DE3701029A1 - Reflektor fuer elektromagnetische strahlung und verfahren zu seiner herstellung - Google Patents

Description

Die Erfindung bezieht sich auf Reflektoren für elektromagnetische Strahlung, insbesondere zur Verwendung bei Antennen. Gegenstand der Erfindung ist ferner ein Verfahren zur Herstellung solcher Reflektoren.

Reflektorstrukturen für Antennen werden häufig an erdumkreisenden Raumfahrzeugen oder Satelliten verwendet, um eine Richtfunkverbindung für Signale zwischen dem Raumfahrzeug und der Erde herzustellen. Derartige Reflektorstrukturen sind groß, ein typischer Durchmesser ist z. B. 216 cm. Die harten Bedingungen im Weltraum bringen für solche Strukturen die Gefahr von Wärmeverformung (entweder durch Änderung der Temperatur der gesamten Struktur oder durch Bestehen unterschiedlicher Temperaturen an verschiedenen Stellen der Struktur) und von Schwächungen oder Schädigungen durch auftreffende Gammastrahlen und andere Weltraumeinflüsse. Die Wärmeverformung kann durch geeigneten strukturellen Aufbau eines Reflektors vermindert werden.

Eine Struktur, welche die Wärmeverformung verringert, ist in der Patentanmeldung P 34 29 417.1-35 beschrieben. Die dort offenbarte Struktur weist mehrere Lagen oder Schichten von Bändern aus graphitfaserverstärktem Epoxymaterial (abgekürzt: GFRE) mit jeweils einseitig ausgerichteten Fasern auf, die so angeordnet sind, daß eine dünne solide Graphitfaser-Verbundstruktur gebildet wird, die als Reflektor dient. Die einseitige Ausrichtung der Graphitfasern in der reflektierenden obersten Schicht oder Haut einer solchen Struktur kann jedoch eine polarisierende Wirkung auf die von der Struktur reflektierte elektromagnetische Strahlung haben. Diese ungewollte Polarisierung entsteht, weil die einseitig ausgerichteten Fasern die auftreffende elektromagnetische Strahlung reflektieren, während das Epoxymaterial, welches sich zwischen den Fasern befindet und die Fasern als Verbundstruktur zusammenhält, für elektromagnetische Strahlung relativ durchlässig ist. Die ungewollte Polarisierung reflektierter Signale ist bei manchen Typen von Reflektoren höchst unerwünscht.

Ein bisheriger Weg zur Lösung dieses Polarisierungsproblems besteht darin, die GFRE-Verbundstruktur als Substrat zu benutzen und die Oberfläche dieses Substrats mit einer zusätzlichen Schicht zu versehen, deren Oberfläche ihrerseits eine Reflexion entweder mit kontrollierter Polarisierung oder ohne jegliche Polarisationswirkung bringt.

Ein Beispiel für eine zusätzliche Schicht mit kontrollierter Polarisationswirkung ist ein relativ dicker und schwerer Reflexionsbelag mit einem Gitter einseitig ausgerichteter Kupferleiter, die in ein Epoxymaterial eingelagert sind, z. B. das unter der Bezeichnung "Kapton" bekannte Material. Der Kupfer/Kapton-Belag wird auf der Substratoberfläche gebildet und dort durch Epoxymaterial festgehalten. Die Leiter des Gitters reflektieren elektromagnetische Strahlung stark, während das Epoxymaterial transparent für diese Strahlung ist, so daß die vom Reflektor bewirkte Polarisierung der reflektierten Signale durch das reflektierende Gitter bestimmt wird.

