DE327291C - Verfahren, kohlenstoff- und siliciumarme Manganlegierungen oder Mangan herzustellen - Google Patents

Verfahren, kohlenstoff- und siliciumarme Manganlegierungen oder Mangan herzustellen

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DE327291C
DE327291C DE1919327291D DE327291DD DE327291C DE 327291 C DE327291 C DE 327291C DE 1919327291 D DE1919327291 D DE 1919327291D DE 327291D D DE327291D D DE 327291DD DE 327291 C DE327291 C DE 327291C
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    • C21METALLURGY OF IRON
    • C21CPROCESSING OF PIG-IRON, e.g. REFINING, MANUFACTURE OF WROUGHT-IRON OR STEEL; TREATMENT IN MOLTEN STATE OF FERROUS ALLOYS
    • C21C7/00Treating molten ferrous alloys, e.g. steel, not covered by groups C21C1/00 - C21C5/00
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
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Description

  • Verfahren, kohlenstoff- und siliciumarme 1Vtanganlegierungen oder IViangan herzustellen. Die Erfindung hat den Zweck, kohlenstoff-und siliciümarme Manganlegierungen oder Mangan herzustellen.
  • Nach der Erfindung werden die genannten Produkte hergestellt, indem eine siliciumreiche Manganlegierung - vorzugsweise eine solche, welche mehr als 2o Prozent Mangan und -mehr als io Prozent Silicium enthält - bei zweckmäßiger Temperatur der Einwirkung von Stoffen ausgesetzt wird, die unter den obwaltenden Verhältnissen das Silicium zu oxidieren imstande sind. Als Oxydationsmittel verwendet man freien Sauerstoff (Luft) und unter Umständen auch Stoffe, welche Sauerstoffverbindungen des Mangan enthalten.
  • Zur Verdeutlichung der Erfindung sei folgendes Beispiel angeführt: Wie bekannt, erhält man bei Herstellung von Mangan und Manganlegierungen, mit Benutzung von Kohle als Reduktionsmittel, in Wirklichkeit ein Mangankarbid oder eine Mangankarbidlegierung mit einem Kohlenstoffgehalt, welcher im allgemeinen nicht weniger beträgt, als Mn" C entspricht. Versuche, z. B. durch Behandlung mit Manganoxyden den Kohlenstoffgehalt der betreffenden Legierung wesentlich herabzusetzen, haben nicht zum gewünschten Ziele geführt.
  • Es ist auch. bekannt, daß, wenn man bei Herstellung von Mangan und dessen Legierungen, unter Benutzung von Kohle als Reduktionsmittel, in solcher Weise verfährt, d'aß gleichzeitig mit dem Mangan Silicium ausreduziert wird, in der gewonnenen Siliciummanganlegierung ein größerer oder geringerer Teil des Kohlenstoffes durch Silicium ersetzt wird. Ein in mancher Beziehung gleichartiges Resultat erhält man übrigens auch, wenn eine Manganlegierung mit hohem Kohlenstoffgehalt mit einer verhältnismäßig siliciumreichen und daher kohlenstoffarmen Siliciumlegierung legiert wird. Gemäß der Erfindung soll nun eine solche Siliciummanganlegierung bei passender Temperatur mit siliciumoxydierenden Stoffen behandelt werden, besonders solchen, die Kalk und Manganoxyde enthalten. Dabei wird eine größere oder geringere Menge Silicium oxydiert, und die als Endprodukt gewonnene Legierung enthält, sofern »der Reduktionsprozeß. unter solchen Umständen vor sich gegangen ist, daß die Legierung oder das Oxy-' dationsmittel keine Gelegenheit gehabt hat, mit kohlenstoffhaltigen Stoffen in Berührung zu kommen, absolut gerechnet höchstens die gleiche Menge Kohlenstoff, wie in dem benutzten Siliciummangan beschickt wurde, Der Oxydationsprozeß wird am besten in einem elektrischen Ofen von solcher Konstruktion ausgeführt, daß die Elektroden nicht mit den reagierenden Stoffen in direkte Berührung kommen, beispielsweise einem elektrischen Lichtbogenofen. Die bei der Siliciumoxydierung gewonnene Schlacke enthält im allgemeinen eine beträchtliche Menge von Manganoxyd'en und ist als Rohmaterial zur Siliciummangandarstellung geeignet.
  • Wenigsten. theoretisch liegt kein Hindernis vor, die Herstellung von Siliciummangan und die Oxydierung des Siliciums desselben in dem gleichen Ofen vorzunehmen und dann so, daß zuerst die Siliciummanganlegierung in gewöhnlicher Weise dargestellt wird, worauf man die dabei gebildete Schlacke abzieht und sodann zweckmäßige Oxydationsmittel zusetzt, durch - welche das Silicium oxydiert wird.
  • Man kann die Fabrikation der kohlenstoffarmen Manganlegierung auch in solcher Weise ausführen, daß man mit zwei Öfen arbeitet, und zwar so, daß in dem einen Ofen in gewöhnlicher Weise Siliciummanganlegierung hergestellt wird, die alsdann in geschmolzenem Zustande nach -dem anderen Ofen übergeführt wird, um dort mit siliciumöxyd:ierenden Stoffen behandelt zu werden. Dabei kann es zweckmäßig sein, die siliciumoxydierenden Stoffe zuvor durch Erhitzung auf solche Temperatur zu bringen, daß die Reaktion unmittelbar eintritt. Auch kann die Oxydation des Siliciums so vorgenommen werden, daß auf gewöhnliche Weise dargestellte Siliciummanganlegierung in , fester Form mit den siliciumoxydierenden und siliciumoxydbildenden Stoffen innig vermengt wird, worauf die Mischung. auf passenden Wärmegrad erhitzt wird. ' Schließlich ist zu bemerken, daß ein Bessemern von geschmolzenem Siliciummangan im Konverter mit basischer, neutraler oder saurer Ausfütterung nötigenfalls unter Zusatz von gebranntem Kalk, wobei die Qxydation ganz oder in der .Hauptsache durch freien Sauerstoff geschieht, der in Form von Gebläseluft zugeführt wird, unbedingt eine kohlenstoffarme - Manganlegierung als Endprodukt ergibt. Der letzterwähnte Prozeß gewährt den Vorteil, daß für die Durchführung der Oxydation keine besondere Wärme zugeleitet zu werden braucht, wovon -man, sich. durch eine einfache Berechnung überzeugen kann. In der Tat zeigt eine Berechnung über die thermischen Verhältnisse bei einem solchen Dessemerprozeß, daß eine ganz unnötige Wärmeerzeugung mit möglicher darauffolgender Temperatursteigerung stattfindet, sofern man sich darauf beschränkt, dem Prozeß nur die passende Menge gebrannten Kalkes zuzuführen. Um eine solche mögliche Verschwendung zu vermeiden, kann man dem Prozeß zugleich mit dem Kalk @ passende Mengen Manganoxyde zuführen, welche dann von dem im Metall enthaltenen Silicium teilweise-reduziert werden, wobei die Manganreduzierung an und für sich mit Wärmeabsorption verbunden ist.
  • Die nach der vorliegenden Erfindung dargestellte silicium- und kohlenstoffarme Manganlegierung dürfte, mit beispielsweise dem gewöhnlichen im Handel vorkommenden Ferromangan verglichen, besonders für die Eisenerzeugung von großer Bedeutung sein. Außer dem Vorteil, daß man bei Verwendung solcher Legierung, ebenso wie wenn man dem Stahl Ferromangan zuführt, den kohlenstoffgehalt nicht nennenswert zu erhöhen braucht, tritt hierzu noch besonders der weitere Vorteil, daß es möglichst vermieden wird, in den Stahl selber Kohlenoxyd hineinzubringen, welches sonst durch die Oxydation der mit dem Ferromangan eingebrachten Kohle entsteht,. was für Erzielung einer möglichst blasenfreien Ware von großer Bedeutung ist. Auch für die Herstellung von hochmanganhaltigem Stahl mit verhältnismäßig niedrigem Kohlenstoffgehalt eignet sich die betreffende Legierung außerordentlich.
  • Es ist klar, daß, wenn die Oxydation von Silicium in vorstehendl angegebener Weise genügend weit getrieben wird, anstatt einer kohlenstoff- und siliciumarmen Manganlegierung praktisch genommen siliciumfreies Mangan gewonnen werden kann, so daß der Prozeß auch ebenso gut zur Herstellung von Mangan wie zur Herstellung- von Manganlegierungen angewandt werden kann.
  • Man kann den Prozeß auch in solcher Weise ausführen, daß als Ausgangsmaterial Mangänoxyd' verwendet wird, welches unter zweckmäßigen Wärmegraden und Beschickungsverhältnissen auf solche Art mit Kohle reduziert wird, daß Mangansilicid, d. h. kohlenstoffarme Siliciummanganlegierung erhalten wird, worauf dieses Zwischenprodukt auf vorstehend angegebene Weise, ohne daß das- Material mit Kohle in Berührung kommen -darf, so oxydiert wird, daß man eine kohlenstöff- und siliciumarme Manganlegierung oder evtl. Mangan erhält.
  • Unter dem Ausdruck »Manganlegierung« ist in dieser Beschreibung und in den Patentansprüchen nicht nur eine Legierung von Mangan mit schweren Metallen zu verstehen, sondern auch. Verbindungen oder Lösungen von Mangan und Kohlenstoff, Silicium oder ähnlichen Stoffen wie Mangankarbid, Mangansilicid u. a., wie auch eine Lösung von diesen in Mangan oder anderem Metall.

