DE3736009C2

DE3736009C2 - Sperrschicht-FET

Info

Publication number: DE3736009C2
Application number: DE3736009A
Authority: DE
Inventors: Hiroji Kawai
Original assignee: Sony Corp
Current assignee: Sony Corp
Priority date: 1986-10-23
Filing date: 1987-10-23
Publication date: 1998-03-19
Anticipated expiration: 2007-10-24
Also published as: US4916499A; DE3736009A1

Description

Die vorliegende Erfindung betrifft einen Sperrschicht-FET nach dem Oberbegriff des Patentanspruchs 1. Insbesondere bezieht sich die vorliegende Erfindung auf einen derartigen Sperrschicht-Feld effekttransistor oder einen sogenannten J-FET, der für einen hochfrequenten Betrieb geeignet ist, sowie auf ein Verfahren zu dessen Herstellung nach dem Oberbegriff des Patentanspruchs 2.

Ein J-FET dieser Bauart gemäß dem Stand der Technik wird nach folgend unter Bezugnahme auf Fig. 1 erläutert, vergleiche Physics and Technology of Semiconductor Devices, A.S. Grove, 1969, S. 243-257. Der Wirkungs grad eines J-FET kann in erster Näherung ausgedrückt werden durch gm/Cg, wobei gm die Steilheit und Cg die Gate-Kapazität des J-FET ist.

Der in Fig. 1 dargestellte J-FET enthält auf einem Substrat 5 einen Source-Bereich 1, einen Drain-Bereich 2, einen Gate- Bereich 3 und einen Kanalbereich 4. Ebenfalls ist eine Source- Elektrode S, eine Gate-Elektrode G und eine Drain-Elektrode D vorgesehen. In diesem Fall gelten folgende Gleichungen:

Daher gilt:

In der obigen Gleichung ist z die Gate-Breite, L die Gate-Länge, KsεO die Dielektrizitätskonstante, W die Dicke der Verarmungs schicht, q die Ladung, N die Verunreinigungskonzentration, ΦB die eingebaute Spannung, Vg die Gate-Spannung, gm° der Gegen wirkleitwert, GO der Kanalleitwert, d die effektive Dicke des Kanales und µ die Beweglichkeit ist.

Daher muß zur Steigerung des Verhältnisses gm/Cg die Gate-Länge soweit wie möglich vermindert werden. Da der Gate-Widerstand Rs die effektive Steilheit gm vermindert, muß der Source-Widerstand Rs vermindert werden. Wenn die Gate-Länge L vermindert wird, tritt der Kurzkanaleffekt auf, so daß bei geschlossenem Gate ein Strom durch das Substrat 5 direkt unterhalb des Kanalbereiches 4 fließt. Da also das Gate nicht zufriedenstellend abgesperrt oder geschlossen ist, muß die Verunreinigungskonzentration N an gehoben werden und die effektive Dicke d des Kanales muß ab gesenkt werden.

Am Rande sei angemerkt, daß eine Grenze in der Verminderung der Gate-Länge L auf den Sub-Mikrometer-Bereich aufgrund der Foto lithografischen Technik besteht. Wenn eine Elektronenstrahl- Lithografietechnik sowie eine Röntgenstrahl-Lithografietechnik wirksam eingesetzt werden, kann die Gate-Länge bis auf den Wert von einem Viertel Mikrometer abgesenkt werden. In diesem Fall verursacht jedoch der J-FET ein Problem. Dies besteht darin, daß die Gate-Länge L länger wird als die lithografisch vorgegebene Größe durch Diffusion von Verunreinigungen in der Längsrichtung, da der Gate-Bereich 3 bei einem Standard-J-FET durch Diffusion von Verunreinigungen erzeugt wird. Selbst wenn also ein Gate-Fenster mit einer Länge von 1/4 µm ausgebildet werden kann, wird die wirksame Gate-Länge dennoch etwa 1/3 bis 1/2 µm. Wenn der J-FET, dessen Gate-Länge in dem Sub-Mikrometer bereich liegt, mit dem Diffusionsverfahren hergestellt wird, liegt dessen Seitenkapazität Cl des P⁺-Gate-Bereiches 3 außer halb des vernachlässigbaren Bereiches für die Wirkkapazität C2 (∼ 1/L) durch die Diffusion des P⁺-Gate-Bereiches 3, so daß keine lineare Verbesserung des Wirkungsgrades durch Absenken der Gate-Länge L erwartet werden kann.

Gegenüber diesem Stand der Technik liegt der vorliegenden Erfin dung die Aufgabe zugrunde, einen J-FET der eingangs genannten Art so weiterzubilden, daß dessen Wirkungsgrad verbessert wird, sowie ein Verfahren zu dessen Herstellung anzugeben. Diese Auf gabe wird bei einem J-FET nach dem Oberbegriff des Patentan spruches 1 durch die im kennzeichnenden Teil des Patentanspruchs 1 angegebenen Merkmale sowie bei einem Verfahren nach dem Ober begriff des Patentanspruchs 2 durch die im kennzeichnenden Teil des Patentanspruchs 2 angegebenen Merkmale gelöst.

