DE3211329A1 - Bad zur galvanischen abscheidung von glaenzendem metallischem zinn oder legierungen des zinns - Google Patents
Bad zur galvanischen abscheidung von glaenzendem metallischem zinn oder legierungen des zinnsInfo
- Publication number
- DE3211329A1 DE3211329A1 DE19823211329 DE3211329A DE3211329A1 DE 3211329 A1 DE3211329 A1 DE 3211329A1 DE 19823211329 DE19823211329 DE 19823211329 DE 3211329 A DE3211329 A DE 3211329A DE 3211329 A1 DE3211329 A1 DE 3211329A1
- Authority
- DE
- Germany
- Prior art keywords
- tin
- bath
- bath according
- acid
- sulfonic acid
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Ceased
Links
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C25—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
- C25D—PROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
- C25D3/00—Electroplating: Baths therefor
- C25D3/02—Electroplating: Baths therefor from solutions
- C25D3/30—Electroplating: Baths therefor from solutions of tin
- C25D3/32—Electroplating: Baths therefor from solutions of tin characterised by the organic bath constituents used
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C25—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
- C25D—PROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
- C25D3/00—Electroplating: Baths therefor
- C25D3/02—Electroplating: Baths therefor from solutions
- C25D3/56—Electroplating: Baths therefor from solutions of alloys
- C25D3/60—Electroplating: Baths therefor from solutions of alloys containing more than 50% by weight of tin
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Electrochemistry (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Electroplating And Plating Baths Therefor (AREA)
Description
Die Erfindung bezieht sich auf die galvanische Abscheidung von
Zinn sowie von Kupfer- und Rhodium-Legierungen des Zinns auf verschiedenen Substraten. Genauer gesagt bezieht sich die
Erfindung auf die A'bscheidxmg glänzender metallischer Überzüge
aus stabilen Bädern, in denen das Zinn in Form des Sn(Il)-sulfats
oder -fluoroborats, d.h. Stanno-sulfab oder -fluoborat
vorliegt.
Ea gibt eine ganze Anzahl von Patentschriften, die Bäder zxir
galvanischen Abscheidung von Zinn oder Zinnlegierungen betreffen. Einige der mit Bezug auf die vorliegende Erfindung relevanten
Patentschriften sind die US-PSen 3 730 853; 3 72*9 6h9 5 3 7&9 182,·
3 758 939; 3 850765* 3 875 029; 3 905 878; 3 929 7^91 3 951*- 573;
3 956 123; 3 977 9h9\ h 000 0^7; h 135 9915 rad h 118 289 sowie
die GB-PSen 1 351 875 und 1 hO8 1*1-8.
Trotz dieser umfangreichen Literatur und den zahlreichen Badx<ii«aiiiiuon,sotzungen,
die für industrielle Zwecke vorgeschlagen
wovilon fiind, bo.stoht noch ein Bedarf an Bädern, aus denen
sich glänzendes metallisches Zinn auf verschiedenen Substraten wirksam abscheiden läßt. Eine weitere wichtige Eigenschaft
ist die Badstabilität; Bei den bekannten Bädern be&teht ciio Neigung, daß Zinnverbindungen vorzeitig ausfallen. Darüber
hinaus Kalpjen die verschiedenartigen bekannten Badzusammen-MötiÄttngon,
daß bei der Auswahl aller Badbos fcandteile nicht nur
die Art des zu orha.i tonden Überzugs sondern auch ihr Einfluß
auf dl ο Bach) tab;!. Uta I;, Nobenproduktbildung und dergleichen in
Do (;rachI; gezogen worden muß.
Dor Erfindung liegt dio Aufgabe zuerundc, ο in galvanische«
Bad zu schaffen, das die Abscheidung von glänzendem metallischem
Zinn oder von Legierungen von Zinn mit Kupfer oder Rhodium auf den verschiedensten Substraten sicherstellt und eine bessere
Stabilität besitzt als die bekannten zweiwertiges Zinn enthaltenden
Bäder. Darüber hinaus soll ein Verfahren zur Abscheidung glänzender Überzüge aus Zinn oder Legierungen von Zinn mit
Kupfer oder Rhodium mit diesem Bad angegeben werden.
Die Aufgabe wixxl durch das Bad nach Anspruch I und das Vex'-fal'iren
nach Anspruch 22 gelöst. Besonders bevorzugte Ausführungsformen sind die Bäder nach den Ansprüchen 12 und 21;
weitere vorteilhafte Merkmale der Erfindung sind in dun Unteransprüchon
angegeben.
Es ist gefT.tn.den worden, daß durch die Venvendung bestimmter
aromatischer Sulfonsäuren in Verbindung mit bestimmten anderen Additiven ein zweiwertige Zinnverbindungen enthaltendes galvanisches
Bad mil: gegenüber dem bekannten Stand dor Tocluiik
vi'i-bofiserton Eigenschaften erhalten' wird. Daa i'osu-Vtioi-oiulo
.Bad führt nicht nur zur Abscheidung von glänzendem Zinn,
sondern zeichnet sich eoich durch hervorragende Stabilität aus.
