DE3338740A1 - Verfahren zur selektiven abscheidung einer schicht eines hochschmelzenden metalls auf einem werkstueck aus graphit - Google Patents

Verfahren zur selektiven abscheidung einer schicht eines hochschmelzenden metalls auf einem werkstueck aus graphit

Info

Publication number
DE3338740A1
DE3338740A1 DE19833338740 DE3338740A DE3338740A1 DE 3338740 A1 DE3338740 A1 DE 3338740A1 DE 19833338740 DE19833338740 DE 19833338740 DE 3338740 A DE3338740 A DE 3338740A DE 3338740 A1 DE3338740 A1 DE 3338740A1
Authority
DE
Germany
Prior art keywords
layer
refractory metal
workpiece
deposition
intermediate layer
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Withdrawn
Application number
DE19833338740
Other languages
English (en)
Inventor
Jean Marie 78630 Les Essarts Le Roi Penato
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Thales SA
Original Assignee
Thomson CSF SA
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Thomson CSF SA filed Critical Thomson CSF SA
Publication of DE3338740A1 publication Critical patent/DE3338740A1/de
Withdrawn legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C04—CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
    • C04B—LIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
    • C04B41/00—After-treatment of mortars, concrete, artificial stone or ceramics; Treatment of natural stone
    • C04B41/009—After-treatment of mortars, concrete, artificial stone or ceramics; Treatment of natural stone characterised by the material treated
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C04—CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
    • C04B—LIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
    • C04B41/00—After-treatment of mortars, concrete, artificial stone or ceramics; Treatment of natural stone
    • C04B41/45—Coating or impregnating, e.g. injection in masonry, partial coating of green or fired ceramics, organic coating compositions for adhering together two concrete elements
    • C04B41/50—Coating or impregnating, e.g. injection in masonry, partial coating of green or fired ceramics, organic coating compositions for adhering together two concrete elements with inorganic materials
    • C04B41/51—Metallising, e.g. infiltration of sintered ceramic preforms with molten metal
    • C04B41/5133—Metallising, e.g. infiltration of sintered ceramic preforms with molten metal with a composition mainly composed of one or more of the refractory metals
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C04—CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
    • C04B—LIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
    • C04B41/00—After-treatment of mortars, concrete, artificial stone or ceramics; Treatment of natural stone
    • C04B41/45—Coating or impregnating, e.g. injection in masonry, partial coating of green or fired ceramics, organic coating compositions for adhering together two concrete elements
    • C04B41/52—Multiple coating or impregnating multiple coating or impregnating with the same composition or with compositions only differing in the concentration of the constituents, is classified as single coating or impregnation
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C04—CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
    • C04B—LIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
    • C04B41/00—After-treatment of mortars, concrete, artificial stone or ceramics; Treatment of natural stone
    • C04B41/80—After-treatment of mortars, concrete, artificial stone or ceramics; Treatment of natural stone of only ceramics
    • C04B41/81—Coating or impregnation
    • C04B41/85—Coating or impregnation with inorganic materials
    • C04B41/88—Metals
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C04—CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
    • C04B—LIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
    • C04B41/00—After-treatment of mortars, concrete, artificial stone or ceramics; Treatment of natural stone
    • C04B41/80—After-treatment of mortars, concrete, artificial stone or ceramics; Treatment of natural stone of only ceramics
    • C04B41/81—Coating or impregnation
    • C04B41/89—Coating or impregnation for obtaining at least two superposed coatings having different compositions
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/04—Coating on selected surface areas, e.g. using masks
    • C23C14/042—Coating on selected surface areas, e.g. using masks using masks
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C25—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
    • C25D—PROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
    • C25D5/00—Electroplating characterised by the process; Pretreatment or after-treatment of workpieces
    • C25D5/54—Electroplating of non-metallic surfaces
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J35/00—X-ray tubes
    • H01J35/02—Details
    • H01J35/04—Electrodes ; Mutual position thereof; Constructional adaptations therefor
    • H01J35/08—Anodes; Anti cathodes
    • H01J35/10—Rotary anodes; Arrangements for rotating anodes; Cooling rotary anodes

