DE2849606A1 - Basismetallplattenmaterial fuer direkt erhitzte oxidkathoden - Google Patents
Basismetallplattenmaterial fuer direkt erhitzte oxidkathodenInfo
- Publication number
- DE2849606A1 DE2849606A1 DE19792849606 DE2849606A DE2849606A1 DE 2849606 A1 DE2849606 A1 DE 2849606A1 DE 19792849606 DE19792849606 DE 19792849606 DE 2849606 A DE2849606 A DE 2849606A DE 2849606 A1 DE2849606 A1 DE 2849606A1
- Authority
- DE
- Germany
- Prior art keywords
- base metal
- metal plate
- plate material
- tungsten
- rhenium
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J1/00—Details of electrodes, of magnetic control means, of screens, or of the mounting or spacing thereof, common to two or more basic types of discharge tubes or lamps
- H01J1/02—Main electrodes
- H01J1/13—Solid thermionic cathodes
- H01J1/15—Cathodes heated directly by an electric current
- H01J1/18—Supports; Vibration-damping arrangements
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C22—METALLURGY; FERROUS OR NON-FERROUS ALLOYS; TREATMENT OF ALLOYS OR NON-FERROUS METALS
- C22C—ALLOYS
- C22C19/00—Alloys based on nickel or cobalt
- C22C19/03—Alloys based on nickel or cobalt based on nickel
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
- Y10T428/00—Stock material or miscellaneous articles
- Y10T428/12—All metal or with adjacent metals
- Y10T428/12493—Composite; i.e., plural, adjacent, spatially distinct metal components [e.g., layers, joint, etc.]
- Y10T428/12771—Transition metal-base component
- Y10T428/12861—Group VIII or IB metal-base component
- Y10T428/12944—Ni-base component
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Solid Thermionic Cathode (AREA)
Description
HITACHI, LTD., Tokyo, Japan
Basismetallplattenmaterial für direkt erhitzte Oxidkathoden
Die Erfindung bezieht sich auf ein Basismetallplattenmaterial für eine direkt erhitzte Oxidkathode.
Der Stand der Technik und die Erfindung sowie deren Vorteile werden im einzelnen anhand der Zeichnung beschrieben,
die einen Schnitt des Hauptteils eines Ausführungsbeispiels von direkt erhitzten Oxidkathoden zeigt.
Als eine Kathode für eine Fernsehbildröhre wurde hauptsächlich eine indirekt erhitzte Kathode verwendet, bei der
die zum Auftreten eines Bildes seit Empfangsbeginn eines Pernsehsignals erforderliche Zeit dadurch abgekürzt wird,
daß man stets einen elektrischen Vorheizstrom durch ein Heizorgan auch während der Nichtbetriebsperxode fließen läßt
und den Heizorganstromwert auf einen Nennwert zur Zeit des Empfangs des Fernsehsignals steigert. Jedoch ergab sich unter
9 0 9 8 21/0592
dem Gesichtspunkt der Energieersparnis ein Bedarf an einer
schnell arbeitenden Kathode, die keine Vorerhitzung, sondern nur eine kurze Zeit seit Beginn des Heizorganstroms bis zum
Auftreten des Bildes benötigt. Bei der indirekt erhitzten Kathode erfordert es allgemein etwa 20 s vom Beginn des
Heizorganstromflusses bis zum Auftreten des Bildes, falls kein Vorheizstrom fließt. Dagegen läßt sich bei der direkt
erhitzten Kathode, bei welcher ein sogenanntes Oxid zur Elektronenemission direkt auf ein Heizorgan aufgebracht
ist, die zum Auftreten des Bildes seit Beginn des Heizstromflusses erforderliche Zeit auf 1 bis 2 s verkürzen,
wenn sie geeignet ausgelegt ist. Eine solche Kathode ist als Schnellbetriebtypkathode geeignet.