Ein besonderer Vorteil des erfindungsgemäßen J-FET liegt in der Unterdrückung von dessen Gate-Kapazität sowie in dem Vermeiden des Kanalkurzschlußeffektes.

Ein weiterer Vorteil des erfindungsgemäßen J-FET liegt in des sen hoher Grenzfrequenz.

Nachfolgend werden unter Bezugnahme auf die beiliegenden Zeich nungen bevorzugte Ausgestaltungen des erfindungsgemäßen J-FET näher erläutert. Es zeigen:

Fig. 1 in perspektivischer Darstellung einen herkömmlichen Sperrschicht-Feldeffekttransistor;

Fig. 2A bis 2F Verfahrensdiagramme zur Erläuterung eines Ausfüh rungsbeispiels des J-FET gemäß der vorliegenden Erfin dung;

Fig. 3 eine Draufsicht auf das Ausführungsbeispiel gemäß Fig. 2F gemäß der vorliegenden Erfindung;

Fig. 4A bis 4E Verfahrensdiagramme einer anderen Ausführungsform des J-FET gemäß der vorliegenden Erfindung;

Fig. 5 eine Querschnittsdarstellung des vertikalen J-FET gemäß der vorliegenden Erfindung zur Erläuterung eines weite ren Ausführungsbeispiels;

Fig. 6A bis 6F jeweils Verfahrensdiagramme weiterer Ausführungs formen des vertikalen J-FET gemäß der vorliegenden Erfin dung;

Fig. 7 eine perspektivische Darstellung eines Musters, das ver wendet wird, um die selektiven Ätzeigenschaften der HF- Lösung zum Ätzen der AlGaAs-Schicht zu messen; und

Fig. 8 eine Querschnittsdarstellung längs der Linie A-A in Fig. 7, welche eine Abtastelektroden-Mikroskop-Fotografie ist.

Das erste Ausführungsbeispiel der vorliegenden Erfindung wird nachfolgend unter Bezugnahme auf die Fig. 2A bis 2E erläutert. Ebenso wird das Herstellungsverfahren für dieses Ausführungs beispiel beschrieben.

Anfänglich wird auf einem halbleitenden GaAs-Substrat 11 eine n⁺-GaAs-Schicht 12 von ungefähr 3000 Å Dicke und mit einer Ver unreinigungskonzentration von ungefähr 5 × 10¹⁸ cm^-3 abgelagert, die der Drain-Bereich wird, eine i-Al_0.4Ga_0.6As-Schicht 13 von ungefähr 1000 Å Dicke, eine P⁺-GaAs-Schicht 14 von ungefähr 500 Å Dicke und einer Verunreinigungskonzentration von ungefähr 5 × 10¹⁹ cm^-3, die der Gate-Bereich wird, eine i-Al_0.4Ga_0.6As-Schicht 15 von ungefähr 200 Å Dicke und eine n⁺-GaAs-Schicht 16 mit ungefähr 500 Å Dicke und einer Verunreinigungskonzentration von 5 × 10¹⁸ cm^-3 welche ein Source-Bereich wird, der Reihe nach ab gelagert gemäß dem MOCVD-Verfahren (metal organic chemical vapor deposition = metallorganische, chemische Dampfablagerung), wie dies in Fig. 2A gezeigt ist. Dann werden die jeweiligen Schich ten 12 bis 16 wahlweise bis zum Substrat 11 mit Ausnahme eines aktiven Bereichsteiles 17 beispielsweise mittels des RIE-Verfah rens (reactive ion etching = reaktives Ionenätzen) geätzt.

Daraufhin werden gemäß Fig. 2B nach dem Entfernen der-beschädig ten Schicht durch Wegätzen von einigen 100 Å (Dicke) im Naßätz verfahren die Schichten erneut im MOCVD-Verfahren aufgewachsen, um dadurch der Reihe nach die n-GaAs-Schicht 18 von ungefähr 500 Å Dicke und einer Verunreinigungskonzentration von ungefähr 3 × 10¹⁸ cm^-3 und eine i-Al_0.4Ga_0.6As-Schicht 19 von ungefähr 5000 Å Dicke aufgewachsen. Anstelle der i-Al_0.4Ga_0.6As-Schicht 19 kann die Schicht 18 auch aus einem isolierenden Material wie beispiels weise SiN oder einem ähnlichen Material bestehen.

Daraufhin werden, wie dies in Fig. 2C dargestellt ist, Borionen B⁺ in einen Bereich nahe des aktiven Bereiches 17 eingepflanzt, um einen Elemententrennbereich 20 zu bilden, woraufhin das Photo resist auf die gesamte Oberfläche aufgebracht wird, das darauf hin in dem RIE-Verfahren abgeflacht wird. Zu diesem Zeitpunkt wird die n⁺-GaAs-Schicht 16 zu der Außenfläche des aktiven Bereiches 17.