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Ceramic Engineering (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Structural Engineering (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Inorganic Chemistry (AREA)
  • Electrochemistry (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Chemical Vapour Deposition (AREA)

Description

D B MÜNCHEN(22, THIERSCHSTRÜ^SB!? Q O O O H I Π
TELEGRAMME: MAVPATENT MÜNCHEN O O 0 O / H U
T-23-P-34/1943 · München, 25. Oktober 198?
Dr.M/ac 52 540 BEM
THOMSON-CSF in Paris / Frankreich
Verfahren zur selektiven Abscheidung einer Schicht eines hochschmelzenden Metalls auf einem Werkstück aus Graphit
Die Erfindung betrifft ein Verfahren zur selektiven Abscheidung einer Schicht eines hochschmelzenden Metalls auf einem Werkstück aus Graphit, das in Fällen anwendbar ist, wo dieses Metall auf einer begrenzten Oberfläche dieses Werkte Stücks abgeschieden werden soll. Solche Fälle treten beispielsweise bei der Herstellung der Anode einer Röntgenröhre auf.
Beispielsweise müssen Röntgenröhren mit Drehanode während variabler Betriebszeiten, während derer die Belastungen angelegt werden, gewöhnlich hohe elektrische Leistungen aushalten. Die während dieser Belastung anliegende Leistung dient zur Erzeugung eines Elektronenflusses, der auf eine als Brennpunkt bezeichnete kleine Oberfläche der Anode gebündelt wird, wobei diese Oberfläche zur Röntgenstrahlenquelle wird. Die Drehung der Anode bestimmt einen Brennring, der von der Ober— 5 fläche des in Drehung versetzten Brennpunkts gebildet wird.
Die Oberfläche dieses Brennringes besteht im allgemeinen aus einem Metall oder aus einer Metallverbindung, vorzugsweise hochschmelzend und von hoher Atomzahl,wie beispielsweise Wolfram oder Tantal.
Nur ein geringer Teil der von der Röntgenröhre während dos Anlegens einer Belastung aufgenommenen Energie wird in Röntgenstrahlen umgewandelt, der Rest wird als Wärme abgegeben, deren Abführung von der Anode nur durch Strahlung erfolgen kann. Aus diesem Grund ist es höchst erwünscht, auf einer in Fora 5 einer Scheibe z. B. aus Graphit ausgebildeten Anode die Ober-
BAD ORIGINAL
.:L.*.L' .;.--: --■·■-- 33387A0 .if.
fläche des hochschmelzenden Metalls auf die Oberfläche des Brennringes zu begrenzen. Man.erhält dadurch eine größere Oberfläche von Graphit, der Wärme besser abstrahlt als das hochschmelzende Metall.
Die den Brennring bildende Fläche von hochschmelzen dem Metall kann durch eine Abscheidung einer Schicht dieses Metalls auf der Graphitscheibe erhalten werden. Dazu muß man im allgemeinen zunächst eine sogenannte Zwischenschicht auf der gesamten Oberfläche der Scheibe abscheiden, welche besonders eine genügende Haftung dieses Metalls am Graphit bewirkt. Die Abscheidung der Schicht von hochschmelzendem Metall kann anschließend nach verschiedenen Methoden vorgenommen werden, beispielsweise durch chemische Abscheidung in der Gasphase, Schmelzflußelektrolyse, Plasmaabscheidung,im 5 Vakuum, usw..
Bisher wird eine Begrenzung der Fläche der Abscheidung des hochschmelzenden Metalls durch Verwendung von Masken oder Abdeckungen erhalten. Diese Masken werden während der Arbeitsgänge der Abscheidung der Schicht von hochschmelzendem Metall auf den Oberflächen angeordnet, wo dieses Metall unerwünscht ist.
Diese Methode der Begrenzung der Flächen des hochschmelzenden Metalls weist zahlreiche Nachteile auf:
- Wegen der Aggressivität der Umgebung, in welche die Masken während der Arbeitsgänge der Abscheidung der Schicht von hochschmelzendem Metall eingebracht werden, bestehen diese Masken aus teurem Material, wie z.B. Graphit;
- diese Masken erfordern eine komplizierte Bearbeitung, um ihnen beispielsweise die Form von Halbschalen zu geben, die zusammengesetzt werden müssen, um die Randbereiche der Scheibe vor dem hochschmelzenden Metall zu schützen;
