DE3348224C2

DE3348224C2 -

Info

Publication number: DE3348224C2
Application number: DE3348224A
Authority: DE
Inventors: Akiyoshi Suzuki; Hiroshi Tokyo Jp Sato; Ichiro Kawasaki Kanagawa Jp Ishiyama
Original assignee: Canon Inc
Current assignee: Canon Inc
Priority date: 1982-12-01
Filing date: 1983-11-29
Publication date: 1993-05-19
Anticipated expiration: 2003-11-30
Also published as: GB8331675D0; GB2133536A; DE3343206A1; FR2541471A1; FR2541471B1; DE3343206C2; GB2133536B; US4620785A

Description

Die Erfindung bezieht sich ein Schrittbelichtungsverfahren, bei dem schrittweise mehrere auf einem Plättchen in einer vorbestimmten Richtung angeordnete Musterausbildungsbereiche bezüglich eines Musters einer Strichplatte ausgerichtet und durch dieses hindurch belichtet werden.

In der JP 58-1 59 327 ist ein Verfahren beschrieben, bei dem schrittweise aufeinanderfolgend mehrere auf einem Plättchen in einer vorbestimmten Richtung angeordnete Musterausbil dungsbereiche bezüglich eines Musters einer Strichplatte ausgerichtet und durch dieses hindurch belichtet werden. Jeder der Musterausbildungsbereiche enthält eine Ausrichtmarke, die vor jedem Belichtungsschritt durch eine Verschiebung des Plättchens bezüglich einer Strich platten-Ausrichtmarke ausgerichtet wird. Die Strichplatte enthält außerhalb des Musters einen lichtdurchlässigen Bereich, der so angeordnet ist, daß beim Belichtungsschritt die Ausrichtmarke eines dem zu belichtenden Muster ausbildungsbereich benachbarten Musterausbildungsbereiches durch den lichtdurchlässigen Bereich hindurch belichtet wird. Für das Übertragen von sehr feinen Strukturen können sich Schwierigkeiten hinsichtlich der Ausrichtgenauigkeit ergeben. Auch kann die Ausrichtmarke des ersten oder des letzten der in der vorbestimmten Richtung angeordneten Musterausbildungsbereiche bei diesem Verfahren nicht durch den lichtdurchlässigen Bereich belichtet werden.

Auch in der DE-OS 24 31 960 ist ein Belichtungsverfahren beschrieben, bei dem ein Musterausbildungsbereich bezüglich eines Musters einer Strichplatte ausgerichtet und durch dieses hindurch belichtet wird. Pro Musterausbildungsbe reich ist mindestens eine Ausrichtmarke vorgesehen, die vor der Belichtung durch eine Verschiebung des Plättchens bezüglich mindestens einer Strichplatten-Ausrichtmarke ausgerichtet wird. In einem ersten Belichtungsschritt wird selektiv die mindestens eine Ausrichtmarke des Muster ausbildungsbereiches des Plättchens durch die Strichplatte hindurch mit so starkem Licht belichtet, daß eine erhebliche Überbelichtung stattfindet, wodurch diese Stellen voll belichtet, d. h. die Ausrichtmarken der Strichplatte nicht auf dem Plättchen abgebildet werden. In einem zweiten Belichtungsschritt erfolgt mit Licht geringerer Intensität eine Belichtung des Musterausbil dungsbereiches des Plättchens durch das gesamte Strichplatten-Muster hindurch. Dieses Verfahren erfordert also eine Vielzahl von Arbeitsschritten mit jeweils unterschiedlicher Anordnung der Ausricht- und Belich tungsapparatur.

Der Erfindung liegt die Aufgabe zugrunde, ein Schrittbelichtungsverfahren zu schaffen, bei dem eine einfache und zuverlässige Ausrichtung von schrittweise aufeinanderfolgend zu belichtenden Musterausbildungsberei chen des Plättchens bezüglich dem Muster einer Strichplatte gewährleistet wird.