Daraufhin wird, wie dies in Fig. 2D dargestellt ist, die n⁺-GaAs- Schicht 16 und die i-Al_0.4Ga_0.6As-Schicht 15 selektiv fortgeätzt, um den Source-Bereich 21S übrig zu lassen, so daß die P⁺-GaAs- Schicht 14 nach außen zeigt, die der Gate-Bereich werden wird. Aufgrund dieses selektiven Ätzverfahrens wird die i-Al_0.4Ga_0.6As- Schicht 15 als Stoppbereich zum Entfernen der n⁺-GaAs-Schicht 16 auf der Oberfläche durch das RIE-Verfahren verwendet. Während daraufhin die P⁺-GaAs-Schicht 14 als Stoppbereich verwendet wird, wird die i-Al_0.4Ga_0.6As-Schicht 15 durch das Naßätzverfahren ent fernt. Zu diesem Zeitpunkt kann die P⁺-GaAs-Schicht 14 mit einer Tiefe von ungefähr 2 bis 300 Å fortgeätzt werden, was kein Prob lem darstellt. Daraufhin wird eine SiN-Schicht 25 mit ungefähr 500 Å Dicke auf der gesamten Oberfläche abgelagert.

Als nächstes werden, wie dies in Fig. 2E dargestellt ist, Teile der P⁺-GaAs-Schicht 14 und der i-Al_0.4Ga_0.6As-Schicht 13, welche dem die Elektrode bildenden Bereich der n⁺-GaAs-Schicht 12 dar stellt, die den Drain-Bereich bildet, selektiv fortgeätzt. Darauf hin wird eine Seitenwand 26 aus SiN an den entfernten Seiten flächen ausgebildet.

Wie dies in Fig. 2F dargestellt ist, werden nach dem Bilden einer Drain-Elektrode 27D nahe des Drain-Bereiches 23D, der aus der n⁺-GaAs-Schicht besteht, Öffnungen gebildet, die die Source- Elektrode und die Gate-Elektrode bilden. Daraufhin wird eine Source-Elektrode 27S nahe des Source-Bereiches 21S der n⁺-GaAs- Schicht und eine Gate-Elektrode 27G nahe einer Gate-Elektrode 24G aus P⁺-GaAs-Schicht gebildet. Daraufhin wird der Drain-Bereich 23D, die i-Al_0.4Ga_0.6As-Schicht 13, der Gate-Bereich 24G, die i-Al_0.4Ga_0.6As-Schicht 15 und der Source-Bereich 21s der Reihe nach lami niert. Daraufhin wird ein Kanalbereich 22c durch eine Seitenwand der auf diese Weise laminierten Schicht gebildet, um einen verti kalen J-FET 28 zu bilden.

Fig. 3 ist eine Draufsicht von Fig. 2F. Wie in Fig. 3 zu sehen ist, wird der Träger der drei Wände durch Ionenimplantation von Borionen B⁺, um einen Kanalbereich 22C lediglich auf einer Fläche auszubilden, ausgegrenzt, da die n-GaAs-Schicht 18, die der Kanal bereich wird, nach dem selektiven Ätzen von anderen Teilen mit Ausnahme des aktiven Bereiches erneut aufgewachsen wird, um auf diese Weise die Kanäle an den vier Seitenwänden des aktiven Bereiches auszubilden. Der Elemententrennbereich 20, der durch die Ionenimplantation von Bor B⁺ gebildet wird, ist gestrichelt gezeichnet, während die SiN-Schicht 25 durch Punkte dargestellt ist.

Während diese Ausführungsform der vorliegenden Erfindung sich auf einen J-FET des normalerweise eingeschalteten Typs (Ver armungsbetriebsart) bezieht, bei dem die Filmdicke des Kanal bereiches 22c etwa 500 Å beträgt, ist es möglich, einen J-FET des normalerweise ausgeschalteten Typs (Anreicherungsbetriebs art) zu erhalten, in dem die Filmdicke des Kanalbereiches 22C in der Größenordnung von 250 Å gewählt wird.

Bei der obigen Anordnung sind die i-Al_0.4Ga_0.6-As-Schichten 13 und 15 in dem Gate-Bereich 24G enthalten, während der Source- Bereich 21S und der Drain-Bereich 23D verwendet werden, um die Gate-Kapazität zu vermindern. Da die Fläche zwischen dem Drain-Bereich 23D und dem Gate-Bereich 24G groß ist, wird die Filmdicke der i-AlGaAs-Schicht 13 bis auf eine Größenordnung von 1000 Å erhöht. In diesem Fall kann das Anwachsen des Drain- Widerstandes nicht in einem nennenswerten Maß die Elementen charakteristik negativ beeinträchtigen. Bei diesem Ausführungs beispiel wird der Widerstand nicht erhöht.

Die Länge vom Ende des Source-Bereiches 21S bis zum Ende des Gate-Bereiches 24G bei dem Drain-Bereich 23D wird auf weniger als 1000 Å festgesetzt, so daß sich die Elektronen mit hoher Geschwindigkeit bewegen können. Demgemäß wird die Elektronen geschwindigkeit über diejenige gemäß der Theorie nach dem Stand der Technik durch die Überschußgeschwindigkeit erhöht. Daher ist eine Erhöhung der Steilheit gm möglich. Bei einer Verunrei nigungskonzentration von n = 3 × 10¹⁸ für den Kanalbereich wird ein erheblicher Plasmoneffekt erzielt. Wenn daher die Verunrei nigungskonzentration auf n ≦ 10¹⁸ festgelegt wird, werden die Höchstfrequenzbetriebseigenschaften verbessert.

