DE3828137A1 - Verfahren zur herstellung eines ueberzugsfilms aus titan enthaltendem oxid unter verwendung einer alkoxidloesung - Google Patents
Verfahren zur herstellung eines ueberzugsfilms aus titan enthaltendem oxid unter verwendung einer alkoxidloesungInfo
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Description
Die Erfindung betrifft ein Verfahren zur Herstellung eines
Überzugsfilms aus entweder Titanoxid oder einem Titan enthaltenden
Mischoxid auf einem Substrat oder Träger durch
Aufbringen einer Alkoxidlösung auf das Substrat und thermisches
Zersetzen des Alkoxids oder der Alkoxide auf der
Substratoberfläche.
Auf verschiedenen Substratoberflächen kann ein dünner Überzugsfilm
aus Titanoxid oder einem Mischoxid von Titan und
einem anderen Metall als dielektrische Schicht mit relativ
hohem Brechnungsvermögen ausgebildet werden. Ein solcher
Überzugsfilm wird beispielsweise als selektiv reflektierender
Film oder bei nichtreflektierenden Gläsern oder Head
up-Displays verwendet.
In den meisten Fällen werden Überzugsfilme auf Titanoxid
basis durch eine physikalische Dampfabscheidungsmethode
wie durch Vakuumverdampfung oder durch Kathodenzerstäubung
gebildet. Wegen der Verwendung von Hochvakuumapparaturen
bringen physikalische Dampfabscheidungsmethoden jedoch große
Ausrüstungsinvestitionen mit sich und sie leiden oft an
einer relativ geringen Produktivität. Weiterhin müssen die
zu verdampfenden oder zu zerstäubenden Materialien eine
sehr hohe Reinheit besitzen, und die Struktur und die Eigenschaften
der abgelagerten Filme werden in starkem Maße durch
geringe Veränderungen der Ablagerungsbedingungen beeinflußt.
Trotz sorgfältiger Steuerung der Ablagerungsbedingungen ist
es nicht leicht, eine gleichförmige Qualität der abgelagerten
Filme wegen der beinahe unvermeidlichen Veränderung
einiger Faktoren wie der Temperatur, der Ablagerungsrate
und/oder der Dicke des abgelagerten Filmes einzuhalten.
Zur Vermeidung solcher Nachteile und Schwierigkeiten von
physikalischen Dampfabscheidungsmethoden wurden bereits
Versuche zur Bildung eines Überzugsfilms aus Titanoxid oder
einem Titan enthaltenden Mischoxid mit guten optischen Eigenschaften
durch thermische Zersetzung eines Titanalkoxids
oder einer Mischung hiervon mit einem anderen Metalloxid
unternommen, wobei diese auf die Substratoberfläche als
Lösung in einem organischen Lösungsmittel aufgetragen werden.
Zum Auftrag der Alkoxidlösung auf das Substrat ist
es möglich, selektiv eine konventionelle Naßbeschichtungs
methode wie eine Sprühbeschichtung, eine Walzenbeschichtung,
eine Rotationsbeschichtung oder eine Eintauchbeschichtung
anzuwenden.
Beispielsweise wird in der JP 61-44 948 vorgeschlagen, eine
Säure zu einer Titanalkoxidlösung vor dem Auftrag der Lösung
auf ein Substrat zuzusetzen, um die Stabilität der
Lösung zu verbessern. Jedoch stellt es einen Nachteil dar,
daß die Viskosität der säurehaltigen Lösung allmählich als
Folge des Fortschreitens einer Kondensationsreaktion und
der hieraus herrührenden Vernetzung von Titanhydroxid zunimmt.
Zur Bildung von flüssigen Beschichtungsfilmen gleichförmiger
Dicke nach einer Eintauchbeschichtungsmethode ist
es erforderlich, die Viskosität der Beschichtungsflüssigkeit
innerhalb eines vorbestimmten und relativ schmalen
Bereiches zu halten, jedoch ist es schwierig, die Viskosität
der säurehaltigen Alkoxidlösung für eine erwünschte
Zeitdauer nahezu konstant zu halten. Daher besteht die Notwendigkeit
einer häufigen Viskositätsmessung an der Lösung,
wobei es wahrscheinlich ist, daß ein beträchtlicher Teil
der Lösung als nicht mehr brauchbar verworfen werden muß.
In der JP-A 59-227 743 ist eine Arbeitsweise zur Bildung
eines gefärbten Überzugsfilms eines Metalloxids auf einem
beliebigen Substrat unter Verwendung einer Lösung eines
Chlor enthaltenden Alkoxids der Formel MCl x (OR) y gezeigt,
wobei M ein Metall der Wertigkeit x + y und R ein C₁-C₁₀-
Alkylrest sind. Auf der Substratoberfläche wird ein Film
der Lösung bei einer Temperatur im Bereich von Zimmertemperatur
bis 150°C getrocknet und dann bei einer Temperatur oberhalb
von 300°C gebrannt bzw. hitzebehandelt. Beispiele für
das Metall M umfassen Ti, jedoch sind in der Beschreibung
keine Einzelheiten der Cl-enthaltenden Alkoxidlösungen angegeben.
Bei dieser Arbeitsweise wird angenommen, daß das
in dem Alkoxid enthaltene Chlor in der Gasphase bei der
Stufe des Trocknens des Beschichtungsfilms auf der Substrat
oberfläche entfernt werden kann. Wenn das Substrat ein Glas
ist, ergibt das Nichtauftreten eines raschen und vollständigen
Verschwindens von Chlor von der Substratoberfläche
möglicherweise die Bildung von weißen Wolken des erhaltenen
Oxidfilms als Folge der Reaktion von Chlor oder Chlorwasserstoff
mit den Kationen der Glasoberfläche.
Aufgabe der vorliegenden Erfindung ist die Bereitstellung
eines verbesserten Verfahrens zur Herstellung eines Überzugsfilms
aus entweder Titanoxid oder einem Titan enthaltenden
Mischoxid unter Verwendung einer Alkoxidlösung, wobei das
Verfahren die einfache Herstellung eines gewünschten Überzugs
films mit gutem Aussehen, genau geregelter Dicke, mit
den erwarteten optischen Eigenschaften und bei guter Repro
duzierbarkeit ergeben soll.
Zur Lösung dieser Aufgabe dient das erfindungsgemäße Verfahren
zur Bildung eines Überzugsfilms aus Titanoxid auf
einem Substrat, wobei das Verfahren dadurch gekennzeichnet
ist, daß es folgende Stufen umfaßt:
- (a) Auftragen einer Beschichtungsflüssigkeit, wobei diese
eine Lösung eines Chlor enthaltenden Titanalkoxids
der allgemeinen Formel
TiCl₄ -x (OR) x ,worin R ein Alkyl- oder Alkoxyalkylrest mit 1 bis
10 Kohlenstoffatomen ist und x einen Wert von nicht
kleiner als 2,5 und nicht größer als 3,5 besitzt,
in einem organischen Lösungsmittel ist, in welcher
die Konzentration des Alkoxids im Bereich von 0,2
bis 0,8 mol/l liegt,
auf das Substrat zur Bildung eines flüssigen Beschichtungs films auf dem Substrat; - (b) Trocknen des flüssigen Beschichtungsfilms bei einer erhöhten Temperatur im Bereich von 200°C bis 300°C;
- (c) Wiederholung der Stufen (a) und (b) wenigstens einmal, bis der erhaltene Beschichtungsfilm die gewünschte Dicke angenommen hat; und
- (d) nach Durchführung der Stufe (c) Brennen des getrockneten Beschichtungsfilms auf einer nicht niedrigeren Temperatur als 400°C.