Die finder en Badbestandteile schließen ein: eine organische Säure,
ein aromatisches Amin als Glanr;bildnoar und eine nicht-ion:i sehe
oberflächenaktive Substanz. Voraugsweiso enthält das Bad auch
noch einen, aliphatischen Aldehyd als Gleinzbildnor,
Nach einem weiteren Aspekt der Erfindung können Kupfer und
IUiudIum mit dem Zinn aus dem Bad wirksam abgoschieden werden.
Die galvanischen Bädei* nach der Erfindung werden mit zweiwertigem
Zinn in Form einer badlöslichen Verbindung hergestellt. Beispiele für solche Verbindvingen sind Stanno-sulfat, Stannofluoborat
und Stanno-chlorid. Außerdem liegt freie anorganische
tSäure in einer Menge vor, die ausreicht, das Bad leitend zu machon, den pH-Wort unter 2,0 zu halten und die Solubilität
der Metallsalze aufrechtzuerhalten. Es ist so zu verstehen,
daß die jeweils vorwendete besondere Säure dem Anion der zweiwertigen
Zinnverbindung entspricht, z.B. Schwefelsäure, Flxioborßäure,
Salzsäxire oder dergleichen.
Deis Glasbildner-Sys tem enthält ein oder mehrere aromatische Amine ;
besonders bevorzugt wird die Kombination von einem odor mehreren
Aminen und aliphatischen Aldeh.ydco.Die aromatischen Amine (Arylamine),
die für die erfindungsgomäßen Bäder geeignet sind, schließen ein: o-Toluidin, p~Toluidin, m-Toluidin, Anilin ^md
o--01i I orauiliu. Für d.Lo moiciton Zwecke wird die Verwendung von
o«Chioranilin bevorzugt.
Coelgnebe aliphatisch«) Aldehyde sind solche, die 1 bis 'ι C-Atome
enthalten; sie schließen z.B. ein: Formaldehyd, Acetaldehyd,
L'ropionaldohyd, Butyraldehyd, Croton.aldehyd usw. In dieser ΈνΤindung
ist der bovoraug-te Aldehyd Formo.ldelT.yd oder Formalin, das
i. j; I; ο ine 3 7'/'IfV^ Fo riii; 11 <
lehyd 1. ö sung.
3211323
DIo nicht-ionischen oborf Xäelionaktivou SuIiü l;aii/.on wor-don. ;ia
<1.-j.u Bädern zur Kornvei'foinigerunc den galvanischen Vbcvy.ugs ci.iii;osetzt.
Sie können im Ilandol erhältliche Mate rial lon «oln v:i ο
Nonyl-phonoxy-polyotliylcnoxid-othanol (.T,v;oil pal COiVJO und Tr L Um
Q515); etlioxiliertes Alk α no I. amid (Ainidojc L^ und θ) ; Alkyl-jilu
polyglycol-etherethylenoxld (Nowtronyx 67.'5) und dex^leichen.
Es ist gefunden worden, daß die nicht-ioiiiKcb.cn o'ljorfIfichcuuktiven
Substanzen, die für die vorliegenden Zwecke besonders wirksam sind, die Polyoxyalkylenether sind, duren Alkylongruppe 2 hin
C-Atome enthält. PolyoxyethyJ ene Hier mit IO bis ,'20 Mo 1 on. JOvkylonoxid
pro Mol lipophiler Gruppen werden 'bevorzugt und schlicOon
sol ehe oberflächenaktiven Substanzen wie Po I yoxry <; hUy lon- I aurylehlior
(im Handel untor der J3o>'.oichming BrIj Il5~tiV) ein. ■
\!lo weiter oben schon angegeben, ist day wesentliche Merkmal
dex· Erfindung die Verwendung einer aromatischen otilfoiasäure in
Verbindung mit den vorstehend angegebenen BadbosOand teilen.
Diese Sulfonsäuren halten die Stabilität des Bades aufrecht und geben dem Überzug Kusätjslichon Cllanfc und Kornverfoinoruug. Bevorzugte
ciromatische Sulfonsäuron füi" dieGO Zwecke sind:
o-Krosu1-sulfonsäuro
iu-Kres öl- r, a If ons äur ο
Phono 1- s Ul. f ons äur e
iu-Kres öl- r, a If ons äur ο
Phono 1- s Ul. f ons äur e
Andure Sulfensäurederivate von Phenol und Krosoi, die ebenfalls
vorwendet werden können, r; Ind «itra Beispiel:
.../1O
2, 6- Diine thy I -phono 1- sulfones äiire
2-Chi ox·-· 6-methyl·-phenol-sulf onsäurs
2,h~Dime thy1-pheno1-sulfonsäur e
2,h,6~Trimethyl-phenol-sulfonsäure m~TCresol-sulfonsäure
p-Krosol-sulf onsäure.