In der Zeichnung erkennt man eine Basis 1, die durch Zuführung eines elektrischen Stroms erhitzt wird, Anschlüsse
zum Zuführen des elektrischen Stroms und ein sog. Oxid 3· Um die Schnellbetriebseignung der Kathode zu verbessern,
ist es erforderlich, als Basis 1 ein Material mit hohem spezifischen elektrischen Widerstand zu verwenden, um
viel elektrische Energie in einem kleinen Teil der elektrischen Strombahn zu verbrauchen. Um die Temperatur der
aus einem solchen wie vorstehend erwähntem Material hergestellten Basis innerhalb eines für eine Oxidkathode
geeigneten Temperaturbereichs zu steuern, soll die Basis eine Form haben, die einen langen Umfang bezüglich der
vom Umfang umgebenen Querschnittsfläche aufweist. Daher wird die Basis vorzugsweise z. B. aus einem dünnen
Streifen eines oben erwähnten Materials mit einer Dicke von 100 .um oder weniger, vorzugsweise 60 ,um oder weniger hergestellt
. Dazu muß das Material für die Basis eine ausreichende
909821/059?
mechanische Festigkeit bei hohen Temperaturen haben, um
die Form mit dem erwähnten Querschnitt innerhalb des Käthodenbetriebstemperaturbereichs beizubehalten. Außerdem
soll das Basismaterial als eine seiner wesentlichen Eigenschaften die Eigenschaft aufweisen, geeignet zu sein, um
eine Emission einer ausreichenden Menge von Elektronen für eine lange Zeitdauer aus einem oder mehreren sog. Oxiden,
wie z. B. Bariumoxid oder einer Mischung von Bariumoxid und anderen Oxiden von Erdalkalimetallen, z. B. Ca, Sr, usw.,
die auf die Oberfläche der Basis aufgebracht sind, hervorzurufen.
Als Materialien, die diese Bedingungen ziemlich erfüllen, wurden Nickel als Hauptbestandteil zusammen mit Wolfram
und/oder Molybdän, die von ausgezeichneter Hitzebeständigkeit sind, und Spurenmengen eines oder mehrerer reduzierender
Elemente enthaltende Legierungen versuchsweise und erfahrungsgemäß als Basismetall für direkt erhitzte Oxidkathoden
verwendet (z. B. JP-OS 57771/77, 39051/78 und
39055/78). Wenn solche Legierungen als Basis verwendet
wurden, ergaben sich jedoch viele Probleme, wie z. B. eine große Menge der sog. Zwischenschicht aufgrund einer
w'olfram- oder molybdänhalt igen Zwischenschicht zwischen der Basis und der Oxidschicht, die sich während des Bildröhrenherstellungsprozesses
oder der Verwendung der so hergestellten Bildröhre bildete und häufig zum Abschälen der Oxidschicht
führte. Andererseits wurde die Verwendung von Rhenium enthaltenden Legierungen als Basismetallplattenmaterial in
"Symp. on Rhenium", May 3 - 1J, I960 Chicago III, Elsevier
Publishing, S. 175 - 18O, US-PS 2 858 207 und "Advances in Electron Tube Techniques", S. 6 - 9, 1963 beschrieben. Jedoch
sind diese Legierungen von unzureichender Eignung, um
909821/0592
eine Elektronenemissionsfähigkeit der Oxidkathode ausreichend
beizubehalten.
Der Erfindung liegt die Aufgabe zugrunde, ein Basisraetallplättenmaterial
für direkt erhitzte Oxidkathoden zu entwickeln, mit dem sich die genannten Nachteile
beseitigen lassen, d. h. keine unerwünschten Zwischenschichten zwischen dem Basismetallplattenmaterial und
dem Oxidüberzug und kein Ablösen derselben auftreten und mit dem eine ausreichende Elektronenemission über lange
Zeit gesichert wird.
Die Lösung gemäß der Erfindung beruht darauf, Rhenium, das keine Zwischenschicht von sich aus zwischen dem
Basismetallplattenmaterial und der Oxidschicht bildet, einer Nickel-Wolfram-Legierung zur Verbesserung der
mechanischen Festigkeit bei hohen Temperaturen und des spezifischen elektrischen Widerstandes zuzusetzen.
Gegenstand der Erfindung ist daher ein Basismetallplattenmaterial
für eine direkt erhitzte Oxidkathode aus einer wolframhaltigen Nickellegierung, mit dem Kennzeichen,
daß es im wesentlichen aus Nickel, Rhenium und Wolfram besteht.
