DE3305695A1 - Vorrichtung zum zerteilen von halbleitermaterial - Google Patents

Vorrichtung zum zerteilen von halbleitermaterial

Info

Publication number
DE3305695A1
DE3305695A1 DE19833305695 DE3305695A DE3305695A1 DE 3305695 A1 DE3305695 A1 DE 3305695A1 DE 19833305695 DE19833305695 DE 19833305695 DE 3305695 A DE3305695 A DE 3305695A DE 3305695 A1 DE3305695 A1 DE 3305695A1
Authority
DE
Germany
Prior art keywords
semiconductor material
metal strip
thickness
semiconductor
metal
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Withdrawn
Application number
DE19833305695
Other languages
English (en)
Inventor
Konrad Dr.phil.nat. 8011 Vaterstetten Reuschel
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Siemens AG
Original Assignee
Siemens AG
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Siemens AG filed Critical Siemens AG
Priority to DE19833305695 priority Critical patent/DE3305695A1/de
Priority to JP2691484A priority patent/JPS59158216A/ja
Publication of DE3305695A1 publication Critical patent/DE3305695A1/de
Withdrawn legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B23MACHINE TOOLS; METAL-WORKING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • B23DPLANING; SLOTTING; SHEARING; BROACHING; SAWING; FILING; SCRAPING; LIKE OPERATIONS FOR WORKING METAL BY REMOVING MATERIAL, NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • B23D51/00Sawing machines or sawing devices working with straight blades, characterised only by constructional features of particular parts; Carrying or attaching means for tools, covered by this subclass, which are connected to a carrier at both ends
    • B23D51/04Sawing machines or sawing devices working with straight blades, characterised only by constructional features of particular parts; Carrying or attaching means for tools, covered by this subclass, which are connected to a carrier at both ends of devices for feeding, positioning, clamping, or rotating work
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B23MACHINE TOOLS; METAL-WORKING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • B23DPLANING; SLOTTING; SHEARING; BROACHING; SAWING; FILING; SCRAPING; LIKE OPERATIONS FOR WORKING METAL BY REMOVING MATERIAL, NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • B23D61/00Tools for sawing machines or sawing devices; Clamping devices for these tools
    • B23D61/12Straight saw blades; Strap saw blades
    • B23D61/127Straight saw blades; Strap saw blades of special material
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B28WORKING CEMENT, CLAY, OR STONE
    • B28DWORKING STONE OR STONE-LIKE MATERIALS
    • B28D5/00Fine working of gems, jewels, crystals, e.g. of semiconductor material; apparatus or devices therefor
    • B28D5/0058Accessories specially adapted for use with machines for fine working of gems, jewels, crystals, e.g. of semiconductor material
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B28WORKING CEMENT, CLAY, OR STONE
    • B28DWORKING STONE OR STONE-LIKE MATERIALS
    • B28D5/00Fine working of gems, jewels, crystals, e.g. of semiconductor material; apparatus or devices therefor
    • B28D5/04Fine working of gems, jewels, crystals, e.g. of semiconductor material; apparatus or devices therefor by tools other than rotary type, e.g. reciprocating tools
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C30CRYSTAL GROWTH
    • C30BSINGLE-CRYSTAL GROWTH; UNIDIRECTIONAL SOLIDIFICATION OF EUTECTIC MATERIAL OR UNIDIRECTIONAL DEMIXING OF EUTECTOID MATERIAL; REFINING BY ZONE-MELTING OF MATERIAL; PRODUCTION OF A HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; SINGLE CRYSTALS OR HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; AFTER-TREATMENT OF SINGLE CRYSTALS OR A HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; APPARATUS THEREFOR
    • C30B33/00After-treatment of single crystals or homogeneous polycrystalline material with defined structure

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Processing Of Stones Or Stones Resemblance Materials (AREA)
  • Mechanical Treatment Of Semiconductor (AREA)

