DE3211329A1 - Bad zur galvanischen abscheidung von glaenzendem metallischem zinn oder legierungen des zinns - Google Patents

Bad zur galvanischen abscheidung von glaenzendem metallischem zinn oder legierungen des zinns

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DE3211329A1
DE3211329A1 DE19823211329 DE3211329A DE3211329A1 DE 3211329 A1 DE3211329 A1 DE 3211329A1 DE 19823211329 DE19823211329 DE 19823211329 DE 3211329 A DE3211329 A DE 3211329A DE 3211329 A1 DE3211329 A1 DE 3211329A1
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Linda Jean 07834 Denville N.J. Mayer
Robert Jose 07109 Belleville N.J. Teichmann
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Description

Die Erfindung bezieht sich auf die galvanische Abscheidung von Zinn sowie von Kupfer- und Rhodium-Legierungen des Zinns auf verschiedenen Substraten. Genauer gesagt bezieht sich die Erfindung auf die A'bscheidxmg glänzender metallischer Überzüge aus stabilen Bädern, in denen das Zinn in Form des Sn(Il)-sulfats oder -fluoroborats, d.h. Stanno-sulfab oder -fluoborat vorliegt.
Ea gibt eine ganze Anzahl von Patentschriften, die Bäder zxir galvanischen Abscheidung von Zinn oder Zinnlegierungen betreffen. Einige der mit Bezug auf die vorliegende Erfindung relevanten Patentschriften sind die US-PSen 3 730 853; 3 72*9 6h9 5 3 7&9 182,· 3 758 939; 3 850765* 3 875 029; 3 905 878; 3 929 7^91 3 951*- 573; 3 956 123; 3 977 9h9\ h 000 0^7; h 135 9915 rad h 118 289 sowie die GB-PSen 1 351 875 und 1 hO8 1*1-8.
Trotz dieser umfangreichen Literatur und den zahlreichen Badx<ii«aiiiiuon,sotzungen, die für industrielle Zwecke vorgeschlagen wovilon fiind, bo.stoht noch ein Bedarf an Bädern, aus denen sich glänzendes metallisches Zinn auf verschiedenen Substraten wirksam abscheiden läßt. Eine weitere wichtige Eigenschaft ist die Badstabilität; Bei den bekannten Bädern be&teht ciio Neigung, daß Zinnverbindungen vorzeitig ausfallen. Darüber hinaus Kalpjen die verschiedenartigen bekannten Badzusammen-MötiÄttngon, daß bei der Auswahl aller Badbos fcandteile nicht nur die Art des zu orha.i tonden Überzugs sondern auch ihr Einfluß auf dl ο Bach) tab;!. Uta I;, Nobenproduktbildung und dergleichen in Do (;rachI; gezogen worden muß.
Dor Erfindung liegt dio Aufgabe zuerundc, ο in galvanische« Bad zu schaffen, das die Abscheidung von glänzendem metallischem Zinn oder von Legierungen von Zinn mit Kupfer oder Rhodium auf den verschiedensten Substraten sicherstellt und eine bessere Stabilität besitzt als die bekannten zweiwertiges Zinn enthaltenden Bäder. Darüber hinaus soll ein Verfahren zur Abscheidung glänzender Überzüge aus Zinn oder Legierungen von Zinn mit Kupfer oder Rhodium mit diesem Bad angegeben werden.
Die Aufgabe wixxl durch das Bad nach Anspruch I und das Vex'-fal'iren nach Anspruch 22 gelöst. Besonders bevorzugte Ausführungsformen sind die Bäder nach den Ansprüchen 12 und 21; weitere vorteilhafte Merkmale der Erfindung sind in dun Unteransprüchon angegeben.
Es ist gefT.tn.den worden, daß durch die Venvendung bestimmter aromatischer Sulfonsäuren in Verbindung mit bestimmten anderen Additiven ein zweiwertige Zinnverbindungen enthaltendes galvanisches Bad mil: gegenüber dem bekannten Stand dor Tocluiik vi'i-bofiserton Eigenschaften erhalten' wird. Daa i'osu-Vtioi-oiulo .Bad führt nicht nur zur Abscheidung von glänzendem Zinn, sondern zeichnet sich eoich durch hervorragende Stabilität aus.