- durch die Hinzufügung dieser Masken ergibt sich eine Erhöhung des Gesamtvolumens der zu behandelnden Scheibe, was zu Veränderungen der Arbeitsbedingungen während der Abscheidung 5 der Schicht von hochschmelzendem Metall führen kann;
- auf den Masken selbst erfolgt eine Abscheidung von hochschmelzendem Metall, was einerseits eine Erhöhung des
BAD ORIGINAL
Verbrauchs an diesem Metall und andrerseits eine Veränderung der Abmessung der Masken zu Folge hat, welche für ihre Wiederverwendung nachteilig ist, da die Grenzen der geschützten Zonen nach jeder Verwendung verändert sind. Die Erfindung betrifft ein Verfahren, um auf einem Werkstück aus Graphit erste Flächen von hochschmelzendem Metall und zweite Flächen, die von diesem Metall frei sind, ohne Verwendung von komplizierten und teuren Masken, wie die oben erwähnten, zu erhalten. Diese Verbesserung ist insbesondere darauf zurückzuführen, daß die Auswahl dieser ersten und zweiten Flächen beim erfindungsgemäßen Verfahren in einer anderen Phase als bei den bekannten Verfahren erfolgt.
Erfindungsgemäß ist ein Verfahren zur selektiven Abscheidung einer Schicht von hochschmelzendem Metall auf ei-
15- nem Werkstück aus Graphit, wobei dieses hochschmelzende Metall aus Wolfram oder Tantal besteht und zuvor eine Zwischenschicht abgeschieden wird, dadurch gekennzeichnet, daß diese Zwischenschicht nur auf ersten ausgewählten Flächen abgeschieden oder belassen wird, um auf zweiten Flächen nach der Abscheidung der Schicht von hochschmelzendem Metall auf der Gesamtheit des Werkstücks eine Ablösung dieser Schicht von hochschmelzendem Metall zu erleichtern.
Ein Verfahren gemäß der Erfindung ermöglicht so,eine Auswahl zwischen diesen ersten und zweiten Flächen bereits bei der Abscheidung der Zwischenschicht vorzunehmen. Man erhält so vor der Abscheidung der Schicht aus hochschmelzendem Metall erste Flächen von Graphit, auf denen dieses Metall gut haftet und zweite Flächen, auf denen diese Haftung fast Null ist.
Die Erfindung wird erläutert durch die folgende Beschreibung, die sich auf die beigefügten drei Figuren bezieht. Hierin zeigen:
Fig. 1 einen Querschnitt eines Werkstücks aus Graphit, das nach dem erfindungsgemäßen Verfahren eine Zwischenschicht vor einer Abscheidung einer Schicht von hochschmelzendem Metall erhalten soll;
Fig. 2 einen Ausschnitt des Werkstücks aus Graphit nach einer Abscheidung einer Zwisdienschicht;
BAD ORIGINAL
Fig. 3 einen Ausschnitt des Werkstücks aus Graphit nach Abscheidung der Schicht von hochschmelzendem Metall. Fig. 1 zeigt ein Werkstück 1 aus Graphit, das im Ausführungsbeispiel der Beschreibung aus einer Anodenscheibe einer (nicht gezeigten) Röntgenröhre besteht. An diesem Werkstück oder dieser Scheibe 1 kann eine Phase einer ersten Ausführungsform des erfindungsgemäßen Verfahrens erläutert werden.
Die Scheibe 1 weist eine Oberseite 2 auf, auf der ei-0 ne erste Umdrehungsfläche 3 zur Bildung eines Brennringes dienen soll und zu diesem Zweck eine (in Fig. 1 nicht gezeigte) Schicht von hochschmelzendem Metall aufnehmen soll. Dieses Metall kann aus Tantal oder, wie im-nicht einschränkend zu verstehenden Ausführungsbeispiel der Beschreibung aus Wolfram bestehen. Die erste Fläche 3 ist zentriert um eine Drehachse 12 der Scheibe 1 zwischen einer Innengrenze und einer Außengrenze 17 (gestrichelt dargeste'llt), welche ihre Breite L bestimmen. Im nicht einschränkenden Ausführungsbeispiel der Beschreibung weist die Scheibe 1 eine in der Oberseite 2 ausgebildete Nut 11 auf, die mit der Innengrenze 16 zusammenfällt. Die Außengrenze 17 ist hier durch eine am Umfang der Oberseite 2 gelegene Kante 10 gebildet.
