DE3406437A1 - Kondensatorelement mit einstellbarer kapazitaet - Google Patents

Kondensatorelement mit einstellbarer kapazitaet

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DE3406437A1 DE19843406437 DE3406437A DE3406437A1 DE 3406437 A1 DE3406437 A1 DE 3406437A1 DE 19843406437 DE19843406437 DE 19843406437 DE 3406437 A DE3406437 A DE 3406437A DE 3406437 A1 DE3406437 A1 DE 3406437A1
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Description

OHUVHO I
Kondensatorelement mit einstellbarer Kapazität
Die Erfindung betrifft ein Kondensatorelement mit einstellbarer Kapazität, bei dem insbesondere Kapazitätsschwankungen in Abhängigkeit von den Potentialen der Eingangssignale vermindert sind.
5
Eines der bekannten Kondensatorelemente mit einstellbarer Kapazität verwendet eine Diode mit PN-Übergang, wie sie in Fig. 1 der zugehörigen Zeichnung dargestellt ist. In Fig. 1 sind ein N-leitender Halbleiterbereich 1, ein P-leitender Halbleiterbereich 2, ein PN-Übergang 3, Ohmsche Elektroden 4 und 5, die am N-leitenden und P-leitenden Bereich 1 und 2 jeweils angebracht sind, Leitungsanschlüsse 6 und 7, die von den Ohmschen Elektroden 4 und jeweils ausgehen,und eine Sperrschicht 8 dargestellt.
Die Sperrschicht 8 ändert ihr Volumen nach Massgabe einer Vorspannung, die an den Leitungsanschlüssen 6 und 7 liegt, so dass eine Kapazität zwischen den Anschlüssen 6 und 7 wahrgenommen wird, die dem Volumen der Sperrschicht 8 entspricht.
Das bekannte Element verwendet jedoch die Leitungsanschlüsse 6 und 7 sowohl als Kapazitätsabnahmeklemmen (Elektroden) zum Abnehmen der sich ergebenden Kapazität als auch als Vorspannungsklemmen, um das Volumen der Sperrschicht 8 zu ändern. Die Sperrschicht 8 ändert daher ihr Volumen nicht nur mit der anliegenden Vorspannung, sondern auch mit dem anliegenden Eingangssignal zwischen den Leitungsanschlüssen 6 und 7, was dadurch zu einer Schwankung in der sich er-
3A0S-A37
- Or -
gebenden Kapazität führt. Wenn ein derartiges Kondensatorelement in einer Abstimmschaltung verwandt wird, führen derartige Schwankungen der sich ergebenden Kapazität zu -- Abstimmfehlern und Beeinträchtigungen der Kreuzmodulationscharakteristik. Die sich ergebende Kapazität schwankt insbesondere durch die Potentiale der am Element liegenden Eingangssignale, wobei darüberhinaus diese Schwankung nicht linear ist. Das bedeutet, dass derartige Eingangssignale frequenzmoduliert werden und andere hochfrequente Anteile als die Eingangssignale selbst im Ausgangssignal dementsprechend auftreten.
Ein derartiges bekanntes Kondensatorelement mit einstellbarer Kapazität bringt daher die folgenden Schwierigkeiten mit sich:
1. Die sich ergebende Kapazität wird stark durch die Potentiale der Eingangssignale beeinflusst.
2. Die Doppelverwendung der Elektroden als Kapazitätsabnahmeelektroden und als Vorspannungselektroden erlaubt keine freie Wahl der Auslegung der Schaltungsanordnung.
3. Da die Kapazitätsänderung von der Ladungsträgerdichte eines Halbleiterbereiches des Elementes abhängt, kann der Variationsbereich nicht sehr vergrössert werden.
4. Aufgrund der verschiedenen Beschränkungen beim Herstellungsverfahren des Elementes ist es schwierig, das Element zusammen mit anderen Hochfrequenz- und Zwischenfrequenzschaltungselementen auf einem einzigen Substrat in integrierter Form auszubilden.
Durch die Erfindung soll daher ein Kondensatorelement mit einstellbarer Kapazität geschaffen werden, dessen Kapazität
-T-
-C
kaum.durch die Eingangssignale beeinflusst wird und statt dessen nur durch die Vorspannungen bestimmt ist.
