DE3408317A1 - Solarzelle aus amorphem silicium - Google Patents
Solarzelle aus amorphem siliciumInfo
- Publication number
- DE3408317A1 DE3408317A1 DE3408317A DE3408317A DE3408317A1 DE 3408317 A1 DE3408317 A1 DE 3408317A1 DE 3408317 A DE3408317 A DE 3408317A DE 3408317 A DE3408317 A DE 3408317A DE 3408317 A1 DE3408317 A1 DE 3408317A1
- Authority
- DE
- Germany
- Prior art keywords
- layer
- solar cell
- type
- type layer
- cell according
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 title description 2
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 title description 2
- 239000010703 silicon Substances 0.000 title description 2
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 38
- 229910021417 amorphous silicon Inorganic materials 0.000 claims description 22
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 19
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 claims description 19
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 claims description 19
- 230000000737 periodic effect Effects 0.000 claims description 9
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 5
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims description 3
- 239000011521 glass Substances 0.000 claims description 2
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 94
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 16
- ZOXJGFHDIHLPTG-UHFFFAOYSA-N Boron Chemical compound [B] ZOXJGFHDIHLPTG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 229910052796 boron Inorganic materials 0.000 description 8
- 230000031700 light absorption Effects 0.000 description 7
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 6
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 4
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 4
- 230000005855 radiation Effects 0.000 description 4
- 210000004072 lung Anatomy 0.000 description 3
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 2
- 239000000969 carrier Substances 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 230000001771 impaired effect Effects 0.000 description 2
- 206010034972 Photosensitivity reaction Diseases 0.000 description 1
- UMVBXBACMIOFDO-UHFFFAOYSA-N [N].[Si] Chemical compound [N].[Si] UMVBXBACMIOFDO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000008859 change Effects 0.000 description 1
- 230000003247 decreasing effect Effects 0.000 description 1
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 1
- 238000009792 diffusion process Methods 0.000 description 1
- 230000005611 electricity Effects 0.000 description 1
- 239000000446 fuel Substances 0.000 description 1
- 230000006872 improvement Effects 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 238000000034 method Methods 0.000 description 1
- 230000036211 photosensitivity Effects 0.000 description 1
- 230000008569 process Effects 0.000 description 1
- 239000002356 single layer Substances 0.000 description 1
- 230000007704 transition Effects 0.000 description 1
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L31/00—Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof
- H01L31/04—Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof adapted as photovoltaic [PV] conversion devices
- H01L31/06—Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof adapted as photovoltaic [PV] conversion devices characterised by potential barriers
- H01L31/075—Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof adapted as photovoltaic [PV] conversion devices characterised by potential barriers the potential barriers being only of the PIN type, e.g. amorphous silicon PIN solar cells
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L31/00—Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof
- H01L31/0248—Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof characterised by their semiconductor bodies
- H01L31/036—Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof characterised by their semiconductor bodies characterised by their crystalline structure or particular orientation of the crystalline planes
- H01L31/0376—Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof characterised by their semiconductor bodies characterised by their crystalline structure or particular orientation of the crystalline planes including amorphous semiconductors
- H01L31/03762—Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof characterised by their semiconductor bodies characterised by their crystalline structure or particular orientation of the crystalline planes including amorphous semiconductors including only elements of Group IV of the Periodic Table
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02E—REDUCTION OF GREENHOUSE GAS [GHG] EMISSIONS, RELATED TO ENERGY GENERATION, TRANSMISSION OR DISTRIBUTION
- Y02E10/00—Energy generation through renewable energy sources
- Y02E10/50—Photovoltaic [PV] energy
- Y02E10/547—Monocrystalline silicon PV cells
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02E—REDUCTION OF GREENHOUSE GAS [GHG] EMISSIONS, RELATED TO ENERGY GENERATION, TRANSMISSION OR DISTRIBUTION
- Y02E10/00—Energy generation through renewable energy sources
- Y02E10/50—Photovoltaic [PV] energy
- Y02E10/548—Amorphous silicon PV cells
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
- Electromagnetism (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Computer Hardware Design (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Power Engineering (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
- Photovoltaic Devices (AREA)
Description
Die Erfindung betrifft eine Solarzelle aus amorphem Silicium mit einer p-Typ-Schicht.
Anwendungszweck der erfindungsgemäßen Solarzelle aus amorphem
Silicum ist die Umwandlung von Sonnenstrahlung in elektr
i sehe Ener g i e.
In neuerer Zeit sind Solarzellen aus amorphem Silicium, die
mit niedrigen Kosten behaftet sind, zur Nutzbarmachung von
sauberer und unerschöpflicher Energie von Interesse geworden.