Diese Aufgabe wird durch die im Patentanspruch 1 angege benen Maßnahmen auf besonders vorteilhafte Art und Weise gelöst.

Erfindungsgemäß ist also pro Musterausbildungsbereich ein Paar von Ausrichtmarken vorgesehen, wobei jede dieser Ausrichtmarken in jeweils einem der Trennstreifen benachbarten Musterausbildungsbereichen liegt. Ferner liegen die Ausrichtmarken benachbarter Musterausbildungs bereiche des Plättchens in den Trennstreifen längs der Trennstreifen nebeneinander. Auf der Strichplatte werden ein dem Ausrichtmarkenpaar eines Musterausbildungsbereiches zugeordnetes Paar von Ausrichtmarken und ein Paar von lichtdurchlässigen Bereichen so angeordnet, daß sowohl die Ausrichtmarken, als auch die lichtdurchlässigen Bereiche bezüglich der vorbestimmten Richtung gegeneinander versetzt sind und auf den bezüglich der vorbestimmten Richtung gegenüberliegenden Seiten Strichplatten-Musters außerhalb desselben jeweils eine Ausrichtmarke und ein licht durchlässiger Bereich nebeneinander liegen. Somit ist es also möglich, daß gleichzeitig mit dem Belichtungsschritt, bei dem einer der Musterausbildungsbereiche durch das Strichplatten-Muster hindurch belichtet wird, die in den Trennstreifen beiderseits des zu belichtenden Musterausbildungsbereiches liegenden Ausrichtmarken benachbarter Musterausbildungsbereiche durch die licht durchlässigen Bereiche der Strichplatte hindurch belichtet werden. Wenn ein zu belichtender Musterausbildungsbereich nicht zwischen zwei anderen Musterausbildungsbereichen liegt und somit die Belichtung seiner zugehörigen Ausrichtmarken durch den vorhergehenden bzw. nachfolgenden Belichtungsschritt nicht auf diese Weise möglich ist, kann in einem zusätzlichen Arbeitsgang eine Ausrichtung der in dem Trennstreifen vor dem ersten bzw. nach dem letzten Musterausbildungsbereich liegenden Ausrichtmarken auf die Strichplatten-Ausrichtmarken erfolgen und eine Belichtung der bei der Musterausbildungsbereich-Belichtung vorher noch nicht oder später nicht mehr belichteten Ausrichtmarken stattfinden. Insgesamt wird hierdurch eine sehr zuverlässige Ausrichtung auf einfache Weise erreicht.

Die Erfindung wird nachfolgend anhand von Ausführungs beispielen in Verbindung mit der Zeichnung im einzelnen erläutert. Es zeigen:

Fig. 1 eine Strichplatte, die mit Ausrichtungsmar kierungen und lichtdurchlässigen Abschnitten versehen ist;

Fig. 2 auf der Trennlinie eines Mikroplättchens an geordnete Ausrichtmarken;

die Fig. 3a und 3b ein Mikroplättchen oder eine Strichplatte, die mit Ausrichtungsmarken auf einer in Längsrichtung verlaufenden Trennlinie ver sehen sind; und

Fig. 4 eine Strichplatte, die Ausrichtungsmarken und lichtdurchlässige Abschnitte aufweist.

Die in Fig. 1 dargestellte Strichplatte 12 ist mit Fen stern R und S, d. h. lichtdurchlässigen Abschnitten, ver sehen, und zwar benachbart zu Ausrichtungsmarken P und Q, die in versetzter Weise zwischen sich einen Musterausbil dungsbereich 113 aufnehmen.

Wenn beispielsweise bei der Ausführungsform der Fig. 3a und 3b die Chips 40A, 40B, 40C und 40D belichtet wer den, verbleibt in der Marke 40Q ein nicht belichteter Teil, der durch die Ausrichtungsmarke Q der Strichplatte verursacht worden ist. Der Bereich der Marke 40Q auf dem Plättchen wird jedoch durch das Fenster R beim nächsten Belichtungsschritt belichtet, d. h. dem Schritt für die Chips 41A, 41B, 41C und 41D. Dies wird mit der schritt weise und repetierend arbeitenden Vorrichtung wiederholt, so daß das Auftreten von Restbestandteilen der Marken vermieden werden kann.

