DE3607259A1 - Mikrolinsenplatte und verfahren zu ihrer herstellung - Google Patents
Mikrolinsenplatte und verfahren zu ihrer herstellungInfo
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Description
Die Erfindung betrifft eine Mikrolinsenplatte mit Gradientenindexlinsen,
die einstückig in einem transparenten Basisteil ausgebildet sind.
Fig. 1 zeigt eine Mikrolinsenplatte 1 mit Gradientenindexlinsen
3, die mit einer flachen transparenten Basis 2 aus Glas oder Kunststoff ein Teil bilden und in dieser Basis
"vergraben" sind. Eine der Brechungsflächen jeder Linse 3 wird von der ebenen Oberfläche gebildet, die mit der Oberfläche
der Basis 2 zusammenfällt. Jede Linse 3 besitzt eine optische Achse, die senkrecht zur Oberfläche der Basis 2
verläuft. Der Brechungsindex der Linsen 3 längs ihrer optischen Achse ist an der Oberfläche am größten und nimmt mit
wachsender Tiefe allmählich ab. Der Brechungsindex der Linsen 3 in Richtung senkrecht zur optischen Achse ist ebenfalls
im Zentrum am größten und nimmt in Richtung auf die Peripherie allmählich ab.
Die Form der Linsen 3 ist (von üben gesehen) entweder kreisrund (Fia. 2) oder geradlinig (Fig. 3).
Im folgenden sei ein typisches Verfahren zur Herstellung
einer solchen Mikrolinsenplatte 1 beschrieben:
Wie in Fig. 4 dargestellt, wird die Oberfläche einer Basis aus Glas mit einer ionendurchlässigen Schutzmaske 5 abgedeckt,
die beispielsweise aus einem dünnen Metallfilm besteht. In dieser Schutzmaske 5 werden kleine öffnungen 6 von
beispielsweise kreisrunder Form, die der Form der gewünschten
Linsen 3 entspricht, ausgebildet. Die Oberfläche der Basis 2, auf der sich die Schutzmaske befindet, wird in eine
Salzschmelze 7 getaucht, die Kationen, z.B. Tl-Ionen, enthält,
die den Brechungsindex des Basisglases vergrößern. Die Kationen in der Salzschmelze diffundieren dann durch die
Öffnungen 6 der Schutzmaske 5 in die Basis 2. Nachdem die
Ionendiffusion auf diese Weise während einer vorbestimmten
Zeitspanne durchgeführt wurde, ist unterhalb der Öffnungen in der Basis 2 eine Ionenkonzentrationsprofil erreicht, bei
dem die Ionenkonzentration in der Nähe der Öffnungen 6 am
größten ist und in Tiefenrichtung sowie in Richtung auf die Peripheriebereiche der herzustellenden Linsen 3 abnimmt. Auf
diese Weise werden Bereiche mit dem oben beschriebenen Gradientenbrechungsindex,
d.h. Linsen 3, ausgebildet.
Bei einer solchen konventionellen Mikrolinsenplatte 1, wie sie in Fig. 5 dargestellt ist, gilt d/a = 1,0 (worin 2a der
Durchmesser der Linse 3 in der Oberfläche der Basis 2 und d die Dicke der Linse ist), d.h. der Querschnitt der Linse 3
ist praktisch ein vollständiger Halbkreis. Man nimmt an, daß eine solche Linse die besten optischen Eigenschaften besitzt,
wenn ihr Querschnitt die Form eines vollständigen Halbkreises hat. Deshalb hat man sich bisher bemüht, Linsen
herzustellen, die einen idealen halbkreisförmigen Querschnit
t haben .
Demgegenüber wurde im Rahmen der vorliegenden Erfindung durch ausgedehnte Studien und Experimente folgendes herausgefunden:
Wenn in einer Mikrolinsenplatte 1, deren einzelne Linsen einen durch Ionendiffusion ausgebildeten Gradientenindex
besitzen, der Querschnitt der einzelnen Linsen näherunqsweise
die Form eines idealen Halbkreises hat, findet eine Aberration statt, die dazu führt, daß zwischen einem
Brennpunkt 8A eines Lichtstrahls B, der unter den auf die Linse 3 auftreffenden Lichtstrahlen in der Nähe der optisehen
Achse liegt, und einem Brennpunkt 9A eines Lichtstrahls 9, der in der Nähe der Peripherie der Linse 3 auftrifft,
eine Abweichung besteht. Dies führt zu einer Verringerung des effektiven numerischen Aperturbereichs der
Linse 3. Wenn der Querschnitt der Linse 3 eine in einem vorbestimmten Bereich liegende Abflachung besitzt, wird diese
Abweichung kleiner und die effektive numerische Apertur der Linse 3 kann vergrößert werden.
-J-
Die vorliegende Erfindung basiert auf dieser Erkenntnis. Sie löst durch die im Patentanspruch 1 angeqebenen Merkmale die
Aufgabe, eine Linse zu schaffen, dir» eine größere effektive
numerische Apertur besitzt als dies bei herkömmlichen Mikrolinsenplatte
der Fall ist.
Erfindungsgemäß werden also dadurch, daß ein flacher Querschnitt hergestellt wird, die oben erwähnte Aberration verringert
und die effektive numerische Apertur der Linse vergrößert
gegenüber Linsen, die einen nahezu halbkreisförmigen Querschnitt haben.
Vorteilhafte Ausgestaltungen und Weiterbildungen der Mikrolinsenplatte
gemäß der Erfindung sowie ein Verfahren zur Herstellung einer solchen Mikrolinsenplatte sind in den
Unteransprüchen beschrieben, auf die hiermit ausdrücklich verwiesen wird.
Im folgenden sei die Erfindung anhand der Zeichnungen näher
erläutert:
Fiq. 1 zeigt einen Querschnitt einer herkömmlichen Mikrolinsenplatte
,
Fia. 2 und 3 zeigen Draufsichten, die die Formen der Linsen
in der Mikrolinsenplatte erkennen lassen,
Fin. ή zeigt eine Querschnittsdarstellung zur Veanschaulichung
eines Ionendiffusionsverfahrens,
Fig. 5 zeigt einen Querschnitt zur Erläuterung der Beziehung
zwischen dem Linsendurchmesser und der Linsendicke in einer herkömmlichen Mikrolinsenplatte,
Fig. 6 zeigt einen Querschnitt einer Mikrolinsenplatte nach einem Ausführungsbeispiel der Erfindung,
Fig. 7 zeigt eine Querschnittsdarstellung zur Veranschaulichung
der Fokussierung der Linse von Fig. 6, Fig. 8 zeigt eine Querschnittsdarstellung zur Veranschaulichung
des Fokussierungszustandes für den Fall, daß die Abflachung des Linsenquerschnitts zu klein ist,
Fig. 9 zeigt eine Querschnittsdarstellung zur Veranschaulichung des Fokussierungszustands für den Fall, daß
die Abflachung der Linse zu groß ist,
Fig. 10 zeigt eine Querschnittsdarstellung zur Erläuterung
der Beziehung zwischen der Maskenöffnung und dem
Linsendurchmesser bei der Herstellung einer Linse gemäß der Erfindung,
Fig. 11 zeigt eine perspektivische Ansicht zur Veranschaulichung
eines Verfahrens zur Messung der effektiven numerischen Apertur einer Linse,
Fig. 12 zeigt ein Diagramm, das die effektive numerische Apertur NAp als Funktion der Linsenabflachung d/a
wiedergibt,
Fig. 13 zeigt ein Diagramm, das die effektive numerische Apertur NAp der Linse als Funktion des Verhältnisses
des Durchmessers der auf einer Fläche der Basis während der Ionendiffusion ausgebildeten öffnung 2u
dem Durchmesser der hergestellten Linse wiedergibt.