Die Herstellungskosten von Solarzellen aus amorphem Silicium
sind gering, weil diese aus einem Substrat geringer Kosten und einer dünnen Schicht von weniger als 1 L/m Durchmesser,
die im Niedrigtemperaturverfahr en herstellbar ist,
zusammengesetzt sind. Zur optimalen Ausnutzung des Vorteils geringer Kosten ist es erforderlich, den Wirkungsgrad der
photoelektrischen Urnwandlung von Solarzellen aus amorphem
Silicium zu steigern, so daß diese in der Praxis verwendbar sind.
copy
Es gibt bereits verschiedene Vorschläge zur Verbesserung der Leistung von Solarzellen dieser Art. Viele Solarzellen mit
einer pin-Struktur sind in der Weise aufgebaut, daß an der Lichteinstrahiseite eine p-Typ-Schicht vorgesehen ist, die
bei kürzerer Diffusions 1änge die Defektelektronen oder Löcher
Von Elektron-Loch-Paaren einsarmnelt, die durch Sonnenbzw.
Lichteinstrahlung in hoher Dichte gebildet werden, so
daß der Gesamtwirkungsgrad der Umwand 1 ung der Strahlungsenergie
erhöht wird.
Eine p-Typ-Sch icht , die ein Element der Gruppe 11 I '_>
des Periodischen Systems wie Bor (B) enthält, weist jedoch im allgemeinen einen derart hohen Lichtabsorptionskoeffizienten auf,
daß viele Photonen die i-Schicht, in der die Träger gebildet werden, nicht erreichen. In einer pin-Struktur, in der an
der Einstrahlseite eine p-Typ-Schicht vorgesehen ist, wird somit als p-Typ-Schicht amorphes Silicium mit zugegebenem
Kohlenstoff oder Stickstoff (a-Si:C:H oder a-Si:N:H), das eine größere verbotene Bandlücke aufweis, verwendet, um das
Licht kurzer Wellenlängen wirksamer auszunutzen. Ferner läßt sich durch Verbesserung des Füllfaktors der Wirkungsgrad der
photoelektrischen Umwandlung weiter erhöhen. In diesem Fall
ist zu erwarten, daß durch Verringerung des elektrischen Widerstandes der Grenzfläche zwischen einer p-Typ-Schicht und
einer Elektrodenschicht der Serienwiderstand der Solarzelle
und der Fülliaktor verbessert und der Wirkungsgrad der photoelektrischen
Urnwandlung erhöht werden.
Die US-PS Ii 064 521 beschreibt ein Beispiel einer pin-Solarzelle
mit einem Körper aus amorphem Silicium, die eine erste, mit Bor dotierte p-Typ-Schicht, eine I ntrinsic-5chicht und
eine zweite, mit Phosphor dotierte n-Typ-Schicht umfaßt.
Hierbei ist jedoch die in Kontakt mit einer leitenden Elektrode stehende p-Typ-Schicht gleichmäßig dotiert. Somit weist
diese Solarzeile einen nicht ausreichenden Wirkungsgrad der photoelektrischen Umwandlung auf.
Aufgabe der Erfindung ist es demgemäß, eine pin-5o1 arzel 1 e
aus amorphem Silicium vorzusehen, die eine größere Lichtempfindlichkeit und einen geringeren Serienwiderstand und somit
einen hohen Wirkungsgrad bei der Umwandlung von Sonnenstrahlung in brauchbare elektrische Energie aufweist.
Die Aufgabe wird erfindungsgemäß dadurch gelöst, daß innerhalb
der p-Typ-Schicht die elektrische Leitfähigkeit einer
in Kontakt mit einer Elektrode stehenden Zone größer ist
als diejenige einer anderen, in Kontakt mit einer i-Typ-Schicht stehenden Zone.
Es wurde gefunden, daß in einer Solarzelle mit einer pin-Flächenstruktur
, die an der Einfallseite eine p-Typ-Schicht aufweist, eine erhöhte Leitfähigkeit einer in Kontakt mit
einer Elektrode stehenden Zone der p-Typ-Schicht gegenüber
der Leitfähigkeit einer anderen, in Berührung mit der
i-Typ-Schicht stehenden Zone zu einer Verringerung des Serienwiderstandes
der Solarzelle und zu einer Verbesserung des Füllfaktors führt, so daß der Wirkungsgrad der photoelektrischen
Umwandlung erhöht wird.
Anhand der Feststellung, daß durch Ändern der Zusammensetzung
oder Herstellen der Bedingungen einer a-Si:C:H-Dünnschicht
oder einer a-Si:N:H-Dünnschicht vom p-Typ die Eigenschaften
der Dünnschicht innerhalb eines breiten Bereiches steuerbar sind, wurde gefunden, daß bei einer Erhöhung
der elektrischen Leitfähigkeit einer in Kontakt mit einer
Elektrode befindlichen Zone einer a-Si:C:H-Dünnschicht oder
einer a-Si:N:A-Dünnschicht gegenüber derjenigen einer anderen,
in Kontakt mit der i-Typ-Schicht stehenden Zone der
Serienwiderstand der Solarzelle verringert, der Füllfaktor
verbessert und die Wirksamkeit der photoelektrischen Umwandlung
erhöht wird.
Anhand der Figuren soll die Erfindung näher erläutert werden. Es ze i gen :
COPY
Bad original
Fig. 1 einen Querschnitt durch eine Ausiührungsform
einer erίindungsgemäßen Solarzelle und -
Fig. 2 einen Querschnitt durch eine bekannte Solarzelle.