Ein Beispiel für eine zusätzliche Schicht, die keine Polarisierung bewirkt, ist ein Aluminiumbelag auf der Oberfläche des durch die Verbundstruktur gebildeten Substrats. Ein solcher Belag kann dadurch gebildet werden, daß man Aluminium in einem Plasmaflammsprühverfahren auf eine Oberfläche einer Form aufträgt und dann auf dieser eingesprühten Oberfläche ein Verbundstruktur-Substrat abformt. Wenn das Substrat aus der Form genommen wird, überträgt sich die Aluminiumschicht von der Form auf die Verbundstruktur. Um die Fasern der Verbundstruktur ausreichend zu bedecken und um zu gewährleisten, daß sich die Aluminiumschicht auf die Verbundstruktur überträgt, muß die Aluminiumschicht relativ dick gemacht werden (typischerweise 0,25 mm).

Bei jedem der vorstehenden Beispiele ist das Material des reflektierenden Belags thermisch inkompatibel mit dem Material der Verbundstruktur. Das heißt, der Wärmeausdehnungskoeffizient des reflektierenden Gitters oder Belags ist anders als der Wärmeausdehnungskoeffizient des Materials der Verbundstruktur. Diese Inkompatibilität oder Unverträglichkeit sowie die Dicke des zusätzlichen Belags führen dazu, daß der fertige Reflektor relativ starken Wärmeverformungen unterliegt, z. B. wenn seine Temperatur zwischen weit auseinanderliegenden Extremwerten wechselt, wie es im Weltraum vorkommt (typischerweise zwischen -180°C und +80°C). Außerdem erhöht der dicke zusätzliche Gitter- oder Aluminiumbelag in unerwünschter Weise das Gewicht des Reflektors.

Beobachtungen von Reflektoren, die eine Aluminiumbeschichtung direkt auf der Oberfläche der GFRE-Verbundstruktur aufweisen, haben gezeigt, daß die Haftung zwischen der Beschichtung und der Verbundstruktur schlecht wird, wenn der Reflektor wiederholt Temperaturschwankungen zwischen -135°C und +80°C ausgesetzt ist.

Die schlechte Haftung ist zum Teil auf den beträchtlichen Unterschied in den Wärmeausdehnungskoeffizienten des Aluminiums und des GFRE-Materials der darunterliegenden Verbundstruktur zurückzuführen. Der Wärmeausdehnungskoeffizient von Aluminium beträgt etwa 13 · 10^-6 Zoll pro Zoll und °F, während der Wärmeausdehnungskoeffizient des GFRE-Materials ungefähr gleich 0,5 · 10^-6 Zoll pro Zoll und °F ist. Die Differenz zwischen den Wärmeausdehnungskoeffizienten der beiden Materialien und damit die unterschiedlichen Ausdehnungs/Kontraktions-Geschwindigkeiten während Temperaturänderungen tragen dazu bei, daß die Haftung zwischen dem GFRE-Material und dem Aluminium während zyklischer Temperaturänderungen verlorengeht.

Die vorstehenden Probleme werden beseitigt, wenn man einem Reflektor für elektromagnetische Strahlung die erfindungsgemäße Struktur gibt, wie sie im Patentanspruch 1 definiert ist. Vorteilhafte Ausgestaltungen der Erfindung sind in den Unteransprüchen gekennzeichnet.

Ein erfindungsgemäßer Reflektor hat eine Substrat- oder Trägerstruktur mit einer Haut aus graphitfaserverstärktem Epoxymaterial (GFRE-Material). Auf dieser Haut befindet sich eine Schicht aus Chrom. Die Chromschicht hat einerseits eine genügend große Dicke, um einen durchgehenden, nicht-porösen Belag über der Substrathaut zu bilden, ist andererseits aber dünn genug, um zu gewährleisten, daß ihre Verformung relativ zur Substrathaut bei Temperaturänderungen vernachlässigbar klein bleibt. Auf der Chromschicht ist eine Aluminiumschicht aufgebracht. Die Aluminiumschicht hat eine genügende Dicke, um elektromagnetische Strahlung in einer gegebenen Bandbreite zu reflektieren und den polarisierenden Effekt der Graphitfasern minimal zu machen.

