DE743727C - Verfahren zur Herstellung von Metallisierungsmustern durch Metallbedampfung im Vacuum - Google Patents
Verfahren zur Herstellung von Metallisierungsmustern durch Metallbedampfung im VacuumInfo
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- DE743727C DE743727C DEB197854D DEB0197854D DE743727C DE 743727 C DE743727 C DE 743727C DE B197854 D DEB197854 D DE B197854D DE B0197854 D DEB0197854 D DE B0197854D DE 743727 C DE743727 C DE 743727C
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- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
- H01J37/30—Electron-beam or ion-beam tubes for localised treatment of objects
- H01J37/305—Electron-beam or ion-beam tubes for localised treatment of objects for casting, melting, evaporating or etching
- H01J37/3053—Electron-beam or ion-beam tubes for localised treatment of objects for casting, melting, evaporating or etching for evaporating or etching
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/04—Coating on selected surface areas, e.g. using masks
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Description
- Verfahren zur Herstellung von Metallisierungsmustern durch Metallhedampfung im Vacuum Die Metallisierung von Unterlagen soll oft nur an bestimmten Stellen der Unterlagen erfolgen oder ein Muster ergeben, welches von Metall freie Stellen enthält. Bei dem bekannten Verfahren der Metallbedampfung im Vakuum kann man Muster mit Hilfe von Schablonen erzeugen, die dem Metalldampf den Zutritt zu gewissen Stellen der Unterlage verwehren. Da' aber die Schablonen selbst mitbedampft werden, läßt @es sich nicht vermeiden, daß sich die Öffnungen der Schablonen bei längerer Benutzung auch mit Metall vom Rande her zusetzen und dadurch die Mustergrenzen der Metallisierung nicht sauber werden. Auch ist es sehr schwierig, für laufende Bandunterlagen ebenfalls mitlaufende Schablonen zu verwenden.
- Es ist vorgeschlagen worden, die Metallbedampfung an gewissen Stellen der Unterlagen dadurch zu verhindern, daß man Fett oder Öl auf die Unterlagen aufträgt, _ wodurch diese Stellen bei der Metallbedampfung von Metall frei bleiben. Solche kondensation&verhindernden Schichten müssen aber äußerst dünn aufgebracht werden, weil sonst die Gefahr besteht, daß, da die Fett oder Ölschicht im Vakuum selbst v:erdamipft, bei falscher Desierung die Metallkondensation auch an den benachbarten Stellen gestört wird.
- Gemäß der Erfindung werden Metallisierungsmuster durch Metallbedampfung im Vakuum erzeugt, indem kondensationsbeeinflussende, und zwar hindernde oder fördernde Schichten auf die zu metallisierende Unterlage vor der Metallisierung aufgebracht und danach mittels regulierbarer Elektronenstrahlen an bestimmten Stellen entsprechend der gewünschten Bemusterung entfernt werden.
- Kondensationshindernde Stoffe, wie z. B. Fette oder Öle, werden in bekannter Weise auf die zu metallisierende Unterlage aufgetragen, und zwar in dünnster Sclücht, z. B. durch Bedampfen im Vakuum. Diese Schicht wird an den Stellen, die später einen Metallbelag tragen sollen, mit Hilfe von Elektronenstrahlen-entfernt. Die Unterlage nimmt dann an diesen Stellenden Metalldampf erheblich leichter an als an dep übrigen. -k ondensätiönsördernde Stoffe, wie -r-. h. sehr dünne Metallschichten von etwa molekularer Größenordnung aus z. B. Silber oder Wolfram, werden im Vakuum auf die zu me=-tallisierenden Unterlagen aufgebracht. Diese'."@ Sekicht wird danach an den Stellen, die v=om Metallbelag frei bleiben sollen, mit Hilfe. von Elektronenstrahlen entfernt. An diesen Stellen nimmt die Unterlage dann den Metalldampf nicht mehr so leicht an wie an den übrigen .Stellen.
