach werden im Schritt S10 die Koeffizienten und Intensitäten von jeweiligen Bildpunkten miteinander multipliziert.
- Die Intensitäten F1 bis F9 die, wie in Fig. 6E gezeigt, charakteristisch für jeweilige Bildpunkte sind, werden nämlich mit den in Fig. 6D gezeigten entsprechenden Koeffizienten multipliziert. Im Schritt S10 werden die Produkte zusammenaddiert und die sich ergebende Summe wird durch die Summe der Koeffizientenwerte dividiert. Das Divisionsergebnis wird als eine neue Intensität für den Bildpunkt P0 verwendet. Insbesondere wird die Summe S von Produkten folgendermaßen ausgedrückt
- S = F1+F2+F3+2F4+4F5+2F6+F7+F8+F9.
- Die Summe S, die durch die Summe von Koeffizientenwerten, das heißt 14, geteilt wurde, wird eine neue Intensität S/14 des Bildpunktes P0 nach der Korrektur. Ein derartiger Korrekturprozeß wird für alle Bildpunkte (S11) durchgeführt. Dieser Korrekturprozeß kann für am Umfang liegende Bildpunkte nicht ausgeführt werden, da sie keine derartigen benachbarten Bildpunkte aufweisen. Jedoch besitzt der Umfangsabschnitt eines Bildes normalerweise keine wesentlichen Informationen, wodurch sich kein Problem ergibt.
- Die oben beschriebene räumliche Filterverarbeitung B kann hochfrequente Rauschkomponenten wesentlich beseitigen, was in den Kurvendarstellungen der Fig. 7A und 7B dargestellt ist. Fig. 7A ist eine Kurvendarstellung, die die Intensitäten der Bildpunkte auf der Abtastrichtung vor der räumlichen Filterverarbeitung B zeigt, und Fig. 7B ist eine Kurvendarstellung nach der räumlichen Filterverarbeitung B. Auf der Abszisse ist die Position der Bildpunkte aufgetragen und auf der Ordinate ist die Intensität der Bildpunkte aufgetragen. Durch einen Vergleich der Kurvendarstellungen von den Fig. 7A und 7B ist ersichtlich, daß die Rauschkomponenten wirksam beseitigt sind.
- In dem dritten Schritt oder der linearen Bildverbesserungsverarbeitung C wird ein bis zum oben beschriebenen zweiten Schritt verarbeitetes Bild linear transformiert, um den Bildkontrast zu verbessern. Insbesondere wird im Schritt S12, der in Fig. 1 gezeigt ist, ein Maximumwert Fmax und ein Minimumwert Fmin von allen Bildpunktintensitäten ermittelt. Als nächstes wird im Schritt S13 ein zu verarbeitender Bildpunkt extrahiert, dessen Intensität F der folgenden Berechnung unterzogen wird, um eine neue Intensität X zu ermitteln:
- X = C(F - Fmin )/(Fmax - Fmin)
- wobei C eine beliebige Konstante ist.
- Der obige Prozeß wird für alle Bildpunkte (Schritt S15) durchgeführt, so daß sich die Intensitäten von jeweiligen Bildpunkten in dem Bereich von 0 bis C verteilen. Beispielsweise wird unter der Annahme von C = 255 die Intensität jedes Bildpunktes durch einen der Werte 0 bis 255 in 256 Schritten ausgedrückt. Falls eine logarithimische Berechnung im Schritt S14 durchgeführt wird, kann die Kontrasthervorhebung ebenfalls bewirkt werden.