Das erfindungsgemässe Kondensatorelement mit einstellbarer Kapazität umfasst dazu eine Sperr Schichtsteuereinrichtung und eine Kapazitätsabnahmeeinrichtung mit einer Kapazitätsabnahmeelektrode, die beide auf einem Halbleitersubstrat ausgebildet und durch eine Isolierschicht beabstandet sind, wobei das erfindungsgemässe Element insbesondere dadurch gekennzeichnet ist, dass das Oberflächenpotential des Halbleitersubstrates ■ unter der Kapazitätsabnahmeelektrode gespeichert wird, so dass die Kapazität, die auf eine Vorspannung, die an der Sperrschichtsteuereinrichtung liegt, ansprechend an der Kapazitätsabnahmeeinrichtung auftritt, nur zwei stabile Werte, nämlich einen grossen und einen kleinen Wert einnehmen kann.
Im folgenden werden anhand der zugehörigen Zeichnung besonders bevorzugte Ausführungsbeispiele der Erfindung näher erläutert: 20
Fig. 1 zeigt eine Querschnittsansicht eines bekannten Kondensatorelementes mit einstellbarer Kapazität.
Fig. 2a, zeigen Querschnittsansichten von Ausführungsbeispielen des erfindungsgemäss mit einstellbarer Kapazität.
g
5 ' * spielen des erfindungsgemässen Kondensatorelementes
Fig. 2b, zeigen die Kennlinien der in den Fig. 2a, 3a, 4a
' ' und 5 jeweils dargestellten Elemente. 30
Fig. 8 zeigt eine Schaltungsanordnung einer Kondensatoreinrichtung mit einstellbarer Kapazität, die eine Vielzahl von Kondensatorelementen mit einstellbarer
Kapazität gemäss der Erfindung umfasst. 35
Fig. 9a zeigt eine perspektivische Ansicht einer Vielzahl von Kondensatorelementen mit einstell-
barer Kapazität gemäss der Erfindung/ die auf einem Halbleitersubstrat integriert sind. 5
Fig. 9b zeigt eine Querschnittsansicht des in Fig. 9a
dargestellten Aufbaues.
Fig. 10 zeigt eine perspektivische Ansicht einer integrierten Schaltung, bei der eine Vielzahl von Kondensatorelementen mit einstellbarer Kapazität gemäss der Erfindung und dafür vorgesehene Schaltungselemente mit Schaltfunktion auf einem einzigen Halbleitersubstrat in integrierter Form ausgebildet sind.
Fig. 2a und 2b bis 4a und 4b zeigen Querschnittsansichten und in grafischen Darstellungen die Kennlinien von Kondensator- ^ elementen mit einstellbarer Kapazität in MIS-Struktur zur Erläuterung der Erfindung. Das Halbleitersubstrat weist einen t N-leitenden Halbleiterbereich 11 auf. Das Substrat enthält gleichfalls P+ leitende Bereiche 12A und 12B. Zwischen .dem N-leitenden Halbleiterbereich 11 und den P+ leitenden Bereichen 12A und 12B sind PN-übergänge 13 ausgebildet. Eine Isolierschicht 14 ist auf dem N-leitenden Halbleiterbereich 11 so ausgebildet, dass sie die P+ leitenden Bereiche 12A und 12B überbrückt. Der N-leitende Bereich 11, die beiden P+ leitenden Bereiche 12A und 12B und die Isolierschicht 14 haben jeweils einzeln ihre eigenen Elektroden 15, 16A, 16B und 17. Leitungsanschlüsse 18, 19 und 20 gehen von den Elektroden 15, 16A, 16B und 17 jeweils aus. Wie es in Fig. 4a dargestellt ist, bildet sich eine Sperrschicht 21 längs der PN-Ubergänge 13, wobei eine Restspeicherschicht 22 unter der Isolierschicht übrigbleibt, die nicht in die Sperrschicht eingeht. Die P+ leitenden Bereiche 12A und 12B und ihre Elektroden 16A und i6B bilden eine Sperrschichtsteuereinrichtung 23, wohingegen die
COPY
JHUÜ4O/
Isolierschicht 14 und ihre Elektrode 17 eine Kapazitätsabnahmeeinrichtung 24 bilden.