Im folgenden sei ein bevorzugtes Ausführunqsbeispiel der Erfindung
anhand der Zeichnungen beschrieben:
Fig. 6 zeigt einen Querschnitt einer Mikrolinsenplatte 10 gemäß der Erfindung. Eine Gradientenindexlinse 12 ist einstückig
in einer transparenten Glasbasis 11 ausgebildet. Die optische Achse 13 der Linse 12 verläuft senkrecht zur Oberfläche
der Basis 11. Das Brech-ungsindexprofil der Linse 12
ist derart, daß der Brechungsindex im Bereich des Schnittpunktes 14 der optischen Achse 13 mit der Oberfläche der Basis
12 sein Maximum hat und in Tiefenrichtung sowie in Richtung auf die Randbereiche der Linse 12 radial abnimmt.
Die Gradientenindexlinse 12 wird durch das oben beschriebene Ionendiffusionsverfahren hergestellt. Kationen, z.B. Tl-Ionen,
die den Brechungsindex des Basisglases vergrößern, werden gegen in dem Glas vorhandene Ionen ausgetauscht, z.B.
gegen Natrium- oder Kaliumionen. Dieser Ionenaustausch fin-
det durch öffnungen statt, die in einer Maske auf der Oberflüche der Glasbasis 11 ausgebildet sind. Somit wird das
Brechungsindexprofil der Linse 12 durch das Konzentrationsprofil der Ionen bestimmt, die in das Glas eingedrungen
sind.
Bei der Betrachtung des Querschnitts der auf diese Weise
hergestellten Mikrolinsenplatte 10 sei das Augenmerk auf die Diffusionsfront 12A gerichtet. Diese Diffusionsfront 12A
wird von einem relativ schroffen Wechsel in der Dotierungskonzentration
gebildet und wird an einem Punkt beobachtet, an dem die Dotierungskonzentration auf einige Prozent der
Sättigungskonzentration in der Glasbasis 11 verringert ist.
Die Diffusionsfront 12A, oder allgemeiner, eine Kante 12A
als Grenzlinie gegenüber dem Bereich der Hauptmasse der
Basis 11, wird als die Außenform der Linse 12 innerhalb der
Basis 11 definiert.
Die optischen Eigenschaften der Mikrolinsenplatte 10, die
einen durch die Dotierungskonzentration in dem Glas bestimmten Gradientenindex besitzt, werden durch die Gradientenindexdifferenz
und die durch das Do tierungsmittel bestimmte
Form des Brechungsindexprofils festgelegt.
Allgemein gilt, daß die numerische Apertur, die das Fokussierungsvermögen
einer Linse bestimmt, größer wird, wenn die maximale Brechungsindexdifferenz anwächst, die durch das
Dotierungsmittel bestimmt wird. Wenn die Profilform jedoch ungeeignet ist, wächst die Aberration an, und die effektive
numerische Apertur wird verringert.
Die maximale Brechungsindexdifferenz ist im wesentlichen der
Dotierungskonzentration in dem Glas proportional. Das Brechungsindexprofil
wird durch Ionenaustausch im Verhältnis von etwa 1:1 der Ionen des Dotierungsmittels zu den Ionen
eines Alkalis in dem Basisglas festgelegt. Deshalb ist die
maximale Brechungsindex durch die Konzentration der in der Glasbasis 11 ausgetauschten Alkali-Ionen bestimmt. Der Anteil
der Alkali-Ionen in dem Basisglas ist jedoch aufgrund der chemischen Stabilität des Glases und der Wetterbeständigkeit
begrenzt.
Zur Herstellung einer Linse 12 mit einer großen numerischen Apertur muß daher die Form der Begrenzung des Bereichs mit
dem Gradientenindex in geeigneter Weise festgelegt werden.
Es wurden Experimente ausgeführt, deren Ziel es war, die
optimale Form des Bereichs mit dem oben beschriebenen Gradientenindex in der Mikrolinsenplatte 10 zu bestimmen, d.h.
die Beziehung zwischen der Form der Linse 12 und der effektiven
numerischen Apertur herauszufinden. Als Ergebnis dieser
Experimente wurde folgendes herausgefunden: Die effektive
numerische Apertur der Linse 12 wird ein Maximum, wenn d/a (worin 2a der Durchmesser der Linse 12 und d ihre Dicke
bedeuten) einen spezifischen Wert annimmt, der kleiner als 1,0 ist. Die Aberration der Linse 12 wächst an und die
effektive numerische Apertur wird kleiner, wenn der Wert des Verhältnisses d/a gegenüber diesem spezifischen Wert anwächst
oder kleiner wird.
Wenn die Querschnittsform der Linse 12 durch Ausdehnung der
Ionendiffusion sich der Halbkreisform nähert (d.h. d/a=l,0), wie dies in Fig. 8 dargestellt ist, findet eine positive
sphärische Aberration statt, bei der die Position des Brennpunkts 15A eines Lichtstrahls, der in der Nähe der Peripherie
der Linse 12 auftrifft, weiter von der Linse 12 entfernt
ist als die Position eines Brennpunkts 15B eines Lichtstrahls in der Nähe der optischen Achse. Die effektive numerische
Apertur der Linse 12 ist dann verringert.
Wenn der Wert des Verhältnisses d/a abnimmt, d.h. wenn die
Abflachung der Querschnitts der Linse 12 zunimmt, wird die
Aberration kleiner. Falls jedoch, wie in Fig. 9 dargestellt, die Abflachung zu stark zunimmt, werden auf die Peripherie-
bereiche mit stärkerer Krümmung auftreffende Lichtstrahlen
unter größeren Winkeln abgelenkt als Lichtstrahlen, die auf die flachen zentralen Bereiche der Linse 12 innerhalb der
Basis 11 auftreffen. Die negative spärische Aberration wächst dann an und die effektive numerische Apertur der Linse
12 wird wiederum kleiner. Wenn im Hinblick darauf die AuBenform der Linse 12 innerhalb der Basis 11 eine gekrümmte
Oberfläche besitzt, deren Abflachungsverhältnis d/a innerhalb
des Bereichs 0,46 bis 0,78 liegt, ist die Positionsabweichung des Brennpunkts 15 des peripheren Lichtstrahls
gegenüber dem Lichtstrahl im Bereich der optischen Achse verengert (Fig. 7) und es IMOt sich eine große effektive
numerische Apertur von etwa 0,1 oder mehr erreichen. Das
Verhältnis d/a liegt vorzugsweise im Bereich von 0,5 bis 0,69.