Die Erfindung wird nachstehend an einem Ausführungsbeispiel anhand von Zeichnungen näher erläutert, deren einzige Figur in auseinandergezogener, isometrischer Darstellung eine erfindungsgemäße Reflektorstruktur für elektromagnetische Strahlung zeigt.

Die dargestellte Reflektorstruktur 10 hat ein Graphitfasersubstrat 12, das durch mehrere Lagen 13, 14, 15, 16, 17 und 18 von Bändern graphitfaserverstärkten Epoxymaterials mit jeweils einseitig ausgerichteten Fasern gebildet ist. Dieser Aufbau ist ausführlicher in der oben erwähnten Patentanmeldung beschrieben.

Ebenso wie bei dem Aufbau nach der genannten Patentanmeldung liegen bei der dargestellten Ausführungsform die Graphitfasern 19 innerhalb jedes Exemplars der einzelnen Lagen 13 bis 18 zueinander parallel. Die Fasern in jeder Lage (z. B. in der Lage 14) können eine Orientierung haben, die um ±60° gegenüber den Orientierungen der Fasern in den jeweils benachbarten Lagen (z. B. den Lagen 13 und 15) versetzt sind. Die unterschiedlichen Richtungen der Fasern von Lage zu Lage machen das Substrat zu einer quasi-isotropischen Struktur, wie es ausführlicher in der genannten Patentanmeldung beschrieben ist. Der Querschnitt der Lagen 13, 14 und 15 kann spiegelsymmetrisch zu den Lagen 18, 17 und 16 (in dieser Reihenfolge) sein, wie es ebenfalls ausführlicher in der genannten Patentanmeldung beschrieben ist.

Die Erfindung kann alternativ auch mit einem Substrat realisiert werden, das einen anderen Aufbau als das Substrat 12 hat. Ein solches alternatives Substrat kann aus einem Kern mit an sich bekannter Honigwabenstruktur bestehen, auf der sich eine Haut mit einseitig gerichteten oder in mehreren Richtungen verlaufenden Graphitfasern befindet, die als reflektierende Oberfläche dient. Eine solche Reflektorstruktur wurde von Mazzio u. a. in ihrer Arbeit "Optimized Design and Fabrication Processes for Advanced Composite Spacecraft Structures" beschrieben (Veröffentlichung des 17th Aerospace Sciences Meeting, New Orleans, LA, 15.-17. Januar 1979, Seiten 5 bis 7).

Gemäß der Figur enthält die Struktur 10 eine Schicht aus Chrom, die auf das Substrat 12 aufgedampft ist. Auf diese Chromschicht wiederum ist eine Aluminiumschicht aufgedampft. Das Aluminium ist genügend dick, um Mikrowellenstrahlung in einer gegebenen Bandbreite zu reflektieren, z. B. im Ku-Band. Auf die Aluminiumschicht ist eine Schutzschicht z. B. aus Siliziumdioxid aufgedampft.

Das Chrom, dessen Wärmeausdehnungskoeffizient ungefähr 3,4 · 10^-6 Zoll pro Zoll und °F beträgt, dient als Zwischenschicht, die für eine gute Haftung an der Struktur 12 sorgt. Das Aluminim wiederum haftet ausgezeichnet an der Chromschicht. Die Chromschicht mildert die Differenz zwischen dem Wärmeausdehnungskoeffizienten des Substrats 12 (ungefähr 0,5 · 10^-6 Zoll pro Zoll und °F) und dem Wärmeausdehnungskoeffizienten des Aluminiums (ungefähr 13 · 10^-6 Zoll pro Zoll und °F).