Die in der Figur 1 im Querschnitt dargestellte Ausiührungsform einer erfindungsgemäßen a-Si-Solarze 11e umfaßt ein lichtdurchlässiges
Glassubstrat 1, eine lichtdurchlässige und elektrisch
leitende Dünnschicht oder Elektrode 2, eine amorphe Si-1iciumschicht
3, deren Leitfähigkeitstyp zusammengesetzt ist
aus derjenigen einer p-Typ-Schicht 4,einer i-Typ-Schicht 5 und
einer n-Typ-Schicht 6, die in dieser Reihenfolge von der
Subs tr at seite an angeordnet sind, und eine Metallelektrode
Die p-Typ-Schicht h besteht aus zwei Schichten, nämlich einer
ρ -Schicht 7 und einer ρ -Schicht 8, die sich bezüglich
1 2
der Menge enthaltenen Kohlenstoffs oder Stickstoffs voneinander unterscheiden, wobei die ρ -Schicht 7 eine geringere
1
Menge an Kohlenstoff oder Stickstoff aufweist als die ρ -
Menge an Kohlenstoff oder Stickstoff aufweist als die ρ -
2 .
Schicht 8. Die Dicken der ρ -Schicht, ρ -Schicht,
1 2 "■■■■-■
i-Typ-Schicht und n-Typ-Schicht betragen 8, 15, 500 bzw.
nm. Die Meta 11e1ektrode 9 besteht aus Aluminium und weist
eine Dicke von 500 nm auf. Die einfallende Solar strahlung ist
mit dem Bezugszeichen 10 bezeichnet.
COPY ÖAD ORIGINAL
Bei einer anderen Ausfuhrungsform besteht die p-Typ-Schicht
aus einer ρ -Schicht 7 und einer ρ -Schicht 8, die Koh-
1 2
lenstoff oder Stickstoff und verschiedene Mengen an einem Element der Gruppe MIb des Periodischen Systems, wie Bor
oder Aluminium enthalten. Die Menge des Elementes der Gruppe Illb des Periodischen Systems in der ρ -Schicht 7 in der
1 Nähe des Substrats ist größer als diejenige in der
ρ Schicht 8.
2
2
In der in der Fig. 2 im Querschnitt dargestellten bekannten
Solarzelle besteht die p-Typ-5chicht aus einer" einzigen Schicht .
In der Tabelle 1 sind die Eigenschaften einer Solarzelle angegeben,
in der die Schicht aus amorphem Silicium eine p-Typ-Schicht umfaßt, der Kohlenstoff zugegeben worden ist.
In der Tabelle 2 sind die Eigenschaften einer anderen Solarzelle
angegeben, in der die Schicht aus amorphem Silicium . eine p-Typ-Schicht umfaßt, der Stickstoff zugegeben worden
ist. Wie aus diesen Ergebnissen hervorgeht, wird durch die Zugabe von Kohlenstoff oder Stickstoff zu der in Kontakt mit
einer Elektrode stehenden Zone der p-Typ-Schicht in einer ge ringeren Konzentration als zu der in Kontakt mit der
i-Typ-Schicht stehenden Zone der Füllfaktor in bemerkenswerter
Weise verbessert und die lichtelektrische Umwandlung yer
gr ölier t
Lichtelektri sche Umwand lung |
Kurz schluß strom - dichte ? (mA/cm ) |
Leerlauf spannung (V) |
Fün faktor |
Zusammensetzung de: ρ-Typ-Schicht |
|
Vergleichs beispiel 1 |
6,6 | 12,9 | 0,85 | 60 | SiO, 7C0, 3 |
11 2 | 7,3 | 14,3 | 0,89 | 57 | Si0, 5 C0, 5 |
Beispiel 1 | 7,2 | 12,6 | 0,85 | I 67 Si( |
\ P2 ), 9U0,1 01O, 7^0, 3 |
11 2 | 8,0 | 13,7 | 0,90 | 65 Si( | ), 75C0, 25 Sl0, 5C0, 5 |
(Bestrahlung: AM-I (100 mW/cm))
Lichtelektri- Kurz- Leerlauf- Füll- Zusammensetzung άψτ
sehe Umwand- Schluß- spannung faktor p-Typ-Schicht
lung strom
dichte 2
(mA/cm ) (V)
(mA/cm ) (V)
Vergleichs | 3 | 6,0 | 12,0 | 0,84 | 60 | - Si0. | P1 | 7N0, 3 | 3 |
beispiel | 4 | 6,9 | 13,3 | 0,89 | 58 | S1o, | 3i0, 9N0, | 5N0, 5 | 5 |
3iO,8NO, | P2 | ||||||||
3 | 7,2 | 12,9 | 0,84 | 66 ί | lS10,7C0, | ||||
Beispiel | 4 | 7,8 | 13,5 | 0,89 | 65 ί | 2Si0,5N0, | |||
(Bestrahlung: AM-I (100 mW/cm2))
Im allgemeinen wird der Kohlenstoff der ρ -Schicht in
1 einem Anteil von 0 bis 25 Atom-% und der ρ -Schicht in
2 einem Anteil von 10 bis 50 Atom-% zugesetzt, und es wird
der Stickstoff der ρ -Schicht in einem Anteil von 0 bis 25
1
Atom-% und der ρ -Schicht in einem Anteil von 10 bis 50
Atom-% und der ρ -Schicht in einem Anteil von 10 bis 50
2
Atom-% zugesetzt.