Das in Fig. 2a dargestellte Kondensatorelement mit einstellbarer Kapazität und MIS-Struktur, das auch in der japanischen Offenlegungsschrift 120178/1980 beschrieben ist, ist so ausgebildet, dass die Sperrschicht 21 ihre Volumen auf eine Vorspannung Vß ansprechend ändert, die zwischen den Leitungsanschlüssen 18 und 19 anliegt, um die PN-Ubergänge 13 in Sperrichtung vorzuspannen, wobei die sich ergebende Kapazität, die dem Volumen der Sperrschicht 21 entspricht, zwischen den Leitungsanschlüssen 18 und 20 abgenommen wird. Die Beziehung zwischen der Kapazität C und der Spannung V ist in Fig. 2b dargestellt, wobei die Kapazität H der Wert ist, der dann erhalten wird, wenn die Vorspannung V0 in Sperrichtung gleich Null ist,und die Kapazität L der Wert ist, der dann erhalten wird, wenn die Vorspannung V13 in Sperrichtung auf einen Wert V erhöht wird, der die Schwellenspannung Vn„ überschreitet. Die Kapazitäten H und L geben jeweils die maximale Kapazität C und die minimale Kapazität C .
c max c mm
in dieser MIS-Kapazitätsspannungskennlinie wieder.
Wenn die Vorspannung Vn in Sperrichtung zwischen den Leitungsanschlüssen 18 und 19 gleich Null ist, und wenn die Vorspannung Vx. zwischen den Leitungsanschlüssen 18 und 20, d.h. die κ
Spannung an der Kapazitätsabnahmeelektrode 17 erhöht oder vermindert wird, ergibt sich die Kapazitätsspannungskennlinie, wie sie in Fig. 3b dargestellt ist. Diese Kennlinie ist im wesentlichen gleich der allgemeinen MIS-Kapazitätsspannungslinie von Fig. 2b. Es ist daher ersichtlich, dass dann, wenn die Vorspannung V_ an der Kapazitätsabnahmeelektrode 17 variiert wird, während an den Vorspannungselektroden 16A und 16B keine Vorspannung liegt, dieselbe MIS-Kapazitätsspannungskennlinie erhalten wird, wie sie in Fig. 2b dargestellt ist.
Wenn die Vorspannung V-. zwischen den Leitungsanschlüssen und 20 variiert wird, während eine Vorspannung V in Sperrrichtung zwischen den Leitungsanschlüssen 18 und 19 anliegt, wie es in Fig. 4a dargestellt ist, wird eine Kapazitäts-Spannungskennlinie erhalten, wie sie in Fig. 4b dargestellt ist. Aus dieser Kapazitätsspannungskennlinie ergibt sich, dass dann, wenn die Vorspannung VOT in Sperrichtung so gewählt ist, dass die Kapazität C in ausreichendem Masse auf einem Wert L stabilisiert wird, eine Verschiebung der Vorspannung V in positiver oder negativer"Richtung um den Nullpunkt herum keine wesentlichen Änderungen des Kapazität C bewirkt und statt dessen diese auf dem Wert L hält.
Die Kapazitätsspannungskennlinie von Fig. 3b zeigt andererseits eine Änderung der Kapazität, wenn sich die Vorspannung Vn in eine Richtung ändert und einen Wert V„Düberschreitet.
K r υ
Es ist daher ersichtlich, dass die Kapazität von der Vorspannung V„ abhängt. ^
Das bedeutet, dass das Kondensatorelement mit einstellbarer -, Kapazität und dem oben beschriebenen Aufbau,so wie es ist, KapazitätsSchwankungen aufgrund der an der Kapazitätsabnahmeelektrode 17 liegenden Eingangssignalen unterliegt.