Gewöhnlich haftet eine Aluminiumschicht, wenn sie direkt auf der obersten Lage oder Haut 13 des Substrats 12 gebildet wird (wie bei dem weiter oben beschriebenen Beispiel) nicht zuverlässig an dieser Lage 13. Diese schlechte Haftung ist zumindest teilweise auf die Unterschiede zwischen den Wärmeausdehnungskoeffizienten der beiden Materialien (Aluminium und GFRE) zurückzuführen, wie es schon erwähnt wurde. Ferner ist anzunehmen, daß die schlechte Haftung von Aluminium an Graphit auch an der schlechten Molekularanziehung zwischen den Materialien liegt. Ein weiterer Grund für schlechte Haftung sind sicherlich auch Verunreinigungen auf der Oberfläche des Graphitsubstrats, z. B. Rückstände von Entformungsmitteln, die bei der Herstellung des Graphitsubstrats benutzt wurden, und Verunreinigungen durch manuelle Berührung der Struktur.

Nachstehend sei zunächst ein Verfahren beschrieben, das angewandt wurde, um einige der vorstehend beschriebenen Substrate für die Bearbeitung vorzubereiten:

Das Chrom für die Aufdampfung auf die Oberfläche des Substrats 12 wurde in Stücken auf eine Gruppe von Heizdrähten aus Wolfram in einer Vakuum-Heizkammer gelegt. Gleichzeitig wurden Aluminiumstücke auf eine andere Gruppe der Wolfram-Heizdrähte in der Kammer gelegt, und eine wiederum andere Gruppe der Heizdrähte in der Kammer wurde mit Siliziumstücken belegt. Die drei Gruppen der zum Verdampfen benutzten Wolfram-Heizdrähte, für jedes Beschichtungsmaterial eine, wurden so angeordnet, daß das jeweilige Material (Chrom, Aluminium oder Silizium), wenn es durch Einschaltung der jeweils zugehörigen Heizdrahtgruppe verdampfte, eine gleichmäßige Schicht über den ebenfalls in der Kammer befindlichen Bereichen der Substrate bildete, wie es weiter unten noch beschrieben wird. Die Beladung verschiedener Heizdrahtgruppen mit jeweils gesonderten Beschichtungsmaterialien (Chrom, Aluminium und Silizium) gestattete es, jedes Material zu jeweils seiner eigenen Zeit innerhalb einer Reihenfolge zu verdampfen.

In der Vakuum-Heizkammer wurden ferner vier Substrate 12 aus Graphit/Epoxy-Verbundwerkstoff für HF-Antennenreflektoren angeordnet. Jedes der Substrate 12 hatte einen Durchmesser von 216 cm und eine Dicke von 0,46 mm und bestand aus sechs Lagen von Bändern mit einseitig ausgerichteten Fasern, wobei die Faserorientierung von Lage zu Lage gemäß dem Muster 0°/±60° gewählt war. Die Substrate hatten eine glatte parabolische Oberfläche und waren vorher durch Abwischen mit Azeton entfettet und anschließend für 30 Minuten in Luft getrocknet worden. Die Azetonbehandlung bestand darin, mittels eines azetongetränkten Anti-Fussel- Tuches leicht über die Oberfläche des Substrats zu wischen, um Öle zu entfernen, die sich durch Handberührung und durch Entformungsmittel niedergeschlagen hatten, welche bei der Herstellung der Substrate verwendet worden waren.

In der Kammer wurde jedes azetonbehandelte Substrat 12 durch zugeordnete Halterungen (Lagerungslöcher, Stützpfosten, Drähte, usw.) innerhalb der Vakuum-Heizkammer in einer Entfernung von etwa 90 cm von den oben erwähnten Gruppen verdampfender Wolfram-Heizdrähte und parallel zu diesen gehalten. Mit jedem Substrat waren Meßinstrumente wie z. B. Thermoelemente gekoppelt, um die Temperatur der Substrate zu überwachen und während der Bearbeitung innerhalb eines vorgeschriebenen Betriebsbereichs zu halten. An den Rändern der einzelnen Substrate waren Prüfstücke aus Glas und Graphit/Epoxy-Laminat befestigt, die auch mit den Instrumenten verbunden waren. Die Prüfstücke lieferten während der Behandlung der Substrate mechanische Meßwerte über die Dicke der Oberflächenbeschichtung und Meßwerte über HF- und Wärmeeigenschaften und wurden später als Proben verwendet, um die Beschichtung nach dem Arbeitsvorgang zu prüfen.