Die finder en Badbestandteile schließen ein: eine organische Säure, ein aromatisches Amin als Glanr;bildnoar und eine nicht-ion:i sehe oberflächenaktive Substanz. Voraugsweiso enthält das Bad auch noch einen, aliphatischen Aldehyd als Gleinzbildnor,
Nach einem weiteren Aspekt der Erfindung können Kupfer und IUiudIum mit dem Zinn aus dem Bad wirksam abgoschieden werden.
Die galvanischen Bädei* nach der Erfindung werden mit zweiwertigem Zinn in Form einer badlöslichen Verbindung hergestellt. Beispiele für solche Verbindvingen sind Stanno-sulfat, Stannofluoborat und Stanno-chlorid. Außerdem liegt freie anorganische tSäure in einer Menge vor, die ausreicht, das Bad leitend zu machon, den pH-Wort unter 2,0 zu halten und die Solubilität der Metallsalze aufrechtzuerhalten. Es ist so zu verstehen, daß die jeweils vorwendete besondere Säure dem Anion der zweiwertigen Zinnverbindung entspricht, z.B. Schwefelsäure, Flxioborßäure, Salzsäxire oder dergleichen.
Deis Glasbildner-Sys tem enthält ein oder mehrere aromatische Amine ; besonders bevorzugt wird die Kombination von einem odor mehreren Aminen und aliphatischen Aldeh.ydco.Die aromatischen Amine (Arylamine), die für die erfindungsgomäßen Bäder geeignet sind, schließen ein: o-Toluidin, p~Toluidin, m-Toluidin, Anilin ^md o--01i I orauiliu. Für d.Lo moiciton Zwecke wird die Verwendung von o«Chioranilin bevorzugt.
Coelgnebe aliphatisch«) Aldehyde sind solche, die 1 bis 'ι C-Atome enthalten; sie schließen z.B. ein: Formaldehyd, Acetaldehyd, L'ropionaldohyd, Butyraldehyd, Croton.aldehyd usw. In dieser ΈνΤindung ist der bovoraug-te Aldehyd Formo.ldelT.yd oder Formalin, das i. j; I; ο ine 3 7'/'IfV^ Fo riii; 11 < lehyd 1. ö sung.
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DIo nicht-ionischen oborf Xäelionaktivou SuIiü l;aii/.on wor-don. ;ia <1.-j.u Bädern zur Kornvei'foinigerunc den galvanischen Vbcvy.ugs ci.iii;osetzt. Sie können im Ilandol erhältliche Mate rial lon «oln v:i ο Nonyl-phonoxy-polyotliylcnoxid-othanol (.T,v;oil pal COiVJO und Tr L Um Q515); etlioxiliertes Alk α no I. amid (Ainidojc L^ und θ) ; Alkyl-jilu polyglycol-etherethylenoxld (Nowtronyx 67.'5) und dex^leichen.
Es ist gefunden worden, daß die nicht-ioiiiKcb.cn o'ljorfIfichcuuktiven Substanzen, die für die vorliegenden Zwecke besonders wirksam sind, die Polyoxyalkylenether sind, duren Alkylongruppe 2 hin C-Atome enthält. PolyoxyethyJ ene Hier mit IO bis ,'20 Mo 1 on. JOvkylonoxid pro Mol lipophiler Gruppen werden 'bevorzugt und schlicOon sol ehe oberflächenaktiven Substanzen wie Po I yoxry <; hUy lon- I aurylehlior (im Handel untor der J3o>'.oichming BrIj Il5~tiV) ein. ■
\!lo weiter oben schon angegeben, ist day wesentliche Merkmal dex· Erfindung die Verwendung einer aromatischen otilfoiasäure in Verbindung mit den vorstehend angegebenen BadbosOand teilen. Diese Sulfonsäuren halten die Stabilität des Bades aufrecht und geben dem Überzug Kusätjslichon Cllanfc und Kornverfoinoruug. Bevorzugte ciromatische Sulfonsäuron füi" dieGO Zwecke sind:
o-Krosu1-sulfonsäuro
iu-Kres öl- r, a If ons äur ο
Phono 1- s Ul. f ons äur e
Andure Sulfensäurederivate von Phenol und Krosoi, die ebenfalls vorwendet werden können, r; Ind «itra Beispiel:
.../1O
2, 6- Diine thy I -phono 1- sulfones äiire 2-Chi ox·-· 6-methyl·-phenol-sulf onsäurs 2,h~Dime thy1-pheno1-sulfonsäur e 2,h,6~Trimethyl-phenol-sulfonsäure m~TCresol-sulfonsäure
p-Krosol-sulf onsäure.