Bei dem in Fig. 5 dargestellten Kondensatorelement mit einstellbarer Kapazität und MIS-Struktur sei nun angenommen, dass das Halbleitersubstrat S vom N-leitenden Typ ist. Wenn eine beträchtliche Vorspannung V_ an der Elektrode M über einen Isolator I anliegt, wird eine Anzahl von Elektronen längs der MIS-Zwischenflache zwischen dem Isolator I und dem Halbleitersubstrat S angesammelt, so dass das Oberflächenpotential ' gespeichert wird. In der Kapazitätsspannungskennlinie von Fig. 6 ist mit A der Zustand bezeichnet, in dem das Oberflächenpotential gespeichert wird. In diesem Zustand wird die Kapazität C auf den Wert H gehalten. Während das Oberflächenpotential gespeichert wird, ändert sich das Potential Ps in einem extrem kleinen Mass bezüglich der Änderung der Vorspannung Vn an
K.
- 'Zeder Kapazitätsabnahmeelektrode, wie es in der grafischen Darstellung von Fig. 7 dargestellt ist, die aus der MIS-Theorie abgeleitet ist. Es ist daher ersichtlich, dass trotz einer Änderung der Vorspannung V die Kapazitäts-Schwankung sehr klein gehalten wird, vorausgesetzt, dass die Änderung erfolgt, während das Oberflächenpotential gespeichert wird.
Die Erfindung nutzt dieses Effekt aus und liefert ein Kondensatorelement mit einstellbarer Kapazität, das das Oberflächenpotential längs der MIS-Zwischenflache speichern kann, so dass eine sich ergebende Kapazität erzeugt wird, die nicht durch eine Spannung beeinflusst wird, die an der MIS-Elektrode anliegt, und die statt dessen auf einem grossen oder einem kleinen Wert H oder L stabil gehalten ist.
Eine bevorzugte Möglichkeit der Speicherung des Oberflächenpotentials besteht darin, die Kapazitätsabnahmeelektrode vorzuspannen, um vorher das Oberflächenpotential zu speichern, wie es in Fig. 5 dargestellt ist.
Eine zweite Möglichkeit ist die Ionenimplantation von Donatorverunreinigungen, wie beispielsweise Arsen (As), Phosphor (P) oder Antimon(Sb) in den Oberflächenbereich des N-leitenden Halbleiterbereiches unter der Kapazitätsabnahmeelektrode 17. Wenn der Halbleiterbereich 11 vom P-leitenden Typ ist, werden Akzeptorverunreinigungsionen implantiert. Dadurch werden positive oder negative Ionen längs der MIS-Zwischenfläche erzeugt.
Vom Standpunkt des Potentialunterschiedes zwischen der Kapazitätsabnahmeelektrode 17 und den Vorspannungselektroden 16A und 16B ist die zweite Möglichkeit bevorzugt, da bei der ersten Möglichkeit die Gefahr besteht, dass eine Ladungsänderung aufgrund eines Ladungsstreuflusses durch den Isolator I auftritt.
- βτ-
Durch die Speicherung des Oberflächenpotentials längs der MIS-Zwischenfläche kann der Nullvorspannungspunkt der Kapazitätsspannungscharakteristik im wesentlichen zur Stelle L nach rechts in Fig. 6 verschoben werden, so dass die Vorspannung VD in positive und negative Richtung um
den Punkt L variiert wird. Dementsprechend wird der Variationsbereich der Vorspannung Vn, in dem die Kapazität C auf dem Wert H gehalten wird, stark bis zu einem Ausraass vergrössert, bei dem die Spannung V nicht überschritten wird, wodurch die Abhängigkeit der Kapazität C von der Vorspannung Vn beseitigt wird.
Es ist daher ersichtlich, dass durch die Speicherung des Oberflächenpotentials längs der MIS-Zwischenflache und durch die Wahl der Vorspannung zwischen den Vorspannungselektroden 16A und 16B gleich Null oder gleich einem Wert grosser als der Schwellenwert VnrTl/ die sich ergebende Kapazität
al >
einen stabilisierten grossen oder kleinen Wert H oder L jeweils zeigt.
Die maximale und minimale Kapazität C und C ·„, die den Werten H und L dieses Kondensatorelementes mit einstellbarer Kapazität in MIS-Struktur, das in Fig. 2 bis 4 dargestellt ist, entsprechen, können in der gewünschten Weise dadurch gewählt werden, dass die Parameter der Materialien variiert werden, aus denen die MIS-Struktur besteht. Änderungen in der Ladungsträgerdichte und im Volumen der Halbleiterbereiche 11, 12A und 12B, in der Stärke der Isolierschicht 14, in der Abmessung der Elektrode 17 und in einigen anderen Faktoren erlauben die gewünschte Wahl der Werte H und L.