Atom-% zugesetzt.
In der Tabelle 3 sind Eigenschaften einer Solarzelle angegeben,
in der die Schicht aus amorphem Silicium eine p-Typ-Schicht aufweist, der Kohlenstoff und Bor zugegeben
worden sind, und in der Tabelle 4 sind Eigenschaften einer
anderen Solarzelle angegeben, deren Schicht aus amorphem Silicium Stickstoff und Bor zugegeben worden sind. Kohlenstoff
oder Stickstoff sind in einem Anteil von 30 Atom-% in der Dünnschicht enthalten und legiert. Wie aus diesen Ergebnissen
hervorgeht, wird durch die Zugabe von Bor zu einer in Kontakt mit einer Elektrode stehenden Zone der
p-Typ-Schicht in einer größeren Menge als zu einer in Kontakt
mit der i-Typ-Schicht stehenden Zone der Füllfaktor in bemerkenswerter
Weise verbessert und die photoelektrische Umwandlung vergrößert. Im allgemeinen werden die Elemente der Gruppe
Illb in einem Anteil von 10 bis 0,1 Atom-% und 1 bis 0,05
Atom-% der ρ -Schicht bzw. der ρ -Schicht zugegeben. 1 2
Copy-
Lichtelektri | 6,5 | Kurz | Leerlauf | Füll- | B or anteil der | |
sche Umwand | schluß | spannung | faktor | p-Typ-Schicht | ||
lung | 7,5 | strom - | ||||
dichte η | ||||||
(mA/cm ) | (V) | (%) | <%) | |||
Vergleichs | ||||||
beispiel 5 | 13,3 | 0,88 | 56 | 0,1 | ||
V P2 | ||||||
Beispiel 5 | 13,2 | 0,88 | 65 | 0, 5 0, 1 |
(Bestrahlung: AM-I (100 mW/cm'2))
Lichtelektri | Kurz | Leerlauf - | Fün | Boranteil der | |
sche Umwand | schluß | spannung | faktor | ρ-Typ-Schicht | |
lung | strom - | ||||
dichte 2 | |||||
(%) | (mA/cm ) | (V) | (%) | (%) | |
Vergleichs | |||||
beispiel 6 | 6,2 | 13,2 | 0,87 | 55 | 0,1 |
Pl P2 | |||||
Beispiel 6 | 7,3 | 13,0 | 0, 87 ' | 65 | 0, 5 " 0, 1 |
(Bestrahlung: AM-I (100 mW/cm))
Copy
Die Zugabe von mindestens einem der Elemente Kohlenstoff und
Stickstoff zur p-Typ-Schient dient dazu, die■photoelektrische
Urrr.vand 1 ung mittels des sogenannten Fens ter ei f ekt s zu verbessern,
wobei die verbotene Bandlücke der p-Typ-Schicht vergrößert
wird, um die Lichtabsorption zu verringern und der
i-Typ-Schicht, in der die zur photoelektrischen Umwandlung
wirksamen Träger entstehen, mehr Photonen zuzuführen.
Durch Erhöhen der Menge an Kohlenstoff oder Stickstoff kann die verbotene Bandlücke vergrößert und die Lichtabsorption
in der p-Typ-Schicht verringert werden. Mit Erhöhung der Menge
an Kohlenstoff oder Stickstoff wird jedoch die elektrische Leitfähigkeit der p-Typ-Schicht verringert, und es wird insbesondere
der durch den elektrischen Widerstand an der Verbindungsfläche
zwi sehen der p-Typ-Schicht und der Elektrode
bedingte Serienwiderstand der Solarzelle vergrößert.
Zur Verringerung des durch den elektrischen Widerstand an der Verbindungsfläche zwischen der p-Typ-Schicht und der Elektrode
bedingten Serienwiderstandes der Solarzelle kann die Menge
des Elementes der Gruppe I.I Ib des Periodischen Systems wie Bor oder Aluminium vergrößert werden. Durch die Vergrößerung
dieser Menge wird jedoch die verbotene Bandlücke geschmälert und die Lichtabsorption in der p-Typ-Schicht vergrößert.