- Die Kurvendarstellung aus Fig. 8 zeigt die Ergebnisse, die gemäß der von dem Flußdiagramm in Fig. 1 gezeigten Prozedur ermittelt wurden, während ein Bild eines auf einem in Fig. 9 gezeigten Halbleitersubstrat gebildeten Schichtmusters hergestellt wurde. Ein in Fig. 9 gezeigtes Lochmuster mit einem Lochdurchmesser von L1 = 1,2 Mikrometer und einer Tiefe von L2 = 3,6 Mikrometer wurde mit dem SEM abgetastet und die erhaltenen Bildpunktintensitäten des Bildes sind in der Kurvendarstellung in Fig. 8 gezeigt. Die Abszisse von Fig. 8 bezeichnet eine Bildpunktposition entsprechend der horizontalen Position in Fig. 9 und die Ordinate bezeichnet eine Bildpunktintensität (ausgedrückt durch einen 8 Bit-Digitalwert). Die Kurvendarstellung A bezeichnet die Intensitäten nach der in Fig. 1 gezeigten Additions/Mittelungsverarbeitung A, die Kurvendarstellung B bezeichnet die Intensitäten nach der räumlichen Filterverarbeitung B und die Kurvendarstellung C bezeichnet die Intensitäten nach der linearen Bildverbesserungsverarbeitung. Es wird darauf hingewiesen, daß die in der Kurvendarstellung A gezeigten Rauschkomponenten in der Kurvendarstellung B reduziert sind und der Kontrast in der Kurvendarstellung C im Vergleich mit der Kurvendarstellung B hervorgehoben ist.
- Es ist ersichtlich, daß nach Durchlaufen der drei Verarbeitungsschritte ein klares Bild mit beseitigten Rauschkomponenten erhalten wird. Gemäß dem anhand der obigen Ausführungsform beschriebenen Verfahren kann ein Bild eines Lochmusters sogar in der Größenordnung von einigen Sub-Mikrometern und mit einem relativ großen Aspektverhältnis allgemein klar erhalten werden. Somit eignet sich die Erfindung insbesondere zur Herstellung eines Bildes eines winzigen unebenen Musters auf einer integrierten Halbleiterschaltung. Natürlich ist die Erfindung auf irgendeine Art von Objekten anwendbar, vorausgesetzt, daß das Bildherstellungsverfahren unter Verwendung einer Strahlabtastung angewendet wird. Der Strahl ist nicht auf einen Elektronenstrahl begrenzt, sondern ein optischer Strahl kann ebenso verwendet werden.
- Wie aus der obigen Beschreibung des Bildherstellungsverfahrens ersichtlich ist, wird die Intensität eines Bildpunktes unter Verwendung einer räumlichen Filterverarbeitung gemäß der Intensitäten von benachbarten Bildpunkten korrigiert. Deshalb kann ein klares mild erreicht werden, dessen Rauschkomponenten wesentlich beseitigt worden ist. Außerdem wird ein abgetastetes Bild drei Verarbeitungsschritten einschließlich einer Additions/Mittelungsverarbeitung, einer räumlichen Filterverarbeitung und einer linearen Bildverbesserungsverarbeitung unterzogen, so daß ein klareres Bild erhalten werden kann.
Claims (7)
1. Bildherstellungsverfahren, umfassend die folgenden
Schritte:
einen ersten Schritt eines Strahlens eines Primärstrahls
mit einem Strahldurchmesser auf ein Objekt und Verwenden
einer sekundären Strahlungsintensität entsprechend einem
Bildbereich, auf den der Primärstrahl gestrahlt wurde
als eine Intensität eines Bildpunktes in der Mitte des
Bildbereichs und Abtasten des Untersuchungsbereichs des
Objektes mit dem Primärstrahl, um ein Bild in dem
Untersuchungsbereich als eine Ansammlung von Bildpunkten
zu bestimmen, die in Intervallen kleiner als der
Strahldurchmesser angeordnet sind; und
einen zweiten Schritt eines Zuordnens von Koeffizienten
gemäß der entsprechenden Werte der entsprechenden
Primärstrahl-Intensitätsverteilung zu einem Bildpunkt
der Ansammlung von zu verarbeitenden Bildpunkten und zu
benachbarten Bildpunkten, wobei das Maximum dieser
Primärstrahl-Intensitätsverteilung bei dem zu
verarbeitenden Bildpunkt liegt, Multiplizieren der
Intensität jedes Bildpunktes mit jedem zugeordneten
Koeffizienten, Bestimmen einer neuen Intensität des zu
verarbeitenden Bildpunktes gemäß der Summe der
jeweiligen Produkte und Wiederholen des Prozesses für
die Bestimmung der neuen Intensität für alle Bildpunkte,
für die eine Verarbeitung erforderlich ist.