Die Scheibe 1 weist auch zweite Flächen 4, 5, 6 als obere, untere und Umfangsflachen auf, welche, wie oben erläutert, frei von Wolfram sein sollen, um eine Wärmeabstrahlung zu begünstigen.
In dieser ersten Ausführungsform der Erfindung wird vor einer Abscheidung einer in Fig. 1 nicht gezeigten Zwischenschicht auf der Scheibe 1 eine Maskierung der zweiten Flächen 4, 5, 6 vorgenommen. Dazu wird im nicht einschränkenden Ausführungsbeispiel
- eine Maske 7, welche die obere zweite Fläche 4 der Oberseite 2 maskiert, und
- eine zweite Maske 8, welche die untere zweite Fläche 5 und 5 die Umfangsflache 6 der Scheibe 1 maskiert, angeordnet.
Diese Masken 7, 8 werden mit der Scheibe 1 durch übliche Befestigungsmittel, beispielsweise eine Schraube 9 und
BAD ORIGINAL
Muttern 13 fest verbunden, wie in Fig. 1 gezeigt. Die Schraube 9 durchsetzt ein (nicht gezeigtes) in Richtung der Drehachse 12 der Scheibe 1 angeordnetes Loch. Dies ist ein nicht einschränkendes Ausführungsbeispiel der Lage und Form der Masken 7,8, die abgewandelt werden können, beispielsweise in Abhängigkeit von der Breite L und einer gewünschten Anordnung des durch die erste Fläche 3 wiedergegebenen Brennringes. So kann beispielsweise die zweite Maske B einen oberen Teil**8A aufweisen, der in Fig. 1 gestrichelt dargestellt ist, die Oberseite 2 an ihrem Umfang abdeckt und eine zweite Außengrenze 17A für die erste Fläche 3 festlegt. Dieser Oberteil 8A kann in diesem Fall aus einem nachgiebigen Material, wie z.B. Kautschuk bestehen, um das Anbringei: der zweiten Maske 8 zu erleichtern.
Anschließend scheidet man die Zwischenschicht nach einem üblichen Verfahren ab, beispielsweise durch wässrige Elektrolyse. Dazu sei festgestellt, daß die Masken 7, 8 aus einem elektrisch isolierenden Material bestehen müssen, das gegenüber dem wässrigen Bad inert ist, beispielsweise aus Kautschuk, Epoxy-Harz oder auch aus Polytetrafluorethylen. Es handelt sich um solche Materialien, die einfach zu former. öder zu bearbeiten sind.
Die Zeichnung der Fig. 1 weist einen gestrichelt eingerahmten Ausschnitt II auf, der einen Teil der Scheibe 1 und der Masken 7, 8 zeigt. Dieser Ausschnitt II bildet die folgenden Figuren 2, 3, um eine größere Klarheit dieser Figuren zu erhalten.
Fig. 2 zeigt im Ausschnitt II die Scheibe 1 und die Masken 7, 8 nach der Abscheidung der oben erwähnten Zwischcr.-schicht 1 5-
Diese Zwischenschicht 1 5 von üblicher Zusammensetzung kann beispielsweise aus Rhenium bestehen und hat eine geringe Dicke E von etwa 0,01 mm. Sie ist nur auf der ersten Fläche 3 abgeschieden, welche im beschriebenen Beispiel die einzige ist, die von den Masken 7, 8 nicht maskiert ist. Es sei bemerkt, daß diese Masken, da sie aus einem isolierenden Material bestehen, nicht von der Zwischenschicht
BAD ORIGINAL
15 überzogen werden. Aus dies-em Grund behalten sie ihre Abmessungen, was ihre Wiederverwendung ermöglicht und so ihre Kosten erheblich verringert.
Angenommen man entfernt in einem folgenden Arbeitsgang die Masken 7, 8, so erhält man eine Scheibe 1 , auf der wie oben erwähnt die Zwischenschicht 1 5 nur auf der ersten Fläche 3 vorhanden ist.
Es sei auch-bemerkt, daß die Grenzen 16, 17 der Fläche 3, auf der die Zwischenschicht 15 abgeschieden ist, die eine mit der Kante 10, die vom Zusammenstoß der ersten Fläche 3 und der zweiten Umfangsflache 6 gebildet ist, und die andere mit der Nut 11 zusammenfallen. Das ermöglicht eine bessere Ablösung des Wolframs, wie im Folgenden erläutert.
Nachdem man diese Abscheidung der Zwischenschicht 1 5 hergestellt und die Masken 7, 8 entfernt hat, wird eine (in Fig. 2 nicht gezeigte) Schicht von Wolfram auf der Schei be 1 abgeschieden. -
Im beschriebenen, nicht einschränkenden Ausführungsbeispiel wird diese Abscheidung von Wolfram nach einer übliehen Methode vorgenommen wie beispielsweise durch Vakuumabscheidung oder Schmelzflußelektrolyse.