SuIfonsäuiOderivate von alpha-und beta-Naphthol können auch als
aromatische Sulfonsäuren eingesetzt werden. Außerdem können die badlösuchen Salze aller vorgenannten Säuren, wie die AlkalimetallsalKe,
anstelle oder zusätzlich zu den Säuren verwendet worden.
Bo i.m Forrauliei^en der galvanischen Bäder nach" der Erfindung wird
die Ve:rbiiidung des zweiwertigen Zinns in einer Menge eingesetzt,
die mindestens ausreicht, Zinn auf dem zu galvanisierenden Substrat abzuscheiden und die bis zu seiner Löslichkeitsgrenze
(maximum solubility) in dem Bad reichen kann. Die anorganische Satire liegt in einer- Menge vor, die ausreicht, daß der pll~¥ort
do« I3.'idfjs nicht übor 2,0 steigt. Das aromatische Ainin oder die
ivoiiilj.j..aa(;lon von aroma bitJuhem Aiuin und allphabisehom Aldohyd
I Ιο,·;!; in MfJiI1 1VOn vor, d:Lo lnindostonii au.si'eiclion, dom Ziimübor-
KWQ Glanz zu vorloihen, während die oberflächenaktive Substanz
im Bad in einer Menge anwesend ist, daß sie Kornverfoiriigerung
bewirkt. Das aromatische Stxifonsäurederivat liogt in einer Menge
vor, die ausreicht, die Stabilität des Bades aufrechtzuerhalten und den G.'b.ui/, dor Abscheidung ζιλ erhöhen.
.../1I
Noch genauor angegeben, liegen die Bes'i^uidtoilo dor wüQx'i-geii
galvanischen Büdei' nach der Erfindung· innerhalb des· nachr.? fcohenrt
eingegebenen Mengenbereiche in den Bädern vor:
Bestandteile Mengen (g/l)
_ typisch bevorzugt
I) Sn-(XI), als Sbunno-sulfat,
-fluoroborat odor -Chlorid 5~ 30 15 - 30
2) Schwofel-, Fluorobor- oder
Salzsäure IOO-23O i6u -I90
3) Aromatis dies Amin 0,3-13 0,5-1,5
k) Aliphatischer Aldehyd 0,5-11 O,9~5A
5) Nicht-ionische oberflächenaktive
Substanz 0,1-20 0,5-2,5
6) Aromatisches Sulfonsäurederivat 0,5-3,0 3 ~ 9
Der pH-Wert dos Bades geht nicht über 2,0 und liegt gewöhnlich
unter etva 1; der Boreich von etwa 0 bis 0,5 ist typisch und
der Bereich von etiva 0 bis 0,3 wird bevorzugt, Es werden Galvanisiertemperaturen
und Stromdichten angewendet, die sich weder auf das Bad noch auf den zu erzeugenden Überzug ungünstig auswirken.
Beispielsweise werden Temperaturen von etwa 10 bis '+0 C,
vorzugsweise etwa 15 biy 250C angewandt. Typische St.roiudlchfcen
bind solche,, die im Bereich von 1,08 bis Ί·3,θ6 A/dm , Vorzugsweise
von etwa 2,7 bis 21,5 A/dm" liegen.
Die Substrate, die mit zufriedenstellendem Ergebnis in den orfin-Bädern
mit Überzug vorsehen we.rden können, ,jchJ Loßen
.../12
el ι ο meisten metallischen Si-tbstrate ein, zum Beispiel Kupfer,
Kupferlegierungen, Eisen, Stahl, Nickel, Nickellegierungen und
doi'gleichen; ausgenommen ist Zink. Außei"dem können nicht-üie tallischo
Substrate, die diurch Vorbehandlung ausreichend leitfähig gemacht
worden .sind, in tion Bädern und nach dem Voi^ahrcn doi· Erfindung
mi b Übei^uß vorfielien werden,
Ein weiterer Aspekt der Erfindung schließt die Entdeckung ein,
daß Kupfer und Rhodium mit Zinn auf den Substraten, gemeinsam abgeschieden
werden können, wenn, die vorstehend beschriebenen Bäder ohne zusätzliche Additive oder Komplexbildner venrendet './orden.
Xm Gegensatz dazu werden Metalle wie Nickel, Elsen und Indium,
tinter den gleichen Bedingungen nicht mit abgeschieden.
D.>r; IC up for odor das Rhodium wordoii dom Bad a.l.H badlü'sJ.icho Ver-I
!.indungen zugouetz ü, vorzugsweise Verbindungen, deren Anion das
g Leiche ist wie das der Sn-IT-Verbincluug. Die Mangen, in denen
dioöo Verbindungen zugesetzt werden, reichen aus, daß bis zu
(itwa 3 Gew, -/ί Kupfer oder Rhodium, mit Zinn legiert, i:ri Überzug
vorllogon. .Solche Mengen im Ubei-zug. worden erhalten, wenn Kttpfer
odor Rhud.i.uiu voimi Hoit;j>iei in Mengu.a von otvn U,^ bis h g/l, vcr-/.ugswoiao
0,2 biß 2 g/l im Bad vorliegen.