2. Bildherstellungsverfahren nach Anspruch 1,
dadurch gekennzeichnet, daß der zweite
Schritt außerdem einen Schritt umfaßt, in dem der Wert
der zugeordneten Koeffizienten an diesen benachbarten
Bildpunkten, außer derjenigen, die auf der
Abtastrichtung liegen, verkleinert wird, bevor die
Intensität jedes Bildpunktes mit jedem zugeordneten
Koeffizienten multipliziert wird.
3. Bildherstellungsverfahren nach Anspruch 1 oder 2,
dadurch gekennzeichnet, daß der erste
Schritt außerdem einen Schritt einer mehrmaligen
Wiederholung der Primärstrahlabtastung umfaßt, einer
Mittelung einer Vielzahl von Intensitäten eines gleichen
Bildpunktes, die durch die mehrmaligen Strahlabtastungen
erhalten werden, um ein Bild des Objektes innerhalb des
Untersuchungsgebiets als eine Ansammlung von Bildpunkten
mit gemittelten Intensitäten zu bestimmen.
4. Bildherstellungsverfahren nach einem der vorangehenden
Ansprüche,
außerdem umfassend einen dritten Schritt eines linearen
Transformierens der Intensitäten der jeweiligen
Bildpunkte, derart, daß die Intensitäten Intensitäten in
einem vorgegebenen Bereich sind.
5. Bildherstellungsverfahren nach Anspruch 4,
dadurch gekennzeichnet, daß in dem
dritten Schritt ein Maximumwert Fmax und ein
Minimumwert Fmin der Intensitäten F von jeweiligen zu
verarbeitenden Bildpunkten ermittelt werden und die
Intensität jedes Bildpunktes der folgenden Berechnung
unterzogen wird, um einen neuen Intensitätswert X zu
ermitteln:
X = C(F - Fmin)·/ (Fmax - Fmin)
wobei C eine vorgegebene Konstante ist.
6. Bildherstellungsverfahren nach einem der vorangehenden
Ansprüche,
dadurch gekennzeichnet, daß ein Strahlen
und Abtasten des Primärstrahls und eine Ermittlung der
sekundären Strahlungsintensitäten unter Verwendung eines
Rasterelektronenmikroskops ausgeführt werden.
7. Bildherstellungsverfahren nach einem der vorangehenden
Ansprüche,
dadurch gekennzeichnet, daß die
Primärstrahl-Intensitätsverteilung eine Gauss-Verteilung
ist.
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP62259208A JPH01102841A (ja) | 1987-10-14 | 1987-10-14 | 画像形成方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE3887810D1 DE3887810D1 (de) | 1994-03-24 |
DE3887810T2 true DE3887810T2 (de) | 1994-07-14 |
Family
ID=17330893
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE3887810T Expired - Fee Related DE3887810T2 (de) | 1987-10-14 | 1988-10-14 | Verfahren zur Bildherstellung durch Verwendung der vom Objekt emittierten Sekundärelektronen. |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US4894540A (de) |
EP (1) | EP0312082B1 (de) |
JP (1) | JPH01102841A (de) |
KR (1) | KR920002370B1 (de) |
DE (1) | DE3887810T2 (de) |
Families Citing this family (19)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2602287B2 (ja) * | 1988-07-01 | 1997-04-23 | 株式会社日立製作所 | X線マスクの欠陥検査方法及びその装置 |
US5065147A (en) * | 1989-05-17 | 1991-11-12 | Hewlett-Packard Company | Method and apparatus for simulating analog display in digital display test instrument |
JP2707346B2 (ja) * | 1990-01-12 | 1998-01-28 | 富士写真フイルム株式会社 | 放射線画像情報読取装置 |
JP2768548B2 (ja) * | 1990-11-09 | 1998-06-25 | シャープ株式会社 | パネルディスプレイ表示装置 |