Auf jeden Fall wird der Wirkungsgrad der lichtelektrischen
Urnwandlung verkleinert. Zur Überwindung dieses Nachteils wird die Verringerung der elektrischen Leitfähigkeit der in Kontakt
mit einer Elektrode stehenden Zone innerhalb der p-Typ-Schicht auf einen Wert, der unterhalb des Werts der
elektrischen Leitfähigkeit der im Kontakt mit der
i-Typ-Schicht stehenden Zone liegt, dadurch erzielt, daß. die
p-Typ-Schicht in eine zur Verbindung mit einer Elektrode geeigneten ρ -Schicht mit einer relativ schmaleren verbotenen
1
Bandlücke, jedoch einer höheren elektrischen Leitfähigkeit und
Bandlücke, jedoch einer höheren elektrischen Leitfähigkeit und
eine ρ -Schicht mit einer relativ breiteren verbotenen Band-
2
lücke und geringeren Lichtabsorption aufgeteilt wird.
lücke und geringeren Lichtabsorption aufgeteilt wird.
Die ρ -Schicht weist vorzugsweise eine Dicke von 5 bis 15
1
nm auf. Ist die Dicke kleiner als 5 nm, dann ist es nicht
nm auf. Ist die Dicke kleiner als 5 nm, dann ist es nicht
möglich, eine gleichmäßige ρ -Schicht und eine einwandfreie
1
Verbindung zur Elektrode zu erzielen. Beträgt die Dicke mehr
Verbindung zur Elektrode zu erzielen. Beträgt die Dicke mehr
als 15 nm, dann ist die Lichtabsorption in der ρ -Schicht
1 so groß, daß der Fenstereffekt beeinträchtigt wird. Die
ρ -Schicht weist vorzugsweise eine Dicke von 5 bis 30 nm
2
auf. Beträgt die Schichtdicke weniger als 5 nm, dann läßt
auf. Beträgt die Schichtdicke weniger als 5 nm, dann läßt
sich keine gleichmäßige ρ -Schicht erzielen. Beträgt die
2
Dicke mehr als 30 nm, dann ist die Lichtabsorption so groß,
Dicke mehr als 30 nm, dann ist die Lichtabsorption so groß,
BAD ORIGINAL
Copy
daß der Fenstereffekt beeinträchtigt wird._
Bei den vorstehend beschriebenen Ausführungsformen der erfindungsgemäßen
Solarzelle umfaßt die p-Typ-Schicht zwei
Schichten, bestehend aus einer ρ -Schicht von hoher elek-
1
irischer Leitfähigkeit und eine ρ -Schicht mit breiter ver-
irischer Leitfähigkeit und eine ρ -Schicht mit breiter ver-
botener bandlücke. Falls erforderlich, können jedoch erfindungsgemäß
drei oder mehr Schichten vorgesehen sein. In zusätzlicher Weise kann sich die Konzentration des Kohlenstoffes
oder Stickstoffes innerhalb der p-Typ-Schicht beim Übergang
von der in Kontakt mit der Elektrode stehenden Zone zu der in Kontakt mit der i-Typ-Schicht stehenden Zone kontinuierlich,
d. h. stetig oder mit kontinuierlich verlaufendem
Gradienten, ändern, wobei die elektrische Leitfähigkeit der
in Kontakt mit.der Elektrode stehenden Zone größer ist als
die elektrische Leitfähigkeit der in Kontakt mit der
i-Typ-Schicht stehenden Zone. Auf ähnliche Weise kann sich
die Konzentration des Elementes der Gruppe Illb des Periodischen
Systems wie Bor oder Aluminium innerhalb der p-Typ-Schicht kontinuierlich ändern, wobei die elektrische
Leitfähigkeit der in Kontakt mit der Elektrode stehenden
Zone größer ist als die elektrische Leitfähigkeit der in
Kontakt mit der i-Typ-Schicht stehenden Zone.
Die Zusammensetzung der i-Typ-Schicht und der nicht in Kontakt
mit einer Elektrode stehenden Schicht aus amorphem Silicium
in einer Mehr schichtenstruktur unterliegt keiner Einschränkung,
sondern kann an jegliche, eine p-Typ-Schicht aufweisende Struktur angepaßt werden.