D.i.« Erfindung wird an den folgenden Boispio Lon, cllo besondere
Λακfiihruiig.'ifo.rnu.ni darstellen, noch besser -vorstanden wovdnn.
J 3 ο. j.; ;j_>_i_jo_l. 1
l')s wuiTUi ο in galvanisches Had aus don nacliii teilenden J5cs band Io U.on
hergestellt
B c s t and t e χle MSBSS
Sn-(Il)-, als Stannosulfat 22,5 g/l
Schwefelsäure 175 g/l
ο-Chloranilin 1,0 ml/l
Formalin IO ml/l
Polyoxyothylen-laurylether 1,0 g/l
o-Kresol-stüfonsüure 5»(5
liasser auf 1 1
Das resultierende stabile Bad wurde bei 20°C, 3,23 A/dm" unter
FidmeJ ler Βα.α'οβΛίθ^υ.ηίϊ betrieben, um eine Kupferplatte %u plsittioren,
Der so gebildete Zinnübex'^ug hatte ein sehr {jlänzondes Aussehen.
Es ist gefunden x/orden, daß es eine Nebenrealction zwischen
Vnxi.i.-ildoUyd und dor Sulfo.ixsäuro gibt, die dio TJildun,"; luvrl d.us
Aurjf allen eines Niederschlags aus dor Bad lösung vorursachea. Es
ist jedoch weiter gefunden worden, daß, -wenn die ortho-Stellmig
und in kleinerem Ausmaß, wenn, die mota-Stsllung der Phenol-suJ.fonsilure
durch Methylgruppen blockiert sind, wie in o-KroHol-HUlfon«
sauro, diese -unerväinschte Nebenreaktion und daher das Ausfallen
verlangsamt -wird. Die anderen Bedingungen des Beispiels I können auch noch weiter optimiert werden (z.B„ Last am Werkstück, liad-
3211323
^ und clei'ß-leichen) , um dieses Ausfallen zu minimi er en,
wenn nicht tfaiiz zu eliminieren. Bei Verwendung der anderen
Bestandteile des Bados nach Beispiel J wurde eine Anzahl aromatischer
Sulfonsäuren getestet, um die Badstabilität fos.tKua tollen.
Die Exvjebnisso waren folgende:
o-Krosol-sulfonsäure
m-Kresol-sulf ons äure (33/olg)
Phenol- tmlfonsäui-e (
Menge (ml/l) Stabilität Std.
2k 16 12
III
Es wurde ein galvanisches Bad aus folgenden Bestandteilen hergestellt:
Sn-H, als St anno sulfat
SchwoTe1säure
Kupfer, als Kupfersulfat
ο-Chloranilin Poly oxy ethyl on- liuiryl ether
ο - Kr ο s ο 1 ~ s ul f ο η :■; äui
30 s/l
175 s/l 0,4 g/l
10 ml/l 0,4 ml/l 0,4 s/l
0,8 g/l
D.'i.'j ι.·(ΐ:!ΐι.Ι i..i (.· roiiili! liad wu.rdo hol oj.aiij:1 ijtx'.uiullolito voti 6, 1J ä/dm'"
hc t.ri ο heu und ovtfrxh einen Üb or nuß- aus Ziitn-Kupfer-Logiorau;;, der
1,0'/> Kupfer enthielt. Der Überzug· war halbgltinzend.
..,/15
In dom Dad nach, Beispiel III vui^do das Kupfcx' durch Rhodium
ersetzt; es wtirden 0,5 g/l Ithodltuusull'at eingesetzt. Das Bad
vurdo bei 6,5 A/dm" betrieben und erzeugte einen s bai'lc glänzenden
Überzug axis Zinn-iyiodiiun-Legierung mit einem VIeUaIb von 0,07/"
Rhodium.
i/enn Nickel, Eisen odor Indium in das zvreiivorüigets Zinn enthaltende
Dad nach der Erl'indung eingearbeitet wurden, acliieden
sich diese Metalle nicht mit dem metallischen Zinn zusammen ab.
TJm die Erlaöhung· der Stabilität durch die Verwendting einer aromatischen
Sulfonsäure in den Zinn-Bädern nach der Erfindung zu düinonstx'ieren, TOrden folgende Bäder hergestellt:
Bad_A (v/l.
S bf.ii\tioi-3ulf at OO
HüJiivo.EOloü.ii.ro ■ 180
o-Kresol-sulfonaäure " 5>^
Vas s ez' Rost
Bad B £/l
31 anno v- alt ab 60
Sch tv« Fo !säure I 80
Man ir-, ο χ1 Rost
6 -
Ein elektrischer Druokluftertiouger mit Spi'inklorn wurde vor ν cn. Ji
um LuJTt mit einer Shröiiii.m.'Vßceachwindii'ikeit von etwa k2% <!>.! pro
Minute durch das J3ad in einem I 1-Gofäß hindurelizupumpeii.