SuIfonsäuiOderivate von alpha-und beta-Naphthol können auch als aromatische Sulfonsäuren eingesetzt werden. Außerdem können die badlösuchen Salze aller vorgenannten Säuren, wie die AlkalimetallsalKe, anstelle oder zusätzlich zu den Säuren verwendet worden.
Bo i.m Forrauliei^en der galvanischen Bäder nach" der Erfindung wird die Ve:rbiiidung des zweiwertigen Zinns in einer Menge eingesetzt, die mindestens ausreicht, Zinn auf dem zu galvanisierenden Substrat abzuscheiden und die bis zu seiner Löslichkeitsgrenze (maximum solubility) in dem Bad reichen kann. Die anorganische Satire liegt in einer- Menge vor, die ausreicht, daß der pll~¥ort do« I3.'idfjs nicht übor 2,0 steigt. Das aromatische Ainin oder die ivoiiilj.j..aa(;lon von aroma bitJuhem Aiuin und allphabisehom Aldohyd I Ιο,·;!; in MfJiI1 1VOn vor, d:Lo lnindostonii au.si'eiclion, dom Ziimübor- KWQ Glanz zu vorloihen, während die oberflächenaktive Substanz im Bad in einer Menge anwesend ist, daß sie Kornverfoiriigerung bewirkt. Das aromatische Stxifonsäurederivat liogt in einer Menge vor, die ausreicht, die Stabilität des Bades aufrechtzuerhalten und den G.'b.ui/, dor Abscheidung ζιλ erhöhen.
.../1I
Noch genauor angegeben, liegen die Bes'i^uidtoilo dor wüQx'i-geii galvanischen Büdei' nach der Erfindung· innerhalb des· nachr.? fcohenrt eingegebenen Mengenbereiche in den Bädern vor:
Bestandteile Mengen (g/l)
_ typisch bevorzugt
I) Sn-(XI), als Sbunno-sulfat,
-fluoroborat odor -Chlorid 5~ 30 15 - 30
2) Schwofel-, Fluorobor- oder
Salzsäure IOO-23O i6u -I90
3) Aromatis dies Amin 0,3-13 0,5-1,5 k) Aliphatischer Aldehyd 0,5-11 O,9~5A
5) Nicht-ionische oberflächenaktive
Substanz 0,1-20 0,5-2,5
6) Aromatisches Sulfonsäurederivat 0,5-3,0 3 ~ 9
Der pH-Wert dos Bades geht nicht über 2,0 und liegt gewöhnlich unter etva 1; der Boreich von etwa 0 bis 0,5 ist typisch und der Bereich von etiva 0 bis 0,3 wird bevorzugt, Es werden Galvanisiertemperaturen und Stromdichten angewendet, die sich weder auf das Bad noch auf den zu erzeugenden Überzug ungünstig auswirken. Beispielsweise werden Temperaturen von etwa 10 bis '+0 C, vorzugsweise etwa 15 biy 250C angewandt. Typische St.roiudlchfcen bind solche,, die im Bereich von 1,08 bis Ί·3,θ6 A/dm , Vorzugsweise von etwa 2,7 bis 21,5 A/dm" liegen.