NL9100076A (nl) * | 1991-01-17 | 1992-08-17 | Philips Nv | Methode voor automatische uitlijning van een elektronenmicroscoop en een elektronenmicroscoop geschikt voor uitvoering van een dergelijke methode. |
US5212383A (en) * | 1991-07-29 | 1993-05-18 | David Scharf | Color synthesizing scanning electron microscope |
US5757516A (en) * | 1993-01-11 | 1998-05-26 | Canon Inc. | Noise quenching method and apparatus for a colour display system |
JP2980789B2 (ja) * | 1993-05-06 | 1999-11-22 | 株式会社東芝 | パターン寸法測定装置及びその方法 |
JPH07122624A (ja) * | 1993-10-28 | 1995-05-12 | Nec Corp | ウェハのプリアライメント装置 |
JP3230911B2 (ja) * | 1993-11-04 | 2001-11-19 | 株式会社日立製作所 | 走査電子顕微鏡及びその画像形成方法 |
US5821915A (en) * | 1995-10-11 | 1998-10-13 | Hewlett-Packard Company | Method and apparatus for removing artifacts from scanned halftone images |
US6212292B1 (en) * | 1998-07-08 | 2001-04-03 | California Institute Of Technology | Creating an image of an object with an optical microscope |
US6353222B1 (en) | 1998-09-03 | 2002-03-05 | Applied Materials, Inc. | Determining defect depth and contour information in wafer structures using multiple SEM images |
US6538249B1 (en) | 1999-07-09 | 2003-03-25 | Hitachi, Ltd. | Image-formation apparatus using charged particle beams under various focus conditions |
US7241993B2 (en) | 2000-06-27 | 2007-07-10 | Ebara Corporation | Inspection system by charged particle beam and method of manufacturing devices using the system |
US6855929B2 (en) | 2000-12-01 | 2005-02-15 | Ebara Corporation | Apparatus for inspection with electron beam, method for operating same, and method for manufacturing semiconductor device using former |
TWI494824B (zh) * | 2010-08-24 | 2015-08-01 | Quanta Comp Inc | 光學觸控系統及方法 |
US8669524B2 (en) * | 2010-10-25 | 2014-03-11 | The Reseach Foundation of State University of New York | Scanning incremental focus microscopy |
CN113759412B (zh) * | 2020-06-03 | 2023-08-22 | 上海联影医疗科技股份有限公司 | 获取束流形状和能量探测单元响应特征的方法、装置 |
Family Cites Families (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS568140A (en) * | 1979-07-02 | 1981-01-27 | Dainippon Screen Mfg Co Ltd | Emphasizing method of sharpness in image scanning and recording apparatus |
DE3016655C2 (de) * | 1980-04-30 | 1983-12-15 | Günter Hermann Dipl.-Ing. 4544 Ladbergen Heeke | Verfahren zur Ortsfrequenzfilterung von Bildern |
JPS57208132A (en) * | 1981-06-17 | 1982-12-21 | Toshiba Corp | Electron-beam exposure apparatus |
JPS59112217A (ja) * | 1982-11-29 | 1984-06-28 | Toshiba Corp | 寸法測定方法 |
DE3470225D1 (en) * | 1983-04-14 | 1988-05-05 | Siemens Ag | Method of reproducing electrical barrier layers (pn-junctions) in semiconductors by processing induced corpuscular beam signals within a scanning corpuscular microscope |
US4719456A (en) * | 1985-03-08 | 1988-01-12 | Standard Microsystems Corporation | Video dot intensity balancer |
JPH069061B2 (ja) * | 1986-03-26 | 1994-02-02 | 富士写真フイルム株式会社 | 画像デ−タの平滑化方法 |
US4768156A (en) * | 1986-05-06 | 1988-08-30 | The United States Of America As Represented By The Secretary Of The Navy | Imaging system |
-
1987
- 1987-10-14 JP JP62259208A patent/JPH01102841A/ja active Granted