Weiterhin kann nach dem erfindungsgemäßen Verfahren ein
Überzugsfilm aus einem Titan enthaltenden Mischoxid auf
einem Substrat hergestellt werden, wobei diese Ausführungsform
im allgemeinen ähnlich wie bei der zuvor angegebenen
Verfahrensweise, jedoch mit der Ausnahme durchgeführt wird,
daß eine Mischalkoxidlösung als Beschichtungsflüssigkeit
verwendet wird. In diesem Fall ist die Beschichtungsflüssigkeit
eine Lösung eines Chlor enthaltenden Titanalkoxids
der zuvor angegebenen allgemeinen Formel und eines Alkoxids
eines Metalles M, wobei dieses unter Si, Al und Zr ausgewählt
ist, oder deren Hydrolysate in einem organischen Lösungsmittel.
In der Mischalkoxidlösung ist das Molverhältnis des Metalls M : Ti
auf höchstens 1,2 : 1 beschränkt, und die Gesamtkonzentration
des Titanalkoxids und des anderen Metallalkoxids oder
dessen Hydrolysates ist innerhalb des Bereiches von 0,2
bis 0,8 mol/l beschränkt.
Bei dem erfindungsgemäßen Verfahren sind die Besonderheiten
der Beschichtungsflüssigkeit und der Naßbeschichtungs- und
Trocknungsstufen so, wie sie zuvor beschrieben wurden. Die
Beschichtungsflüssigkeit ist sehr stabil und besitzt eine
lange Verarbeitungszeit, wobei die Bildung eines Oxidüberzugs
films von ausgezeichneter Qualität und genau geregelter
Dicke bei guter Reproduzierbarkeit leicht möglich ist. Unter
Anwendung des erfindungsgemäßen Verfahrens ist es möglich,
in effizienter und wirtschaftlicher Weise Titan enthaltende
Oxidüberzugsfilme für verschiedene Zwecke herzustellen, einschließlich
selektiv reflektierender Filme, Überzüge bzw. Beschichtungen
für nichtreflektierende Gläser und Überzüge
oder Beschichtungen bei Headup-Displays.
Das erfindungsgemäße Verfahren ist auf verschiedene Substrat
materialien oder Unterlagematerialien einschließlich anorganischen
und organischen Materialien anwendbar. Insbesondere
sind Gläser und Keramikmaterialien solche Substratmaterialien
für das erfindungsgemäße Verfahren.
Die Erfindung wird unter Bezugnahme auf die Zeichnung näher
erläutert; in der Zeichnung sind:
Fig. 1 ein Diagramm, welches die Abhängigkeit des Reflexions
vermögens eines Oxidüberzugsfilms wiedergibt, welcher
unter Verwendung einer ein Siliziumalkoxid und ein
chlorhaltiges Titanalkoxid enthaltenden, flüssigen
Zusammensetzung hergestellt wurde, abhängig von
der Wellenlänge des einfallenden Lichtes und der
Filmdicke; und
Fig. 2 ein Diagramm, welches die Veränderungen in den in
der Fig. 1 gezeigten Relationen wiedergibt, wie
sie beobachtet werden, wenn das Verhältnis von Silizium
zu Titan in der flüssigen Zusammensetzung sowie
die Brenntemperatur zur Bildung des Überzugsfilms
verändert werden.
Im folgenden werden bevorzugte Ausführungsformen näher
erläutert:
Für Cl-enthaltende Titanalkoxide TiCl₄ -x (OR) x , wie sie
erfindungsgemäß verwendet werden, sind bevorzugte Beispiele
für den Alkyl- oder Alkoxyalkylrest R der i-Propyl-, n-Butyl-,
2-Ethoxyethyl- und 2-Propoxyethlyrest, da eine Beschichtungs
flüssigkeit unter Verwendung eines beliebigen dieser Alkoxide
eine sehr hohe Stabilität besitzt und einen Oxidfilm sehr
guter Qualität ergibt. Weiterhin ist die Verwendung einer
etwa äquimolaren Mischung von Alkoxiden mit i-Propylresten
bzw. 2-Propoxyethylresten als Reste R in einer Verbindung
der allgemeinen Formel bevorzugt.
Hinsichtlich des Gehaltes an Cl in TiCl₄ -x (OR) x ist es gemäß
der Erfindung erforderlich, daß x in der allgemeinen
Formel einen Wert von nicht kleiner als 2,5 und nicht größer
als 3,5 besitzt. Obwohl eine Beschichtungsflüssigkeit mit
aufgezeichneter Stabilität unter Verwendung eines Cl-haltigen
Titanalkoxids mit einem kleineren Wert als 2,5 für x
erhalten wird, kann der Auftrag eines solchen Beschichtungs
filmes die Bildung weißer Wolken des erhaltenen Überzugsfilms
und eine nicht ausreichende Glattheit der Filmoberfläche
als Folge des übermäßig hohen Gehaltes an Cl in
dem Alkoxid nach sich ziehen. Im Fall einer Beschichtungs
flüssigkeit unter Verwendung eines Cl-haltigen Titanalkoxids
mit einem größeren Wert als 3,5 für x besitzt die Beschichtungs
flüssigkeit eine kurze Verarbeitungszeit als Folge
der nicht ausreichenden Stabilität und der starken Wahrscheinlichkeit
zu einer Hydrolyse, so daß die Bildung von Überzugsfilmen
gleichförmiger Dicke schwierig wird und weiterhin
die Überzugsfilme die Bildung von weißen Wolken zeigen
können.
Ein Cl-haltiges Titanalkoxid zur Verwendung gemäß der Erfindung
kann nach bekannten Methoden z. B. durch Vermischen
von Titantetrachlorid mit einem vollständig substituierten
Titanalkoxid der Formel Ti(OR)₄ oder durch Einführung von
Ammoniakgas in eine alkoholische Lösung von Titantetrachlorid
und Entfernen des als Nebenprodukt gebildeten Ammoniumchlorids
erhalten werden. Hierzu wird auf die japanischen Patentanmeldungen
62-154 268 und 62-154 269 vom 29. Juli 1987 (noch
nicht veröffentlicht) der Anmelderin verwiesen, worin die
Bildung eines Cl-haltigen Alkoxids eines Erdalkalimetalls
durch Umsetzung eines Erdalkalimetallchlorids mit einem
Alkohol in Anwesenheit eines Alkalimetalls oder mit einem
Alkalimetallalkoxid beschrieben wurde. Ein Cl-haltiges Titan
alkoxid kann nach einer ähnlichen Verfahrensweise hergestellt
werden, und eine Lösung des erhaltenen Alkoxids ist hinsichtlich
der Stabilität überlegen, so daß sie eine lange Verarbeitungszeit
oder Lebensdauer besitzt und Überzugsfilme
von ausgezeichneter Qualität liefert.