Im folgenden sei ein geeignetes Verfahren zur Herstellung
einer Hikrolinsenplatte gemäß der Erfindung beschrieben:
Die Oberfläche der Basis 11, die beispielsweise eine transparente Glasplatte ist, wird mit einer ionendurchlässigen
Schutzmaske 16 abgedeckt (Fig. 10), die aus einem dünnen Metallfilm oder dgl. besteht. In der Schutzmaske 16 werden
Ionendiffusionsöffnungen 17 durch irgendein bekanntes Verfahren
ausgebildet. Die Form der Öffnungen 17 ist so gewählt, daß sie derjenigen der herzustellenden Linse 12
gleicht, d.h. für eine kreisförmige Linse wird eine kreisförmige Öffnung 17 und für eine lineare Linse eine lineare
Öffnung 17 vorgesehen. Diese Öffnungen 17 sind in vorbestimmten Intervallen entsprechend dem Mmuster der Linsen
12 angeordnet.
Die Größe der Öffnungen 17 in der Schutzmaske 16 ist ein wichtiger Faktor, der in Betracht gezogen werden muß. Wenn
die Öffnungen 17 zu klein sind, wird der Querschnitt der durch die Ionendiffusion erzeugten Linsen 12 halbkreisförmig
und die effektive numerische Apertur der Linsen 12 ist redu-
r >. : - * ι: ν ft
ziert. Wenn die öffnungen 17 in der Schutzmaske 16 hingegen
zu groß sind, nimmt die Abflachung des Querschnitts der Linsen 12 zu und die effektive numerische Apertur wird wiederum
veringert.
5
5
Wenn das Verhältnis a/rm (worin rm der Radius der Öffnung 17
in der Schutzmaske 16 bzw. bei einer linearen öffnung deren Breite und a der Radius der zu erzeugenden Linse 12 ist) so
gewählt ist, daß es im Bereich von 1,75 bis 4,5 liegt, erhält man eine Linse 12 mit geringer Aberration, mit einem
Verhältnis d/a, das in dem Bereich von 0,46 bis 0,78 liegt, sowie eine große effektive numerische Apertur. Wenn das Verhältnis
a/rm so gewählt ist, daß es in den Bereich von 1,9 bis 3,3 fällt, erhält man eine Linse 12 mit einer effektiven
numerischen Apertur von etwa 0,16 oder mehr.
Die Basis 12 mit der Schutzmaske 16, in der sich die öffnungen
17 mit der oben beschriebenen Größe befinden, wird einer
Ionendiffusion unterworfen. Die Ionendiffusion kann durch
ein herkömmliches Verfahren erfolgen. So kann beispielsweise die Oberfläche der Basis 11 mit der Schutzmaske 16 in eine
Salzschmelze, beispielsweise ein Sulfat oder ein Nitrat eingetaucht werden, das Kationen, z.B. Tl-Ionen, enthält. Wenn
die Ionendiffusionstemperatur zu niedrig ist, ist der Diffusionskoeffizient
klein und es dauert lange, bis man eine Linse 12 der gewünschten Größe erhält. Wenn die Diffusionstemperatur hingegen zu hoch ist, wird das Basisglas thermisch
verformt. Deshalb findet die Ionendiffusion vorzugsweise in einem Temperaturbereich statt, der bei +_ 500C des
3d Ubergangstemperaturpunkts des Glases liegt.
Im vorangehend beschriebenen Ausführungsbeispiel wird Glas als Basismaterial verwendet. Das Material der Basis ist jedoch
nicht hierauf beschränkt. Es können auch Quarz, Keramik, Plastik und andere geeignete Materialien verwendet werden.
Wenn beispielsweise ein Plastik für eine Mikrolinsenplatte verwendet wird, wird ein Monomer zur Bildung eines
Polymers mit einem relativ niedrigen Brechungsindex partiell polymerisiert, so daß man eine gelartiqe Basis erhält. Diese
gelartige Basis wird mit einer Maske abgedeckt, die öffnungen vorbestimmter Größe besitzt. Danach wird ein Monomer,
mit dem sich ein Polymer mit relativ hohem Brechungsindex herstellen läßt, in die Basis diffundiert. Die Basis wird
erhitzt, um die Polymerisation zu vervollständigen.
Im folgenden sei die Erfindung anhand von Beispielen beschrieben:
Es wurden fünf Basisteile zubereitet. Jede Basis hatte die Abmessungen 48 mm χ 48 mm χ 2 mm und bestand aus Glas mit
einer Zusammensetzung von 60 Mol-SS SiO2, 4 Mol-So B2Oj,
15 Mol-SS ZnO, 8 MoI-S K2O und 13 MoI-S Na2O.
Nach dem Aufbringen eines 1 lim dicken Ti-Films als ionendurchlässige
Schutzmaske auf den Oberflächen dieser GlasbR-sisteile durch Zerstäuben wurden in dem Ti-FiIm unter Verwendung
eines Fluorwasserstoff-Ätzmittels durch Photolithographie neun Arten kreisrunder öffnungen gebildet, deren
Durchmesser sich in inkrementalen Schritten von 10 lim im Bereich von 20 bis 100 μιη änderten. Die maskenseitigen
Oberflächen der Glasbasisteile wurden in Salzschmelzen eingetaucht, die durch Erwärmung einer Mischung aus 60 MoI-S
T12SO44 und 40 Mol-SS ZnS044 bei 1900C hergestellt wurden.
Der Ionenaustausch erfolgte über 2 Stunden, 4 Stunden, 8 Stunden, 12,5 Stunden und 17 Stunden.
Nach dem Ionenaustausch wurden die Oberflächen der Basisteile poliert, um die Ti-Filme zu entfernen, und geglättet. Sodann
wurden die Eigenschaften der in den Basisteilen ausgebildeten Gradientenindexlinsen gemessen.
Die Ergebnisse für die einzelnen Ionenaustauschzeiten sind in den Tabellen 1 bis 5 wiedergegeben.
te-
(Diffusionszeit: 2 Std.)
Durchm. Hask-öffg. ?rm(am) |
Durchm. Linse 2a(um) |
Apertur- Verhältn a/rm |
Abfl.- . Verhälti d/a |
Brenn ι. weit f(am |
- NAf ) a/f |
NAp |
100 - | 171 | 1.70 | 0.41 | 1700 | 0.05 | 0.05 |
90 | 1G3 | 1.78 | 0.44 | 1100 | 0.07 | 0.06 |
80 | 149 | 1.88 | 0.47 | 620 | 0.12 | 0.11 |
70 | 140 | 2.0 | 0.50 | 389 | 0.18 | 0.17 |
60 | 132 | 2.17 | 0.54 | 324 | 0.2 | 0.19 |
50 | 114 | 2.28 | 0.56 | 283 | 0.2 | 0.19 |
40 | 104 | 2.60 | 0.62 | 274 | 0.19 | 0.18 |
30 | 94 | 3.13 | 0.68 | 313 | 0.15 | 0.14 |
(Diffusionszeit: 4 Std.)
r~ Durchm. Mask-öffq. 2rm(um) |
durchm. Linse 2a(um) |
Apertur- Verhältn. a/rm |
Ab f1. - Verhältn d/a |
Brenn- . we i t e f(um) |
NAf a/f |
^JAp |
100 | 215 | 2.15 | 0.53 | 620 | 0.17 | 0.18 |
90 | 207 | 2.30 | 0.57 | 555 | 0.19 | 0.19 |
80 | 195 | 2.44 | 0.59 | 511 | 0.19 | 0.20 |
70 | 184 | 2.63 | 0.62 | 460 | 0.20 | 0.19 |
60 | 171 | 2.85 | 0.65 | 425 | 0.20 | 0.18 |
50 | 160 | 3.20 | 0.69 | 385 | 0.21 | 0.16 |
40 | 144 | 3.60 | 0.72 | 377 | 0.19 | 0.12 |
30 | 121 | 4.03 | 0.75 | 372 | 0.16 | 0.10 |
20 | 102 | 5.10 | 0.80 | 365 | 0.14 | 0.07 |
-μ -
(Diffusionszeit: 8 Std.)