-
1988
- 1988-10-14 KR KR1019880013430A patent/KR920002370B1/ko not_active IP Right Cessation
- 1988-10-14 EP EP88117110A patent/EP0312082B1/de not_active Expired - Lifetime
- 1988-10-14 US US07/257,557 patent/US4894540A/en not_active Expired - Lifetime
- 1988-10-14 DE DE3887810T patent/DE3887810T2/de not_active Expired - Fee Related
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US4894540A (en) | 1990-01-16 |
EP0312082B1 (de) | 1994-02-16 |
KR890007052A (ko) | 1989-06-17 |
KR920002370B1 (ko) | 1992-03-23 |
JPH01102841A (ja) | 1989-04-20 |
EP0312082A2 (de) | 1989-04-19 |
EP0312082A3 (en) | 1990-01-31 |
JPH0550094B2 (de) | 1993-07-28 |
DE3887810D1 (de) | 1994-03-24 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
DE3887810T2 (de) | Verfahren zur Bildherstellung durch Verwendung der vom Objekt emittierten Sekundärelektronen. | |
DE69318876T2 (de) | System und Verfahren zur Umwandlung von Halbtonbildern in Bilder mit kontinuierlichen Tönen | |
DE3826288C2 (de) | ||
DE69615994T2 (de) | Bildverarbeitungsverfahren zur rauschverminderung | |
DE69622905T2 (de) | Bilddatenverarbeitungsverfahren | |
DE69429498T2 (de) | Dosis modulierung und pixel-ablenkung für rasterabgetastetes lithographieverfahren | |
DE3588169T2 (de) | Verfahren zur Detektion einer Bildbelichtungsfläche in einem Bildauslesevorgang | |
DE2830846C2 (de) | Vorrichtung zum Ermitteln von Fehlern in flächenhaften Mustern, insbesondere in Photomasken | |
DE69708449T2 (de) | Vorrichtung zur Umwandlung von Graupegeln eines Bildes, Verfahren dafür, Programmspeichereinrichtung dafür, und Infrarotkamera | |
DE60121639T2 (de) | Verfahren und Vorrichtung zur Unterdrückung eines periodisches Geräusches | |
DE60315568T2 (de) | Verfahren zur Verbesserung der Schärfe eines Digitalbildes | |
DE19546769C2 (de) | Verfahren und Vorrichtung zur Erzeugung von Musterdaten | |
DE69020622T2 (de) | Bildverarbeitungsgerät. | |
DE60225760T2 (de) | Verfahren zur Bestimmung einer Schwellenmatrix zur Erzeugung eines Gradationsbildes | |
DE69123677T2 (de) | Reflektionsmaske und eine solche Reflektionsmaske verwendendes geladenes Teilchenstrahl-Belichtungsgerät | |
DE69626876T2 (de) | Verfahren und Vorrichtung zum Erfassen von Gittern in einem Digitalbild | |
DE3201373C2 (de) | Verfahren zur optisch-elektronischen Rasterreproduktion | |
DE69129214T2 (de) | Verfahren zur Wiederherstellung von Bildern | |
DE69813931T2 (de) | Filterverfahren zur Fokussierung von Bildern | |
DE69229085T2 (de) | System zur Bildverarbeitung | |
DE4409374A1 (de) | Elektronenstrahllithographie-Gerät mit Elektronenoptik-Korrektursystem | |
DE3524852C2 (de) | ||
DE69424136T2 (de) | Verfahren und Anordnung zur Bearbeitung von Überlagerungsstrahlungsbildern | |
DE69421369T2 (de) | Automatische Schwellwertbestimmung für numerische Abtaster | |
EP0517302B1 (de) | Anordnung zum Erzeugen von Röntgenaufnahmen |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
8364 | No opposition during term of opposition | ||
8320 | Willingness to grant licences declared (paragraph 23) | ||
8339 | Ceased/non-payment of the annual fee |