Claims (5)

  1. PATENT-ANsPRÜCHL,: r. Verfahren; kohlenstoff- und siliciumarme Manganlegierungen oder Mangan herzustellen, dadurch gekennzeichnet, daß eine verhältnismäßig . siliciumreiche Manganlegierung in geschmolzenem Zustande der oxydierenden Wirkung von entwederfreiem Sauerstoff allein,' z. B. in Form von Luft oder gleichzeitig von freiem Sauerstoff, z. B. in Form, und von Stoffen, welche S-auerstoffmanganverbindungen enthalten, ausgesetzt wird.
  2. 2. Verfahren nach Patentanspruch i, dadurch gekennzeichnet, daß die als Ausgangsmaterial benutzte Siliciummanganlegierung mehr als iö Prozent Silicium enthält.
  3. 3. Verfahren nach Patentanspruch i und 2, dadurch gekennzeichnet, daß die Siliciumoxydation in Gegenwart von Stoffen stattfindet, welche imstande sind, Siliciumoxyd zu lösen oder damit Silikate zu bilden.
  4. 4. Verfahren nach Patentanspruch i bis 3, dadurch gekennzeichnet, daß während des- Beharrungszustandes des Prozesses keine Wärme von außen zugeführt wird.
  5. 5. Verfahren nach Patentanspruch i bis 4, dadurch gekennzeichnet, daß der als siliciumoxydierender Stoff verwendete freie Sauerstoff durch in geschmolzenem Zustande befindliche Siliciummanganlegierung, beispielsweise in einem Bessemerkonverter, geblasen wird.
DE1919327291D 1918-11-12 1919-10-28 Verfahren, kohlenstoff- und siliciumarme Manganlegierungen oder Mangan herzustellen Expired DE327291C (de)

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