Erfindungsgemäß weist also das Basismetallplattenraetterial
Nickel als Hauptbestandteil und daneben Rhenium und Wolfram auf. Es kann auch eine geringe Menge eines Reduktionsmittels
enthalten.
Die bevorzugte Rheniummenge in der Legierung liegt
im Bereich von 4 bis 17 Gew. %. Wenn die Rheniummenge zu
909821/0592
niedrig ist, werden die mechanische Festigkeit bei hohen Temperaturen und der spezifische elektrische Widerstand
der Basis unzureichend, während bei zu hohem Rheniumgehalt Rhenium im Lauf einer wiederholten Temperatursteigerung
und -Senkung ausgeschieden wird.
Die bevorzugte Menge von Wolfram in der Legierung liegt im Bereich von 1 bis 6 Gew. %. Die Anwesenheit von Wolfram
in diesem Bereich verursacht keine Bildung einer Zwischenschicht durch Wolfram und kein Abschälen der Oxidschicht.
Da Wolfram in dieser Weise zur Aufrechterhaltung der Elektronenemissionseignung der Oxidkathode nach Erschöpfung
des reduzierenden Elements, falls vorhanden, oder von Beginn an, wenn kein reduzierendes Element vorliegt,
wirkt, ergibt die Anwesenheit von Wolfram sehr wünschenswerte Ergebnisse. Wenn die Wolframmenge zu gering ist,
ist die erwähnte Wirkung des Wolframs unzureichend, während bei zu hohem Wolframgehalt eine Zwischenschicht aufgrund
des Wolframgehalts gebildet wird.
Bevorzugtere Mengen von Rhenium und Wolfram scheinen von den gegenseitigen Wirkungen dieser Bestandteile abhängig
zu sein. Beispielsweise liegt, wenn der Wolframgehalt 6 Gew. % ist, ein bevorzugterer Bereich von Rhenium von
4 bis 14 Gew. %, und wenn der Wolframgehalt 1 Gew. % ist,
liegt ein bevorzugterer Rheniumbereich von 9 bis 17 Gew. %. Daher ist die Rheniummenge im Bereich von 9 bis 14 Gew. %
unabhängig vom Wolframgehalt im Bereich von 1 bis 6 Gew. % mehr zu bevorzugen. Im einzelnen ändert sich, wenn der
Wolframanteil von 1 bis 6 Gew. % geändert wird, die untere Grenze des mehr zu bevorzugenden Bereichs von Rhenium
linear von 9 bis 4 Gew. %3 während sich die obere Grenze
0 9 8 21/0592
des mehr zu bevorzugenden Bereichs von Rhenium von 17 bis 1Ί Gew. % linear ändert.
Di ■> Nickelmenge in der Legierung ist der Rest außer
Rhenium und Wolfram und ggf. reduzierenden Elementen.
Die Basismetallegierung kann nämlich weiter wenigstens
ein reduzierendes Element, wie z. B. Zirkonium, Magnesium, Silizium, Aluminium u.dgl. enthalten» Im Fall von Zirkonium
verwendet man vorzugsweise 5 ~ 6 Gew. % oder weniger
Zirkonium auf Basis des Gewichts der Legierung. Wenn die Menge zu hoch ist, entsteht ein Eutektikum mit einem
niedrigeren Schmelzpunkt, wodurch die mechanische Festigkeit bei hohen Temperaturen verringert wird. Im Fall von
Magnesium, Silizium und Aluminium läßt sich eine Verunreinigungsmenge eines oder mehrerer dieser reduzierenden
Elemente, wie sie einer in einem herkömmlichen Basismetall für eine Oxidkathode als eine Verunreinigung enthaltenen
Menge entspricht, üblicherweise zusammen mit oder ohne Zirkonium verwenden.