Fig. 3 zeigt im Ausschnitt II die Scheibe 1, die über die Gesamtheit ihrer Oberfläche mit einer Wolframschicht bedeckt ist. Die Gesamtheit ihrer Oberfläche besteht einer-"?.5 seits aus den zweiten Flächen 4, 5, 6 und andererseits aus ersten Fläche 3,auf der die Wolframschicht 22 mittels der Zwischenschicht 15 haftet.
Der folgende Arbeitsgang besteht darin, das auf den zweiten Flächen 4, 5, 6 abgeschiedene Wolfram zu entfernen, so daß die Wolframschicht 22 nur zwischen der Innengrenze
16 und Außengrenze 17 der ersten Fläche 3 erhalten bleibt. Da diese zweiten Flächen 4, 5 , 6 nicht mit der Zwischenschicht 15 bedeckt sind, ist die Haftung des Wolframs bei der Abscheidung der Wolframschicht 22 auf diesen zweiten Flächen erheblich verringert, und die Wolframschicht kann daher von diesen Flächen leicht entfernt werden.
BAD ORIGINAL
Diese Entfernung wird auf mechanische Weise durchgeführt, um das Wolfram abzulösen, beispielsweise durch Stöße oder Schläge.
Man kann nach Bedarf die Ablösung des Wolframs von diesen zweiten Flächen 4, 5, 6 noch verstärken, indem man die Scheibe 1 auf über 1000 °C erhitzt, wobei diese Erhitzung unter Schutzgasatmosphäre, beispielsweise unter Argon, oder im Vakuum durchgeführt wird.
Auch eine Bearbeitung ermöglicht die Entfernung des Wolframs von diesen zweiten Flächen, ohne, wie es bei den bisherigen Methoden der Fall ist, zu einer Qualitätsverschlechterung der zu erhaltenden Wolframschicht zu führen. Die Beseitigung von vollkommen haftendem Wolfram durch eine mechanische Bearbeitung führt nämlich zu mechanischen Span-5 nungen, welche Risse in der zu erhaltenden V/olf rams chi cht hervorrufen können.
Eine solche mechanische Bearbeitung ist aber beim erfindungsgemäßen Verfahren möglich wegen einerseits der verschieden starken Haftung des Wolframs an den ersten und zweiten Flächen 3 bzw. 4, 5, 6 und andererseits wegen einer Zerbrechlichkeit der Wolframschicht 22 an den Grenzen 16, 17, wo diese entfernt werden soll.
Diese Zerbrechlichkeit der Wolframschicht 22 wird im erfindungsgemäßen Verfahren durch geometrische Diskontinuitäten der Scheibe 1 erhalten. Diese geometrischen Diskontinuitäten fallen zusammen mit den Grenzen 16, 17 zwischen der ersten Fläche 3, wo das Wolfram erhalten bleiben soll, und den zweiten Flächen 4, 5, 6, wo das Wolfram beseitigt werden soll. Derartige geometrische Diskontinuitäten können wie im beschriebenen nicht einschränkenden Ausführungsbeispiel bestehen aus der Kante 10 und der Nut 11. Angenommen daß die Nut 11 durch eine (nicht gezeigte) vorspringende Diskontinuität ersetzt wäre, so würde die gewünschte Zerbrechlichkeit der Wolframschicht 22 in gleicher Weise erhalten werden. Im vorerwähnten und in Fig. 1 gezeigten Fall, wo die zweite Maske 8 einen Oberteil 8A aufweist/kann die Oberseite 2 in Übereinstimmung mit der zweiten Außengrenze 17A
BAD ORIGINAL
beispielsweise eine (nicht gezeigte) zweite Nut wie die Nut 11 aufweisen, welche diese Zerbrechlichkeit der Wolframschicht 22 bewirkt.
Eine andere Ausführungsform des erfindungsgemäßen Verfahrens besteht darin, eine Zwischenschicht 15 auf der gesamten Oberfläche der Scheibe 1 abzuscheiden. Die geringe Dicke dieser Zwischenschicht (etwa 0,01 mm)ermöglicht, sie leicht von den zweiten Flächen 4, 5, 6 zu entfernen. Diese Entfernung kann entweder durch chemische oder mechanische Verfahren wie beispielsweise Schleifen oder besonders spanabhebende Bearbeitung erfolgen.
Ein Verfahren gemäß der Erfindung ist in allen Fällen anwendbar, wo ein Werkstück aus Graphit über eine seiner Flächen oder Teile davon mit einem hochschmelzendem Metall, wie Tantal oder Wolfram beschichtet werden soll.
BAD ORiGiNAL