Die Substrate, die mit zufriedenstellendem Ergebnis in den orfin-Bädern mit Überzug vorsehen we.rden können, ,jchJ Loßen
.../12
el ι ο meisten metallischen Si-tbstrate ein, zum Beispiel Kupfer, Kupferlegierungen, Eisen, Stahl, Nickel, Nickellegierungen und doi'gleichen; ausgenommen ist Zink. Außei"dem können nicht-üie tallischo Substrate, die diurch Vorbehandlung ausreichend leitfähig gemacht worden .sind, in tion Bädern und nach dem Voi^ahrcn doi· Erfindung mi b Übei^uß vorfielien werden,
Ein weiterer Aspekt der Erfindung schließt die Entdeckung ein, daß Kupfer und Rhodium mit Zinn auf den Substraten, gemeinsam abgeschieden werden können, wenn, die vorstehend beschriebenen Bäder ohne zusätzliche Additive oder Komplexbildner venrendet './orden. Xm Gegensatz dazu werden Metalle wie Nickel, Elsen und Indium, tinter den gleichen Bedingungen nicht mit abgeschieden.
D.>r; IC up for odor das Rhodium wordoii dom Bad a.l.H badlü'sJ.icho Ver-I !.indungen zugouetz ü, vorzugsweise Verbindungen, deren Anion das g Leiche ist wie das der Sn-IT-Verbincluug. Die Mangen, in denen dioöo Verbindungen zugesetzt werden, reichen aus, daß bis zu (itwa 3 Gew, -/ί Kupfer oder Rhodium, mit Zinn legiert, i:ri Überzug vorllogon. .Solche Mengen im Ubei-zug. worden erhalten, wenn Kttpfer odor Rhud.i.uiu voimi Hoit;j>iei in Mengu.a von otvn U,^ bis h g/l, vcr-/.ugswoiao 0,2 biß 2 g/l im Bad vorliegen.
D.i.« Erfindung wird an den folgenden Boispio Lon, cllo besondere Λακfiihruiig.'ifo.rnu.ni darstellen, noch besser -vorstanden wovdnn.
J 3 ο. j.; ;j_>_i_jo_l. 1
l')s wuiTUi ο in galvanisches Had aus don nacliii teilenden J5cs band Io U.on hergestellt
B c s t and t e χle MSBSS
Sn-(Il)-, als Stannosulfat 22,5 g/l
Schwefelsäure 175 g/l
ο-Chloranilin 1,0 ml/l
Formalin IO ml/l
Polyoxyothylen-laurylether 1,0 g/l
o-Kresol-stüfonsüure 5»(5
liasser auf 1 1
Das resultierende stabile Bad wurde bei 20°C, 3,23 A/dm" unter FidmeJ ler Βα.α'οβΛίθ^υ.ηίϊ betrieben, um eine Kupferplatte %u plsittioren, Der so gebildete Zinnübex'^ug hatte ein sehr {jlänzondes Aussehen.