Durchm. Hask-öffg. 2rm(um) |
Durchm. Linse 2β(μίη) |
Apertur- Verhältn. a/rm |
Abfl.- Verhältn. d/a |
Brenn weite ■f(um) |
NAf a/f |
!An |
100 | 232 | 2.32 | 0.57 | 567 | 0.21 | 0.21 |
90 | 221 | 2.46 | 0.59 | 563 | 0.20 | 0.20 |
80 | 207 | 2.59 | 0.61 | 498 | 0.21 | 0.18 |
70 | 195 | 2.79 | 0.64 | 487 | 0.20 | 0.15 |
60 | 184 | 3.07 | 0.67 | 416 | 0.22 | 0.15 |
50 | 173 | 3.46 | 0.71 | 341 | 0.25 | 0.13 |
40 | 157 | 3.93 | 0.75 | 290 | 0.27 | 0.10 |
30 | 137 | 4.57 | 0.78 | 237 | 0.29 | 0.10 |
20 | 106 | 5.30 | 0.81 | 291 | 0.18 | 0.06 |
Tabelle Δ
(Diffusionszeit: 12,5 Std.)
Durchm. Mask-öffa. ?rm(um) |
Durchm. Linse - 2a(um) |
Apertur- Verhältn. a/rm |
Ahfl.- Verhältn. d/a |
Brenn weite f(iim) |
NAf a/f |
IAp |
100 | 278 | 2.78 | 0.64 | 559 | 0.25 | 0.18 |
90 | 253 | 2.81 | 0.64 | 497 | 0.25 | 0.16 |
80 | 243 | 3.04 | 0.67 | 486 | 0.25 | 0.16 |
70 | 230 | 3.29 | 0.70 | 439 | 0.26 | 0.16 |
60 | 210 | 3.50 | 0.71 | 421 | 0.25 | 0.15 |
50 | 200 | 4.0 | 0.75 | 374 | 0.27 | 0.13 |
40 | 185 | 4.63 | 0.78 | 355 | 0.26 | 0.12 |
30 | 171 | 5.70 | 0.82 | 353 | 0.24 | 0.12 |
20 | 67 | 3.35 | 0.70 | 367 | 0.11 | 0.11 |
(Diffusionszeit: 17 Std.)
Durchm. Mask-öffg. 2rm (μιη) |
Durchm. Linse 2a(nm) |
Apertür- Verhältn. a/rm |
Abfl.- Verhältn. d/a |
Brenn weite f(nm) |
NAf a/f |
NAp |
100 | 303 | 3.03 | 0.67 | 650 | 0.23 | 0.17 |
90 | 280 | 3.11 | 0.68 | 561 | 0.25 | 0.15 |
80 | 270 | 3.44 | 0.71 | 505 | 0.27 | 0.15 |
70 | 258 | 3.69 | 0.73 | 450 | 0.29 | 0.15 |
60 | 242 | 4.03 | 0.75 | 429 | 0.28 | 0.13 |
50 | 210 | 4.20 | 0.76 | 392 | 0.27 | 0.13 |
40 | 210 | 5.25 | 0.81 | 370 | 0.28 | 0.12 |
30 | 184 | 6.13 | 0.84 | 516 | 0.18 | 0.16 |
In den Tabellen 1 bis 5 wurde als Brennweite f der Linsen
der Abstand zwischen der Oberfläche der Basis und der Position
maximaler Helligkeit gemessen, die sich dann ergibt, wenn ein Laserstrahl eines He-Ne-Lasers mit einer Wellenlänge
von 633 nm auf diejenige Basisseite gerichtet wurde, auf der sich keine Linse befand.
NAp ist Wert, der sich durch Division des Linsenradius durch
die Brennweite ergibt und die numerische Apertur repräsentiert. Diese numerische Apertur ist jedoch nicht in allen
Bereichen der Linse wirksam, wenn die Linse eine Aberration besitzt.
Aus diesem Grund wurde, wie in Fig. 11 dargestellt, ein Gittermuster 18 mit einem Gitterintervall von 2 mm in einem
Abstand 60 mm vor einer Mikrolinsenplatte 10 aufgestellt.
Das von der Linse 12 der Mikrolinsenplatte 10 erzeugte
Bildmuster wurde mit einem 2,5x5-Mikroskop 19 beobachtet.
Wenn die Linse 12 eine Aberration besitzt, tragen nach den Beobachtungsergebnissen die Bereiche der Linse 12, die eine
Aberration aufweisen, nicht zur Bilderzeugung bei, so daß
der Bildwinkel reduziert ist. In den Tabellen 1 bis 5 ist
der Sinus des halben Winkels der Feldwinkels als effektive
numerische Apertur NAp eingetragen. Fig. 12 zeigt ein Diagramm, das die effektive numerische Apertur NAp als Funktion
des Abflachungsverhältnisses d/a der Linse 12 darstellt. Man
erkennt aus dieser Darstellung, daß die effektive numerische Apertur der Hikrolinsenplatte ein Maximum hat, wenn das
Abflachungsverhältnis d/a der Linse 12 etwa 0,58 beträgt.
Dies hat seinen Grund darin, daß die sphärische Aberration der Linse 12 vom negativen zum positiven wechselt und die
Aberration ein Minimum besitzt, wenn das Verhältnis d/a etwa 0,58 beträgt. Man sieht auch, daß sich eine effektive numerische
Apertur von 0,16 oder mehr erreichen läßt, wenn das Verhältnis d/a in dem Bereich von 0,5 bis 0,69 liegt, und
daß die effektive numerische Apertur 0,1 oder mehr beträgt,
wenn das Verhältnis imBereich von 0,46 bis 0,78 liegt.
Fiq. 13 zeigt die effektive numerische Apertur NAp der Linse
12 als Funktion des Öffnungsverhältnisses der Schutzmaske
2C 16. Das Verhältnis der Durchmessers 2a der Linse 12 zu dem
Durchmesser 2rm der Öffnung 17 der Schutzmaske 16 ist auf
der Abzissenachse aufgetragen. Man sieht aus diesem Diagramm, daß sich eine effektive numerische Apertur von etwa
0,1 und mehr erreichen läßt, wenn das Verhältnis a/rm in dem Bereich zwischen 1,75 und A,5 liegt und eine effektive numerische
Apertur von etwa 0,16 oder mehr, wenn das Verhältnis a/rm in dem Bereich zwischen 1,9 bis 3,3 liegt.