Die Gate-Länge L hängt nicht von den Lithografiemaßen ab, sondern wird durch die Filmdicke der Gate-Region 24G (entsprechend der P⁺-GaAs-Schicht 14) festgelegt. Bei diesem Ausführungsbeispiel wird die Filmdicke auf 500 Å festgelegt, doch kann sie auch auf weniger als 500 Å (beispielsweise 200 Å) festgelegt werden. Fer ner kann die Gate-Länge L soweit wie möglich vermindert werden Da die Gate-Source-Kapazität den Gate-Bereich 24G erheblich beein trächtigt, ist es wünschenswert, daß die Abmessungen der Linien lithografie so klein wie möglich sind, um die Gate-Source-Kapa zität zu vermindern. Um jedoch die Gate-Kapazität zu vermindern, ist es wirkungsvoller, die Dicke der i-AlGaAs-Schicht 13 zwi schen dem Drain und dem Gate auf beispielsweise 3000 Å festzu legen. Gemäß dem vorliegenden Ausführungsbeispiel wird die Linienabmessung unter dem Gesichtspunkt der Integrationsdichte (eine Schicht/cm²) festgelegt und steht nicht in Beziehung zum Geschwindigkeitswirkungsgrad.

Bei der oben beschriebenen Anordnung kann die Gate-Länge L so weit wie möglich reduziert werden, da die wirksame Gate-Länge L durch die Filmdicke der P⁺-GaAs-Schicht 14 bestimmt wird. In dem Gate-Bereich 24G steht deren Seitenfläche in der Breitenrichtung lediglich mit dem Kanalbereich 22C in Kontakt. Die obere Fläche sowie die untere Fläche des Gate-Bereiches 24G liegen jeweils durch die i-AlGaAs-Schichten 15 und 13 dem Source-Bereich 215 und dem Drain-Bereich 23D gegenüber. Dementsprechend kann die zusätzliche Seitenkapazität unterdrückt werden, so daß die Gate- Kapazität vermindert werden kann. Da ferner die i-AlGaAs-Schicht 19 (oder die SiN-Isolierschicht) mit einem großen Bandabstand an dem entgegengesetzten Ende des Gate-Bereiches 24G bezüglich des Kanalbereiches 22C ausgebildet ist, kann bei geschlossenem Gate ein Stromfluß durch die Schicht 19 direkt neben dem Kanal verhindert werden. Daher kann der Kurzschlußkanaleffekt unter drückt werden, so daß es möglich ist, einen vertikalen J-FET mit hohem Wirkungsgrad zu erhalten.

Ein zweites Ausführungsbeispiel der vorliegenden Erfindung wird nachfolgend erläutert. Wie in Fig. 4A dargestellt ist, werden ähnlich wie beim ersten Ausführungsbeispiel eine n⁺-GaAs-Schicht 12, eine i-Al_0.4Ga_0.6As-Schicht 13, eine P⁺-GaAs-Schicht 14, eine i-Al_0.4Ga_0.6As-Schicht 15 und eine n⁺-GaAs-Schicht 16 der Reihe nach auf einem halbleitenden GaAs-Substrat 11 mittels des MOCVD-Verfahrens aufgebracht. Anschließend werden die Bereiche mit Ausnahme des aktiven Bereiches 17 durch das RIE-Ätzverfahren entfernt. Dann wird die beschädigte Schicht durch das Naßätz verfahren entfernt und eine n-GaAs-Schicht 18 mittels des MOCVD- Verfahrens aufgewachsen. Ferner wird eine SiN-Schicht 30 ab gelagert und die Ionenimplantation von Bor B⁺ ausgeführt, um den Elemententrennbereich 20 zu bilden.

Daraufhin wird, wie dies in Fig. 4B gezeigt ist, nach dem Aufbrin gen der Photoresist-Schicht auf die gesamte Fläche die gesamte Fläche durch das RIE-Verfahren abgeflacht, so daß die n⁺-GaAs- Schicht 16 des aktiven Bereiches 17 zu der Außenfläche hin zeigt. Daraufhin wird eine Source-Elektrode 27S′ über die SiN-Schicht 30 von der n⁺-GaAs-Schicht 16 gebildet.

Wie in Fig. 4C gezeigt ist, wird die n⁺-GaAs-Schicht 16 und die i-AlGaAs-Schicht 15 durch das Ätzverfahren entfernt, das dem obigen Beispiel entspricht, um den direkt unterhalb der Source- Elektrode 27S′ ausgebildeten Source-Bereich 215 übrig zu lassen. Ferner werden die P⁺-GaAs-Schicht 14 und die i-AlGaAs-Schicht 13 durch das selektive Ätzverfahren entfernt, um den Gate-Bereich 24G mit einer vorbestimmten Abmessung (einer relativ kleinen Ab messung) übrig zu lassen, die größer ist, als diejenige des Source-Bereiches 21S.

Anschließend wird eine SiN-Schicht 31 auf die gesamte Fläche ab gelagert, auf der die Photoresist-Schicht aufgebracht ist, und daraufhin im RIE-Verfahren (vgl. Fig. 4D) abgeflacht.