Wenn eine direkt erhitzte Oxidkathode unter Verwendung des Basismetallplattenmaterials gemäß der Erfindung hergestellt
wird und man eine üblicherweise verwendete Oxidschicht, z. B. unter Einsatz einer ternären Karbonatmischung
aus BaCO,, SrCO, und CaCO,, aufbringt, ergibt sich kein
Abschälen der Oxidschicht von der Basis, und man kann eine schnellarbeitende, direktferhitzte Oxidkathode von ausgezeichneter
mechanischer Festigkeit bei hohen Temperaturen und ausgezeichnetem spezifischen elektrischen Widerstand
erhalten.
909821/0532
Die Erfindung gibt also Basismetallplattenmaterialien an, die Nickel als Hauptbestandteil, außerdem Rhenium und
Wolfram und, falls erwünscht, eine geringe Menge wenigstens eines reduzierenden Elements enthalten una*zur Erzeugung
von schnellarbeitenden, direkt erhitzten Oxidkathoden verwenden lassen, die kein Abschälen der Oxidschicht vom
Basismetall zeigen und ausgezeichnete mechanische Festigkeit bei hohen Temperaturen und ausgezeichneten spezifischen
elektrischen Widerstand aufweisen.
Die Erfindung wird im einzelnen anhand der folgenden Beispiele näher erläutert, worin alle Prozentsätze nach
dem Gewicht angegeben sind, falls nicht anders angegeben ist.
Ein Legierungsblock, der 12 jSRhenium, 4 % Wolfram,
0,4 % Zirkonium und Rest Nickel enthält, wurde nach einem
Standardpulvermetallurgieverfahren hergestellt, und eine Basismetallplatte von 30 ,um Dicke wurde durch Kaltwalzen
erzeugt, während der Block wiederholt einem Vakuumanlaasen unterworfen wurde. Eine ternäre Barium-, Strontium- und
Kalziumkarbonatmischung wurde auf die so erhaltene Basismetallplatte aufgebracht und einer zehnstündigen Wärmebehandlung
bei 1000 0C untejrVakuum ausgesetzt, um die
Karbonate in die Oxide umzuwandeln. Die Haftfestigkeit der Oxidschicht wurde unter Vakuum durch Kratzen mit
einer Nadel überprüft, und es zeigte sich kein Abschälen. Die Probe wurde an die Luft herausgenommen, und nach Beseitigung
der Oxidschicht analysierte man die Zwischenschichten durch Röntgenbeugung. Es wurde nur eine Zwischenschicht
aufgrund von Zirkonium, jedoch keine Zwischenschicht aufgrund von Wolfram erfaßt.
21/0532
Zum Vergleich wurde eine Basismetallplatte von 30 ,um
Dicke aus einer 27,5 % Wolfram, 0,4 % Zirkonium und Rest Nickel enthaltenden Legierung verwendet und in der
gleichen Weise wie oben untersucht. Die Oxidschicht schälte sich ab. Die oben erwähnte Probe wurde an die Luft
herausgenommen, und nach Entfernung der Oxidschicht analysierte man die Zwischenschichten mit Röntgenbeugung.
Eine Zwischenschicht aufgrund von Wolfram sowie eine Zwischenschicht aufgrund von Zirkonium wurden erfaßt.
In der gleichen Weise, wie im Beispiel 1 beschrieben, wurden die folgenden Legierungsblöcke zur Erzeugung einer
Basismetallplatte verwendet:
Versuch Nr. 1: Ni Öl,6; Re 16; W 2; Zr 0,4 (Gew. %)
Versuch Nr. 2: Ni 81,2; Re 12; W 6; Zr 0,8
In der gleichen Weise, wie im Beispiel 1 beschrieben, wurden das Abschälen der Oxidschicht und die Bildung von
Zwischenschichten untersucht. In den einzelnen Versuchen Nr. 1 und 2 ergab sich kein Abschälen der Oxidschicht,
und es wurden nur Zwischenschichten aufgrund von Zirkonium erfaßt.
1/0592
Leerseite
Claims (7)
- Ansprüche) Basismetallplattenmaterial für eine direkt erhitzte Oxidkathode aus einer wolframhaltigen Nickellegierung, dadurch gekennzeichnet, daß es im wesentlichen aus Nickel, Rhenium und Wolfram besteht.
- 2. Basismetallplattenmaterial nach Anspruch 1,dadurch gekennzeichnet, daß es aus 4 bis 17 Gew. % Rhenium, 1 bis 6 Gew. % Wolfram, Rest Nickel besteht.