Es ist gefunden x/orden, daß es eine Nebenrealction zwischen Vnxi.i.-ildoUyd und dor Sulfo.ixsäuro gibt, die dio TJildun,"; luvrl d.us Aurjf allen eines Niederschlags aus dor Bad lösung vorursachea. Es ist jedoch weiter gefunden worden, daß, -wenn die ortho-Stellmig und in kleinerem Ausmaß, wenn, die mota-Stsllung der Phenol-suJ.fonsilure durch Methylgruppen blockiert sind, wie in o-KroHol-HUlfon« sauro, diese -unerväinschte Nebenreaktion und daher das Ausfallen verlangsamt -wird. Die anderen Bedingungen des Beispiels I können auch noch weiter optimiert werden (z.B„ Last am Werkstück, liad-
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^ und clei'ß-leichen) , um dieses Ausfallen zu minimi er en, wenn nicht tfaiiz zu eliminieren. Bei Verwendung der anderen Bestandteile des Bados nach Beispiel J wurde eine Anzahl aromatischer Sulfonsäuren getestet, um die Badstabilität fos.tKua tollen. Die Exvjebnisso waren folgende:
o-Krosol-sulfonsäure m-Kresol-sulf ons äure (33/olg) Phenol- tmlfonsäui-e (
Menge (ml/l) Stabilität Std. 2k 16 12
III
Es wurde ein galvanisches Bad aus folgenden Bestandteilen hergestellt:
Sn-H, als St anno sulfat SchwoTe1säure Kupfer, als Kupfersulfat
ο-Chloranilin Poly oxy ethyl on- liuiryl ether ο - Kr ο s ο 1 ~ s ul f ο η :■; äui
30 s/l
175 s/l 0,4 g/l
10 ml/l 0,4 ml/l 0,4 s/l 0,8 g/l
D.'i.'j ι.·(ΐ:!ΐι.Ι i..i (.· roiiili! liad wu.rdo hol oj.aiij:1 ijtx'.uiullolito voti 6, 1J ä/dm'" hc t.ri ο heu und ovtfrxh einen Üb or nuß- aus Ziitn-Kupfer-Logiorau;;, der 1,0'/> Kupfer enthielt. Der Überzug· war halbgltinzend.
..,/15
In dom Dad nach, Beispiel III vui^do das Kupfcx' durch Rhodium ersetzt; es wtirden 0,5 g/l Ithodltuusull'at eingesetzt. Das Bad vurdo bei 6,5 A/dm" betrieben und erzeugte einen s bai'lc glänzenden Überzug axis Zinn-iyiodiiun-Legierung mit einem VIeUaIb von 0,07/" Rhodium.
i/enn Nickel, Eisen odor Indium in das zvreiivorüigets Zinn enthaltende Dad nach der Erl'indung eingearbeitet wurden, acliieden sich diese Metalle nicht mit dem metallischen Zinn zusammen ab.
Beispiel V
TJm die Erlaöhung· der Stabilität durch die Verwendting einer aromatischen Sulfonsäure in den Zinn-Bädern nach der Erfindung zu düinonstx'ieren, TOrden folgende Bäder hergestellt:
Bad_A (v/l.
S bf.ii\tioi-3ulf at OO
HüJiivo.EOloü.ii.ro ■ 180
o-Kresol-sulfonaäure " 5>^
Vas s ez' Rost
Bad B £/l
31 anno v- alt ab 60
Sch tv« Fo !säure I 80
Man ir-, ο χ1 Rost
6 -
Ein elektrischer Druokluftertiouger mit Spi'inklorn wurde vor ν cn. Ji um LuJTt mit einer Shröiiii.m.'Vßceachwindii'ikeit von etwa k2% <!>.! pro Minute durch das J3ad in einem I 1-Gofäß hindurelizupumpeii.
Zeit Stnnni-Konzentration (^/.1)
0,3 0,5 .■
nach 5 Tagen 2,2 9,1
Ji.ich 10 Tauen 3,5 i 3, 6
JJoim Arbeiten im Industriebetrieb ist Luft normalerweise als eine Folii'O der Badbewegung vorhanden und wird ein ernstes Problem, well bei starker Bewegung wesentliche Mengen Luft eingeschlossen worden, die, in Abwesenheit der aromatischen StLl.foiisLi.uro, die Ii i Ί dung voii St.'uvnl-lKoiien voruz^saclion, was ein MaO iVir d:i.o Badvoj/ni-h I <i<>]i l.ornii,"; ((U.'gi'adatluii) Is b .
Die vorstehenden Doispiole dienen nur zur Vo .ran sch au J. iehuug dei" JCi'-f indun;.?; os kümion «elbstvers tändlich 'indox'tuigon nid Modifikationen vorgenoinmon werden, oh.no den Rahmen der Erfin^unc zu
.../17

Claims (1)

1. Ρ·- '> 1
PATHNTANWAI/I K
HAUCK, 8CI! Ml1TZ, GRAAI^i1Ki* WlCi I*M IiWJ1-IV) RlN O
HAMUt'RQ MÜNClM-ΓΛ * lJÜSt?"ftt.Ijlüm<- ** ***"
IWTKNTANWAl/IR · NUUISn SVAM. ΛΙ · 1M)(M I lAMHUHR DO
Hooker Chemicals ά Plastics Corp.