Wie in Fig. 4E gezeigt ist, werden Fenster ausgebildet, um Source- Elektrode, Gate-Elektrode und Drain-Elektrode zu bilden, worauf hin die Source-Elektrode 27S, die den Source-Bereich 27S′ kontak tiert, die Gate-Elektrode 27G, die den Gate-Bereich 24G kontak tiert, und die Drain-Elektrode 27D, die den Drain-Bereich 23D kontaktiert, gebildet werden. Daher kann ein vertikaler J-FET 32 erhalten werden, in dem der Drain-Bereich 23D, die i-AlGaAs- Schicht 13, der Gate-Bereich 24G, die i-AlGaAs-Schicht 15 und der Source-Bereich 215 der Reihe nach abgelagert werden. Der Kanalbereich 22C wird auf einer Seitenfläche quer zu den laminierten Schichten gebildet.

Da die Gate-Länge L soweit wie möglich vermindert werden kann, können die Gate-Kapazität und der Kanalkurzschlußeffekt erheb lich unterdrückt werden. Daher kann eine Wirkungsweise ähnlich derjenigen des Ausführungsbeispiels gemäß Fig. 2 erzielt werden. Darüber hinaus kann bei dem vorliegenden Ausführungsbeispiel das Element flach ausgeführt werden.

Da gemäß der vorliegenden Erfindung der Source-Bereich, der Gate- Bereich und der Drain-Bereich laminiert sind und der Kanalbereich an einer Seitenfläche quer zu den laminierten Schichten ausgebil det wird, wird die wirksame Gate-Länge durch die Filmdicke des laminierten Gate-Bereiches festgelegt. Daher kann die Gate-Länge beispielsweise auf 200 Å reduziert werden, ohne daß es der Linien lithografietechnik bedarf. Wenn die wirksamen Halbleiterschichten derart laminiert werden, daß sie in die obere und untere Fläche des Gate-Bereiches eingreifen, kann die Gate-Kapazität vermin dert werden. Der Kanalkurzschlußeffekt kann ferner unterdrückt werden, wenn der wirksame Halbleiter oder die isolierende Schicht einen Bandabstand haben, der größer ist als derjenige des Kanal bereiches, angrenzend an diesen an der zum Gate-Bereich entgegen gesetzten Seite ausgebildet sind.

Daher ist es möglich, einen J-FET zu erhalten, dessen Betriebs frequenz oder Betriebsgeschwindigkeit erheblich gegenüber bekann ten J-FET′s angehoben ist.

Jedoch kann die oben beschriebene Ausführungsform des J-FET gemäß der vorliegenden Erfindung nicht folgende Nachteile ausräumen, die nachfolgend unter Bezugnahme auf Fig. 5 beschrieben werden. Fig. 5 zeigt einen derartigen vertikalen J-FET, bei dem die wirksame Gate-Länge soweit wie möglich bzw. soweit wie gewünscht ohne Linienlithografie vermindert werden kann. Wie in Fig. 5 gezeigt ist, ist dieser J-FET folgendermaßen aufgebaut.

Auf einem halb-isolierenden GaAs-Substrat 110 werden der Reihe nach ein n⁺-GaAs-Drain-Bereich 112, eine i-AlGaAs-Wirkhalbleiter schicht 113, ein P⁺-GaAs-Gate-Bereich 114, eine i-AlGaAs-Wirk halbleiterschicht 115, ein n⁺-GaAs-Source-Bereich 116 und ein aktiver n⁺-GaAs-Bereich oder Kanalbereich 117 auf einer Seite quer zu den derart laminierten Schichten ausgebildet. Daher sind beispielsweise SiN-Schichten 118, 119, eine Source-Elektrode 120S, eine Gate-Elektrode 120G und eine Drain-Elektrode 120D ausgebildet.

Bei dieser Anordnung hängt die Gate-Länge L nicht von der Linien lithografietechnik ab und kann durch die Filmdicke des Gate- Bereiches 114 auf kurze Abmessungen festgelegt werden. Daher kann die Gate-Länge L soweit wie gewünscht vermindert werden, so daß die Steilheit gm erheblich angehoben werden kann. Bei diesem Aus führungsbeispiel wird jedoch eine parasitäre Gate-Kapazität, d. h. eine äußere Gate-Kapazität, durch die Struktur bewerkstel ligt. Da in anderen Worten die Gate-Länge L der Filmdicke des P⁺-GaAs-Gate-Bereiches 114 von beispielsweise 0,1 µm entspricht, ist die wirksame Gate-Kapazität direkt neben dem Kanalbereich 116 kleiner als diejenige bei einem FET nach dem Stand der Tech nik. Da jedoch die Sperrschicht zwischen dem Gate-Bereich 114 und dem Source-Bereich 115 sowie die Sperrschicht zwischen dem Gate-Bereich 114 und dem Drain-Bereich 113 durch die i-AlGaAs- Wirkhalbleiterschichten 113 und 115 mit einer Filmdicke in der Größenordnung zwischen einem Fünftel bis einem Sechstel eines Mikrometers getrennt sind, tritt die äußere parasitäre Kapazi tät in diesen Schichten auf. Wenn der Abstand zwischen Gate und Drain, d. h. die Filmdicke d, der i-AlGaAs-wirkhalbleiterschicht 113 auf 0,3 µm festgelegt wird, und die Gate-Breite (die Breite in der Richtung senkrecht zur Zeichenebene) auf 10 µm festgelegt wird, und die Entfernung 1 des Teiles direkt neben dem Kanal bereich 117 bis zum Ende des P⁺-GaAs-Gate-Bereiches 114 auf 3 µm festgelegt wird, kann die Kapazität Cgd zwischen dem Gate und dem Drain festgelegt werden als:

Wenn die Gate-Kapazität Cg der senkrechten Gate-Länge (die Gate- Breite beträgt 10 µm) von 1 µm berechnet wird, kann dies folgen dermaßen ausgedrückt werden:

wobei in der obigen Gleichung die Verarmungsschicht auf 0,1µm festgelegt wird.

Demgemäß hat der vertikale J-FET gemäß Fig. 5 eine Gate-Kapazi tät, die sich nicht erheblich von derjenigen eines normalen J-FET mit einer Gate-Länge von 1 µm unterscheidet.

Daher stellt die dritte Ausführungsform der vorliegenden Erfin dung eine Verbesserung des vertikalen J-FET gemäß Fig. 5 dar und schafft einen J-FET, bei dem die äußere Gate-Kapazität reduziert werden kann und der Wert gm/Cg erhöht werden kann, so daß sich die Betriebsgeschwindigkeit auf einen sehr hohen Wert erhöhen läßt.

Nachfolgend wird das dritte Ausführungsbeispiel des J-FET gemäß der vorliegenden Erfindung sowie dessen Herstellungsverfahren unter Bezugnahme auf die Fig. 6A bis 6F erläutert. Die Fig. 6A bis 6F zeigen jeweils Verfahrensdiagramme dieses Ausführungs beispiels.

Wie in Fig. 6A gezeigt ist, werden der Reihe nach auf einem halb isolierenden GaAs-Substrat 121 eine n⁺-GaAs-Schicht 122 mit einer Dicke von ungefähr 0,5 µm und einer Verunreinigungskonzentration von ungefähr 5 × 10¹⁸ cm^-3, die einen Drain-Bereich bildet, eine i-Al_0.6Ga_0.4As-Schicht 123 mit ungefähr 0,3 µm Dicke, eine P⁺-GaAs-Schicht 124 mit ungefähr 0,1 µm Dicke und einer Verunreini gungskonzentration von 2 × 10¹⁹ cm^-3, die einen Gate-Bereich bil det, eine i-Al_0.6Ga_0.4As-Schicht 125 von ungefähr 0,1 µm Dicke und eine n⁺-GaAs-Schicht 126 von ungefähr 0,2 µm Dicke und einer Verunreinigungskonzentration von 5 × 10¹⁸ cm^-3, die einen Source- Bereich bildet, durch das MOCVD-Verfahren (metal organic chemi cal vapor deposition = metallorganisches, chemisches Dampf ablagern) abgelagert. Dann werden diejenigen Bereiche der je weiligen Schichten 122 bis 126 außerhalb des Elemente formenden Bereiches selektiv fortgeätzt (mesa-geätzt), von dem Substrat 121 beispielsweise mittels des RIE (reactive ion etching = reak tives Ionenätzen)-Verfahren.

Daraufhin werden die laminierten Schichten, wie dies in Fig. 6B dargestellt ist, beispielsweise mittels des Naßätzverfahrens leicht geätzt, um dadurch die beschädigte Schicht zu entfernen, woraufhin die Schichten erneut mittels des MOCVD-Verfahrens aufgewachsen werden, wodurch eine n⁺-GaAs-Schicht 127 von ungefähr 500 Å Dicke mit einer Verunreinigungskonzentration von 3 × 10¹⁸ cm^-3 und eine i-Ga_0.3Ga_0.7As-Schicht 128 mit ungefähr 500 Å Dicke aufgebracht werden. Dann wird ein Elemententrennbereich 129 durch Ionenimplantation von beispielsweise Borionen B⁺ in den Bereich nahe des Elemente formenden Bereiches gebildet.

Wie in Fig. 6C dargestellt ist, wird auf der gesamten Oberfläche eine SiN-Schicht 130 aufgebracht und nachfolgend im RIE-Verfahren abgeflacht. Zu diesem Zeitpunkt ist die i-AlGaAs-Schicht 128 zur Außenseite des Elemente formenden Bereiches gerichtet. Wie in Fig. 6D dargestellt ist, wird nach dem Entfernen der i-AlGaAs- Schicht 128, die zur Oberfläche gerichtet ist, mittels Naßätzen ein Source-Elektrodenmetall (AuGe) 131 auf die n⁺-GaAs-Schicht 127 aufgebracht. Nachfolgend werden unter Verwendung dieses Source- Elektrodenmetalles 131 als Maske die n⁺-GaAs-Schichten 126 und 127 und die i-AlGaAs-Schicht 125 nahe diesen Schichten selektiv fort geätzt, um einen Source-Bereich 131S übrig zu lassen, damit auf diese Weise die P⁺-GaAs-Schicht 124 eine Gate-Region, die zur Oberfläche hin gerichtet ist, wird. Dieses selektive Ätzen wird ausgeführt, indem beispielsweise die i-Al_0.6Ga_0.4As-Schicht 125 als Stopper dient, die n⁺-GaAs-Schichten 126 und 127 im Naßätz verfahren entfernt werden und daraufhin die i-Al_0.6Ga_0.4As-Schicht im Naßätzverfahren entfernt werden, wobei die P⁺-GaAs-Schicht 124 als Stopper dient.