Es sei nun das durchgeführte Bearbeitungsverfahren selbst beschrieben, wobei anzumerken ist, daß jedes der vier Substrate während des Bearbeitungsvorgangs gesondert und unabhängig kontrolliert wurde.

Die Kammer wurde zuerst auf 1 · 10^-5 Torr evakuiert und anschließend über mindestens 12 Stunden weiter ausgepumpt, um alle Feuchtigkeit aus der Kammer und den Substraten auszutreiben.

Als erstes wurde dann ein Strom von 30 Ampère bei 120 Volt durch die mit Chrom beladene Gruppe der Wolfram-Heizdrähte gesendet, um auf den Substraten Schichten von etwa 600 Angström Angström dicke niederzuschlagen. Die maximale Prozeßtemperatur jedes Substrats während der Verdampfung des Chroms und des Niederschlagens der Schicht betrug 38°C.

Als nächstes wurde ein Strom von 350 Ampère bei 120 Volt durch die aluminiumbeladene Gruppe der Wolfram-Heizdrähte gesendet, bis sich auf den chrombeschichteten Oberflächen der Substrate ein Aluminiumbelag einer Dicke von etwa 6000 Angström niedergeschlagen hatte (also die zehnfache Dicke der Chromschicht). Während dieser Aluminisierung wurde die Temperatur der Substrate auf 60°C erhöht.

Als letztes wurde zur Bildung der Siliziumdioxid-Schutzschicht der Druck in der Kammer durch Einlassen von Sauerstoff auf 1 · 10^-3 Torr erhöht und dann ein Strom von 30 Ampère bei 120 Volt durch die siliziumbeladene Gruppe der Heizdrähte gesendet. Während der Bildung der Siliziumdioxid- Schicht wurden die Substrate auf einer maximalen Prozeßtemperatur von 69°C gehalten.

Jedes beschichtete Substrat (nun ein fertiger Reflektor) wurde auf 38°C abkühlen gelassen, bevor die Kammer und die Reflektoren auf Atmosphärendruck zurückgebracht wurden.

Eine Inspektion der reflektierenden Oberflächen der Reflektoren zeigte, daß die Beschichtung bei allen vier Exemplaren gleichmäßig und übereinstimmend waren. Die oben genannten Dickenwerte der Beschichtungsmaterialien wurden an den Prüfstücken gemessen.

Jeder fertige Antennenreflektor wurde anschließend an sein zugeordnetes Speisesystem angeschlossen. Eine nachfolgende HF-Prüfung zeigte, daß die reflektierende Beschichtung jedes Reflektors eine zusammenhängende Aluminiumschale bildete, die keine Polarisierung in der reflektierten elektromagnetischen Strahlung bewirkte.

Zusätzliche Untersuchungen an den Prüfstücken zeigten, daß sich die Haftung zwischen den Materialien nicht verschlechtert, wenn man die Prüfstücke tausendmal Temperaturwechseln zwischen -180°C und +80°C unterwirft. Eine Bestrahlung der Prüfstücke mit Gammastrahlen einer der Lebensdosis entsprechenden Dosis von 1 · 10⁸ rad ergab keinerlei Anzeichen für eine Qualitätsverschlechterung der Schicht. Sowohl an den Prüfstücken als auch an den Reflektoren selbst wurden HF-Prüfungen sowie Tests und Auswertungen hinsichtlich anderer Eigenschaften vorgenommen, und zwar sowohl vor als auch nach der Einwirkung von Umgebungseinflüssen. Nach einem 400-tägigen Aufenthalt in der Atmosphäre innerhalb eines kontrollierten Lagerraums, der auf eine Temperatur von 21 ± 5,5°C und auf einer relativen Feuchte von 50 ± 20% gehalten wurde, ergab keine Anzeichen merklicher Oberflächenverwitterung, weder bei den Prüfstücken, noch bei den beschichteten Reflektoren.