Abstract

Die erfindungsgemäße Sicherheits-Skibindung besitzt eine elektronische Schaltung, die die auf das Bein des Skiläufers einwirkenden Kräfte und/oder Momente durch mindestens einen Wandler erfaßt und bei Erreichen eines vorgegebenen Schwellenwertes einen Elektromagneten erregt oder entregt, dessen Anker die Verriegelung des Sohlenhalters löst. Der Sohlenhalter ist von mindestens einer Feder in Richtung seiner geöffneten Stellung belastet und durch die Verriegelungseinrichtung in seiner geschlossenen Stellung gehalten. Zum Lösen der Verriegelung ist in der Verriegelungseinrichtung ein Auslöseteil vorgesehen und die Kraft mindestens einer Feder gespeichert, die ein Vielfaches der vom Anker aufgebrachten Kraft ausmacht. Ein einfacher mechanischer Aufbau und eine gute Bedienungsmöglichkeit der Sicherheits-Skibindung sind dadurch gegeben, daß dem Sohlenhalter (4) ein Schließpedal (5) zugeordnet ist und daß das Schließpedal (5) das Anfangsglied einer kinematischen Kette ist, die ein Spannstück (37) umfaßt, über das mit der Schließbewegung des Sohlenhalters (4) ein Spannen der entspannten, das Endglied der Kette bildenden Feder oder Federn der Verriegelungseinrichtung erfolgt.