Verschiedene Arten von organischen Lösungsmitteln sind bei
der Herstellung einer Lösung von TiCl₄ -x (OR) x als Beschichtungs
flüssigkeit für Zwecke der Erfindung brauchbar. Üblicherweise
wird TiCl₄ -x (OR) x als Lösung in einem Alkohol erhalten,
und die Lösung kann als Beschichtungsflüssigkeit nach
ihrer Verdünnung entsprechend den Erfordernissen mit demselben
Alkohol oder einem anderen Lösungsmittel eingesetzt
werden. Falls die Lösung irgendwelche Nebenprodukte zusammen
mit dem Cl-enthaltenden Alkoxid, z. B. Natriumchlorid,
enthält, wird das Nebenprodukt in einer Vorbehandlung entfernt,
z. B. durch Filtration. Die Verwendung eines Alkohols
ist jedoch nicht unerläßlich für eine Beschichtungsflüssigkeit,
wie sie erfindungsgemäß verwendet wird. Dies bedeutet,
daß das Lösungsmittel auch unter Kohlenwasserstoffen wie
Hexan, Heptan, Benzol, Toluol und Xylol, Alkoholen wie n-Propanol,
i-Propanol, n-Butanol, i-Butanol, Ethylenglykolmono
ethylether und Ethylenglykol, Essigsäureestern wie Ethylacetat
und Butylacetat, Ketonen wie Diethylketon und Aceton
und einigen anderen Lösungsmitteln wie Tetrahydrofuran und
Chloroform ausgewählt werden kann. Wahlweise kann eine Kombination
von zwei oder mehr Arten von Lösungsmitteln verwendet
werden, wobei die Verwendung einer Kombination eines
Alkohols und eines anderen Lösungsmittels, wobei dieses
ein Alkohol oder auch kein Alkohol sein kann, bevorzugt
ist.
Bei einer Beschichtungsflüssigkeit zur Bildung eines Titanoxid
überzugsfilms sollte die Konzentration des Cl-haltigen
Titanalkoxids im Bereich von 0,2 bis 0,8 mol/l liegen. Falls
die Konzentration niedriger als 0,2 mol/l beträgt, muß der
Auftrag der Beschichtungsflüssigkeit auf ein Substrat viele
Male zur Bildung eines guten Überzugsfilms wiederholt werden,
da die Dicke des jeweils einzeln gebildeten Filmes
zu gering ist. Wenn die Konzentration höher als 0,8 mol/l
liegt, wird die Dicke des bei einem einmaligen Auftrag der
Beschichtungsflüssigkeit auf ein Substrat gebildeten Filmes
zu groß, so daß der erhaltene Oxidfilm durch das Trocknen
und Brennen eine schlechtere Oberflächenglätte bekommt und
oftmals auf ein Schrumpfen zurückzuführende Risse aufweist.
Wahlweise kann Acetylaceton zu der Beschichtungsflüssigkeit
zur Steuerung der Viskosität der Beschichtungsflüssigkeit
oder der Trocknungsrate des durch Auftragen der Beschichtungs
flüssigkeit auf ein Substrat gebildeten, flüssigen Films zugesetzt werden.
Darüber hinaus beeinflußt Acetylaceton die Stabilität der
Beschichtungsflüssigkeit und die Qualität des erhaltenen
Überzugsfilms, da Acetylaceton eine direkte Koordination
mit Titan eingeht. Wenn Acetylaceton eingesetzt wird, beträgt
das Molverhältnis von Acetylaceton zu Cl-haltigem
Titanalkoxid vorteilhafterweise in dem Bereich von 0,05 : 1
bis 1 : 1.
Wenn ein Überzugsfilm aus einem Mischoxid von Ti und Si,
Al oder Zr nach dem erfindungsgemäßen Verfahren hergestellt
werden soll, wird eine Mischlösung eines Cl-haltigen Titan
alkoxids und eines Alkoxids von Si, Al oder Zr oder eines
Hydrolysates des Si-, Al- oder Zr-alkoxids als Beschichtungsflüssigkeit
eingesetzt. In der Mischlösung ist das Molverhältnis
von Si, Al oder Zr zu Ti auf maximal 1,2 : 1 beschränkt,
und die Gesamtkonzentration der Alkoxide soll
im Bereich von 0,2 bis 0,8 mol/l liegen. Ein beliebiges
Alkoxid von Si, Al oder Zr kann verwendet werden, sofern
es eine gute Stabilität als Lösung in einem organischen
Lösungsmittel besitzt. Das Alkoxid kann ein Cl-haltiges
Alkoxid sein. Im Fall der Verwendung eines Hydrolysates
eines Si-, Al- oder Zr-alkoxides ist es wünschenswert, den
Wassergehalt in der Mischlösung so niedrig wie möglich wegen
der Stabilität des Hydrolysates einzustellen, und daher
ist eine solche Mischlösung von der Menge des in der Lösung
vorhandenen Wassers sehr abhängig. Unter Verwendung einer
in der zuvor beschriebenen Weise hergestellten Beschichtungs
flüssigkeit wird ein Überzugsfilm von Titanoxid oder einem
Mischoxid von Ti und Si, Al oder Zr nach folgenden Stufen
hergestellt:
Die Beschichtungsflüssigkeit wird auf ein Substrat oder
eine Unterlage, nämlich den zu beschichtenden Gegenstand,
nach einer bekannten Beschichtungsmethode wie durch Sprühauftrag,
Walzenauftrag, Rotationsbeschichtung, Eintauchbeschichtung
oder chemische Dampfabscheidung aufgebracht.
Für eine leichte Bildung eines Überzugsfilms mit ausgezeichneten
optischen Eigenschaften ist es vorteilhaft, entweder
eine Rotationsbeschichtungsmethode oder eine Eintauchbeschichtungsmethode
anzuwenden.
Der auf das Substrat aufgeschichtete Flüssigkeitsfilm wird
einem natürlichen Trocknen bei Zimmertemperatur während
10-20 Minuten überlassen, um den größten Teil des Lösungsmittels
in dem Flüssigkeitsfilm zu verdampfen und das Alkoxid
oder die Alkoxide durch den Feuchtigkeitsgehalt der Atmosphäre
hydrolysieren zu lassen. Danach wird der Beschichtungsfilm
durch Erwärmen auf 200-300°C während einer Zeitspanne
von etwa 1 Stunde oder länger getrocknet. Diese Hitzetrocknung
wird zur vollständigen Entfernung des Lösungsmittels,
für eine rasche Verdampfung und Entfernung des in der
Beschichtungsflüssigkeit enthaltenen Chlors und für eine feste
Fixierung des Überzugsfilms auf der Substratoberfläche durchgeführt,
so daß der Film von dem Substrat sich nicht abschälen
kann und auch nicht auflösen kann, wenn ein Auftrag
von Beschichtungsflüssigkeit wiederholt wird. Eine
rasche Entfernung von Chlor ist insbesondere im Fall eines
Glassubstrates oder einer Glasunterlage sehr wichtig, da
bei langem Verbleiben von Chlor auf dem Substrat die Reaktion
von Chlor mit Kationen in dem Glas die Bildung von
weißen Wolken in dem Überzugsfilm bewirkt. Daher ist es
vorteilhaft, eine Trocknungsapparatur einzusetzen, bei der
das hierin enthaltene Gas rasch durch die äußere Atmosphäre
ersetzt wird und in der die Temperatur mit einer Rate von
wenigstens 10°C/min gesteigert werden kann. Falls die Trocknungs
temperatur niedriger als 200°C liegt, kann der getrocknete
Überzugsfilm sich von dem Substrat abschälen oder als
Folge der Bildung von weißen Wolken in dem letztlich erhaltenen
Oxidfilm kann er wieder aufgelöst werden, wenn der
Auftrag von Beschichtungsflüssigkeit wiederholt wird. Falls
die Trocknungstemperatur höher als 300°C liegt, erfahren
die organischen Komponenten in dem Überzugsfilm eine nicht
vollständige Zersetzung, wodurch freier Kohlenstoff in dem
Überzugsfilm zurückbleibt und hierdurch die Transparenz
des letztlich erhaltenen Oxidfilms negativ beeinflußt wird.