Daraufhin werden, wie dies in der Fig. 6E dargestellt ist, die P⁺-GaAs-Schicht 124 und die i-AlGaAs-Schicht 123 nahe an der Schicht 124 selektiv fortgeätzt, um einen Gate-Bereich 132G übrig zu lassen. Daraufhin wird das ganze Substrat in eine HF-Lösung bei Raumtemperatur 5 Minuten lang eingetaucht, wobei die i-Al_0.6Ga_0.4As-Schicht 125 zwischen dem Source-Bereich 131S und dem Gate-Bereich 132G und die i-Al_0.6Ga_0.4As-Schicht 123 zwischen dem Gate-Bereich 132G und einem n⁺-GaAs-Drain-Bereich 133D durch das selektive Ätzverfahren entfernt werden, um auf diese Weise Hohlräume 137 zu bilden.

Daraufhin wird eine SiN-Schicht 134 mit ungefähr 0,5 µm Dicke auf der gesamten Fläche gebildet, woraufhin Elektrodenfenster gebildet werden, um hierdurch eine Drain-Elektrode 135D, eine Gate-Elektrode 135G und eine Source-Elektrode 135S zu bilden, die jeweils den Drain-Bereich 133D, den Gate-Bereich 132G und das Source-Elektrodenmetall 131 in einem Ohm′schen Kontakt zu kontaktieren. Daher ist es möglich, einen vertikalen J-FET 38 zu erhalten, bei dem, wie es in Fig. 6F gezeigt ist, der Drain- Bereich 133D, der Gate-Bereich 132G und der Source-Bereich 131S laminiert sind und ein Kanalbereich 136C auf einer Seitenfläche quer zu den laminierten Schichten ausgebildet ist, sowie Hohl räume 137 jeweils zwischen dem Source-Bereich 131S und dem Gate- Bereich 132G sowie zwischen dem Gate-Bereich 132G und dem Drain- Bereich 133D aufweist.

Der Hauptunterschied zwischen dem J-FET 38 gemäß dieser Ausfüh rungsform und dem J-FET gemäß Fig. 5 besteht in dem Ätzen der Al_0.6Ga_0.4As-Schichten 125 und 123 in der HF-Lösung bei dem Ver fahren gemäß Fig. 6E. Es wurde experimentell bestätigt, daß die HF-Lösung zum selektiven Ätzen der Al_XGa_1-XAs-Bereiche dient, wo bei X ≧ 0,35 ist, während es sich als praktisch unmöglich heraus gestellt hat, daß Al_xGa_1-XAs-Material zu ätzen, soweit X < 0,35 ist.

Fig. 7 ist eine perspektivische Darstellung eines Musters zum Mes sen der selektiven Ätzeigenschaften der HF-Lösung zum Ätzen der AlGaAs-Schicht. Wie in Fig. 7 dargestellt ist, wird das Muster folgendermaßen hergestellt: Auf einem GaAs-Substrat 141 wird der Reihe nach eine Al_0.3Ga_0.7As-Schicht 142 mit 0,2 µm Dicke, eine GaAs-Schicht 143 mit 0,2 µm Dicke, eine Al_0.6Ga_0.4As-Schicht 144 mit 0,2 µm Dicke und eine GaAs-Schicht 145 mit 0,4 µm Dicke durch das MOCVD-Verfahren gebildet. Das auf diese Weise aufgewachsene Muster wird in ein quadratisches Substrat 146 mit 5 × 5 mm Länge geschnitten. Dieses Substrat 146 wird in eine HF-Lösung bei 60°C 15 Minuten lang eingetaucht.

Fig. 8 zeigt eine Querschnittsdarstellung längs der Linie A-A der Fig. 7 einer SEM-Fotografie (scanning electron microscopy = Rasterelektronenmikroskop) der Forschungsergebnisse der selektiven Ätzeigenschaften der HF-Lösung bezüglich der AlGaAs-Schicht. Aus Fig. 8 erkennt man, daß die Al_0.6Ga_0.4As-Schicht 144 geätzt wurde und ein Hohlraum 147 ausgebildet wurde, während die GaAs-Schich ten 145, 143 oberhalb und nahe an der Schicht 144 sowie die Al_0.3Ga_0.7As-Schicht 142 überhaupt nicht geätzt wurden.

Bei dem oben beschriebenen vertikalen J-FET 138 wird die wirk same Gate-Länge L bestimmt durch die Filmdicke der P⁺-GaAs- Schicht 124, so daß diese soweit als möglich vermindert werden kann (weniger als 0,1 µm, nämlich beispielsweise 200 Å). Da lediglich die Seitenwand des Gate-Bereiches 132G in der Quer richtung mit dem Kanalbereich 135 in Kontakt steht, kann die zu sätzliche Seitenkapazität unterdrückt werden und somit die wirk same Gate-Kapazität vermindert werden.