Es wurden drei Glasbasisteile der gleichen Zusammensetzung wie im Beispiel 1 präpariert. Nachdem auf den Oberflächen
dieser Basisteile Ti-Filme als ionendurchlässige Schutzmasken
aufgebracht waren, wurden in diesen Masken öffnungen mit einem Durchmesser von 400 um hergestellt. Zur Herstellung
der Mikrolinsenplatten wurden die Basisteile mit den
Schutzmasken in eine Salzschmelze mit einer Temperatur von 49O0C für 16 Stunden, 144 Stunden und 576 Stunden eingetaucht.
Für die einzelnen Diffusionszeiten betrugen die Durchmesser
2a der in den Basisteilen ausgebildeten Linsen 0,6 mm, 0,9 mm bzw. 1,6 mm. Die Dicken d der Linsen betrugen 0,1 mm,
0,25 mm bzw. 0,6 mm. Die Brennweiten waren 2,5 mm, 2,25 mm bzw. 6,7 mm. Die durch ein Gittermuster beobachteten effektiven
numerischen Aperturen NAp waren 0,12, 0,2 bzw. 0,12.
Die Abflachungsverhältnisse d/a der Linsen betrugen 0,33,
0,56 bzw. 0,75. Die Verhältnisse a/rm der Linsenradien a zu
den Radien rm der Maskenöffnungen waren 1,5, 2,25 bzw. 4,0.
Aus den vorstehend aufgeführten Ergebnissen sieht man, daß bei einem Abflachungsverhältnis etwa 0,56 für eine Linse mit
einem Durchmesser von etwa 0,9 mm die Aberration verringert und die numerische Apertur NAp maximiert werden kann.
In diesen Beispielen wurden Basisteile aus Glas mit den in Tabelle 6 aufgeführten Zusammensetzungen präperiert. Als
Rohmaterialien für die betreffennden Zusammensetzungen wurden
Silikatpulver, Borsäure, Zinoxyd, Kaliumkarbonat, Natriumkarbonat, Zirkonia, Aluminiumhydroxyd, Antimonoxyd
sowie Arsenanhydrid verwendet. Diese Materialien wurden in 3C vorbestimmten Mengen gemischt und die resultierenden
Mischungen wurden in Schmelztiegel gegeben. Zum Schmelzen der Materialien wurde diese Tiegel elektrischen Öfen auf
12500C bis 15000C erhitzt. Danach wurden die Materialien
gut verrührt, um homogene Gläser zu erhalten. Sie wurden sodann bei 10000C bis 125O0C in Formen gegeben und allmählich
abgekühlt, so daß die in Tabelle 6 beschriebenen Gläser erhalten wurden.
Die auf diese Weise präparierten Glasplatten wurden in quadratische
Basisteile mit einer Seitenlänge von 50 mm geschnitten und auf eine Dicke von 5 mm poliert. Auf einer
Seite der Basisteile wurden Ti-Filme als ionendurchlässige
Schutzmasken aufgebracht. In den Ti-Filmen wurden durch ein herkömmliches photolithographisches Verfahren kreisrunde
öffnungen erzeugt. Der Durchmesser der öffnungen betrug im
Fall des Beispiels 3 etwa 100 μιη. die Glas-Basisteile mit
den Filmmasken wurden in eine Salzschmelze getaucht, die aus einer Mischung aus 60 Mol-% Thalliumsulfat (Tl2SO4) und 40
MoI-K Zinksulfat (ZnSO^) bestand, um Ionenaustausch herbeizuführen.
Die Temperatur der Salzschmelze wurde etwa 10DC
über dem Übergangspunkt der einzelnen Gläser in Tabelle 6 gehalten.
Als Kontrollobjekt wurde ein Basisteil aus optischem Glas
BK-7 vorbereitet, wie es üblicherweise als Basisglas für Mikrolinsenplatten verwendet wird, das dann ebenfalls dem
oben beschriebenen Ionenaustausch unterworfen wurde. Bei dem IonenaustauschprozeQ in den Beispielen 3, 6 und 7 und bei
dem Kontrollobjekt wurde ein elektrisches Gleichspannungsfeld von etwa 30 V zwischen den beiden Oberflächen jedes
Basisteils angelegt. Bei den anderen Beispielen wurde kein elektrisches Feld angelegt.
Nach dem Ionenaustausch wurden die Schutzmasken auf den Oberflächen der Basisteile entfernt und die Durchmesser und
die numerischen Aperturen der in den Basisteilen ausgebildeten Gradientenindexlinsen gemessen. Die Resultate sind in
der unteren Hälfte von Tabelle 6 wiedergegeben.
Die Mikrolinsenplatten in den Beispielen 3 bis 8 besaßen keine entglasten oder korrodierten Stellen auf den Glasoberflächen
und waren hochtransparent. Im Gegensatz hierzu besaß das BK-7-Glas des Kontrollobjekts eine dünne trübe Schicht,
die durch Korrosion der Glasoberfläche durch die Salzschmelze entstanden war.
- 3/6 -
Beispiel | 3 | 4 | 5 | 6 | 7 | 8 | Kontrolle (BK-7) |
Zusammensetzq | 60 | 60 | 60 | 74 | 66 | 65 | 75.0 |
SiO2 | 4 | 4 | 8 | 10.2 | |||
B?0t | 10 | 14 | 14 | ||||
ZnO | 10 | 8 | 10 | 5 | 3 | 8 | 4.8 |
KoO | 15 | 13 | 15 | 9 | 11 | 20 | 9.6 |
NaoO | 1 | 1 | 1 | ||||
ZrOo | B | ||||||
CaO | 1 | 0.5 | |||||
BaO | 9 | ||||||
MqO | 2 | 7 | |||||
AIoOt | 1250 | 1300 | 1250 | 1450 | 1450 | 1550 | 1450 |
Schmelzpunkt | 472 | 490 | 462 | 550 | 542 | 520 | 555 |
Überqanqspkt | 1.5296 | 1.5403 | 1.5369 | 1.520 | 1.513 | 1.511 | 1.52 |
Brech.-Index | 0.6 | 0.2 | 2.5 | 0.9 | 0.8 | 2.6 | 0.8 |
Linsen-»Ef(mm) | 0.32 | 0.20 | 0.35 | 0.2 | 0.18 | 0.36 | 0.13 |
Numerische Apertur |
6 Std. |
2 Std. |
2 Taae |
6 Std. |
6 Std. |
2 Taae |
6 Std. |
Ionen-Aust. zeit |
ja | nein | nein | ja | ja | nein | js |
Diffusions- Bedingunqen Elektr.Feld |
Man erkennt durch Vergleich des Beispiels 7 mit dem Kontrollobjekt,
die jeweils den gleichen Linsendurchmesser haben, daß die Mikrolinsenplatten, bei denen Gläser der
Beispiele 3 bis 8 als Basisteile verwendet werden, selbst dann genügend große numerische Aperturen besitzen, wenn die
Linsen sehr kleine Durchmesser von 1 mm oder weniger haben.