Außerdem ist ein Trocknen bei einer solch hohen Temperatur
unter dem Gesichtspunkt der Wirtschaftlichkeit der Wärmebehandlung
unvorteilhaft und ergibt eine Erniedrigung der
Haftfestigkeit des Überzugsfilmes auf der Substratoberfläche
als Folge der Hitzebehandlung.
Die zuvor beschriebene Verfahrensweise zum Auftrag der
Beschichtungsflüssigkeit auf das Substrat und des Trocknens
des Überzugsfilmes zuerst bei Zimmertemperatur und dann
bei 200-300°C wird wenigstens einmal wiederholt. Da die
Alkoxidkonzentration der Beschichtungsflüssigkeit auf 0,8
mol/l als höchstem Wert begrenzt ist, beträgt die maximale
Dicke des durch einmaligen Auftrag der Beschichtungsflüssigkeit
auf das Substrat erhaltenen Oxidüberzugsfilms 150-160 nm
(1500-1600 Å). Üblicherweise ist eine größere Dicke für
einen Überzugsfilm aus Titanoxid oder einem Mischoxid von
Titan und z. B. Si für ausgezeichnete optische Eigenschaften
erforderlich. Daher wird die Beschichtungsflüssigkeit
auf dieselbe Fläche des Substrates wenigstens zweimal aufgetragen,
wobei jedesmal ein Trocknen in der zuvor beschriebenen
Weise durchgeführt wird.
Nach Wiederholung des Beschichtungs- und Trocknungsvorganges
in einem solchen Ausmaß, daß der Überzugsfilm eine ausreichende
Dicke annimmt, wird das Substrat mit dem getrockneten
Überzugsfilm in Luft bei einer nicht niedrigeren Temperatur
als 400°C zur vollständigen Zersetzung des Alkoxides
oder der Alkoxide in kristallines Oxid von Titan oder Mischoxid
von Ti und Si, Al oder Zr gebrannt. Das spezifische
Lichtbrechungsvermögen des erhaltenen Films aus Titanoxid
oder Mischoxid hängt von der Brenntemperatur ab.
Im Falle eines Titanoxidfilmes wird ein Brechungsindex oberhalb
von 2,0 bei guter Reproduzierbarkeit erreicht. Wenn
die Brenntemperatur unterhalb 400°C liegt, wird die Reproduzierbarkeit
des Brechungsindexes schlecht. Zur Steuerung
der optischen Dicke des Oxidbeschichtungsfilmes, n · d (wobei
n der Brechungsindex und d die Dicke sind), die bei
einer vorgegebenen Brenntemperatur (nicht niedriger als
400°C) gebildet wurde, kann die Dicke (d) des Filmes durch
geeignete Veränderung der Konzentration der Beschichtungsflüssigkeit,
der Art und Weise des Auftrages der Beschichtungsflüssigkeit
auf das Substrat, den Trocknungsbedingungen,
der Anzahl der Wiederholungsschritte des Beschichtungs-
und Trocknungsvorganges und/oder der Art und Weise des Brennens
des getrockneten Überzugsfilmes gesteuert werden. Falls
erforderlich, kann ein auf diese Weise gebildeter Titanoxidfilm
als eine Schicht eines aus vielen Schichten bestehenden
Überzugsfilmes, der wenigstens eine Schicht eines anderen
Metalloxides wie von SiO₂, Al₂O₃ oder ZrO₂ aufweist,
benutzt werden.
Im Fall eines Mischoxidfilmes, der SiO₂, Al₂O₃ oder ZrO₂
zusammen mit TiO₂ enthält, hängt das spezifische Brechungsvermögen
des Filmes selbstverständlich hauptsächlich von
dem Verhältnis des zusätzlichen Metalloxids zu dem Titanoxid
ab.
Insbesondere sind Mischoxide aus Ti und Si zur Bildung von
selektiv reflektierenden Filmen geeignet, da der Brechungs
index des Mischoxides über einem relativ breiten Bereich
durch Einstellen des Verhältnisses von SiO₂ mit einem Brechungs
index von etwa 1,45 zu TiO₂ mit einem Brechungsindex
oberhalb von 2,0 gesteuert werden. Wie zuvor beschrieben,
hängt der Brechungsindex eines nach dem erfindungsgemäßen
Verfahren hergestellten Oxidüberzugsfilmes von der Brenntemperatur
ab. Beispielsweise ergibt sich im Fall eines
TiO₂-Filmes ein Brechungsindex des Filmes von etwa 2,15
beim Brennen bei 500°C und von etwa 2,25 beim Brennen bei
620°C. Im Fall eines Mischoxidüberzugsfilmes kann ein
gewünschter Brechungsindex durch annähernde Festlegung der
Zusammensetzung der Mischalkoxidlösung und der Brenntemperatur
realisiert werden.
Auf einem Glassubstrat dient ein Überzugsfilm aus einem
Mischoxid aus Ti und Si als selektiv reflektierender Film,
der eine spezifische Beziehung zwischen der Wellenlänge
des auf den Überzugsfilm einfallenden Lichtes bei einem
vorgegebenen Winkel und dem Reflexionsvermögen zeigt, wobei
diese Beziehung von der Dicke des Filmes und der zur Bildung
des Filmes eingesetzten Brenntemperatur neben dem Verhältnis
von Si zu Ti abhängt. Die Beziehung ist für einen Mischoxid
überzugsfilm, der auf einem Glassubstrat nach dem erfindungsgemäßen
Verfahren bei einer Brenntemperatur von 550°C und
bei einem Molverhältnis Si/Ti von 25/75 hergestellt wurde,
in der Fig. 1 für die Wellenlänge des einfallenden Lichtes
und den Reflexionsgrad des Filmes gezeigt. Der Lichteinfallswinkel
wich von 90° um wenige Grade ab. In der Fig. 1 wurde
die als ausgezogene Linie dargestellte Kurve (1) erhalten,
wenn die Überzugsfilmdicke 245-250 nm (2450-2500Å) war.