Ferner wurde eine Sichtprüfung der beschichteten Oberflächen u. a. mit einem Abschältest vorgenommen, bei dem ein Klebeband auf die Beschichtung aufgebracht und dann von der zu prüfenden Oberfläche abgezogen wurde. Alle Prüflinge durchliefen diesen Test erfolgreich, d. h. keine der getesteten Beschichtungen blieb am Klebeband anstatt am Reflektorsubstrat hängen.

Andere Prüfungen haben gezeigt, daß die Dicke der Chromschicht kritisch für die Qualität des fertigen Reflektors ist. Genauer gesagt wurde gefunden, daß eine Chromschicht, die dünner ist als 400 Angström, die Graphitfasern nicht vollständig bedeckt. Bei Dicken unter 400 Angström bewirkt die Porösität der Faser/Epoxy-Oberfläche Diskontinuitäten in der Oberfläche der Chromschicht, was wiederum eine schlechte Haftung der anschließend aufgetragenen Aluminiumschicht zur Folge hat. Ferner wurde gefunden, daß Chromschichten, die dicker sind als 700 Angström, nicht nur das Gewicht des Reflektors, sondern auch die Gefahr erhöhen, daß die Schichten bei Wärmebelastung versagen. Dieses Versagen liegt wahrscheinlich an dem Unterschied zwischen dem Wärmeausdehnungskoeffizienten des Chroms und den Wärmeausdehnungskoeffizienten der Graphitfasern und des Aluminiums. Die bevorzugte Dicke für die Chromschicht ist 600 ± 100 Angström.

In der weiter oben genannten Patentanmeldung ist das Problem der Haftung der Aluminiumschicht am Graphitsubstrat diskutiert. Eine dort vorgeschlagene Lösung besteht darin, eine Titanschicht mit einer Dicke von etwa 100 Angström vorzusehen, die ihrerseits mit einem etwa 5000 Angström dicken Aluminiumbelag beschichtet wird. Eine Beschichtung der Reflektorstruktur mit Titan führt jedoch zu besonderen, nachstehend beschriebenen Problemen während eines Abdampfprozesses, wenn die GFRE-Verbundstruktur in einer Vakuum-Heizkammer im Abstand und parallel zu Verdampfungs- Heizdrähten aus Wolfram angeordnet wird, die Stücke aus Titan tragen. Wenn die Heizdrähte unter diesen Bedingungen auf eine Temperatur gebracht werden, die zur Verdampfung der Titanstücke ausreicht, dann reagieren die Wolframdrähte chemisch mit dem Titan, und diese Reaktion beeinträchtigt die Fähigkeit der Heizdrähte, das Titan auf das Substrat in der Kammer aufzudampfen.

Im Bemühen, die Haftung des Aluminiums am Graphitsubstrat zu verbessern, wurden auch andere Materialien einschließlich karbonisierter Stoffe als Zwischenschicht zwischen dem Aluminium und den Graphitfasern geprüft. Karbonisiertes Material beeinträchtigte die Fähigkeit der Wolfram-Heizdrähte, das Material von der Oberfläche dieser Drähte wegzukochen. Das Resultat einer Prüfung mit karbonisiertem Material war eine grob niedergeschlagene Beschichtung, mit gelockertern Kohlenstoffasern im Substrat. Ein hitzefestes Metall wie Molybdän dürfte zu schwer sein, um bei einem Antennenreflektor für Raumfahrzeuge verwendet zu werden.