Description

  • Vorrichtunq zum Zerteilen von Halbleitermaterial
  • Die Erfindung betrifft eine Vorrichtung zum Zerteilen von Halbleitermaterial mittels einer aus einem Metallband bestehenden Säge, mit der insbesondere das stabförmige Halbleitermaterial in Scheiben zerlegbar ist.
  • Halbleiterbauelemente werden. in der Regel aus Halbleiterscheiben hergestellt, die von meist stabförmigen Einkristallen abgetrennt werden. Zum Abtrennen der Scheiben werden gewöhnlich mechanische Sägen verwendet, die hauptsächlich nach dem Innenlochsägeprinzip arbeiten. Eine entsprechende Innenlochsäge ist beispielsweise aus der DE-AS 22 04 491 bekannt. Das Sägeblatt einer solchen Innenlochsäge mit Diamantbelag ist etwa 150 #m bis 400 pm dick, was bedeutet, daß der Verschnitt bei jedem Sägeschnitt bei mindestens 180 pm der Länge des Halbleiterstabes liegt. Bezogen auf die Scheibendicke ergibt sich so ein Verlust an Halbleitermaterial zwischen 50 und 100 %.
  • Auch bei Drahtsägen tritt ein Verschnitt in gleicher Größenordnung ein, da deren Schnittbreite bei 120 bis 150 gm liegt. Gattersägen aus mehreren parallel zueinander verlaufenden Metallbändern führen ebenfalls zu einer Schnittbreite von etwa 120 bis 150 #m.
  • Bei allen diesen bekannten mechanischen Sägen liegt somit der Verlust an Halbleitermaterial zwischen 50 bis 100 %, bezo-gen auf die Dicke der hergestellten Scheiben, d. h., vom Halbleitermaterial des beispielsweise durch Zonenziehen erhaltenen Halbleiterstabes wird zwischen einem Viertel und der Hälfte durch Verschnitt verloren.
  • Um diesen Verlust an Halbleitermaterial zu vermeiden, wurden bereits verschiedene andere Möglichkeiten zum Zerteilen des Halbleitermaterials diskutiert. Beispielsweise ist in der DE-OS 30 29 828 ein Verfahren zum Zerteilen eines Halbleitereinkristalls in Scheiben beschrieben, bei dem ein in (111)-Richtung orientierter Halbleiterstab mit einer Maskierungsschicht bedeckt wird, die streifenförmig so unterbrochen wird, daß die Unterbrechungen parallel zu den Schnittlinien der (111)-Ebenen mit der Stabmanteloberfläche liegen. Anschließend wird der Halbleiterstab mit einem anisotropen Ätzmittel geätzt, bis er in einzelne Scheiben zerfällt.
  • Ein anderes, aus der DE-OS 30 35 120 bekanntes Verfahren zum Zerteilen eines Halbleiterkörpers sieht vor, daß auf der Mantelfläche eines einkristallinen Halbleiterstabes, dessen Achse in der (111)-Kristallrichtung verläuft, Rillen erzeugt werden, die in (111)-Ebenen liegen und deren Abstand der gewünschten Scheibendicke entspricht. Anschließend werden in diesen Rillen mechanische Spannungsfelder zum Abspalten von Scheiben durch fokussiertes Laserlicht erzeugt.
  • Schließlich ist noch in der DE-OS 30 35 131 ein Verfahren zum Zerteilen eines Halbleiterkörpers in Scheiben beschrieben, bei dem der Halbleiterkörper mindestens an einer seiner Stirnflächen derart mit Ultrlaschall beaufschlagt wird, daß in Richtung der Längsachse des Halbleiterkörpers stehende Wellen entstehen. Die Frequenz der Ultraschallwellen wird derart eingestellt, daß der Abstand der Schwingungsbäuche im Halbleiterkörper gleich der gewünschten Scheibendicke ist.
  • Alle diese bekannten Verfahren zum Zerteilen von Halbleitermaterial, die nichtmechanische Einwirkungen auf das Halbleitermaterial vorsehen, sind äußerst aufwendig und für die Praxis bisher nicht geeignet.
  • Es ist daher Aufgabe der Erfindung, eine Vorrichtung zum Zerteilen von Halbleitermaterial zu schaffen, die auf mechanischer Einwirkung auf das Halbleitermaterial beruht und dennoch zu einem geringen Verschnitt führt.
  • Diese Aufgabe wird erfindungsgemäß dadurch gelöst, daß das Metallband amorph und duktil ist und eine Dicke von 20 bis 50 pm aufweist.
  • Vorzugsweise kann das Metallband eine Dicke von 30 bis 40 Cim und insbesondere von 35 zum + 2 pm bei einer Bandbreite von etwa 25 mm aufweisen.
  • Das Metallband selbst kann in vorteilhafter Weise aus etwa 78 % Ni, 8 % Si und 14 % B bestehen. Auf ein solches Metallband kann Diamantpulver eingerollt oder aufgeklebt oder galvanisch aufgetragen werden.
  • Die erfindungsgemäße Vorrichtung erlaubt Schnitt breiten, die unter 100 pm liegen, so daß der Verschnitt wesentlich geringer als bei den bisherigen mechanischen Sägen ist.
  • Die oben angegebenen Metallbänder können beispielsweise bei Gattersägen und bei Bandsägen verwendet werden. Bei Gattersägen wird beim Sägen in vorteilhafter Weise in den Schnittbereich ein Läppulver mit einer Läppulverstärke von 5 bis 10 gm eingeführt.
  • Nachfolgend wird die Erfindung anhand der Zeichnung näher erläutert. Es zeigen: Fig. 1 einen Schnitt durch die erfindungsgemäße Vorrichtung, und Fig. 2 eine Draufsicht auf die Vorrichtung von Fig. 1.
  • In Fig. 1 ist ein Halbleiterstab 1 in eine Halteeinrichtung 2 eingespannt, die um eine Achse 3 mittels eines nicht dargestellten Antriebes drehbar und zusammen mit dem Halbleiterstab nach oben verfahrbar ist. Auf den Halbleiterstab 1 wirkt eine Gattersäge 4 ein, die einzelne Metallbänder 5 aufweist, welche in geringem Abstand nebeneinander angeordnet sind, um Scheiben der gewünschten Dicke aus dem Halbleiterstab 1 zu sägen. Die einzelnen Metallbänder 5 sind etwa 30 bis 40 pm dick und bestehen aus einem duktilen amorphen Metall aus 78 % Ni, 8 % Si und 14 % B. Während des Sägens wird von einer nicht dargestellten Düse in den Schnittbereich ein Läppmittel mit einer Läppulverstärke von 5 bis 10 pm zugeführt.
  • Anstelle dieses Läppmittels können die Metallbänder 5 auch mit Diamantpulver versehen sein, das aufgerollt, aufgeklebt oder galvanisch aufgebracht werden kann.
  • 8 Patentansprüche 2 Figuren

Claims (8)