Bei einer Veränderung der Filmdicke auf 200-205 nm (2000-
2050 Å) und auf 55-60 nm (550-600 Å) ergab sich eine Beziehung,
wie sie in der mit unterbrochener Linie dargestellten
Kurve (2) bzw. in gestrichelter Linie in der Kurve (3) wieder
gegeben ist. Bei Veränderung des Molverhältnisses Si/Ti
in dem Mischoxidüberzugsfilm auf 20/80 und der Brenntemperatur
auf 620°C ergaben sich Reflexionseigenschaften, wie
sie in Fig. 2 dargestellt sind.
Die Erfindung wird anhand der folgenden Beispiele näher
erläutert.
Eine gelbliche Lösung mit einem Gehalt von 0,6 mol/l
Ti(O-C₂H₄-O-C₂H₅)3,0Cl1,0 in Ethylenglykolmonoethylether
wurde durch Umsetzung von TiCl₄ mit Ethylenglykolmonoethylether
in Anwesenheit von Natrium hergestellt, und 125 ml
dieser Lösung wurden mit 250 ml Ethylacetat zur Herstellung
einer Beschichtungsflüssigkeit verdünnt, in welcher die
Konzentration des Cl-haltigen Titanalkoxids 0,2 mol/l
betrug.
Die Beschichtungsflüssigkeit wurde auf eine gut gereinigte
Platte aus Kalknatronglas (100 mm × 100 mm Abmessungen)
nach einem Rotationsbeschichtungsverfahren aufgebracht.
Die Rotationseinrichtung wurde mit 300 Upm während 5 Sekunden
zu Beginn des Beschichtungsvorganges und danach mit
200 Upm während 20 Sekunden betrieben. Die beschichtete
Glasplatte wurde bei Zimmertemperatur während 15 Minuten
einem natürlichen Trocknen ausgesetzt und dann während
30 min bei 200°C getrocknet. Danach wurden der Rotations
beschichtungs- und Trocknungsschritt zweimal wiederholt,
d. h. insgesamt erfolgten drei Aufträge, jeweils unter gleichen
Bedingungen. Die wiederholt beschichtete Glasplatte
wurde während 1 Stunde bei 550°C gebrannt, um auf diese
Weise einen Titanoxidüberzugsfilm auf der Glasplatte
herzustellen.
Der Überzugsfilm besaß eine Dicke von 310 nm (3100 Å). Die
visuelle Beobachtung dieses Überzugsfilms ergab, daß dieser
eine sehr gleichmäßige Farbtönung besaß und frei von
Defekten wie Oberflächendefekten, Ablagerungen von Fremd
materialien oder der Bildung von weißen Wolken war. Der
Überzugsfilm besaß einen Brechungsindex von 2,17 und zeigte
selektiv Reflexionseigenschaften bei einer dominierenden
Wellenlänge in der Nähe von 620 nm. Bei der dominierenden
Wellenlänge betrug das spezifische Reflexionsvermögen des
Überzugsfilms 26,3%.
In diesen Beispielen wurde die Beschichtungsmethode von
Beispiel 1 nur hinsichtlich der Zusammensetzung der
Beschichtungsflüssigkeit modifiziert.
In Beispiel 2 wurden 50 ml einer 1,0 mol/l Lösung von
Ti(O-n-C₄H₉)3,5Cl0,5 in n-Butanol mit 150 ml Isopropylacetat
zur Herstellung einer Beschichtungsflüssigkeit mit einem
Gehalt von 0,25 mol/l des Alkoxids verdünnt.
In Beispiel 3 wurden 60 ml einer 0,8 mol/l Lösung von
Ti(O-i-C₃H₅)3,4Cl0,6 in Isopropanol mit 150 ml Ethylenglykol
monoethylether zur Gewinnung einer Beschichtungsflüssigkeit
mit einem Gehalt von 0,30 mol/l des Alkoxids verdünnt.
In jeden Beispiel wurde ein Titanoxidüberzugsfilm hoher
Qualität, der dem Oxidfilm von Beispiel 1 vergleichbar war,
erhalten. Die optischen Eigenschaften der Oxidfilme der
Beispiele 1 bis 3 und der folgenden Beispiele 4 bis 6 sind
in der Tabelle 1 zusammengestellt.
Die in Beispiel 2 hergestellte 1,0 mol/l Lösung von
Ti(O-n-C₄H₉)3,5Cl0,5 in n-Butanol wurde ohne Verdünnung
als Beschichtungsflüssigkeit verwendet. Im übrigen wurde
die Arbeitsweise von Beispiel 2 wiederholt. In diesem Fall
zeigte der auf der Glasplatte gebildete Oxidüberzugsfilm
weiße Wolken
Die Beschichtungsflüssigkeit des Beispiels 1 wurde durch
Herabsetzen der Menge des Ethylacetates von 250 ml auf 25 ml
modifiziert, so daß die Konzentration von Ti(O-C₂H₄-O-C₂H₅)
3,0Cl1,0 in der erhaltenen Beschichtungsflüssigkeit 0,5 mol/l
wurde.
Eine gut gereinigte Platte aus Kalknatronglas (100 mm ×
100 mm Abmessungen) wurde in die Beschichtungsflüssigkeit
eingetaucht und dann aus der Flüssigkeit mit einer Geschwindigkeit
von 2,8 mm/sec herausgezogen, um auf diese Weise
einen Flüssigkeitsfilm auf jeder Seite der Platte herzustellen.
Die feuchte Glasplatte wurde einem natürlichen Trocknen
bei Zimmertemperatur während 15 min ausgesetzt und dann
bei 250°C während 30 min getrocknet. Danach wurden der Eintauch-
und Trocknungsvorgang zweimal unter denselben Bedingungen
wiederholt, d. h. insgesamt dreimal durchgeführt.
Dann wurde die Glasplatte bei 550°C während 1 h gebrannt,
um auf diese Weise einen Titanoxidüberzugsfilm auf jeder
Seite herzustellen. Bei der visuellen Beobachtung des Oxidfilms
ergab sich, daß dieser eine ausgezeichnete Qualität
besaß und dem Oxidfilm des Beispiels 1 vergleichbar war.
In Beispiel 5 wurden 112,5 ml einer 0,4 mol/l Lösung von
Ti(O-i-C₃H₅)3,2Cl0,8 in Isopropanol mit 37,5 ml Ethylen
glykolmonoethylether verdünnt, um eine Beschichtungsflüssigkeit
mit einem Gehalt von 0,30 mol/l des Alkoxids zu
erhalten.
In Beispiel 6 wurden 83,3 ml einer 0,9 mol/l Lösung von
Ti(O-i-C₅H₁₁)2,6Cl1,4 in Isoamylalkohol mit 66,7 ml Iso
propanol verdünnt, um eine Beschichtungsflüssigkeit mit
einem Gehalt von 0,50 mol/l des Alkoxids zu erhalten.
Unter Verwendung dieser Beschichtungsflüssigkeiten wurde
der Eintauchvorgang des Beispiels 4 mit der Ausnahme wiederholt,
daß die Geschwindigkeit des Herausziehens der Glasplatte
aus der Beschichtungsflüssigkeit auf 4,0 mm/sec in
Beispiel 5 und auf 3,3 mm/sec in Beispiel 6 variiert wurde.