Zeit Stnnni-Konzentration (^/.1)
0,3 0,5 .■
nach 5 Tagen 2,2 9,1
Ji.ich 10 Tauen 3,5 i 3, 6
JJoim Arbeiten im Industriebetrieb ist Luft normalerweise als
eine Folii'O der Badbewegung vorhanden und wird ein ernstes Problem,
well bei starker Bewegung wesentliche Mengen Luft eingeschlossen
worden, die, in Abwesenheit der aromatischen StLl.foiisLi.uro, die
Ii i Ί dung voii St.'uvnl-lKoiien voruz^saclion, was ein MaO iVir d:i.o Badvoj/ni-h
I <i<>]i l.ornii,"; ((U.'gi'adatluii) Is b .
Die vorstehenden Doispiole dienen nur zur Vo .ran sch au J. iehuug dei"
JCi'-f indun;.?; os kümion «elbstvers tändlich 'indox'tuigon nid Modifikationen
vorgenoinmon werden, oh.no den Rahmen der Erfin^unc zu
.../17
Claims (1)
1. Ρ·- '>
1
PATHNTANWAI/I K
HAUCK, 8CI! Ml1TZ, GRAAI^i1Ki* WlCi I*M IiWJ1-IV) RlN O
HAMUt'RQ MÜNClM-ΓΛ * lJÜSt?"ftt.Ijlüm<- ** ***"
IWTKNTANWAl/IR · NUUISn SVAM. ΛΙ · 1M)(M I lAMHUHR DO
Hooker Chemicals ά Plastics Corp.
21 4·Ί1 Hoover Road
Warren, Mick. 48089
USA
USA
Dipl.-PliyH. V/. SCHMITZ - I)ipl.-In|V. H. CJUAAI.KH
Nmici· Wall 41 . M(JOO llnmbui-κ ao
ΤοΙί'Γοιΐ + Ί>1ι·οο[ΐΙι·ι· (040) Hf! 07 55
'Velox 02UT(IU input d
Dipl.-Ιηκ. II. IIAUCK - Dipl.-In^· NV. WI1JIINIOH1I"
MoznrlHtrnßu IiM · SOOO Mütifbfti 2
Telefon h T1-If1-O]IiCi- (OHO) HiU)UMO
Toi«··« Orsatdfifitt pntmi <1
nr.-iiifj. w. nöitiNc;
K.-Wilholm-Uiiifi 41 · 40OO ηί'ιι,ΜοΙίΙοι-Γ ti
Tc-lefon (O2 Jl) Γ57 Π0 Ü7
ZUSTEIXUNGSANSCMRIFT / PI-KAKH HRPI,Y TO:
25. März 1982
Bad zur galvanischen Abscheidung von
glänzendem nie ball liscliem Zinn oder
Le^ierun^on des Zinns
Ansprüche :
t. Bad zur galvanischen Abscheidung von metallischem Zinn oder
Legierungen des Zinx).s mit Kupfer oder Rhodium, gekennzeichnet
durch eine badlö"suche zweiwertige Zinnvorbindung in einer
zur Abscheidung· von Zinn auf dem mit dem Überzug zu versehenden
Si.iOstrat ausreichonrlen Moiiijo j ' eino anorganische
Säure .in niuor Menge, die f.\ii.u.roicht, don pH-V/ort df»a Dnf'na
auf einom 2,0 nicht überschreitenden Viert %u halten j οία
aromatisches Aniin cd.a Glauabildner in einer zur Glanabi!d
Kut-opoiii» ϊ'/itnnt AltoriM\ve Znj^elusHC ü« Vorti't-tor li
rj<?utn<-i>o lUUiV. ACJ tli.m.burg, Nr. OB/HU4OT (JJI.y. HOOTOOOO)
nchnn I'.-\to:itmiit
sV TIuuiliiu';; IiH-IIJ-!Ϊ00
ausreichenden Menge; eine nicht-ionische oberflächenaktive
Subsbanz; und eine aromatische Sulfonsäure in einer Menge,·,
die ausreicht, die Stabilität ..des Bades aufrechtzuerhalten
und den Glanz des Überzugs zu erhöhen.
2. Bad nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß es zusätzlich
einen aliphatischen Aldehyd als Glanzbildner in einer zur Glanzbildung ausreichenden Menge enthält.
3. Bad nach Anspruch 2, dadux^ch gekennzeichnet, daß die nichtionische
oberflächenaktive Substanz ein Polyoxyalkylenether ist.
h. Bad nach Anspruch 3> dadurch gekennzeichnet, daß der Polyoxyalkylenether
Polyoxyethylen-laurylether ist.
5. Bad nach Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet, daß das als
Glamsbildner oingeöetzfce aroma bische Ainin o-Chl oranilin ist.