  1. Patentansprüche Vorrichtung zum Zerteilen von Halbleitermaterial mittels einer aus einem Metallband bestehenden Säge, mit der insbesondere das stabförmige Halbleitermaterial in Scheiben zerlegbar ist, d a d u r c h g e k e n n -z e i c h n e t , daß das Metallband (5) amorph und duktil ist und eine Dicke von 20 bis 50 pm aufweist.
  2. 2. Vorrichtung nach Anspruch 1, d a d u r c h g e -k e n n z e i c h n e t , daß das Metallband (5) eine Dicke von 30 bis 40 Rm aufweist.
  3. 3. Vorrichtung nach Anspruch 1 oder 2, d a d u r c h g e k e n n z e i c h n e t , daß das Metallband eine Dicke von 35 Rm + 2 gm aufweist.
  4. 4. Vorrichtung nach einem der Ansprüche 1 bis 3, d a -d u r c h g e k e n n z e i c h n e t , daß das Metallband eine Bandbreite von 25 mm aufweist.
  5. 5. Vorrichtung nach einem der Ansprüche 1 bis 4, d a -d u r c h g e k e n n z e i c h n e t , daß das amorphe Metallband aus etwa 78 % Ni, 8 % Si und 14 % B besteht.
  6. 6. Vorrichtung nach einem der Ansprüche 1 bis 5, d a -d u r c h g e k e n n z e i c h n e t , daß auf das Metallband (5) Diamantpulver eingerollt oder aufgeklebt oder galvanisch aufgetragen ist.
  7. 7. Verfahren zum Betrieb der Vorrichtung nach einem der Ansprüche 1 bis 5, d a d u r c h g e k e n n -' z e i c h n e t , daß beim Sägen in den Schnittbereich ein Läppulver mit einer Läppulverstärke von etwa 5 bis 10 pm zugeführt wird.
  8. 8. Verwendung der Vorrichtung nach einem der Ansprüche 1 bis 6 für Gattersägen oder Bandsägen.
DE19833305695 1983-02-18 1983-02-18 Vorrichtung zum zerteilen von halbleitermaterial Withdrawn DE3305695A1 (de)

Priority Applications (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE19833305695 DE3305695A1 (de) 1983-02-18 1983-02-18 Vorrichtung zum zerteilen von halbleitermaterial
JP2691484A JPS59158216A (ja) 1983-02-18 1984-02-15 半導体材料切断装置

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE19833305695 DE3305695A1 (de) 1983-02-18 1983-02-18 Vorrichtung zum zerteilen von halbleitermaterial

Publications (1)

Publication Number Publication Date
DE3305695A1 true DE3305695A1 (de) 1984-08-23

Family

ID=6191231

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
DE19833305695 Withdrawn DE3305695A1 (de) 1983-02-18 1983-02-18 Vorrichtung zum zerteilen von halbleitermaterial

Country Status (2)

Country Link
JP (1) JPS59158216A (de)
DE (1) DE3305695A1 (de)

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP0747187A2 (de) * 1995-06-06 1996-12-11 Corning Incorporated Vorrichtung und Verfahren zum Drahtsägen von glaskeramischen Wafern
US6006738A (en) * 1996-08-13 1999-12-28 Memc Japan, Ltd. Method and apparatus for cutting an ingot
DE10128630A1 (de) * 2001-06-13 2003-01-02 Freiberger Compound Mat Gmbh Vorrichtung und Verfahren zur Bestimmung der Orientierung einer kristallografischen Ebene relativ zu einer Kristalloberfläche sowie Vorrichtung und Verfahren zum Trennen eines Einkristalls in einer Trennmaschine
RU2646301C2 (ru) * 2016-07-04 2018-03-02 Федеральное государственное автономное образовательное учреждение высшего образования "Уральский федеральный университет имени первого Президента России Б.Н. Ельцина" Способ изготовления круглых кристаллов с фаской, устройство и лезвийный инструмент для осуществления способа

Families Citing this family (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH07300B2 (ja) * 1985-09-17 1995-01-11 三菱マテリアル株式会社 大径シリコン単結晶インゴット用スライス切断刃
JPS6279912A (ja) * 1985-09-30 1987-04-13 Mitsubishi Metal Corp 半導体単結晶切断用帯状極薄刃