In jedem Beispiel wurde der Eintauchvorgang dreimal durchgeführt.
Weiterhin wurde noch die Brenntemperatur auf 600°C
in Beispiel 5 erhöht und auf 500°C in Beispiel 6 erniedrigt.
In jedem Beispiel wurde ein ausgezeichneter Überzugsfilm
aus Titanoxid erhalten, der dem Film des Beispiels 4
vergleichbar war.
Der Eintauchbeschichtungsvorgang des Beispiels 4 wurde dreimal
unter denselben Bedingungen wiederholt. Dann wurde die
Glasplatte bei 120°C (im Gegensatz zu den 250°C des Beispiels 4)
während 30 min getrocknet. Als Ergebnis trat eine
weiße Wolkenbildung in einigen Bereichen des Überzugsfilms
auf. Dann wurde die Glasplatte während 1 Stunde bei 550°C
gebrannt. Die weiße Wolkenbildung blieb in dem erhaltenen
Oxidsüberzugsfilm zurück. Wahrscheinlich wurde die Wolkenbildung
durch Reaktion des Kalknatronglases mit HCl-Dampf
bewirkt, der aus dem Cl in dem Alkoxid beim Trocknen gebildet
wurde und eine Ablagerung von feinen Teilchen von
NaCl auf der beschichteten Glasoberfläche ergab.
Eine Lösung von 1,5 mol/l Ti(O-i-C₃H₅)3,2Cl0,8 in
Isopropanol wurde hergestellt. Getrennt wurde eine Lösung
von 0,52 mol/l SiCH₃(O-CH₃)₃ in Isopropanol hergestellt,
und zu dieser Lösung wurde Wasser unter Rühren zur Herstellung
einer gleichförmigen Lösung zugesetzt. Die Menge
des zugesetzten Wassers betrug das 1,3-fache des Äquivalentes
für die Hydrolyse des Siliziumalkoxids. Die
hydrolysierte Lösung wurde zu der Cl-haltigen Titanalkoxid
lösung zugesetzt und hiermit gut vermischt, und zwar
so, daß in der Mischlösung das Verhältnis Si/Ti in Mol
20/80 wurde. Die Mischlösung wurde mit Ethylenglykol
monoethylether verdünnt, um eine Beschichtungsflüssigkeit
mit einer Gesamtalkoxidkonzentration von 0,5 mol/l
zu erhalten.
Eine Platte aus Kalknatronglas (400 mm × 400 mm Abmessungen)
wurde in die Beschichtungsflüssigkeit eingetaucht
und dann aus der Flüssigkeit mit einer Geschwindigkeit
von 4,5 mm/sec herausgezogen. Die feuchte Glasplatte
wurde einem natürlichen Trocknen bei Zimmertemperatur
während 10 min unterzogen und dann für 5 min bei 250°C
getrocknet. Der Eintauch- und Trocknungsvorgang wurde
zweimal wiederholt, d. h. insgesamt wurden drei Aufträge
durchgeführt. Danach wurde die Glasplatte bei 620°C während
15 min gebrannt, um auf diese Weise einen Überzugsfilm
des Mischoxides von Ti und Si auf jeder Seite der
Glasplatte herzustellen. Der gesamte Vorgang wurde in
einem auf einer Temperatur von 25°C und einer relativen
Feuchtigkeit von 50% gehaltenen Reinraum durchgeführt.
Der Mischoxidüberzugsfilm besaß ein sehr gutes Aussehen
und eine Dicke von 220 nm (2200 Å) sowie einen Brechungs
index von 2,09.
In diesen Beispielen wurde der Herstellungsvorgang für den
Oxidüberzugsfilm gemäß Beispiel 7 wiederholt, wobei unterschiedlich
zusammengesetzte Beschichtungsflüssigkeiten eingesetzt
wurden. Die Brennbedingungen wurden entsprechend
den Angaben in Tabelle 2 variiert.
In Beispiel 8 wurde eine Lösung von 1,2 mol/l Ti(O-iPr)3,0Cl1,0
in Isopropanol mit einer Lösung von 0,68 mol/l SiMe(O-Et)₃
(Me = CH₃ und Et = C₂H₅) in Ethanol vermischt, und die Misch
lösung wurde mit Ethylenglykolmonoethylether (EGEE) verdünnt.
In Beispiel 9 wurde eine Lösung von 1,5 mol/l Ti(O-iPr)3,5Cl0,5
in Isopropanol mit einer Lösung von 0,52 mol/l SiMe(O-Me)₃
in Isopropanol vermischt, und die Mischlösung wurde mit EGEE
verdünnt.
In Beispiel 10 wurde eine Lösung von 1,4 mol/l Ti(O-nBu)3,3Cl0,7
in n-Butanol mit einer Lösung von 1,0 mol/l Si(O-Et)₄ in
Ethanol vermischt, und die Mischlösung wurde mit Isobutanol
verdünnt.
In Beispiel 11 wurde eine Lösung von 1,33 mol/l Ti(O-EGME)3,2Cl0,8
in EGME mit einer Lösung von 0,85 mol/l Si(O-Et)3,0Cl1,0 in
EGEE vermischt, und die Mischlösung wurde mit Isopropanol
verdünnt.
In Beispiel 12 wurde eine Lösung von 1,59 mol/l
Ti(O-iPr)3,0Cl1,0 in Isopropanol mit einer Lösung von 0,45 mol/l
SiOH(O-Et)₃ in n-Propylacetat vermischt, und die Mischlösung
wurde mit Ethanol verdünnt.
In Beispiel 13 wurde eine Lösung von 1,18 mol/l
Ti(O-nBu)3,5Cl0,5 in n-Butanol mit einer Lösung von 0,97 mol/l
SiPh(O-Et)₃ (Ph = C₆H₅ (Phenyl)) in Toluol vermischt,
und die Mischlösung wurde mit EGEE verdünnt.
In Beispiel 14 wurde eine Lösung von 1,5 mol/l
Ti(O-iBu)3,2Cl0,8 (iBu = i-C₄H₉) mit einer Lösung von 0,85 mol/l
SiMe(O-nPr)₃ (nPr = n-C₃H₅) in Isopropanol vermischt,
und die Mischlösung wurde mit EGEE verdünnt.
In jedem Beispiel besaßen das Verhältnis Si/Ti und die
Gesamtalkoxidkonzentration in der verdünnten Beschichtungs
flüssigkeit sowie die Dicke und der Brechungsindex des
erhaltenen Oxidüberzugsfilms die in Tabelle 2 gezeigten Werte:
Claims (15)
1. Verfahren zur Herstellung eines Überzugsfilms aus Titanoxid
auf einem Substrat, dadurch gekennzeichnet, daß
es folgende Stufen umfaßt:
- (a) Auftragen einer Beschichtungsflüssigkeit, wobei diese
eine Lösung eines Chlor enthaltenden Titanalkoxids
der allgemeinen Formel
TiCl₄ -x (OR) x ,worin R ein Alkyl- oder Alkoxyalkylrest mit 1 bis
10 Kohlenstoffatomen ist und x einen Wert von nicht
kleiner als 2,5 und nicht größer als 3,5 besitzt,
in einem organischen Lösungsmittel ist, in welcher
die Konzentration des Alkoxids im Bereich von 0,2
bis 0,8 mol/l liegt,
auf das Substrat zur Bildung eines flüssigen Beschichtungs films auf dem Substrat; - (b) Trocknen des flüssigen Beschichtungsfilms bei einer erhöhten Temperatur im Bereich von 200°C bis 300°C;
- (c) Wiederholung der Stufen (a) und (b) wenigstens einmal, bis der erhaltene Beschichtungsfilm die gewünschte Dicke angenommen hat; und
- (d) nach Durchführung der Stufe (c) Brennen des getrockneten Beschichtungsfilms auf einer nicht niedrigeren Temperatur als 400°C.
2. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß
die Stufe (b) die Unterstufe des Trocknens des flüssigen
Beschichtungsfilms bei Zimmertemperatur vor dessen Trocknen
auf der erhöhten Temperatur umfaßt.
3. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß
ein Titanalkoxid der in Anspruch 1 angegebenen Formel
verwendet wird, dessen Alkyl- oder Alkoxyalkylreste aus
der aus i-Propyl-, n-Butyl-, 2-Ethoxyethyl- und 2-Propoxy
ethyl-Resten bestehenden Gruppe ausgewählt ist.
4. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß
die Stufe (a) durch Rotationsbeschichten durchgeführt
wird.
5. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß
die Stufe (a) durch Eintauchbeschichten durchgeführt
wird.
6. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß
eine Lösung des Titanalkoxids in einem organischen Lösungs
mittel, welches einen Alkohol umfaßt, verwendet wird.
7. Verfahren nach Anspruch 6, dadurch gekennzeichnet, daß
als organisches Lösungsmittel eine Mischung des Alkohols
und eines weiteren Lösungsmittels verwendet wird.
8. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß
die Beschichtungsflüssigkeit Acetylaceton umfaßt.
9. Verfahren zur Bildung eines Überzugsfilms aus einem titan
haltigen Mischoxid auf einem Substrat, dadurch
gekennzeichnet, daß es folgende Stufen umfaßt:
- (a) Auftragen einer Beschichtungsflüssigkeit, wobei diese
eine Lösung eines Chlor enthaltenden Titanalkoxids
der allgemeinen Formel:
TiCl₄ -x (OR) x ,worin R ein Alkyl- oder Alkoxyalkylrest mit 1 bis
10 Kohlenstoffatomen ist und x einen Wert von nicht
kleiner als 2,5 und nicht größer als 3,5 besitzt,
und eines anderen Alkoxids eines aus der aus Si,
Al und Zr bestehenden Gruppe oder eines Hydrolysates
dieses anderen Alkoxids in einem organischen Lösungs
mittel ist,
auf ein Substrat unter Bildung eines flüssigen Beschichtungs films auf dem Substrat,
wobei das Molverhältnis des Metalls zu Ti in der Beschichtungsflüssigkeit nicht größer als 1,2 : 1 ist und die Gesamtkonzentration des Titanalkoxids und des anderen Alkoxids oder dessen Hydrolysates in der Beschichtungsflüssigkeit im Bereich von 0,2 bis 0,8 mol/l liegt; - (b) Trocknen des flüssigen Beschichtungsfilms bei einer erhöhten Temperatur im Bereich von 200°C bis 300°C;
- (c) Wiederholung der Stufen (a) und (b) wenigstens einmal, bis der erhaltene Beschichtungsfilm die gewünschte Dicke angenommen hat; und
- (d) nach Durchführung der Stufe (c) Brennen des getrockneten Beschichtungsfilms auf einer nicht niedrigeren Temperatur als 400°C.
10. Verfahren nach Anspruch 9, dadurch gekennzeichnet, daß
die Stufe (b) die Unterstufe des Trocknens des flüssigen
Beschichtungsfilms bei Zimmertemperatur vor dessen Trocknen
auf der erhöhten Temperatur umfaßt.
11. Verfahren nach Anspruch 9, dadurch gekennzeichnet, daß
ein Titanalkoxid der in Anspruch 1 angegebenen Formel
verwendet wird, dessen Alkyl- oder Alkoxyalkylreste aus
der aus i-Propyl-, n-Butyl-, 2-Ethoxyethyl- und 2-Propoxyethyl-
Resten bestehenden Gruppe ausgewählt ist.
12. Verfahren nach Anspruch 9, dadurch gekennzeichnet, daß
die Stufe (a) durch Rotationsbeschichten durchgeführt
wird.
13. Verfahren nach Anspruch 9, dadurch gekennzeichnet, daß
die Stufe (a) durch Eintauchbeschichten durchgeführt
wird.
14. Verfahren nach Anspruch 9, dadurch gekennzeichnet, daß
eine Alkoxidlösung in einem organischen Lösungsmittel,
welches einen Alkohol umfaßt, verwendet wird.
15. Verfahren nach Anspruch 14, dadurch gekennzeichnet, daß
als organisches Lösungsmittel eine Mischung des Alkohols
und eines weiteren Lösungsmittels verwendet wird.