Die einzelnen Komponenten der Glaszusammensetzungen von
Beispiel 3 bis 8 werden im folgenden näher beschrieben. SiOo ist eine Basiskomponente des Glases. Wenn der SiO^-
Gehalt kleiner ist als 45?ό, sind die Beständigkeit und die Stabilität des Glases verringert. Wenn der SiO^-Gehalt 80?ή
überschreitet, erhöht sich der Schmelzpunkt des Glases und die erforderlichen Mengen der anderen Komponenten können
nicht zugegeben werden. Es lassen sich dann keine Linsen mit großer Brechungsindexdifferenz herstellen. Deshalb muß der
SiO2~Gehalt im Bereich zwischen 4555 bis 8050, vorzugsweise
zwischen 555S und 15%, liegen. B2O3 erlaubt ein leichtes
Schmelzen des Glases. Wenn B2O3 jedoch in zu großer Menge
zugegeben wird, können sich durch Verdunstung Knoten bilden und bei dem Ionenaustausch kann eine Linsenverformung auftreten.
Deshalb muß der B20^-Gehalt im Bereich zwischen
0 und B% gehalten werden.
ZnO erweitert den Verglasungstemperaturbereich, setzt den Schmelzpunkt herab, verbessert den Widerstand gegen das
Entglasen sowie die Haltbarkeit und hat geringeren Einfluß auf die Herabsetzung der Ionenaustauschgeschwindigkeit als
andere modifizierte Oxyde mit einer Valenz von 2. Wenn der ZnO-Gehalt kleiner als 2SS ist, sind der Widerstand gegen das
Entglasen und die Haltbarkeit des Glases gering. Wenn der ZnO-Gehalt 20% übersteigt, ist die Haltbarkeit des Glases
wiederum gering. Deshalb muß der ZnO-Gehalt im Bereich zwischen 25S bis 20?i, vorzugsweise zwischen b% und 15?ό,
liegen.
ΖΓΟ2 hat einen starken Einfluß auf die Verbesserung der
Wetterfestigkeit des Glases. Wenn der ZrO2-Gehalt jedoch 2%
überschreitet, ist es schwierig, das Glas zu schmelzen. Deshalb muß der ZrO2-Gehalt 0 bis 2% betragen.
AI2O3 dient ebenso wie ΖΓΟ2 zur Verbesserung der Wetterfestigkeit
des Glases und der Widerstandsfähigkeit gegenüber der Salzschmelze beim Ionenaustauschprozeß. Wenn der
. 20.
- yi -
^^ 7% übersteigt, ist das Schmelzverhalten des
Glases beeinträchtigt. Deshalb muß der AloOj-Gehalt im
Bereich von 0 bis 7%, vorzugsweise von 0 bis 5%, liegen.
CaO, MgO und BaO erweitern den Verglasungstemperaturbereich
und verbessern die Wetterfestigkeit des Glases. Diese Bestandteile können in einr Gesamtmenge von 0 bis 10% zugegeben
werden.
In den Beispielen 3 bis 8 ist der wichtigste Bestandteil des
Glases ein Oxyd eines Alkalimetalls mit einer Valenz von 1, (das in der Folge als f^O bezeichnet wird). Bei einem Verfahren
zur Herstellung der Mikrolinsenplatte durch Ionenaustausch werden in dem Basisglas vorhandene Ionen, die eine
Valenz von 1 und ein relativ niedriges Elektronenpolarisationsverhältnis haben, und Ionen mit einem hohen Elektronenpolarisationsverhältnis,
wie z.B. Tl- oder Ag-Ionen, teilweise ausgetauscht und bilden ein Gradientenindexprofil in
dieser Region partiellen Ionenaustauschs. RoO liefert die
2Γ Ionen für den Ionenaustausch. Wenn der FUO-Gehalt kleiner
ist als B%, ist die Winkelapertur (β) der Linse so gering,
daß sie praktisch nicht verwendbar ist. Wenn der F^O-Gehalt
jedoch 35% übersteigt, verringert sich die Haltbarkeit des Glases abrupt. Deshalb muß der gesamte RoO-Gehalt im Bereich
von 8?ό bis 35?e, vorzugsweise von 12« bis 25%, liegen.
R ist vorzugsweise Li oder Na, so daß die maximale Brechungsindexdifferenz
^n der Linse vergrößert wird. Mit Rücksicht
auf die Beanspruchung der Glasstruktur beim Austausch mit Tl-Ionen mit großem Ionenradius sind K und Cs zu bevor-
3ü zügen. Die Glaszusammensetzung für das Basisteil einer
Mikrolinsenplatte enthält deshalb wenigstens eine der Substanzen Li und Na und wenigstens eine der Substanzen K und
Cs in einer Gesamtmenge, die in dem oben genannten Bereich liegt*
Was die Glaszusammensetzungen der Beispiele 3 bis 8 betrifft,
können eine oder mehrere der Substanzen SrO, PbO,
TiOo und Ls20j zusätzlich zu den genannten Komponenten in
Gesamtmenge von B% oder weniger hinzugefügt werden. Diese
Komponenten können den Veglasungstemperaturbereich erweitern
und das Schmelzverhalten des Glases verbessern. Wenn die Komponenten in größeren Menge zugesetzt werden als es dem
oben genannten Bereich entspricht, kann der Ionenaustausch nicht gleichmäßig erfolgen.
Die Gläser der Beispiele 3 bis B können ferner 0,5% oder
weniger Sb20j oder AS2O3 als Aufheller enthalten, wenn
das Glas geschmolzen wird.
Die Erfindung ermöglicht die Herstellung von Mikrolinsenplatten mit geringer Aberration und großer effektiver numerischer
Apertur.
Die Mikrolinsenplatten gemäß der Erfindung lassen sich in
zahlreichen Anwendungsfällen, z.B. bei der normalen Bildübertragung,
bei der optischen Strahlenfokussierunq und bei der Kollimation optischer Systeme mit Vorteil verwenden.
- Leerseite -
Claims (1)
- NIPPON SHEET GLASS CO., LTD.8, 4-chome, Doshomachi, Higashi-kuOsaka/ JAPANMikrolinsenplatte und Verfahren zu ihrer HerstellungPatentansprüche?3. Mikrolinsenplatte (10), bei der Gradientenindexlinsen (12), deren optische Achsen senkrecht ru einer Oberfläche einer transparenten Basis (11) verlaufen und deren Brechungsindexprofil sich in Richtung der optischen Achse und in Richtung senkrecht zur optischen Achse allmählich ändert, einstückig in der transparenten Basis ausgebildet sind, dadurch gekennzeichnet, daß das Verhältnis d/a im Bereich von 0,46 bis 0,78 liegt, (wobei d die Dicke der Gradientenindexlinse (12) in Richtung der optischen Achse und 2a der Durchmesser der Gradientenindexlinse (12) an der Oberfläche der transparenten Basis (11) ist).2. Mikrolinsenplatte (10) nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die Basis (11) aus Glas besteht und daß die Gradientenindexlinsen (12) durch Ionendiffusion ausgebildet sind.BAD ORIGINAL3. Mikrolinsenplatte (10) nach Anspruch l, dadurch gekennzeichnet, dafi das Verhältnis d/a der Bedingung0,5 £ d/a £ 0,69
entspricht.