Copy
BAD ORIGINAL
- Leerseite -
Claims (1)
- PatentanwälteSteinsdorfstr. 21-22 · D-8000 München 22 · Tel. 089 / 22 94 41 · Telex: 5 22208TELEFAX: GR.3 89/2716063 · GR.3 + RAPIFAX+ RICOH 89/2720480 · ÜR.2 +■ INIOTEC 6000 89/272048110950 - 3/LiDirector General of Agency of Industrial Science and Technology Michio KawadaPatentansprüche:Solarzelle aus amorphem Silicium mit einer p-Typ-Schicht, dadurch gekennzeichnet, daß innerhalb der p-Typ-Schicht (^) die elektrische Leitfähigkeit einer in Kontakt mit einer Elektrode (2) stehenden Zone größer ist als diejenige einer anderen, in Kontakt mit einer i-Typ-Schicht (5) stehenden Zone.2. Solarzelle nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet , daß der p-Typ-Schicht (4) mindestens eines der Elemente Kohlenstoff und Stickstoff zugegeben worden ist'.3. Solarzelle nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet , daß die elektrische Leitfähigkeit der in Kontakt mit der Elektrode (2) stehenden Zone durch die Menge mindestens eines der Elemente Kohlenstoff und Stickstoff gesteuert bzw. bestimmt ist.4. Solarzelle nach Anspruch !,dadurch gekennzeichnet , daß die p-Typ-Schicht (Ψ) als Laminatschichten verschiedenen Gehalts an Kohlenstoff oder Stickstoff best-eht.5. SolarzelIe nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die p-Typ-Schicht (4) eine sich kontinuierlich ändernde Konzentration an Kohlenstoff oder Stickstoff aufweist.6. Solarzeile nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet , daß innerhalb der p-Typ-Schicht (4) in einer mit einer Elektrode (2) in Kontakt stehenden Zone mindestens eines der Elemente der Gruppe III-b des Periodi-Copysehen Systems in höherer Konzentration enthalten ist, als in einer in Kontakt mit der i-Typ-Schicht (5) stehenden Zone.7. Solarzelle nach Anspruch 1, dadurch gekennz e i c h η e t , daß in der p-Typ-Schjcht (4) mindestens eines der Elemente Kohlenstoff und Stickstoff enthalten ist und mindestens eines der Elemente der Gruppe III-b des Periodischen Systems in einer mit der Elektrode (2) in Kontakt stehenden Schicht in höherer Konzentration enthalten ist, als in einer in Kontakt mit der i-Typ-Schicht (5) stehenden Zone.8. Solarzelle nach Anspruch k, dadurch gekennzeichnet , daß die p-Typ-Schicht (4) aus Lami natschichten aus einer ρ -Schicht (7) und einer ρ -Schicht (8) be-1 2steht, wobei die ρ -Schicht (7) eine geringere Konzentration• 1
an Kohlenstoff oder Stickstoff als die ρ -Schicht (8) auf-2 we ist.9. Solarzelle nach Anspruch 6, dadurch gekenn-z e. i c h η e t , daß die p-Typ-Schicht (4) aus Lami natschichten aus einer ρ -Schicht (7) und einer ρ -Schicht (8) be-1 2steht, wobei die ρ -Schicht (7) eine höhere Konzentrationan Elementen der Gruppe IIIb des Periodischen Systems aufweist als die ρ -Schicht (8).10. Solarzelle nach Anspruch 8, dadurch gekennzeichnet, daß die ρ -Schicht (7) eine Dicke1
von 5 bis 15 nm und die ρ -Schicht (8) eine Dicke von 5 bis2 .
30.nm aufwe ist.11. Solarzelle nach Anspruch 9, d a d υ r c h gekennzeichnet , daß die ρ -Schicht (7) eine Dicke von5 bis 15 nm und die ρ -Schicht (8) eine Dicke von 5 bis 30nm aufwe ist.12. Solarzelle nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet , daß die p-Typ-Schicht (4) eine sich kontinuierlich ändernde Konzentration an Elementen der Gruppe Illb des. Periodischen Systems aufweist.13. Solarzelle nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet , daß die Schicht (3) aus amorphem Silicium von einem Leitfähigkeitstyp ist, der aus einem p-Typ, einem i-Typ und einem η-Typ in der angegebenen Reihenfolge von der Substrat seite her gebildet ist.If. Solarzelle aus amorphem Si 1iei um, g e k e η η ζ e ich ■ net durch ein lichtdurchlässiges Glassubstrat (1), eine lichtdurchlässige leitende Schicht oder Elektrode (2), eine amorphe Si 1ieiumschicht (3), die eine aus einer ρ -- *ι : c rCopy""**--■ ·-" : 3Λ08317Schicht (7) und einer ρ -Schicht (8) bestehenden p-Typ-2
Schicht (if), eine i-Typ-Schicht (5) und eine n-Typ-Schicht (6)umfaßt, und eine Metal lelektrode (9), wobei die in Kontakt mitder durchlässigen leitenden Schicht (2) stehende ρ -Schicht1 .