Claims (8)

  1. DR. HA*rä*S„ JJLiR-IQM.ί*ΐΑΥβ
    TELEGRAMME: MAYPATENT MÜNCHEN     TELEX Ο2 44Θ7 PATOP 25- 3338 Ik O     TELEFON QOBOy 22Ö0Ö1 München, T-23-P-34/1 943 Dr.M/ac Oktober 198: 52 540 BEM
    THOMSON-CSF in Paris / Frankreich
    Verfahren zur selektiven Abscheidung einer Schicht eines hochschmelzenden Metalls auf einem Werkstück aus Graphit
    Patentansprüche
    1 . Verfahren zur selektiven Abscheidung einer Schicht von hochschmelzendem Metall auf einem Werkstück aus Graphit, wobei das hochschmelzende Metall aus Wolfram oder Tantal besteht und zunächst eine Zwischenschicht (15) abgeschieden wird, dadurch gekennzeichnet daß diese Zwischenschicht nur auf ausgewählten ersten Flächen (3) abgeschieden oder zurückbehalten wird, um auf zweiten Flächen (4, 5, 6) nach der Abscheidung einer Schicht von hochschmelzendem Metall (22) auf der Gesamtheit des Werkstücks (1) eine Ablösung dieser Schicht von hochschmelzendem Metall zu erhalten.
  2. 2. Verfahren nach Anspruch 1,dadurch gekennzeichnet daß auf den zweiten Flächen (4, 5, 6) Masken (7, 8) angeordnet werden, um auf diesen Flächen eine Abscheidung der Zwischenschicht (15) zu verhindern.
  3. 3. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet daß die auf den zweiten Flächen (4, 5, 6) abgeschiedene Zwischenschicht (15) entfernt wird.
  4. 4· Verfahren nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet daß außerdem das Werkstück (1) nach der Abscheidung der Schicht von hochschmelzendem Metall (22) in Schutzgasatmosphäre erhitzt wird, um die Ablösung dieser Schicht von hochschmelzendem Metall von den zweiten Flächen (4, 5, 6) zu begünstigen.
    BAD ORfGlNAL
    ·; 2»-"..· '-""' 33387AO
  5. 5. Verfahren nach einem der vorangehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet daß die auf den zweiten Flächen (4, 5, 6) abgeschiedene Schicht von hochschmelzendem Metall (22) durch mechanische Mittel entfernt wird.
  6. 6. Verfahren nach Anspruch 5, dadurch gekennzeichnet daß die auf den zweiten Flächen (4, 5, 6) vorhandene Schicht von hochschmelzendem Metall (22) durch auf das Werkstück (1) ausgeübte Schläge entfernt wird.
  7. 7. Verfahren nach Anspruch 5, dadurch gekennzeichnet daß die Schicht von hochschmelzendem Metall (22) von den zweiten Flächen (4, 5, 6) durch eine mechanische Bearbeitung des Werkstücks (i) entfernt wird.
  8. 8. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet daß man die Zwischenschicht (15) nur zwischen geometrischen Diskontinuitäten (10, 11) des Werkstücks (1) bestehen läßt.
    BAD ORIGINAL
DE19833338740 1982-10-29 1983-10-25 Verfahren zur selektiven abscheidung einer schicht eines hochschmelzenden metalls auf einem werkstueck aus graphit Withdrawn DE3338740A1 (de)