- 3. Basismetallplattenmaterial nach Anspruch 1,dadurch gekennzeichnet, daß es aus 9 bis 14 Gew. % Rhenium, 1 bis 6 Gew. % Wolfram, Rest Nickel besteht.
- 4. Basismetallplattenmaterial nach einem der Ansprüche 1 bis 3, dadurch gekennzeichnet, daß es zusätzlich ein Reduktionsmittel enthält.
- 5. Basismetallplattenmaterial nach Anspruch 4, dadurch gekennzeichnet, daß es ein Reduktionsmittel aus der Gruppe Zirkonium, Magnesium, Silizium und Aluminium enthält.
- 6. Basismetallplattenmaterial nach Anspruch 5, dadurch gekennzeichnet, daß es als Reduktionsmittel Zirkonium enthält.
- 7. Basismetallplattenmaterial nach Anspruch 6, dadurch gekennzeichnet, daß es Zirkonium in einer Menge von 6 Gew. % oder weniger enthält.8l-(A3272/O3)-TF909821/0592ORIGINAL INSPECTED
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP13790877A JPS5471550A (en) | 1977-11-18 | 1977-11-18 | Base metal material for direct heating oxide cathode |
Publications (3)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE2849606A1 true DE2849606A1 (de) | 1980-05-23 |
DE2849606B2 DE2849606B2 (de) | 1981-07-02 |
DE2849606C3 DE2849606C3 (de) | 1982-02-25 |
Family
ID=15209483
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE2849606A Expired DE2849606C3 (de) | 1977-11-18 | 1979-11-15 | Basismetallplattenmaterial für direkt erhitzte Oxidkathoden |
Country Status (6)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US4208208A (de) |
JP (1) | JPS5471550A (de) |
DE (1) | DE2849606C3 (de) |
FI (1) | FI783504A (de) |
GB (1) | GB2011702B (de) |
NL (1) | NL7811339A (de) |
Families Citing this family (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
FR2387219B1 (de) * | 1977-04-15 | 1982-11-19 | Ciba Geigy Ag | |
JPS6023454B2 (ja) * | 1978-11-29 | 1985-06-07 | 株式会社日立製作所 | 電子管陰極 |
JPS55144631A (en) * | 1979-04-28 | 1980-11-11 | Hitachi Ltd | Directly-heated cathode for electronic tube |
DE3782543T2 (de) * | 1986-06-06 | 1993-05-06 | Toshiba Kawasaki Kk | Impregnierte kathode. |
MY172177A (en) * | 2008-04-30 | 2019-11-15 | Sanyo Special Steel Co Ltd | Sputtering target material for producing intermediate layer film of perpendicular magnetic recording medium and thin film produced by using the same |
Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US2858207A (en) * | 1954-12-24 | 1958-10-28 | Charles Bertolus Ets | Thermionic cathode cores composed of nickel-rhenium alloy |
DE2635289A1 (de) * | 1975-11-07 | 1977-05-18 | Hitachi Ltd | Traegermetallplatte fuer direkt erhitzte oxidkathode und verfahren zu deren herstellung |
Family Cites Families (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US2720458A (en) * | 1952-04-29 | 1955-10-11 | Sylvania Electric Prod | Nickel-tungsten-aluminum alloy for cathode structure |
US2833647A (en) * | 1957-03-07 | 1958-05-06 | Superior Tube Co | Tungsten-zirconium-nickel cathodes |
DE1923920C3 (de) * | 1969-05-10 | 1980-07-17 | Siemens Ag, 1000 Berlin Und 8000 Muenchen | Raney-Mischkatalysator |
US3745403A (en) * | 1971-11-30 | 1973-07-10 | Hitachi Ltd | Direct heating cathode structure for electron tubes |
US3922428A (en) * | 1972-02-04 | 1975-11-25 | Spectra Mat Inc | Thermionic cathode comprising mixture of barium oxide, calcium oxide and samarium oxide |