(7) eine größere elektrische Leitfähigkeit aufweist als die inKontakt mit der i-Typ-Schicht (5) stehende ρ -Schicht (8).15. Solarzelle nach Anspruch 14, dadurch g e k e η η -:zeichnet , daß die ρ -Schicht (7) eine geringere1
Konzentration an mindestens einem der Elemente Kohlenstoff undStickstoff aufweist als die ρ -Schicht (8).16. Solarzelle nach Anspruch 14, dadurch gekennz e i c h η e t ,daß die ρ -Schicht (7) eine höhere Kon- :'■'.'''■ ι ■ '■■-■zentration an mindestens einem der Elemente der Gruppe IIIbdes Periodischen Systems aufweist als die ρ -Schicht (8).COPY
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP58036751A JPS59163875A (ja) | 1983-03-08 | 1983-03-08 | アモルフアスシリコン太陽電池 |
JP58036752A JPS59163876A (ja) | 1983-03-08 | 1983-03-08 | アモルフアスシリコン太陽電池 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE3408317A1 true DE3408317A1 (de) | 1984-10-04 |
DE3408317C2 DE3408317C2 (de) | 1995-05-04 |
Family
ID=26375842
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE3408317A Expired - Fee Related DE3408317C2 (de) | 1983-03-08 | 1984-03-07 | Solarzelle aus amorphem Silicium |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US4612559A (de) |
DE (1) | DE3408317C2 (de) |
FR (1) | FR2542503B1 (de) |
GB (1) | GB2137810B (de) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE3732619A1 (de) * | 1986-09-26 | 1988-03-31 | Sanyo Electric Co | Photovoltaisches element |
DE3810496A1 (de) * | 1987-03-27 | 1988-10-06 | Canon Kk | Fotoelektrisches duennfilm-bauelement |
DE3722198A1 (de) * | 1987-07-04 | 1989-01-12 | Semikron Elektronik Gmbh | Verfahren zum herstellen von solarzellen |
Families Citing this family (11)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS6273784A (ja) * | 1985-09-27 | 1987-04-04 | Sanyo Electric Co Ltd | 光起電力装置 |
CA1321660C (en) * | 1985-11-05 | 1993-08-24 | Hideo Yamagishi | Amorphous-containing semiconductor device with high resistivity interlayer or with highly doped interlayer |
US5187563A (en) * | 1986-01-06 | 1993-02-16 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Photoelectric conversion device with Al/Cr/TCO electrode |
US4772933A (en) * | 1986-02-03 | 1988-09-20 | General Electric Company | Method for compensating operationally-induced defects and semiconductor device made thereby |
JPS63291337A (ja) * | 1987-05-22 | 1988-11-29 | Sharp Corp | フオトカソ−ド |
US5053844A (en) * | 1988-05-13 | 1991-10-01 | Ricoh Company, Ltd. | Amorphous silicon photosensor |
JP3169337B2 (ja) * | 1995-05-30 | 2001-05-21 | キヤノン株式会社 | 光起電力素子及びその製造方法 |
DE19700697A1 (de) * | 1997-01-13 | 1998-07-16 | Goeller Christian | Verfahren zur Herstellung von Solarzellen |
JPH11354820A (ja) * | 1998-06-12 | 1999-12-24 | Sharp Corp | 光電変換素子及びその製造方法 |
DE102005013537A1 (de) * | 2004-03-24 | 2005-10-20 | Sharp Kk | Fotoelektrischer Wandler und Herstellverfahren für einen solchen |
EP1643564B1 (de) * | 2004-09-29 | 2019-01-16 | Panasonic Intellectual Property Management Co., Ltd. | Photovoltaisches Bauelement |
Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE3032158A1 (de) * | 1979-08-30 | 1981-04-02 | Plessey Overseas Ltd., Ilford, Essex | Solarzelle |
EP0053402A2 (de) * | 1980-12-03 | 1982-06-09 | Kanegafuchi Kagaku Kogyo Kabushiki Kaisha | Photovolteische Zelle vom pin-Typ mit Heteroübergang zwischen einer amorphen Siliziumverbindung und amorphem Silizium |
US4342044A (en) * | 1978-03-08 | 1982-07-27 | Energy Conversion Devices, Inc. | Method for optimizing photoresponsive amorphous alloys and devices |
DE3246948A1 (de) * | 1982-04-27 | 1983-10-27 | RCA Corp., 10020 New York, N.Y. | Fotozelle |
Family Cites Families (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4001864A (en) * | 1976-01-30 | 1977-01-04 | Gibbons James F | Semiconductor p-n junction solar cell and method of manufacture |
US4492810A (en) * | 1978-03-08 | 1985-01-08 | Sovonics Solar Systems | Optimized doped and band gap adjusted photoresponsive amorphous alloys and devices |
US4162505A (en) * | 1978-04-24 | 1979-07-24 | Rca Corporation | Inverted amorphous silicon solar cell utilizing cermet layers |
IN157494B (de) * | 1980-09-09 | 1986-04-12 | Energy Conversion Devices Inc | |
DE3280112D1 (de) * | 1981-07-17 | 1990-03-15 | Kanegafuchi Chemical Ind | Amorpher halbleiter und photovoltaische einrichtung aus amorphem silizium. |
US4407710A (en) * | 1981-10-15 | 1983-10-04 | Exxon Research And Engineering Co. | Hybrid method of making an amorphous silicon P-I-N semiconductor device |
US4460670A (en) * | 1981-11-26 | 1984-07-17 | Canon Kabushiki Kaisha | Photoconductive member with α-Si and C, N or O and dopant |