6. Bad nach Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet, daß der als
Glanzbildner eingesetzte aliphatisch^ Aldehyd Formaldehyd ist.
7· Bad nach Ansi>ruch 2, dadtirch gekennzeichnet, daß die aromatische
Sulfonsäure Kresol- oder Phenol-Sulfonsäure ist.
H. .Bad nach Anspruch 7>
dadurch gekennzeichnet, daß die aromatische
SuIf onHiLi ure o-Kresol-aulfonsäuro ist.
9- Dad nach Ληβχτπιοΐι 2, dadurch gekennzeichnet, daß dio zweiwertige
Zinnverbindung Stannosulfat und die Säure Schwefelsäure ist.
10. Bad nach Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet, daß es auch
ein legierendes Metall eius der Gruppe von Kupfer und Rhodium
enthält.
11. Bad nach Anspruch 10, dadurch gekennzeichnet, daß das legie-rende
Metall in Form seines Sulfates vorliegt.
12. Wäßriges Bad zur galvanischen Abscheidung eines glänzenden Zinnüberzugs auf Substraten, gekennzeichnet durch, dio nachstehenden
Bestandteile in den angegebenen Mengen:
Bestandteil Menge ff,?
a) Stanno-sulfat oder -fluoroborat 5 bis 50
b) Schwefel- oder Fluoroborsäure 100 bis 250
c) Aromatisches Amin (Glanabi.ldner) 0,3 bis I5
d) Aliphaticeher Aldehyd (Glanzbildner) 0,5 bis 11
e).Polyoxyalkylenether 0,1 bis 20 f) ICresol- oder Phenol-sulfonsäure 0,5 bis 30
13. Bad nach Anspruch 12, dadurch (','elcoiuinoiclino b, daß es auch
einen legierenden Me tall-llos bandtoil aus der Gruppe von
Kupfersulfat und Rhodiutnsulfab onthä.it.
1'|. Bad nach Anspruch 12, dadurch gekennzeichnet, daß der
Bestandteil a) Stannosulfat ist.
15· Bad nach Anspruch 12, dadurch gekennzeichnet, daß der Bestandteil
b) Schwefelsäure ist.
16. Bad nach Anspruch 12, dadurch gekennzeichnet, daß der Bestandteil
c) o-Chloranilln und der Bestandteil b) Formaldehyd
ist.
17· Bad nach Anspruch 12, dadurch gekennzeichnet, daß der Bestandteil
e) ein Polyoxyalkylenether ist.
18. Bad nach Anspruch 17» dadurch gekennzeichnet, daß der Polyoxyalkylenether
Polyoxyethylenether ist.
1.9. Bad nach Anspruch 12, dadurch gekennzeichnet, daß der Bestandteil
f) eine Kresol-sulfonsäure ist.
20. Bad nach Anspruch 19» dadurch gekonnzeichnet, daß die
Kresol-sulfonsäure o-Kresol-sulfonsätire ist.
21. Bad y,uv galvanischen Abscheidung von glänzenden jnet aiii sehen
Zinnüberzügon auf Substraten, gekennzeichnet durch folgende
B e stand bei1e:
a) St;mno;;ul..fafc 5 bis 50
b) Schwefelsäure . 100 IxLs 250
c) o-Chloranilin . 0,3 bis 15
d) Formalin 0,5 bis 11
e) Polyoxyethylen-laurylether 0,1 ba.s 20
f) eine Kresol-snlfonsäure 0,5 bis 30
22. Verfahren zur Abscheidung eines glänzenden metallischen
Zinnüberzügs auf einem Substrat, dadurch gekennzeichnet,
. daß das Substrat in einem Bad nach einem der Anspx'uclie I
bis 21 In einer für die Abscheidung des Überzugs in der
gewünschten Dicke ausreichenden Zeit galvanisiert wird.