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP20521287 | 1987-08-20 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE3828137A1 true DE3828137A1 (de) | 1989-03-02 |
Family
ID=16503259
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE3828137A Withdrawn DE3828137A1 (de) | 1987-08-20 | 1988-08-18 | Verfahren zur herstellung eines ueberzugsfilms aus titan enthaltendem oxid unter verwendung einer alkoxidloesung |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH01132770A (de) |
KR (1) | KR890004194A (de) |
DE (1) | DE3828137A1 (de) |
GB (1) | GB2208874A (de) |
IT (1) | IT1226744B (de) |
Cited By (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
FR2658502A1 (fr) * | 1990-02-21 | 1991-08-23 | Glaverbel | Microbilles constituees de perles de verre portant un revetement et pigment pour matiere polymere synthetique. |
EP0448522A2 (de) * | 1990-03-12 | 1991-09-25 | SOCIETA' ITALIANA VETRO - SIV - S.p.A. | Glaswindschutzscheibe für Kraftfahrzeuge mit kombinierten Möglichkeiten von Sonnenstrahlungsschirm und Bildverbinder |
WO1996005334A1 (en) * | 1994-08-16 | 1996-02-22 | Symetrix Corporation | Metal polyoxyalkylated precursor solutions in an octane solvent and method of making the same |
EP0884288A3 (de) * | 1997-06-09 | 1999-11-24 | Nissan Motor Company, Limited | Hydrofiles Erzeugnis |
US6174564B1 (en) | 1991-12-13 | 2001-01-16 | Symetrix Corporation | Method of making metal polyoxyalkylated precursor solutions |
EP1559810A2 (de) * | 2003-12-29 | 2005-08-03 | Frank Dr. Schneider | Verfahren zur Herstellung einer keramischen Schutzschicht |
WO2007050501A2 (en) * | 2005-10-24 | 2007-05-03 | Aculon, Inc. | Polymeric organometallic films |
Families Citing this family (13)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH02295773A (ja) * | 1989-05-11 | 1990-12-06 | Omron Corp | 自動取引処理装置 |
JPH0637283B2 (ja) * | 1989-12-20 | 1994-05-18 | セントラル硝子株式会社 | 酸化物薄膜の成膜方法 |
GB9304575D0 (en) * | 1993-03-05 | 1993-04-21 | Glaverbel | Coated glass and method of manufacturing same |
KR100387350B1 (ko) * | 2000-09-05 | 2003-06-12 | (주)이앤비코리아 | 수위 연동형 광화학 반응장치 |
KR100354817B1 (ko) * | 2001-03-09 | 2002-10-05 | (주)이앤비코리아 | 상온코팅용 이산화티타늄 졸 제조방법 및 제조장치 |
KR100378279B1 (ko) * | 2001-06-29 | 2003-03-29 | (주)이앤비코리아 | 상온 코팅용 투명 이산화티타늄 분산액의 제조방법 |
ITBO20060151A1 (it) * | 2006-03-03 | 2007-09-04 | Andrea Capucci | Impianto per l'applicazione di un materiale nanostruttura su articoli, in particolare piastrelle, vetri e simili. |
US8048487B2 (en) | 2006-11-15 | 2011-11-01 | Aculon, Inc. | Organometallic films, methods for applying organometallic films to substrates and substrates coated with such films |
CA2669672C (en) | 2006-11-15 | 2011-11-29 | Aculon, Inc. | Coated substrates, organometallic films and methods for applying organometallic films to substrates |
US7846866B2 (en) * | 2008-09-09 | 2010-12-07 | Guardian Industries Corp. | Porous titanium dioxide coatings and methods of forming porous titanium dioxide coatings having improved photocatalytic activity |
US8647652B2 (en) | 2008-09-09 | 2014-02-11 | Guardian Industries Corp. | Stable silver colloids and silica-coated silver colloids, and methods of preparing stable silver colloids and silica-coated silver colloids |
JP7120757B2 (ja) * | 2017-12-12 | 2022-08-17 | 株式会社Jcu | 酸化物膜形成用塗布剤、酸化物膜の製造方法及び金属めっき構造体の製造方法 |
KR102643607B1 (ko) * | 2017-12-26 | 2024-03-06 | 솔브레인 주식회사 | 박막 형성용 조성물, 이를 이용한 박막 및 그 제조방법 |
Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE2009566B1 (de) * | 1970-02-28 | 1971-11-11 | Merck Patent Gmbh | Verfahren zur Herstellung von Titandioxid- bzw. Titandioxidaquatüberzügen |
DE2726801A1 (de) * | 1976-06-15 | 1977-12-29 | Saint Gobain | Verfahren zum ueberziehen der oberflaeche von glasgegenstaenden mit einer uebergangsmetalloxidschicht |
Family Cites Families (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
GB713942A (en) * | 1950-04-25 | 1954-08-18 | Johnson Matthey Co Ltd | Improvements in and relating to grid wires for electron discharge devices |
GB1024468A (en) * | 1963-11-27 | 1966-03-30 | United Glass Ltd | Treatment of hollow glass containers |
NL132231C (de) * | 1964-09-04 | |||
GB1187783A (en) * | 1966-03-31 | 1970-04-15 | United Glass Ltd | Strengthening Glassware |
GB1244832A (en) * | 1967-10-04 | 1971-09-02 | United Glass Ltd | Strengthening glassware |
GB1550010A (en) * | 1976-12-15 | 1979-08-08 | Ontario Research Foundation | Surgical prosthetic device or implant having pure metal porous coating |
US4272588A (en) * | 1979-08-23 | 1981-06-09 | Westinghouse Electric Corp. | Oxide protected mirror |
JPS59227743A (ja) * | 1983-05-09 | 1984-12-21 | Mitsubishi Metal Corp | 透明着色膜の形成法 |
JPH0823071B2 (ja) * | 1984-08-10 | 1996-03-06 | 日本曹達株式会社 | 粗面被膜形成用組成物および粗面被膜形成方法 |
-
1988
- 1988-06-30 JP JP63163255A patent/JPH01132770A/ja active Pending
- 1988-08-16 GB GB8819457A patent/GB2208874A/en not_active Withdrawn
- 1988-08-18 DE DE3828137A patent/DE3828137A1/de not_active Withdrawn
- 1988-08-19 KR KR1019880010530A patent/KR890004194A/ko not_active Application Discontinuation
- 1988-08-19 IT IT8821722A patent/IT1226744B/it active
Patent Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE2009566B1 (de) * | 1970-02-28 | 1971-11-11 | Merck Patent Gmbh | Verfahren zur Herstellung von Titandioxid- bzw. Titandioxidaquatüberzügen |
DE2726801A1 (de) * | 1976-06-15 | 1977-12-29 | Saint Gobain | Verfahren zum ueberziehen der oberflaeche von glasgegenstaenden mit einer uebergangsmetalloxidschicht |
Cited By (13)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
BE1005673A5 (fr) * | 1990-02-21 | 1993-12-14 | Glaverbel | Microbilles constituees de perles de verre portant un revetement et pigment pour matiere polymere synthetique. |
FR2658502A1 (fr) * | 1990-02-21 | 1991-08-23 | Glaverbel | Microbilles constituees de perles de verre portant un revetement et pigment pour matiere polymere synthetique. |
EP0448522A2 (de) * | 1990-03-12 | 1991-09-25 | SOCIETA' ITALIANA VETRO - SIV - S.p.A. | Glaswindschutzscheibe für Kraftfahrzeuge mit kombinierten Möglichkeiten von Sonnenstrahlungsschirm und Bildverbinder |
EP0448522A3 (en) * | 1990-03-12 | 1992-02-26 | Societa' Italiana Vetro - Siv - S.P.A. | A glass windshield for motor vehicles with combined capabilities of sun radiation screen and image combiner |
US6174564B1 (en) | 1991-12-13 | 2001-01-16 | Symetrix Corporation | Method of making metal polyoxyalkylated precursor solutions |
US6454964B1 (en) | 1991-12-13 | 2002-09-24 | Symetrix Corporation | Metal polyoxyalkylated precursor solutions in an octane solvent and method of making the same |
WO1996005334A1 (en) * | 1994-08-16 | 1996-02-22 | Symetrix Corporation | Metal polyoxyalkylated precursor solutions in an octane solvent and method of making the same |
US6045903A (en) * | 1997-06-09 | 2000-04-04 | Nissan Motor Co., Ltd. | Hydrophilic article and method for producing same |
EP0884288A3 (de) * | 1997-06-09 | 1999-11-24 | Nissan Motor Company, Limited | Hydrofiles Erzeugnis |
EP1559810A2 (de) * | 2003-12-29 | 2005-08-03 | Frank Dr. Schneider | Verfahren zur Herstellung einer keramischen Schutzschicht |
EP1559810A3 (de) * | 2003-12-29 | 2006-05-31 | Frank Dr. Schneider | Verfahren zur Herstellung einer keramischen Schutzschicht |
WO2007050501A2 (en) * | 2005-10-24 | 2007-05-03 | Aculon, Inc. | Polymeric organometallic films |
WO2007050501A3 (en) * | 2005-10-24 | 2007-08-02 | Crg Chemical Inc | Polymeric organometallic films |
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