Family Cites Families (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
FR2481757A2 (fr) * 1980-04-30 1981-11-06 Leduc Fils Ets Rene Pompe a soupape a ressort

Cited By (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP0747187A2 (de) * 1995-06-06 1996-12-11 Corning Incorporated Vorrichtung und Verfahren zum Drahtsägen von glaskeramischen Wafern
EP0747187A3 (de) * 1995-06-06 1997-04-23 Corning Inc Vorrichtung und Verfahren zum Drahtsägen von glaskeramischen Wafern
US6006738A (en) * 1996-08-13 1999-12-28 Memc Japan, Ltd. Method and apparatus for cutting an ingot
DE10128630A1 (de) * 2001-06-13 2003-01-02 Freiberger Compound Mat Gmbh Vorrichtung und Verfahren zur Bestimmung der Orientierung einer kristallografischen Ebene relativ zu einer Kristalloberfläche sowie Vorrichtung und Verfahren zum Trennen eines Einkristalls in einer Trennmaschine
US6923171B2 (en) 2001-06-13 2005-08-02 Freiberger Compound Materials Gmbh Device and method for determining the orientation of a crystallographic plane in relation to a crystal surface and device for cutting a single crystal in a cutting machine
RU2646301C2 (ru) * 2016-07-04 2018-03-02 Федеральное государственное автономное образовательное учреждение высшего образования "Уральский федеральный университет имени первого Президента России Б.Н. Ельцина" Способ изготовления круглых кристаллов с фаской, устройство и лезвийный инструмент для осуществления способа

Also Published As

Publication number Publication date
JPS59158216A (ja) 1984-09-07

Similar Documents

Publication Publication Date Title
DE102004024643B4 (de) Werkstückteilungsverfahren unter Verwendung eines Laserstrahls
DE3686548T2 (de) Verfahren zur herstellung von scheiben.
DE4223645A1 (de) Vibrations-bearbeitungsverfahren und schneidvorrichtung zu seiner durchfuehrung
EP0903210B1 (de) Sägeleiste zum Fixieren eines Kristalls und Verfahren zum Abtrennen von Scheiben
DE3305695A1 (de) Vorrichtung zum zerteilen von halbleitermaterial
DE3114687A1 (de) Schneidblatt
DE602004009961T2 (de) Bauträger mit öffnungen und verfahren zu seiner herstellung
EP0715919A1 (de) Verfahren zum Sägen von Werkstückkörpern aus Stahl und Sägeblatt zur Verwendung in einem solchen Verfahren
EP0165582B1 (de) Verfahren zur Herstellung eines blanken Fasertapers an einer metallisierten Faser
DE102004058194A1 (de) Sägeleiste und Verfahren zum Abtrennen von Halbleiterscheiben von einem Kristallstück
EP0366056B1 (de) Innenlochsäge
DE3300796C2 (de) Innenlochsäge
AT389836B (de) Verfahren zur herstellung von bandstahlmessern zur verwendung als einwegmesser in hobelmaschinen
DE3300804C2 (de) Innenlochsäge
AT389835B (de) Verfahren zur herstellung von ritz- oder trennmessern, insbesondere fuer die holzwolle-herstellung
DE29716511U1 (de) Schneidleiste
DE102021100591B3 (de) Herstellungsverfahren für ein Schmuckstück und Schmuckstück
DE2530569C3 (de) Träger mit aufgeklebten Materialblöcken und Herstellungsverfahren hierfür
DE2610639C2 (de) Verfahren zur Herstellung von scheibenförmigen Ultraschallverzögerungsleitungen
DE2722779C2 (de) Läpptrennklingen
DE3035131A1 (de) Verfahren zum zerteilen eines halbleiterkoerpers
DE2611520A1 (de) Gattersaege zum zerteilen von hartsproedem material
DE1242987B (de) Verfahren zum Herstellen eines nichtkreisfoermigen Querschnitt aufweisenden Loches in einem Metallwerkstueck
EP1150816A1 (de) Sägeblatt für gattersägen mit materialschwächungsstellen
DE2811306C2 (de) Verfahren zur Herstellung von Magnetköpfen

Legal Events

Date Code Title Description
8139 Disposal/non-payment of the annual fee