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US06/250,373 US4347107A (en) | 1981-04-02 | 1981-04-02 | Electroplating tin and tin alloys and baths therefor |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE3211329A1 true DE3211329A1 (de) | 1982-10-14 |
Family
ID=22947464
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE19823211329 Ceased DE3211329A1 (de) | 1981-04-02 | 1982-03-27 | Bad zur galvanischen abscheidung von glaenzendem metallischem zinn oder legierungen des zinns |
Country Status (13)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US4347107A (de) |
JP (1) | JPS57177987A (de) |
BE (1) | BE892731A (de) |
BR (1) | BR8201863A (de) |
CA (1) | CA1184872A (de) |
DE (1) | DE3211329A1 (de) |
ES (1) | ES511040A0 (de) |
FR (1) | FR2503192A1 (de) |
GB (1) | GB2096175B (de) |
HK (1) | HK67786A (de) |
IT (1) | IT8248133A0 (de) |
NL (1) | NL8201278A (de) |
SE (1) | SE8201736L (de) |
Families Citing this family (19)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4405412A (en) * | 1982-03-29 | 1983-09-20 | Dart Industries Inc. | Removal of copper contamination from tin plating baths |
US4749626A (en) * | 1985-08-05 | 1988-06-07 | Olin Corporation | Whisker resistant tin coatings and baths and methods for making such coatings |
JPS62274087A (ja) * | 1986-05-22 | 1987-11-28 | Permelec Electrode Ltd | 耐久性を有する電解用電極及びその製造方法 |
US5393573A (en) * | 1991-07-16 | 1995-02-28 | Microelectronics And Computer Technology Corporation | Method of inhibiting tin whisker growth |
US5385661A (en) * | 1993-09-17 | 1995-01-31 | International Business Machines Corporation | Acid electrolyte solution and process for the electrodeposition of copper-rich alloys exploiting the phenomenon of underpotential deposition |
US6508927B2 (en) * | 1998-11-05 | 2003-01-21 | C. Uyemura & Co., Ltd. | Tin-copper alloy electroplating bath |
US6251253B1 (en) | 1999-03-19 | 2001-06-26 | Technic, Inc. | Metal alloy sulfate electroplating baths |
US6562220B2 (en) | 1999-03-19 | 2003-05-13 | Technic, Inc. | Metal alloy sulfate electroplating baths |
EP1091023A3 (de) * | 1999-10-08 | 2003-05-14 | Shipley Company LLC | Legierungszusammensetzung und Plattierungsverfahren |
US20020166774A1 (en) * | 1999-12-10 | 2002-11-14 | Shipley Company, L.L.C. | Alloy composition and plating method |
JP2001181889A (ja) * | 1999-12-22 | 2001-07-03 | Nippon Macdermid Kk | 光沢錫−銅合金電気めっき浴 |
GB0106131D0 (en) * | 2001-03-13 | 2001-05-02 | Macdermid Plc | Electrolyte media for the deposition of tin alloys and methods for depositing tin alloys |
US6860981B2 (en) * | 2002-04-30 | 2005-03-01 | Technic, Inc. | Minimizing whisker growth in tin electrodeposits |
WO2007008369A1 (en) * | 2005-07-11 | 2007-01-18 | Technic, Inc. | Tin electrodeposits having properties or characteristics that minimize tin whisker growth |
JP4632186B2 (ja) * | 2007-08-01 | 2011-02-16 | 太陽化学工業株式会社 | 電子部品用錫電解めっき液、電子部品の錫電解めっき方法及び錫電解めっき電子部品 |
US20090120497A1 (en) * | 2007-11-09 | 2009-05-14 | Schetty Iii Robert A | Method of metallizing solar cell conductors by electroplating with minimal attack on underlying materials of construction |
US20090145764A1 (en) * | 2007-12-11 | 2009-06-11 | Enthone Inc. | Composite coatings for whisker reduction |
US8226807B2 (en) * | 2007-12-11 | 2012-07-24 | Enthone Inc. | Composite coatings for whisker reduction |
US10072347B2 (en) | 2012-07-31 | 2018-09-11 | The Boeing Company | Systems and methods for tin antimony plating |
Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE2152785A1 (de) * | 1970-10-22 | 1972-05-04 | Kenvert Int Corp | Bad und Verfahren für die galvanische Abscheidung von Zinn, Blei oder Legierungen davon |
Family Cites Families (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US3616291A (en) * | 1969-09-16 | 1971-10-26 | Vulcan Materials Co | Stannous solutions containing hydroxy carboxylic acid ions their preparation and their use in plating tin on conductive surfaces particularly on aluminum |
US3905878A (en) * | 1970-11-16 | 1975-09-16 | Hyogo Prefectural Government | Electrolyte for and method of bright electroplating of tin-lead alloy |
US3730853A (en) * | 1971-06-18 | 1973-05-01 | Schloetter M | Electroplating bath for depositing tin-lead alloy plates |
US3749649A (en) * | 1971-12-16 | 1973-07-31 | M & T Chemicals Inc | Bright tin-lead alloy plating |
US3926749A (en) * | 1971-12-20 | 1975-12-16 | M & T Chemicals Inc | Tin-lead alloy plating |
SU445708A1 (ru) * | 1972-11-04 | 1974-10-05 | Предприятие П/Я А-7284 | Электролит дл осаждени сплава олово-свинец |