54. Mikrolinsenplatte (10) nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die Basis (11) aus einem Glas besteht, das als Hauptkomponenten 45 bis 80 MoI-Si SiO2> 8 bis 35 MoI-K eines Oxyds eines Alkalimetalls, 2 bis 20 Mol-SS ZnO, 0 bis 8 MoI-Si B2O3, 0 bis 7 MoI-K Al2O-J, 0 bis 2 Mol-5K ZrO2 und 0 bis 10 MoI-X CaO + BaO + MgO enthält.5. Verfahren zur Herstellung einer Mikrolinsenplatte (10) durch einstückige Ausbildung von Gradientenindexlinsen (12) in einer transparenten Basis (11), wobei die Gradientenindexlinsen (12) ein Gradientenindexprofil besitzen, das auf einem Konzentrationsgradienten einer Substanz zur Vergrößerung des Brechunqsindex' der transparenten Basis beruht, bei dem man eine Diffusions-Schutzmaske (16) mit vorbestimmten?F Öffnunoen (17) auf einer Oberfläche der genannten transparenten Basis (11) herstellt und die Substanz durch diese Öffnungen (17) in die transparente Basis (11) diffundieren läßt, dadurch gekennzeichnet, daß das Verhältnis a/rm die Bedinguno 1,75 £ a/rm <^ 4,5 erfüllt, (wobei rm der Radius der genannten öffnungen (17) und a der Radius der herzustellenden Gradientenindexlinsen (12) ist).6. Verfahren nach Anspruch 5, dadurch gekennzeichnet, daß das Verhältnis a/rm der Bedingung1,9 _< a/rm < 3, 3entspricht.BAD OHIO
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP60043530A JPS61201639A (ja) | 1985-03-05 | 1985-03-05 | 平板レンズ |
JP60125896A JPH0644082B2 (ja) | 1985-06-10 | 1985-06-10 | 平板状レンズ |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE3607259A1 true DE3607259A1 (de) | 1986-09-18 |
Family
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Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE19863607259 Ceased DE3607259A1 (de) | 1985-03-05 | 1986-03-05 | Mikrolinsenplatte und verfahren zu ihrer herstellung |
Country Status (4)
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---|---|
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DE (1) | DE3607259A1 (de) |
FR (1) | FR2578658B1 (de) |
GB (1) | GB2173915B (de) |
Families Citing this family (47)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0355501A (ja) * | 1989-07-25 | 1991-03-11 | Nippon Sheet Glass Co Ltd | レンズアレイ板 |
US5239412A (en) * | 1990-02-05 | 1993-08-24 | Sharp Kabushiki Kaisha | Solid image pickup device having microlenses |
FR2670021B1 (fr) * | 1990-12-04 | 1994-03-04 | Thomson Csf | Procede de realisation de microlentilles pour applications optiques. |
US5541774A (en) * | 1995-02-27 | 1996-07-30 | Blankenbecler; Richard | Segmented axial gradient lens |
US5703722A (en) * | 1995-02-27 | 1997-12-30 | Blankenbecler; Richard | Segmented axial gradinet array lens |
JPH11153705A (ja) * | 1997-11-20 | 1999-06-08 | Nippon Sheet Glass Co Ltd | 軸方向屈折率分布型レンズ |
KR100997608B1 (ko) | 2000-07-31 | 2010-11-30 | 코닝 로체스터 포토닉스 코포레이션 | 빛을 제어하여 발산시키기 위한 구조 스크린의 제조방법 |
US7092165B2 (en) * | 2000-07-31 | 2006-08-15 | Corning Incorporated | Microlens arrays having high focusing efficiency |
US6835535B2 (en) | 2000-07-31 | 2004-12-28 | Corning Incorporated | Microlens arrays having high focusing efficiency |
US6661581B1 (en) * | 2000-09-29 | 2003-12-09 | Rockwell Scientific Company | Graded index microlenses and methods of design and formation |
KR100826951B1 (ko) * | 2000-11-06 | 2008-05-02 | 다이니폰 인사츠 가부시키가이샤 | 복합 렌티큘러 렌즈 시트 및 프로젝션 스크린 |
WO2002103424A1 (en) * | 2001-06-15 | 2002-12-27 | Corning Incorporated | Thermally-formed lensed fibers |
TW200303995A (en) * | 2002-02-22 | 2003-09-16 | Nippon Sheet Glass Co Ltd | Planar lens and its producing method |
WO2003076912A1 (en) * | 2002-03-05 | 2003-09-18 | Corning Incorporated | Optical members and methods for predicting the performance of optical members and optical systems |
JP2005520202A (ja) * | 2002-03-14 | 2005-07-07 | コーニング インコーポレイテッド | ファイバーアレイおよびファイバーアレイ作製方法 |
CN1688516A (zh) * | 2002-10-04 | 2005-10-26 | 康宁股份有限公司 | 透镜阵列及制造这种透镜阵列和光敏玻璃板的方法 |
WO2005080283A1 (ja) * | 2004-02-20 | 2005-09-01 | Isuzu Glass Co., Ltd. | 屈折率分布型光学素子の製造方法 |
FR2920426B1 (fr) * | 2007-09-03 | 2011-05-06 | Saint Gobain | Substrat en verre a gradient d'indice de refraction et procede de fabrication |
FR2929415B1 (fr) * | 2008-03-27 | 2010-03-12 | Saint Gobain | Procede de fabrication d'elements optiques plans et elements obtenus |
FR2929370B1 (fr) * | 2008-03-27 | 2015-07-17 | Saint Gobain | Vitrage a lames deviant la lumiere par echange ionique |
US8673163B2 (en) | 2008-06-27 | 2014-03-18 | Apple Inc. | Method for fabricating thin sheets of glass |
US7810355B2 (en) | 2008-06-30 | 2010-10-12 | Apple Inc. | Full perimeter chemical strengthening of substrates |
FR2936794A1 (fr) * | 2008-10-08 | 2010-04-09 | Saint Gobain | Composition de verre pour echange ionique au thallium et substrat en verre obtenu |
FR2939787A1 (fr) * | 2008-12-15 | 2010-06-18 | Saint Gobain | Composition de verre adaptee a la realisation d'elements optiques plans |
US20110019354A1 (en) * | 2009-03-02 | 2011-01-27 | Christopher Prest | Techniques for Strengthening Glass Covers for Portable Electronic Devices |
CN102388003B (zh) | 2009-03-02 | 2014-11-19 | 苹果公司 | 用于强化用于便携式电子设备的玻璃盖的技术 |
US9778685B2 (en) | 2011-05-04 | 2017-10-03 | Apple Inc. | Housing for portable electronic device with reduced border region |
US9213451B2 (en) | 2010-06-04 | 2015-12-15 | Apple Inc. | Thin glass for touch panel sensors and methods therefor |
US10189743B2 (en) | 2010-08-18 | 2019-01-29 | Apple Inc. | Enhanced strengthening of glass |
US8873028B2 (en) | 2010-08-26 | 2014-10-28 | Apple Inc. | Non-destructive stress profile determination in chemically tempered glass |
US8824140B2 (en) | 2010-09-17 | 2014-09-02 | Apple Inc. | Glass enclosure |
US10781135B2 (en) * | 2011-03-16 | 2020-09-22 | Apple Inc. | Strengthening variable thickness glass |