Fig. 4 zeigt die Fenster für den gleichen Zweck, jedoch in Verbindung mit einer Strichplatte 12. Die Fenster sind durch die Buchstaben Y und Z gekennzeichnet. Der nicht belichtete Bereich, der beispielsweise im Bereich der Ausrichtungsmarke 109G bei dem Belichtungsschritt für den Bereich 109 verbleibt, wird durch das Fenster Z durch den Belichtungsschritt für den Bereich 109 belichtet.

Somit können in erfindungsgemäßer Weise die Aus richtungsmarken auf dem Plättchen für einen bestimmten Musterbereich, der einem einzigen Chip oder einer Viel zahl von Chips entspricht, in ausreichender Weise bei dem Belichtungsschritt für einen anderen Musterbereich belichtet werden, so daß es nicht erforderlich ist, ei nen speziellen Schritt für den Schutz der Marke vorzu sehen. Bei der schrittweise und repetierend arbeitenden Ausrichtungsvorrichtung, bei der die Ausrichtung mit ei ner äußerst genauen Präzision durchgeführt werden muß, ist es von Vorteil, daß die gleichen Ausrichtungsmarken auf dem Plättchen verwendet werden können, da dies be deutet, daß die Referenz-Indizes stabil und unveränder bar sind, so daß ein für das Auftreten von Fehlern ursäch licher Faktor ausgeschaltet werden kann. Es ist ferner von Vorteil, daß mehrere Paare von Ausrichtungsmarken nicht vorgesehen werden müssen.

Claims

1. Schrittbelichtungsverfahren, bei dem schrittweise aufeinanderfolgend mehrere auf einem Plättchen in einer vorbestimmten Richtung angeordnete Musterausbildungsbereiche bezüglich eines Musters einer Strichplatte ausgerichtet und durch dieses hindurch belich tet werden,
das Plättchen derart vorbereitet wird, daß die Muster ausbildungsbereiche des Plättchens zwischen rechtwinklig zu der vorbestimmten Richtung verlaufenden Trennstreifen lie gen,
für jeden Musterausbildungsbereich Ausrichtmarken paarweise in den jeweiligen Trennstreifen ausgebildet und bezüglich der vorbestimmten Richtung versetzt sind,
die Ausrichtmarken sich in den Trennstreifen zwischen benachbarten Musterausbildungsbereichen des Plättchens nicht überlappen, jedoch in Richtung der Trennstreifen überlappen,
die Strichplatte als Platte vorbereitet wird, mit einem darauf ausgebildeten Schaltungs-Muster, einem Paar dem Ausrichtmarken-Paar auf dem Plättchen zugeordneten Strichplatten-Ausrichtmarken und einem lichtdurchlässigen Bereich, der an gegenüberliegenden Seiten des Schaltungs-Musters außerhalb desselben angeordnet ist, wobei sowohl die Ausrichtmarken als auch die lichtdurchlässigen Bereiche bezüglich der vorbestimmten Richtung gegeneinander versetzt sind,
in einem Erfassungsschritt eine relative Positionsab weichung zwischen den Strichplatten-Ausrichtmarken und den Ausrichtmarken des Musterausbildungsbereichs erfaßt wird,
in einem Ausrichtschritt eine relative Bewegung zwischen dem Plättchen und der Strichplatte so erfolgt, daß diese zueinander ausgerichtet werden, und
in einem Belichtungsschritt der Musterausbildungsbe reich des Plättchens durch das Schaltungs-Muster der Strichplatte hindurch belichtet wird,
wobei während des Belichtungsschritts durch die licht durchlässigen Bereiche Licht auf die in den dem zu be lichtenden Musterausbildungsbereich des Plättchens benach barten Trennstreifen ausgebildeten Ausrichtmarken trifft.