US3850765A (en) * | 1973-05-21 | 1974-11-26 | Oxy Metal Finishing Corp | Bright solder plating |
US4132610A (en) * | 1976-05-18 | 1979-01-02 | Hyogo Prefectural Government | Method of bright electroplating of tin-lead alloy |
US4135991A (en) * | 1977-08-12 | 1979-01-23 | R. O. Hull & Company, Inc. | Bath and method for electroplating tin and/or lead |
-
1981
- 1981-04-02 US US06/250,373 patent/US4347107A/en not_active Expired - Fee Related
-
1982
- 1982-03-18 SE SE8201736A patent/SE8201736L/ not_active Application Discontinuation
- 1982-03-19 CA CA000398827A patent/CA1184872A/en not_active Expired
- 1982-03-26 NL NL8201278A patent/NL8201278A/nl not_active Application Discontinuation
- 1982-03-27 DE DE19823211329 patent/DE3211329A1/de not_active Ceased
- 1982-03-31 IT IT8248133A patent/IT8248133A0/it unknown
- 1982-04-01 FR FR8205667A patent/FR2503192A1/fr active Granted
- 1982-04-01 BR BR8201863A patent/BR8201863A/pt unknown
- 1982-04-01 BE BE0/207734A patent/BE892731A/fr not_active IP Right Cessation
- 1982-04-01 ES ES511040A patent/ES511040A0/es active Granted
- 1982-04-01 JP JP57054764A patent/JPS57177987A/ja active Pending
- 1982-04-02 GB GB8209910A patent/GB2096175B/en not_active Expired
-
1986
- 1986-09-11 HK HK677/86A patent/HK67786A/xx unknown
Patent Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE2152785A1 (de) * | 1970-10-22 | 1972-05-04 | Kenvert Int Corp | Bad und Verfahren für die galvanische Abscheidung von Zinn, Blei oder Legierungen davon |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
SE8201736L (sv) | 1982-10-03 |
US4347107A (en) | 1982-08-31 |
JPS57177987A (en) | 1982-11-01 |
GB2096175B (en) | 1984-06-13 |
FR2503192B1 (de) | 1984-11-30 |
CA1184872A (en) | 1985-04-02 |
BE892731A (fr) | 1982-10-01 |
HK67786A (en) | 1986-09-18 |
FR2503192A1 (fr) | 1982-10-08 |
NL8201278A (nl) | 1982-11-01 |
ES8306194A1 (es) | 1983-05-01 |
IT8248133A0 (it) | 1982-03-31 |
BR8201863A (pt) | 1983-03-08 |
GB2096175A (en) | 1982-10-13 |
ES511040A0 (es) | 1983-05-01 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
DE3211329A1 (de) | Bad zur galvanischen abscheidung von glaenzendem metallischem zinn oder legierungen des zinns | |
DE68925768T2 (de) | Platin- oder Platinlegierung-Plattierungsbad | |
DE2627181C2 (de) | Wässriges saures Bad zur galvanischen Abscheidung von Zink | |
WO2012156102A2 (de) | Netzmittel für elektrolytische anwendungen und dessen verwendung | |
DE3929569C1 (de) | ||
DE2830441A1 (de) | Waessriges bad zur galvanischen abscheidung von zink und dessen verwendung | |
DE2231988C2 (de) | Galvanisches Bad für die Abscheidung von glänzendem Zinn | |
DE3212118A1 (de) | Bad zur galvanischen abscheidung von glaenzendem metallischem zinn oder legierungen des zinns | |
DE3013191A1 (de) | Im wesentlichen cyanidfreies bad zur elektrolytischen abscheidung von silber oder silberlegierung | |
EP0115020B1 (de) | Saures galvanisches Zinkbad | |
DE2930035C2 (de) | Galvanisches Bad und Verfahren zur Abscheidung einer Gold-Cadmium-Kohlenstoff-Legierung und elektrisches Verbindungselement mit einem nach diesem Verfahren hergestellten Kontaktmaterial | |
DE3228911C2 (de) | ||
DE2835539A1 (de) | Verfahren und bad zur galvanischen abscheidung von glaenzendem bis spiegelndem zink | |
EP1442160A2 (de) | Elektrolysebad zum galvanischen abscheiden von silber-zinn-legierungen | |
EP0126921B1 (de) | Bad für die galvanische Abscheidung von Goldlegierungen | |
DE3517968A1 (de) | Waessriger saurer zink-elektrolyt und ein verfahren zur galvanischen abscheidung von zink unter verwendung dieses elektrolyts | |
DE958795C (de) | Bad fuer das galvanische Abscheiden glaenzender UEberzuege von Silber, Gold und Legierungen dieser Metalle | |
DE2215737B2 (de) | Wäßriges saures galvanisches Halbglanznickelbad | |
DE1793558C3 (de) | Cumarinderivate und Verfahren zu ihrer Herstellung | |
DE3230807A1 (de) | Neue verbindung und ein alkalisches, diese verbindung enthaltendes bad zur galvanischen abscheidung von zink | |
DE2852432A1 (de) | Waessriges saures galvanisches zinkbad | |
DE3705949C2 (de) | ||
DE1496822B1 (de) | Galvanisches Kupferbad | |
EP0244685B1 (de) | Wässriges saures galvanisches Bad | |
DE3138792C2 (de) | Verwendung von Benzalaceton in roher Form als Spitzenglanzbildner in sauren galvanischen Zinkbädern |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
OP8 | Request for examination as to paragraph 44 patent law | ||
8127 | New person/name/address of the applicant |
Owner name: OMI INTERNATIONAL CORP. (EINE GESELLSCHAFT N.D.GES |
|
8131 | Rejection |