21 4·Ί1 Hoover Road
Warren, Mick. 48089
USA
Dipl.-PliyH. V/. SCHMITZ - I)ipl.-In|V. H. CJUAAI.KH Nmici· Wall 41 . M(JOO llnmbui-κ ao ΤοΙί'Γοιΐ + Ί>1ι·οο[ΐΙι·ι· (040) Hf! 07 55 'Velox 02UT(IU input d
Dipl.-Ιηκ. II. IIAUCK - Dipl.-In^· NV. WI1JIINIOH1I" MoznrlHtrnßu IiM · SOOO Mütifbfti 2 Telefon h T1-If1-O]IiCi- (OHO) HiU)UMO Toi«··« Orsatdfifitt pntmi <1
nr.-iiifj. w. nöitiNc;
K.-Wilholm-Uiiifi 41 · 40OO ηί'ιι,ΜοΙίΙοι-Γ ti Tc-lefon (O2 Jl) Γ57 Π0 Ü7
ZUSTEIXUNGSANSCMRIFT / PI-KAKH HRPI,Y TO:
25. März 1982
Bad zur galvanischen Abscheidung von glänzendem nie ball liscliem Zinn oder Le^ierun^on des Zinns
Ansprüche :
t. Bad zur galvanischen Abscheidung von metallischem Zinn oder Legierungen des Zinx).s mit Kupfer oder Rhodium, gekennzeichnet durch eine badlö"suche zweiwertige Zinnvorbindung in einer zur Abscheidung· von Zinn auf dem mit dem Überzug zu versehenden Si.iOstrat ausreichonrlen Moiiijo j ' eino anorganische Säure .in niuor Menge, die f.\ii.u.roicht, don pH-V/ort df»a Dnf'na auf einom 2,0 nicht überschreitenden Viert %u halten j οία aromatisches Aniin cd.a Glauabildner in einer zur Glanabi!d
Kut-opoiii» ϊ'/itnnt AltoriM\ve Znj^elusHC ü« Vorti't-tor li rj<?utn<-i>o lUUiV. ACJ tli.m.burg, Nr. OB/HU4OT (JJI.y. HOOTOOOO)
nchnn I'.-\to:itmiit
sV TIuuiliiu';; IiH-IIJ-!Ϊ00
ausreichenden Menge; eine nicht-ionische oberflächenaktive Subsbanz; und eine aromatische Sulfonsäure in einer Menge,·, die ausreicht, die Stabilität ..des Bades aufrechtzuerhalten und den Glanz des Überzugs zu erhöhen.
2. Bad nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß es zusätzlich einen aliphatischen Aldehyd als Glanzbildner in einer zur Glanzbildung ausreichenden Menge enthält.
3. Bad nach Anspruch 2, dadux^ch gekennzeichnet, daß die nichtionische oberflächenaktive Substanz ein Polyoxyalkylenether ist.
h. Bad nach Anspruch 3> dadurch gekennzeichnet, daß der Polyoxyalkylenether Polyoxyethylen-laurylether ist.
5. Bad nach Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet, daß das als Glamsbildner oingeöetzfce aroma bische Ainin o-Chl oranilin ist.
6. Bad nach Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet, daß der als Glanzbildner eingesetzte aliphatisch^ Aldehyd Formaldehyd ist.
7· Bad nach Ansi>ruch 2, dadtirch gekennzeichnet, daß die aromatische Sulfonsäure Kresol- oder Phenol-Sulfonsäure ist.
H. .Bad nach Anspruch 7> dadurch gekennzeichnet, daß die aromatische SuIf onHiLi ure o-Kresol-aulfonsäuro ist.
9- Dad nach Ληβχτπιοΐι 2, dadurch gekennzeichnet, daß dio zweiwertige Zinnverbindung Stannosulfat und die Säure Schwefelsäure ist.