Fig. 8 zeigt eine Vielzahl von Kondensatorelementen VC., VC2, VC3 ... mit einstellbaren Kapazität in MIS-Struktur, dxe verschiedene Werte H und L haben und parallel geschaltet 3^ smd.vornpannungsclektrodcn GB1, GB3, GB3 ... der jeweiligen
Elemente r.ind mit einer die Vorspannung zuschaltenden Schal-
COPY *
OHUUHO I
tung CH verbunden, so dass eine gewünschte Vorspannungselektrode durch die Schaltung CH gewählt und mit einer Vorspannung V„ versorgt werden kann, um die gewünschte sich ergebende Kapazitätspannungskennlinie zwischen den Kapazitätsabnahmeelektroden 18A und 2OA zu erhalten. Wenn beispielsweise neun bis zwölf Elemente mit verschiedenen Werten H und L über eine logische Schaltung kombiniert werden, die als Schaltung CH mit Schaltfunktion dient, können verschiedene Kapazitätsspannungskennlinien mit einer Genauigkeit von 1 bis 0,1 pF erhalten werden.
Fig. 9a zeigt eine Vielzahl von Kondensatorelementen VC1, VC2/ VC3 ... mit einstellbarer Kapazität in MIS-Struktur, die auf einem Halbleitersubstrat 30 in integrierter Form ausgebildet sind. Die Kapazitätsabnahmeelektroden GR1, GR2/ GRo ·- - der jeweiligen Elemente sind gemeinsam mit einem Leitungsanschluss 31 verbunden. Die Vorspannungselektroden GB1, GB2/ GB3 ... sind einzeln mit einer die Vorspannung zuschaltenden Schaltung 32 verbunden, so dass sie unabhängig mit einer Vorspannung VR versorgt werden können. Fig. 9b zeigt eine Querschnittsansicht des integrierten Schaltungsaufbaues von Fig. 9a. In Fig. 9b sind die Sperrschichtsteuereinrichtung 23A und 23B und die Kapazitätsabnahmeeinrichtung 24A und 24B dargestellt.
Fig. 10 zeigt einen Aufbau, bei dem Kondensatorelemente VC mit einstellbarer Kapazität und eine Schaltung 32 mit Schaltfunktion gemeinsam auf einem einzigen Halbleitersubstrat 33 in integrierter Form ausgebildet sind.
Die Halbleiterbereiche des Elementes können je nach Wunsch als P-leitende oder N-leitende Bereiche gewählt werden.
- 42,- ■
Aus dem Vorhergehenden ist ersichtlich, dass durch die Erfindung die verschiedenen Schwierigkeiten bei dem bekannten Element beseitigt werden, da bei dem erfindungsgemässen Kondensatorelement mit einstellbarer Kapazität, das eine Sperrschichtsteuereinrichtung und eine Kapazitätsabnahmeeinrichtung einschliesslich einer Kapazitätsabnahmeelektrode aufwei-st, die beide auf einem Halbleitersubstrat ausgebildet und durch eine Isolierschicht beabstandet sind, ein Oberflächenpotential des Halbleitersubstrates unter der Kapazitätsabnahmeelektrode gespeichert wird, so dass die Kapazität, die an der Kapazitätsabnahmeeinrichtung auftritt, einen stabilisierten grossen oder kleinen Wert auf eine Vorspannung ansprechend annimmt, die an der Sperrschichtsteuereinrichtung liegt.
Die erfindungsgemässe Ausbildung hat die folgenden Vorteile:
1. Da die sich ergebende Kapazität nicht durch das Potential der Eingangssignale beeinflusst wird, gibt die Kapazität einen genauen Wert wieder, der nur durch die Vorspannung bestimmt ist.
2. Da die Kapazitätsabnahmeelektrode und die Vorspannungselektrode unabhängig voneinander sind, ist eine relativ freie Wahl der Schaltungsanordnungen möglich.