DE2317446C3 (de) * | 1973-04-06 | 1983-11-10 | Standard Elektrik Lorenz Ag, 7000 Stuttgart | Verfahren zum Herstellen eines Heizelementes für eine indirekt geheizte Kathode |
US4081713A (en) * | 1976-01-28 | 1978-03-28 | Hitachi, Ltd. | Directly heated oxide cathode |
-
1977
- 1977-11-18 JP JP13790877A patent/JPS5471550A/ja active Pending
-
1978
- 1978-11-16 US US05/961,272 patent/US4208208A/en not_active Expired - Lifetime
- 1978-11-16 FI FI783504A patent/FI783504A/fi unknown
- 1978-11-16 NL NL7811339A patent/NL7811339A/xx not_active Application Discontinuation
- 1978-11-17 GB GB7844910A patent/GB2011702B/en not_active Expired
-
1979
- 1979-11-15 DE DE2849606A patent/DE2849606C3/de not_active Expired
Patent Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US2858207A (en) * | 1954-12-24 | 1958-10-28 | Charles Bertolus Ets | Thermionic cathode cores composed of nickel-rhenium alloy |
DE2635289A1 (de) * | 1975-11-07 | 1977-05-18 | Hitachi Ltd | Traegermetallplatte fuer direkt erhitzte oxidkathode und verfahren zu deren herstellung |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
GB2011702A (en) | 1979-07-11 |
GB2011702B (en) | 1982-09-08 |
JPS5471550A (en) | 1979-06-08 |
DE2849606C3 (de) | 1982-02-25 |
DE2849606B2 (de) | 1981-07-02 |
US4208208A (en) | 1980-06-17 |
FI783504A (fi) | 1979-05-19 |
NL7811339A (nl) | 1979-05-22 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
DE3731266C2 (de) | ||
DE3518407C2 (de) | ||
DE3151101A1 (de) | Gleichstrom-gasentladungsanzeige | |
DE2635289C2 (de) | Metallene Trägerplatte der Oxidschicht direkt geheizter Oxidkathoden und Verfahren zu ihrer Herstellung | |
DE2610303C2 (de) | Siebdruckpaste für dicke, elektrisch leitende, Leiterbahnen bildende Schichten auf einem keramischen Substrat | |
DE2641884C3 (de) | Gettervorrichtung | |
EP1922426B1 (de) | Verfahren zur herstellung und verwendung von halbzeug auf nickelbasis mit rekristallisationswürfeltextur | |
DE2849606A1 (de) | Basismetallplattenmaterial fuer direkt erhitzte oxidkathoden | |
DE1608211A1 (de) | Elektrisches Kontaktmaterial | |
EP3717236B1 (de) | Verfahren zur herstellung eines metall-keramik-substrats | |
DE3425768C2 (de) | ||
DE2842661A1 (de) | Elektronenroehren-kathode und ihre herstellung | |
DE2738207C2 (de) | Basismetallplattenwerkstoff für eine direkt erhitzte Oxidkathode | |
DE1218072B (de) | Sekundaerelektronenvervielfacher und Verfahren zur Herstellung des Vervielfachers | |
DE2202827C3 (de) | Gitterelektrode für elektrische Entladungsgefäße und Verfahren zu ihrer Herstellung | |
DE2854076C2 (de) | Basismetallplattenmaterial für eine direkt erhitzte Oxidkathode | |
DE2253439C3 (de) | Ternäre Legierung für supraleitende Magneten | |
DE2913614A1 (de) | Direkt beheizte kathode fuer elektronenroehren | |
DE1268853B (de) | Ternaere supraleitende Legierung auf Niob-Zirkonium-Basis | |
DE2435658B2 (de) | Keramik-Metall-Werkstoff | |
DE2819242B2 (de) | Verfahren zur Herstellung eines Supraleiters | |
DE102017128308B4 (de) | Verfahren zur Herstellung eines Metall-Keramik-Substrats | |
DE19539051C2 (de) | Durchbiegefester Wolframdraht | |
DE2744418A1 (de) | Mehrschichtlot | |
EP4325227A1 (de) | Bandförmiger verbundwerkstoff für prüfnadeln |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
C3 | Grant after two publication steps (3rd publication) | ||
8339 | Ceased/non-payment of the annual fee |