US4379943A (en) * | 1981-12-14 | 1983-04-12 | Energy Conversion Devices, Inc. | Current enhanced photovoltaic device |
US4396793A (en) * | 1982-04-12 | 1983-08-02 | Chevron Research Company | Compensated amorphous silicon solar cell |
-
1984
- 1984-03-05 GB GB08405687A patent/GB2137810B/en not_active Expired
- 1984-03-07 DE DE3408317A patent/DE3408317C2/de not_active Expired - Fee Related
- 1984-03-08 FR FR848403598A patent/FR2542503B1/fr not_active Expired - Fee Related
- 1984-03-08 US US06/587,702 patent/US4612559A/en not_active Expired - Lifetime
Patent Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4342044A (en) * | 1978-03-08 | 1982-07-27 | Energy Conversion Devices, Inc. | Method for optimizing photoresponsive amorphous alloys and devices |
DE3032158A1 (de) * | 1979-08-30 | 1981-04-02 | Plessey Overseas Ltd., Ilford, Essex | Solarzelle |
EP0053402A2 (de) * | 1980-12-03 | 1982-06-09 | Kanegafuchi Kagaku Kogyo Kabushiki Kaisha | Photovolteische Zelle vom pin-Typ mit Heteroübergang zwischen einer amorphen Siliziumverbindung und amorphem Silizium |
DE3246948A1 (de) * | 1982-04-27 | 1983-10-27 | RCA Corp., 10020 New York, N.Y. | Fotozelle |
Non-Patent Citations (2)
Title |
---|
US-B.: The Conference Record of the Fifteenth IEEE Photovoltaic Specialists Conference 1981, S. 698-703 * |
US-Z.: Appl. Phys. Lett., Bd. 41, 1982, S. 365-366 * |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE3732619A1 (de) * | 1986-09-26 | 1988-03-31 | Sanyo Electric Co | Photovoltaisches element |
US4781765A (en) * | 1986-09-26 | 1988-11-01 | Sanyo Electric Co., Ltd. | Photovoltaic device |
DE3810496A1 (de) * | 1987-03-27 | 1988-10-06 | Canon Kk | Fotoelektrisches duennfilm-bauelement |
DE3722198A1 (de) * | 1987-07-04 | 1989-01-12 | Semikron Elektronik Gmbh | Verfahren zum herstellen von solarzellen |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
GB8405687D0 (en) | 1984-04-11 |
FR2542503A1 (fr) | 1984-09-14 |
GB2137810B (en) | 1986-10-22 |
DE3408317C2 (de) | 1995-05-04 |
US4612559A (en) | 1986-09-16 |
FR2542503B1 (fr) | 1990-05-11 |
GB2137810A (en) | 1984-10-10 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
DE3244626C2 (de) | ||
DE3650012T2 (de) | Halbleitervorrichtung. | |
DE69926960T2 (de) | Verfahren zur Herstellung einer photovoltaischen Vorrichtung | |
DE69217287T2 (de) | Photovoltische Vorrichtung mit mehreren Übergängen und Herstellungsverfahren | |
DE10010177B4 (de) | Solarzelle mit einer p-Typ Lichtabsorptionsschicht und einer Cd-freien n-Typ Schicht, die einen größeren Bandabstand und eine größere Elektronenaffinität aufweist | |
DE2632987C3 (de) | Fotovoltaisches Halbleiterbauelement und Verfahren zu seiner Herstellung | |
DE69528323T2 (de) | Solarzelle mit integrierter Umleitungsfunktion | |
DE69636605T2 (de) | Solarzelle und ihr Herstellungsverfahren | |
DE68911772T2 (de) | Fotodiode und Fotodiodenmatrix aus II-VI-Halbleitermaterial und Herstellungsverfahren dafür. | |
DE3111828A1 (de) | Vorrichtung zur umsetzung elektromagnetischer strahlung in elektrische energie | |
DE3334316A1 (de) | Solarbatterie mit amorphem silicium | |
DE3408317A1 (de) | Solarzelle aus amorphem silicium | |
DE102004031950A1 (de) | Halbleiter/Elektroden-Kontaktstruktur und eine solche verwendendes Halbleiterbauteil | |
DE102008049448A1 (de) | Leistungsstarke optoelektronische Vorrichtung | |
DE4025311A1 (de) | Fotovoltaische einrichtung | |
DE4004559A1 (de) | Photovoltaisches halbleiterelement | |
DE4010302B4 (de) | Verfahren zum Herstellen einer fotovoltaischen Einrichtung | |
DE4210402C2 (de) | Diamant-Schottky-Diode | |
DE3305030C2 (de) | ||
DE69619149T2 (de) | Solarzelle aus Silizium und Herstellungsverfahren | |
DE202023101309U1 (de) | Solarzelle und Photovoltaikmodul | |
DE112012001058B4 (de) | Verfahren zur herstellung einer tandem-photovoltaikeinheit | |
DE69033643T2 (de) | Erhöhung des Kurzschlussstroms durch Benutzung einer n-Schicht mit grosser Bandlücke in p-i-n photovoltaischen Zellen aus amorphem Silizium | |
DE3810496C2 (de) | ||
DE2812547A1 (de) | Fotoelement |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
8128 | New person/name/address of the agent |
Representative=s name: LIEDL, G., DIPL.-PHYS., PAT.-ANW., 8000 MUENCHEN |
|
8110 | Request for examination paragraph 44 | ||
8128 | New person/name/address of the agent |
Representative=s name: LIEDL, C., DIPL.-CHEM.UNIV., PAT.-ANW., 81479 MUEN |
|
D2 | Grant after examination | ||
8364 | No opposition during term of opposition | ||
8339 | Ceased/non-payment of the annual fee |