10. Bad nach Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet, daß es auch ein legierendes Metall eius der Gruppe von Kupfer und Rhodium enthält.
11. Bad nach Anspruch 10, dadurch gekennzeichnet, daß das legie-rende Metall in Form seines Sulfates vorliegt.
12. Wäßriges Bad zur galvanischen Abscheidung eines glänzenden Zinnüberzugs auf Substraten, gekennzeichnet durch, dio nachstehenden Bestandteile in den angegebenen Mengen:
Bestandteil Menge ff,?
a) Stanno-sulfat oder -fluoroborat 5 bis 50
b) Schwefel- oder Fluoroborsäure 100 bis 250
c) Aromatisches Amin (Glanabi.ldner) 0,3 bis I5
d) Aliphaticeher Aldehyd (Glanzbildner) 0,5 bis 11 e).Polyoxyalkylenether 0,1 bis 20 f) ICresol- oder Phenol-sulfonsäure 0,5 bis 30
13. Bad nach Anspruch 12, dadurch (','elcoiuinoiclino b, daß es auch
einen legierenden Me tall-llos bandtoil aus der Gruppe von Kupfersulfat und Rhodiutnsulfab onthä.it.
1'|. Bad nach Anspruch 12, dadurch gekennzeichnet, daß der Bestandteil a) Stannosulfat ist.
15· Bad nach Anspruch 12, dadurch gekennzeichnet, daß der Bestandteil b) Schwefelsäure ist.
16. Bad nach Anspruch 12, dadurch gekennzeichnet, daß der Bestandteil c) o-Chloranilln und der Bestandteil b) Formaldehyd ist.
17· Bad nach Anspruch 12, dadurch gekennzeichnet, daß der Bestandteil e) ein Polyoxyalkylenether ist.
18. Bad nach Anspruch 17» dadurch gekennzeichnet, daß der Polyoxyalkylenether Polyoxyethylenether ist.
1.9. Bad nach Anspruch 12, dadurch gekennzeichnet, daß der Bestandteil f) eine Kresol-sulfonsäure ist.
20. Bad nach Anspruch 19» dadurch gekonnzeichnet, daß die Kresol-sulfonsäure o-Kresol-sulfonsätire ist.
21. Bad y,uv galvanischen Abscheidung von glänzenden jnet aiii sehen Zinnüberzügon auf Substraten, gekennzeichnet durch folgende B e stand bei1e:
a) St;mno;;ul..fafc 5 bis 50
b) Schwefelsäure . 100 IxLs 250
c) o-Chloranilin . 0,3 bis 15
d) Formalin 0,5 bis 11
e) Polyoxyethylen-laurylether 0,1 ba.s 20
f) eine Kresol-snlfonsäure 0,5 bis 30
22. Verfahren zur Abscheidung eines glänzenden metallischen Zinnüberzügs auf einem Substrat, dadurch gekennzeichnet, . daß das Substrat in einem Bad nach einem der Anspx'uclie I bis 21 In einer für die Abscheidung des Überzugs in der gewünschten Dicke ausreichenden Zeit galvanisiert wird.