Tests mit Kohlenstoff-, Titan- und Wolframschichten zwischen dem festen Graphitsubstrat und dem Aluminiumüberzug zeigten geringe Abblätterfestigkeit (schlechte Haftung) und offenbarten, daß Unterschiede in den Wärmeausdehnungskoeffizienten der Beschichtungs- und Substratmaterialien zur Zerstörung der kombinierten Struktur beitragen, selbst wenn die Zwischenschicht eine Dicke von etwa 600 Angström hat. Das beste dieser anderen, für die Zwischenschicht ausprobierten Materialien ist noch Titan, das jedoch wegen seiner oben erwähnten Reaktion mit Wolfram praktisch ausscheidet, wenn man bedenkt, daß Wolfram das zur Zeit einzig praktikable Material für Heizdrähte ist, die zum Verdampfen von Metallen in einer Vakuum-Heizkammer solcher Größe verwendet werden können, daß die hier betrachteten, relativ großen Substrate in ihr Platz finden.

Somit ist in der Praxis Chrom das einzige Material, das die verschiedenen Kriterien erfüllt, die an das Material einer Zwischenschicht zwischen dem Graphitsubstrat und dem Aluminiumüberzug eines Antennenreflektors für Raumfahrtzwecke zu stellen sind.

Claims (7)

1. Reflektorstruktur zur Reflexion elektromagnetischer Strahlung, mit einem Substrat, das an seiner Oberseite eine Haut aus einer Schicht graphitfaserverstärkten Epoxymaterials aufweist, deren Graphitfasern die Tendenz haben, von der Haut reflektierte elektromagnetische Wellen zu polarisieren, und mit einer die Haut bedeckenden Metallbeschichtung, dadurch gekennzeichnet, daß die Metallbeschichtung folgendes aufweist;
eine auf die Haut (13) des Substrats (12) aufgebrachte Chromschicht, die genügend dick ist, um einen durchgehenden, nicht-porösen Belag über den Fasern der Substrathaut zu bilden, andererseits aber dünn genug, um eine sich bei Wärmeänderung ergebende Verformung gegenüber der Substrathaut vernachlässigbar klein zu halten;
eine auf die Chromschicht aufgebrachte Aluminiumschicht, die ausreichend dick ist, um elektromagnetische Strahlung in einer gegebenen Bandbreite zu reflektieren und den polarisierenden Effekt der polarisierenden Fasern minimal zu halten.

2. Reflektorstruktur nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die Chromschicht eine Dicke im Bereich von 400 bis 700 Angström hat und daß die Aluminiumschicht ungefähr zehnmal so dick ist wie die Chromschicht.

3. Reflektorstruktur nach Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet, daß sich über der Aluminiumschicht eine Schutzschicht befindet.

4. Reflektorstruktur nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß die Chromschicht und die Aluminiumschicht auf die Haut des Substrats aufgedampft sind.

5. Verfahren zur Herstellung einer Reflektorstruktur für elektromagnetische Strahlung unter Aufdampfen von Metall auf eine Oberflächenhaut eines Reflektorsubstrats, die einseitig ausgerichtete Graphitfasern enthält, dadurch gekennzeichnet, daß auf die Oberflächenhaut (19) des Substrats (12) zunächst eine Chromschicht bis zu einer Dicke aufgedampft wird, die genügend groß ist, um einen durchgehenden, zusammenhängenden Belag zu bilden, andererseits aber zu klein, um eine Trennung zwischen dem Substrat und einer anschließend aufgebrachten Aluminiumschicht zu erlauben; daß über der Chromschicht eine Aluminiumschicht aufgedampft wird, deren Dicke genügt, um die Polarisation minimal zu halten, die sich ansonsten in einer von der Struktur reflektierten Strahlung aufgrund von Reflexion an den Graphitfasern (19) ergeben würde.

6. Verfahren nach Anspruch 5, dadurch gekennzeichnet, daß die Chromschicht bis auf eine Dicke im Bereich von 400 bis 700 Angström aufgedampft wird und daß die Aluminiumschicht bis auf eine Dicke im Bereich von 5000 bis 7000 Angström aufgetragen wird.

7. Verfahren nach Anspruch 5 oder 6, dadurch gekennzeichnet, daß über der Aluminiumschicht eine Schutzschicht gebildet wird.