3. Der Kapazitatsvariationsbereich kann vergrössert werden.
4. Die Elemente können leicht zusammen mit anderen Schaltungselementen auf einem einzigen Substrat in integrierter Form ausgebildet werden.
Die im wesentlichen gegebene Unabhängigkeit von den Eingangssignalen, die an der Kapazitätsabnahmeelektrode liegen, führt insbesondere zu einer Vermeidung von Abstimmfehlern und
- IT -
■ ^.
zu einer Vermeidung der Erzeugung von hochfrequenten Anteilen, wodurch die Kreuzmodulationscharakteristik verbessert wird.
Leerseite

Claims (6)

  1. PATENTANSPRÜCHE
    1I/ Kondensatorelement mit einstellbarer Kapazität, gekennzeichnet durch ein Halbleitersubstrat (11), eine Sperrschichtsteuereinrichtung (12A, 12B, 16Α, 16B), die auf dem Substrat (11) ausgebildet ist, eine Isolierschicht (14), die auf dem Substrat (11) ausgebildet ist, eine Kapazitätsabnahmeeinrichtung (17), die auf der Isolierschicht (14) ausgebildet ist, eine Oberflächenpotentialspeichereinrichtung oder -ausbildung zum Speichern des Oberflächenpotentials im Halbleitersubstrat (11) unter der Kapazitätsabnahraeeinrichtung (17) und eine Vorspannungseinrichtung (18, 20) zum Anlegen einer Vorspannung an die Sperrschichtsteuereinrichtung (12A, 12B, 16A, 16B) derart,
    dass die an der Kapazitätsabnahineeinrichtung (17) auftretende Kapazität einen stabilisierten grossen oder kleinen Wert wiedergibt.
  2. 2. Kondensatorelement nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet , dass die Oberflächenpotentialspeichereinrichtung eine Einrichtung zum Vorspannen der Kapazitätsabnahmeeinrichtung (17) umfasst, um vorher das Oberflächenpotential zu speichern.
  3. 3. Kondensatorelement nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet , dass das Halbleitersubstrat (11) vom N-leitenden Typ ist und dass die Oberflächenpotentialspeicherausbildung eine Ionenimplantation von Donatorverunreinigungen in das N-leitende Halbleitersubstrat unter der Kapazitätsabnahmeeinrichtung (17) umfasst.
  4. 4. Kondensatorelement nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet , dass das Halbleitersubstrat (11) vom P-leitenden Typ ist und dass die Oberflächenpotentialspeicherausbildung eine Ionenimplantation von Akzeptorverunreinigungen in das P-leitende Halbleitersubstrat unter der Kapazitätsabnahmeeinrichtung (17) umfasst.
  5. 5. Kondensatorelement mit einstellbarer Kapazität, gekennzeichnet durch ein Halbleitersubstrat (33), eine Vielzahl von Sperrschichtsteuereinrichtungen (23A, 23B), die auf dem Halbleitersubstrat (33) ausgebildet und miteinander verbunden sind, eine Vielzahl von Kapazitätsabnahmeeinrichtungen (24A, 24B), die auf dem Substrat (33) ausgebildet sind und durch eine Isolierschicht vom Substrat beabstandet sind, Oberflächenpotentialspeichereinrichtungen oder -ausbildungen zum Speichern des Oberflächenpotentials im Halbleitersubstrat (33) unter den
    jeweiligen Kapazitätsabnahmeeinrichtungen (24A, 24B) und eine Vorspannungsschalteinrichtung (32), um wahlweise eine Vorspannung an die Sperrschichtsteuereinrichtungen (23A, 23B) zu legen. 5
  6. 6. Kondensatorelement nach Anspruch 5, dadurch g "e kennzeichnet , dass die Vorspannungsschalteinrichtung (32) auf dem Halbleitersubstrat (33) ausgebildet ist. 10
DE19843406437 1983-02-23 1984-02-22 Kondensatorelement mit einstellbarer kapazitaet Ceased DE3406437A1 (de)

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GB (1) GB2138206B (de)

Families Citing this family (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