US9725359B2 (en) | 2011-03-16 | 2017-08-08 | Apple Inc. | Electronic device having selectively strengthened glass |
US9128666B2 (en) | 2011-05-04 | 2015-09-08 | Apple Inc. | Housing for portable electronic device with reduced border region |
US9944554B2 (en) | 2011-09-15 | 2018-04-17 | Apple Inc. | Perforated mother sheet for partial edge chemical strengthening and method therefor |
US9516149B2 (en) | 2011-09-29 | 2016-12-06 | Apple Inc. | Multi-layer transparent structures for electronic device housings |
US10144669B2 (en) | 2011-11-21 | 2018-12-04 | Apple Inc. | Self-optimizing chemical strengthening bath for glass |
US8684613B2 (en) | 2012-01-10 | 2014-04-01 | Apple Inc. | Integrated camera window |
US10133156B2 (en) | 2012-01-10 | 2018-11-20 | Apple Inc. | Fused opaque and clear glass for camera or display window |
US8773848B2 (en) | 2012-01-25 | 2014-07-08 | Apple Inc. | Fused glass device housings |
US9946302B2 (en) | 2012-09-19 | 2018-04-17 | Apple Inc. | Exposed glass article with inner recessed area for portable electronic device housing |
US9459661B2 (en) | 2013-06-19 | 2016-10-04 | Apple Inc. | Camouflaged openings in electronic device housings |
US9886062B2 (en) | 2014-02-28 | 2018-02-06 | Apple Inc. | Exposed glass article with enhanced stiffness for portable electronic device housing |
EP3223063A1 (de) | 2016-03-24 | 2017-09-27 | Thomson Licensing | Vorrichtung zur bildung von einem feldintensitätsmuster im nahbereich aus einfallenden elektromagnetischen wellen |
EP3312646A1 (de) | 2016-10-21 | 2018-04-25 | Thomson Licensing | Vorrichtung und verfahren zur abschirmung von mindestens einem sub-wellenlängen-skala-objekt von einer einfallenden elektromagnetischen welle |
EP3312660A1 (de) | 2016-10-21 | 2018-04-25 | Thomson Licensing | Vorrichtung zur bildung von mindestens einem geneigten fokussierten strahl im nahbereich aus einfallenden elektromagnetischen wellen |
EP3385219B1 (de) * | 2017-04-07 | 2021-07-14 | InterDigital CE Patent Holdings | Verfahren zur herstellung einer vorrichtung zum ausbilden wenigstens eines fokussierten strahls in einem nahbereich |
Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE2263501C2 (de) * | 1971-12-25 | 1983-08-25 | Nippon Selfoc Co., Ltd., Tokyo | Glaslinsen mit verringerter chromatischer Aberration |
JPS58167438A (ja) * | 1982-03-23 | 1983-10-03 | Nippon Sheet Glass Co Ltd | 屈折率分布型レンズのイオン交換制御方法 |
GB2117530A (en) * | 1982-02-01 | 1983-10-12 | Nippon Sheet Glass Co Ltd | Integral plate lens |
US4472030A (en) * | 1979-11-27 | 1984-09-18 | Nippon Sheet Glass Company, Limited | Cesium-containing optical glass |
Family Cites Families (16)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE214838C (de) * | 1909-08-31 | |||
GB1266257A (de) * | 1969-03-27 | 1972-03-08 | ||
US3817730A (en) * | 1969-12-29 | 1974-06-18 | Nippon Electric Co | Method of making optical lines in dielectric body |
JPS4940751A (de) * | 1972-08-22 | 1974-04-16 | ||
DE2519617A1 (de) * | 1975-05-02 | 1976-11-11 | Agfa Gevaert Ag | Projektionsschirm |
CH622355A5 (de) * | 1978-05-23 | 1981-03-31 | Battelle Memorial Institute | |
US4246016A (en) * | 1979-03-07 | 1981-01-20 | American Optical Corporation | Method of making graded refractive index fibers and rods |
DE2913843A1 (de) * | 1979-04-06 | 1980-10-23 | Philips Patentverwaltung | Verfahren zur herstellung von mikrolinsen und kopplungselement mit einer nach diesem verfahren hergestellten mikrolinse |
US4231775A (en) * | 1979-04-23 | 1980-11-04 | American Optical Corporation | Method of making ommateal lenses and plates |
US4531810A (en) * | 1980-01-17 | 1985-07-30 | Gte Laboratories Incorporated | Optical fiber holders |
US4293188A (en) * | 1980-03-24 | 1981-10-06 | Sperry Corporation | Fiber optic small displacement sensor |
JPS57120901A (en) * | 1981-01-20 | 1982-07-28 | Nippon Sheet Glass Co Ltd | Refractive index distributed type lens |
US4457590A (en) * | 1982-01-11 | 1984-07-03 | Corning Glass Works | Spherical gradient-index lens designs for video-disk pickup lens or the like |
JPS59140401A (ja) * | 1983-02-01 | 1984-08-11 | Seiko Epson Corp | 平板合成マイクロレンズ |
DE3329511A1 (de) * | 1983-08-16 | 1985-02-28 | Philips Patentverwaltung Gmbh, 2000 Hamburg | Verfahren zur herstellung von mikrolinsen |
DE3329571A1 (de) * | 1983-08-16 | 1985-03-07 | Telefonbau Und Normalzeit Gmbh, 6000 Frankfurt | Verfahren zum betreiben von bildschirmtextanschluessen |
-
1986
- 1986-03-05 FR FR868603088A patent/FR2578658B1/fr not_active Expired - Lifetime
- 1986-03-05 GB GB8605371A patent/GB2173915B/en not_active Expired
- 1986-03-05 DE DE19863607259 patent/DE3607259A1/de not_active Ceased
-
1989
- 1989-02-28 US US07/317,079 patent/US4952037A/en not_active Expired - Lifetime
-
1990
- 1990-11-21 US US07/616,734 patent/US5104435A/en not_active Expired - Lifetime
Patent Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE2263501C2 (de) * | 1971-12-25 | 1983-08-25 | Nippon Selfoc Co., Ltd., Tokyo | Glaslinsen mit verringerter chromatischer Aberration |
US4472030A (en) * | 1979-11-27 | 1984-09-18 | Nippon Sheet Glass Company, Limited | Cesium-containing optical glass |
GB2117530A (en) * | 1982-02-01 | 1983-10-12 | Nippon Sheet Glass Co Ltd | Integral plate lens |
JPS58167438A (ja) * | 1982-03-23 | 1983-10-03 | Nippon Sheet Glass Co Ltd | 屈折率分布型レンズのイオン交換制御方法 |
Non-Patent Citations (2)
Title |
---|
Electron. Lett., Vol. 17, No. 13, 1981, S. 452-454 * |
Jpn. J. Appl. Phys., Vol. 20, No. 4, 1981, S. L 296 - L 298 * |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
GB2173915B (en) | 1989-05-10 |
GB2173915A (en) | 1986-10-22 |
FR2578658B1 (fr) | 1990-06-01 |
US5104435A (en) | 1992-04-14 |
US4952037A (en) | 1990-08-28 |
GB8605371D0 (en) | 1986-04-09 |
FR2578658A1 (fr) | 1986-09-12 |
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