Gemäß dem dritten Ausführungsbeispiel der vorliegenden Erfindung sind die Schichten oberhalb und unterhalb des P⁺-GaAs-Gate-Bereiche 132 mit Hohlräumen 137 ausgebildet. Wenn die Hohlräume 137 bei spielsweise eine Luftschicht darstellen, beträgt die Dielektrizi tätskonstante der Luft mit ungefähr 1 etwa 1/12 der Dielektrizi tätskonstante der GaAs-Schicht. Demgemäß kann verglichen mit dem vertikalen J-FET von Fig. 5 die äußere Gate-Kapazität auf ein fache Weise auf 1/12 vermindert werden. Wenn in anderen Worten der P⁺-GaAs-Gate-Bereich 132G eine Fläche von 3 µm × 10 µm hat, wird die äußere Gate-Kapazität weniger als 1 fF. Die äußere Gate- Kapazität beträgt weniger als 1/10 der Gate-Kapazität des Stan dard-FET. Die Hohlräume 137 können durch andere Gase gefüllt werden oder evakuiert sein.

Daher kann bei dem dritten Ausführungsbeispiel der vorliegenden Erfindung der Wert gm/Cg um eine Zehnerpotenz bezüglich des Wertes gesteigert werden, der für den vertikalen J-FET gemäß Fig. 5 gilt. Daher ist es möglich, einen vertikalen J-FET für den Ultrahochfrequenzbereich zu erhalten.

Gemäß dem dritten Ausführungsbeispiel der vorliegenden Erfindung kann ein Stromfluß durch die Schicht direkt neben dem Kanal ver hindert werden, so daß ein Kanalkurzschlußeffekt verhindert wer den kann, da die i-AlGaAs-Schicht 128 mit großem Bandabstand am entgegengesetzten Ende des Kanalbereiches 136C ausgebildet ist.

Ferner kann die Länge zwischen dem Ende des Source-Bereiches 131S bis zum Ende des Gate-Bereiches 132G an der Drain-Seite ausreichend kurz gewählt werden, so daß diese weniger als 1000 Å beträgt. Gleichzeitig ist eine hohe Elektronengeschwindigkeit möglich. Daher kann die Elektronengeschwindigkeit über den nach der Theo rie zu erwartenden Wert durch ein Geschwindigkeitsüberschießen hinausgehen, so daß der Wert gm angehoben wird. Die Verunreini gungskonzentration von n = 3 × 10¹⁸ des Kanalbereiches 136C kann einen erheblichen Plasmon-Streueffekt bewirken. Daher wird die Verunreinigungskonzentration auf n ≦ 10¹⁸ festgelegt, um die Betriebsgeschwindigkeit zu steigern.

Bei dem dritten Ausführungsbeispiel der vorliegenden Erfindung sind der Source-Bereich, Gate-Bereich und Drain-Bereich des J-FET auf das Substrat laminiert, wobei der aktive Bereich auf einer Seite der laminierten Schichten in der Richtung senkrecht zu der Fläche des Substrates ausgebildet ist und wobei die Gate-Länge sehr kurz ausgebildet werden kann, ohne daß hierfür eine Linien lithografietechnik benötigt wird. Da in diesem Fall die hohe Verunreinigungskonzentration in dem Gate-Bereich, der den akti ven Bereich kontaktiert, sowie die Bereiche hoher Verunreinigungs konzentrationen im Source-Bereich und Drain-Bereich durch Hohl räume getrennt sind, kann die äußere parasitäre Gate-Kapazität vermindert werden. Daher kann ein vertikaler J-FET erhalten wer den, bei dem der Wert gm/Cg erhöht ist, um dadurch hohe Betriebs frequenzen zu erzielen.

Claims

1. J-FET mit einem Source-Bereich, einem Gate-Bereich, einem Drain-Bereich und einem Kanalbereich, dadurch gekennzeichnet, daß

- der Source-Bereich (16), der Gate-Bereich (14) und der Drain-Bereich (12) als laminierter Schichtaufbau ausge bildet sind, und
- der Kanalbereich (22c) an einer Seitenfläche quer zu der laminierten Schicht angeordnet ist.

2. Verfahren zum Herstellen eines J-FET mit folgenden Verfahrens schritten:

a) Laminieren von Halbleiterschichten, die jeweils ein Source-Bereich (15), ein Gate-Bereich (14) und ein Drain- Bereich (12) werden;
b) Entfernen von Teilen der Halbleiterschichten (12, 14, 16) mit Ausnahme derjenigen Teile, die einen aktiven Bereich (17) bilden; und
c) Bilden eines Kanalbereiches (22c) an einer Seitenfläche quer zu den laminierten Schichten des Source-Bereiches (16), Gate-Bereiches (14) und Drain-Bereiches (12) durch epitaxiales Wachstum.

3. J-FET nach Anspruch 1, ferner gekennzeichnet durch einen Hohlraum (137), der Bereiche hoher Verunreinigungs konzentrationen der Source-, Gate- und Drain-Bereiche (16, 14, 12) trennt.