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SE (1) SE8201736L (de)

Families Citing this family (19)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4405412A (en) * 1982-03-29 1983-09-20 Dart Industries Inc. Removal of copper contamination from tin plating baths
US4749626A (en) * 1985-08-05 1988-06-07 Olin Corporation Whisker resistant tin coatings and baths and methods for making such coatings
JPS62274087A (ja) * 1986-05-22 1987-11-28 Permelec Electrode Ltd 耐久性を有する電解用電極及びその製造方法
US5393573A (en) * 1991-07-16 1995-02-28 Microelectronics And Computer Technology Corporation Method of inhibiting tin whisker growth
US5385661A (en) * 1993-09-17 1995-01-31 International Business Machines Corporation Acid electrolyte solution and process for the electrodeposition of copper-rich alloys exploiting the phenomenon of underpotential deposition
US6508927B2 (en) * 1998-11-05 2003-01-21 C. Uyemura & Co., Ltd. Tin-copper alloy electroplating bath
US6251253B1 (en) 1999-03-19 2001-06-26 Technic, Inc. Metal alloy sulfate electroplating baths
US6562220B2 (en) 1999-03-19 2003-05-13 Technic, Inc. Metal alloy sulfate electroplating baths
EP1091023A3 (de) * 1999-10-08 2003-05-14 Shipley Company LLC Legierungszusammensetzung und Plattierungsverfahren
US20020166774A1 (en) * 1999-12-10 2002-11-14 Shipley Company, L.L.C. Alloy composition and plating method
JP2001181889A (ja) * 1999-12-22 2001-07-03 Nippon Macdermid Kk 光沢錫−銅合金電気めっき浴
GB0106131D0 (en) * 2001-03-13 2001-05-02 Macdermid Plc Electrolyte media for the deposition of tin alloys and methods for depositing tin alloys
US6860981B2 (en) * 2002-04-30 2005-03-01 Technic, Inc. Minimizing whisker growth in tin electrodeposits
WO2007008369A1 (en) * 2005-07-11 2007-01-18 Technic, Inc. Tin electrodeposits having properties or characteristics that minimize tin whisker growth
JP4632186B2 (ja) * 2007-08-01 2011-02-16 太陽化学工業株式会社 電子部品用錫電解めっき液、電子部品の錫電解めっき方法及び錫電解めっき電子部品
US20090120497A1 (en) * 2007-11-09 2009-05-14 Schetty Iii Robert A Method of metallizing solar cell conductors by electroplating with minimal attack on underlying materials of construction
US20090145764A1 (en) * 2007-12-11 2009-06-11 Enthone Inc. Composite coatings for whisker reduction
US8226807B2 (en) * 2007-12-11 2012-07-24 Enthone Inc. Composite coatings for whisker reduction
US10072347B2 (en) 2012-07-31 2018-09-11 The Boeing Company Systems and methods for tin antimony plating

Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE2152785A1 (de) * 1970-10-22 1972-05-04 Kenvert Int Corp Bad und Verfahren für die galvanische Abscheidung von Zinn, Blei oder Legierungen davon

Family Cites Families (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3616291A (en) * 1969-09-16 1971-10-26 Vulcan Materials Co Stannous solutions containing hydroxy carboxylic acid ions their preparation and their use in plating tin on conductive surfaces particularly on aluminum
US3905878A (en) * 1970-11-16 1975-09-16 Hyogo Prefectural Government Electrolyte for and method of bright electroplating of tin-lead alloy
US3730853A (en) * 1971-06-18 1973-05-01 Schloetter M Electroplating bath for depositing tin-lead alloy plates
US3749649A (en) * 1971-12-16 1973-07-31 M & T Chemicals Inc Bright tin-lead alloy plating
US3926749A (en) * 1971-12-20 1975-12-16 M & T Chemicals Inc Tin-lead alloy plating
SU445708A1 (ru) * 1972-11-04 1974-10-05 Предприятие П/Я А-7284 Электролит дл осаждени сплава олово-свинец
US3850765A (en) * 1973-05-21 1974-11-26 Oxy Metal Finishing Corp Bright solder plating
US4132610A (en) * 1976-05-18 1979-01-02 Hyogo Prefectural Government Method of bright electroplating of tin-lead alloy
US4135991A (en) * 1977-08-12 1979-01-23 R. O. Hull & Company, Inc. Bath and method for electroplating tin and/or lead

Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE2152785A1 (de) * 1970-10-22 1972-05-04 Kenvert Int Corp Bad und Verfahren für die galvanische Abscheidung von Zinn, Blei oder Legierungen davon

Also Published As

Publication number Publication date
SE8201736L (sv) 1982-10-03
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BR8201863A (pt) 1983-03-08
GB2096175A (en) 1982-10-13
ES511040A0 (es) 1983-05-01

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