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
FR8218246A FR2535344A1 (fr) 1982-10-29 1982-10-29 Procede de depot selectif d'une couche de metal refractaire sur une piece en graphite

Publications (1)

Publication Number Publication Date
DE3338740A1 true DE3338740A1 (de) 1984-05-03

Family

ID=9278776

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
DE19833338740 Withdrawn DE3338740A1 (de) 1982-10-29 1983-10-25 Verfahren zur selektiven abscheidung einer schicht eines hochschmelzenden metalls auf einem werkstueck aus graphit

Country Status (4)

Country Link
US (1) US4571286A (de)
AT (1) AT381601B (de)
DE (1) DE3338740A1 (de)
FR (1) FR2535344A1 (de)

Families Citing this family (12)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
FR2655191A1 (fr) * 1989-11-28 1991-05-31 Genral Electric Cgr Sa Anode pour tube a rayons x.
FR2655192A1 (fr) * 1989-11-28 1991-05-31 Gen Electric Cgr Anode pour tube a rayons x a corps de base composite.
US5476580A (en) * 1993-05-17 1995-12-19 Electrochemicals Inc. Processes for preparing a non-conductive substrate for electroplating
US6171468B1 (en) 1993-05-17 2001-01-09 Electrochemicals Inc. Direct metallization process
US6710259B2 (en) 1993-05-17 2004-03-23 Electrochemicals, Inc. Printed wiring boards and methods for making them
US6303181B1 (en) 1993-05-17 2001-10-16 Electrochemicals Inc. Direct metallization process employing a cationic conditioner and a binder
US5725807A (en) * 1993-05-17 1998-03-10 Electrochemicals Inc. Carbon containing composition for electroplating
US5690805A (en) * 1993-05-17 1997-11-25 Electrochemicals Inc. Direct metallization process
KR100324623B1 (ko) * 2000-02-22 2002-02-27 박호군 다공성 금속박막이 피복된 탄소전극 및 그 제조방법, 이를이용한 리튬 이차전지
US7194066B2 (en) * 2004-04-08 2007-03-20 General Electric Company Apparatus and method for light weight high performance target
CN103370764B (zh) * 2010-12-16 2016-12-21 皇家飞利浦电子股份有限公司 具有耐熔中间层和vps 焦点轨迹的阳极盘元件
JP2015180859A (ja) * 2014-03-05 2015-10-15 株式会社東芝 フォトンカウンティングｃｔ装置