SE515783C2 (sv) * 1997-09-11 2001-10-08 Ericsson Telefon Ab L M Elektriska anordningar jämte förfarande för deras tillverkning
ES2400000T3 (es) * 1997-09-11 2013-04-04 Telefonaktiebolaget Lm Ericsson (Publ) Dispositivo eléctrico que comprende una capacitancia o capacidad dependiente del voltaje o tensión y método de fabricación del mismo
US6828638B2 (en) * 1999-12-22 2004-12-07 Intel Corporation Decoupling capacitors for thin gate oxides
DE10126328A1 (de) 2001-05-30 2002-12-12 Infineon Technologies Ag Integrierte, abstimmbare Kapazität
DE10339703B4 (de) * 2003-08-28 2006-08-10 Infineon Technologies Ag Schaltungsanordnung für einen hochauflösenden digital steuerbaren Schwingkreis
US9660110B2 (en) * 2014-09-26 2017-05-23 Qualcomm Incorporated Varactor device with backside contact

Citations (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
GB1177736A (en) * 1967-05-11 1970-01-14 Teledyne Inc Improvements in or Relating to Junction Capacitors
DE1803883A1 (de) * 1968-10-18 1970-05-27 Siemens Ag Durch mindestens zwei abstimmbare Kapazitaetsdioden gesteuerte elektrische Anordnung
DE1514431B2 (de) * 1965-04-07 1974-01-31 Siemens Ag, 1000 Berlin U. 8000 Muenchen Halbleiteranordnung mit pn-Übergang zur Verwendung als spannungsabhängige Kapazität
DE3009499A1 (de) * 1979-03-12 1980-09-18 Clarion Co Ltd Halbleitervorrichtung
DE3150058A1 (de) * 1980-12-18 1982-08-05 Clarion Co., Ltd., Tokyo Kondensator mit veraenderbarer kapazitaet
EP0058998A1 (de) * 1979-01-25 1982-09-01 Nec Corporation Halbleiterspeicheranordnung
DE3226673A1 (de) * 1981-07-17 1983-02-17 Clarion Co., Ltd., Tokyo Kapazitaetsvariationsvorrichtung

Family Cites Families (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3535600A (en) * 1968-10-10 1970-10-20 Gen Electric Mos varactor diode
US3591836A (en) * 1969-03-04 1971-07-06 North American Rockwell Field effect conditionally switched capacitor
US3756958A (en) * 1972-04-12 1973-09-04 Du Pont Process for increasing size of silica particles in aqueous silica sol
IT1039154B (it) * 1974-08-12 1979-12-10 Ibm Miglioramento a processi di fabricazione di dispositivi impieganti semiconduttori particolarmente strutture mos
NL7609587A (nl) * 1975-09-08 1977-03-10 Ncr Co Elektrisch afstembare mnos-capaciteit.
FR2326761A1 (fr) * 1975-09-30 1977-04-29 Siemens Ag Memoire d'informations pour la memorisation d'informations sous forme de porteurs de charge electriques et procede pour sa mise en oeuvre
JPS5799787A (en) * 1980-12-12 1982-06-21 Clarion Co Ltd Variable capacitance device
JPS57103367A (en) * 1980-12-18 1982-06-26 Clarion Co Ltd Variable-capacitance device

Patent Citations (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE1514431B2 (de) * 1965-04-07 1974-01-31 Siemens Ag, 1000 Berlin U. 8000 Muenchen Halbleiteranordnung mit pn-Übergang zur Verwendung als spannungsabhängige Kapazität
GB1177736A (en) * 1967-05-11 1970-01-14 Teledyne Inc Improvements in or Relating to Junction Capacitors
DE1803883A1 (de) * 1968-10-18 1970-05-27 Siemens Ag Durch mindestens zwei abstimmbare Kapazitaetsdioden gesteuerte elektrische Anordnung
EP0058998A1 (de) * 1979-01-25 1982-09-01 Nec Corporation Halbleiterspeicheranordnung
DE3009499A1 (de) * 1979-03-12 1980-09-18 Clarion Co Ltd Halbleitervorrichtung
DE3150058A1 (de) * 1980-12-18 1982-08-05 Clarion Co., Ltd., Tokyo Kondensator mit veraenderbarer kapazitaet
DE3226673A1 (de) * 1981-07-17 1983-02-17 Clarion Co., Ltd., Tokyo Kapazitaetsvariationsvorrichtung

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