- Die Elektronenstrahlen können wie im Kathodenstrahloszillographen in ihrem Strahlquerschnitt geändert werden. In bekannter Weise kann diese Änderung durch die elektronenoptische Abbildung der Kathode oder durch geeignet geformte Anodenblenden erfolgen. Der Elektronenstrahl kann in seiner Größe, Intensität und Lage zur Achse durch die aus der Elektronenoptik bekannten Hilfsmittel gesteuert werden, z. B. durch Änderung der Spannung am Wehneltzy=liiider oder in der elektrostatischen Elektronenlinse und bzw. oder durch Spannungen an einem Ablenkungskondensator quer oder längs zur Laufrichtung Die gegenseitige Geschwindigkeit zwischen Brennfleck und zu metallisierender Unterlage gibt eine weitere Möglichkeit, die. Strahlungsenergie auf die verschiedenen Unterlageteile zu verändern; hierdurch kann die kondensationsbeeinflussende Schicht auf der Unterlage mehr oder weniger vollkommen entfernt werden. Die Geschwindigkeit der Unterlage kann bei stillstehendem Strahl durch mechanische Mittel geändert werden, z. B. für eine Bemusterung mit Hilfe einer sog. Malteserkreuzvorrichtung. Bei gleichmäßiger Geschwindigkeit der Unterlage hingegen kann der Elektronenstrahl elektrisch abgelenkt werden. Für den Grenzfall, daß man die gegenseitige Geschwindigkeit der Unterlage gegen den Elektronenstrahl gleich Null wählt, kann man vorteilhaft die sog. Sägezahn-Wechselspannung anwenden, welche durch Kippvorgänge erzeugt werden kann. Ein großer Vorzug des erfindungsgemäßen Verfahrens liegt darin, daß nicht nur die mit den kondensationsbeeinflussenden Stoffen versehenen Unterlagen beliebig lange aufbewahrt «erden können, bevor sie der Einwirkung der - I:Ic@lctr<.@netisti:ahlen ausgesetzt «-erden, sondern dal.' auch- bereits mit Hilfe von Elektronen-. ;alrählcfi bearbeitete Unterlagen, auf denen ''-#1'sö ein latentes Muster bereits vorhanden ist, beliebig lange aufbewahrt werden können. bis dieses latente Muster durch die lletallisierung entwickelt, d. h. sichtbar gemacht wird. Auch die Aufbewahrungsbedingungen spielen dabei keine Rolle. So kann man beispielsweise Papier, das mit Fetten oder ölen behandelt ist und auf dessen Oberfläche mit Hilfe von Elektronenstrahlen Muster vorbereitet «-orden sind, ebensogut in feuchten wie in trockenen Räumen aufbewahren, ohne daf) ein Verwischen oder gar Verschwinden der Musterung befürchtet «-erden muP.
Claims (1)
- PATENT A:`SP1tLTCHE: i. Verfahren zur Herstellung von Metallisierungsmustern durch Metallbedampfung im Vakuum, dadurch gekennzeichnet, dab kondensationsbeeinflussende Schichten auf die zu metallisierende Unterlage vor der Metallisierung aufgebracht und danach mittels regulierbarer Elektronenstrahlen an bestiniinten Stellen entsprechend der -ewünschten Bemusterung entfernt werden. a. Verfahren nach Anspruch i, dadurch gekennzeichnet, daß auf die zu metallisierende Unterlage kondensationshindernde Stoffe aufgebracht und mittels Elektronenstrahlen stellenweise wieder entfernt werden. d. Verfahren nach Anspruch i, dadurch gekennzeichnet, daß auf die zu metallisierende Unterlage kondensationsfördernde Stoffe aufgebracht und mittels Elektronenstrahlen stellenweise wieder entfernt werden. Zur Abgrenzung des Anineidungsgegenstandes vom Stand der Technik sind im Erteilungsverfahren keine Druckschriften in Betracht gezogen worden.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DEB197854D DE743727C (de) | 1942-04-09 | 1942-04-09 | Verfahren zur Herstellung von Metallisierungsmustern durch Metallbedampfung im Vacuum |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DEB197854D DE743727C (de) | 1942-04-09 | 1942-04-09 | Verfahren zur Herstellung von Metallisierungsmustern durch Metallbedampfung im Vacuum |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE743727C true DE743727C (de) | 1944-12-18 |
Family
ID=7012018
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DEB197854D Expired DE743727C (de) | 1942-04-09 | 1942-04-09 | Verfahren zur Herstellung von Metallisierungsmustern durch Metallbedampfung im Vacuum |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
DE (1) | DE743727C (de) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
FR2535344A1 (fr) * | 1982-10-29 | 1984-05-04 | Thomson Csf | Procede de depot selectif d'une couche de metal refractaire sur une piece en graphite |
-
1942
- 1942-04-09 DE DEB197854D patent/DE743727C/de not_active Expired
Non-Patent Citations (1)
Title |
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None * |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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FR2535344A1 (fr) * | 1982-10-29 | 1984-05-04 | Thomson Csf | Procede de depot selectif d'une couche de metal refractaire sur une piece en graphite |
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