Family Cites Families (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE743727C (de) * 1942-04-09 1944-12-18 Bosch Gmbh Robert Verfahren zur Herstellung von Metallisierungsmustern durch Metallbedampfung im Vacuum
FR1341047A (fr) * 1961-10-27 1963-10-25 Ibm Dépôt de circuits de film mince sans utilisation de masques
GB1314884A (en) * 1970-05-28 1973-04-26 Mullard Ltd Manufacturing target electrodes for x-ray tubes
FR2166625A5 (de) * 1971-12-31 1973-08-17 Thomson Csf
US4119879A (en) * 1977-04-18 1978-10-10 General Electric Company Graphite disc assembly for a rotating x-ray anode tube
US4424271A (en) * 1982-09-15 1984-01-03 Magnetic Peripherals Inc. Deposition process

Also Published As

Publication number Publication date
FR2535344B1 (de) 1985-02-01
AT381601B (de) 1986-11-10
ATA380983A (de) 1986-03-15
US4571286A (en) 1986-02-18
FR2535344A1 (fr) 1984-05-04

Similar Documents

Publication Publication Date Title
DE2523307C2 (de) Halbleiterbauelement
DE3338740A1 (de) Verfahren zur selektiven abscheidung einer schicht eines hochschmelzenden metalls auf einem werkstueck aus graphit
DE2647566A1 (de) Leiterstreifenstruktur, ihre verwendung und herstellung
DE3217026A1 (de) Halbleitervorrichtung
DE2723465A1 (de) Maske zum aufbringen eines musters auf ein substrat
AT412686B (de) Verfahren zum herstellen einer röntgenröhrenanode
DE2340142A1 (de) Verfahren zum herstellen von halbleiteranordnungen
DE3601439C1 (de) Schichtverbundwerkstoff,insbesondere fuer Gleit- und Reibelemente,sowie Verfahren zu seiner Herstellung
DE1194988B (de) Gitterelektrode fuer Elektronenroehren
DE1915148C3 (de) Verfahren zur Herstellung metallischer Höcker bei Halbleiteranordnungen
DE2739530A1 (de) Verfahren zur bildung einzelner photodetektorelemente auf einem substrat sowie nach diesem verfahren hergestellte photodetektoranordnung
DE1172378B (de) Verfahren zur Herstellung einer elektrisch unsymmetrisch leitenden Halbleiteranordnung
DE2349233B2 (de) Matrix aus photoleitenden zellen
DE2351254B2 (de) Verfahren zum Herstellen einer Multidioden-Speicherplatte für eine Bildaufnahmeröhre
DE2400717C3 (de) Röntgenröhrendrehanode und Verfahren zu deren Herstellung
DE4306871C2 (de) Lötverbindung und Verfahren zu ihrer Herstellung
DE2535467C2 (de) Verfahren zum Herstellen einer Kathode einer gittergesteuerten Leistungsröhre
DE880678C (de) Galvanoplastisches Verfahren zur Herstellung eines Metallgitters
DE3545385C2 (de)
DE1913793A1 (de) Drehanode fuer Roentgenroehre und Bearbeitungsverfahren hierzu
DE2849606A1 (de) Basismetallplattenmaterial fuer direkt erhitzte oxidkathoden
DE2751485A1 (de) Verfahren zum herstellen von halbleiterkoerpern mit definiertem, durch aetzen erzielten und mit einem glas abgedeckten randprofil
DE3049304C2 (de)
DE957126C (de) Verfahren zum Herstellen gerasterter Klischees
DE1621342A1 (de) Verfahren zum Herstellen von Aufdampfkontakten mit Kontakthoehen groesser 10 mum,insbesondere fuer Planarbauelemente

Legal Events

Date Code Title Description
8141 Disposal/no request for examination