DE3151155A1 - Roengtenbildwandlungseinrichtung - Google Patents
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- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 title claims description 8
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 claims description 19
- 239000011669 selenium Substances 0.000 claims description 4
- 229920002799 BoPET Polymers 0.000 claims description 2
- 239000005041 Mylar™ Substances 0.000 claims description 2
- BUGBHKTXTAQXES-UHFFFAOYSA-N Selenium Chemical compound [Se] BUGBHKTXTAQXES-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 229910052785 arsenic Inorganic materials 0.000 claims description 2
- -1 polyethylene Polymers 0.000 claims description 2
- 229910052711 selenium Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 239000010410 layer Substances 0.000 claims 8
- 150000003346 selenoethers Chemical class 0.000 claims 2
- JBQYATWDVHIOAR-UHFFFAOYSA-N tellanylidenegermanium Chemical compound [Te]=[Ge] JBQYATWDVHIOAR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 2
- 150000003568 thioethers Chemical class 0.000 claims 2
- JBRZTFJDHDCESZ-UHFFFAOYSA-N AsGa Chemical compound [As]#[Ga] JBRZTFJDHDCESZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 239000004698 Polyethylene Substances 0.000 claims 1
- 239000004642 Polyimide Substances 0.000 claims 1
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 229910052787 antimony Inorganic materials 0.000 claims 1
- WATWJIUSRGPENY-UHFFFAOYSA-N antimony atom Chemical compound [Sb] WATWJIUSRGPENY-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- RQNWIZPPADIBDY-UHFFFAOYSA-N arsenic atom Chemical compound [As] RQNWIZPPADIBDY-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- ORCSMBGZHYTXOV-UHFFFAOYSA-N bismuth;germanium;dodecahydrate Chemical compound O.O.O.O.O.O.O.O.O.O.O.O.[Ge].[Ge].[Ge].[Bi].[Bi].[Bi].[Bi] ORCSMBGZHYTXOV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 229910052793 cadmium Inorganic materials 0.000 claims 1
- BDOSMKKIYDKNTQ-UHFFFAOYSA-N cadmium atom Chemical compound [Cd] BDOSMKKIYDKNTQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N mercury Chemical compound [Hg] QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 229910052753 mercury Inorganic materials 0.000 claims 1
- 239000012044 organic layer Substances 0.000 claims 1
- 229920000573 polyethylene Polymers 0.000 claims 1
- 229920001721 polyimide Polymers 0.000 claims 1
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 claims 1
- 239000010703 silicon Substances 0.000 claims 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 claims 1
- WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N tungsten Chemical compound [W] WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 229910052721 tungsten Inorganic materials 0.000 claims 1
- 239000010937 tungsten Substances 0.000 claims 1
- 230000035945 sensitivity Effects 0.000 description 6
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 3
- 238000000034 method Methods 0.000 description 3
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 3
- 108010076504 Protein Sorting Signals Proteins 0.000 description 2
- 238000011161 development Methods 0.000 description 2
- 230000018109 developmental process Effects 0.000 description 2
- 239000000463 material Substances 0.000 description 2
- 238000013517 stratification Methods 0.000 description 2
- XOLBLPGZBRYERU-UHFFFAOYSA-N tin dioxide Chemical compound O=[Sn]=O XOLBLPGZBRYERU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- UKUVVAMSXXBMRX-UHFFFAOYSA-N 2,4,5-trithia-1,3-diarsabicyclo[1.1.1]pentane Chemical compound S1[As]2S[As]1S2 UKUVVAMSXXBMRX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 1
- 229940052288 arsenic trisulfide Drugs 0.000 description 1
- 230000009286 beneficial effect Effects 0.000 description 1
- 238000013461 design Methods 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- 239000011888 foil Substances 0.000 description 1
- 238000003384 imaging method Methods 0.000 description 1
- 239000012212 insulator Substances 0.000 description 1
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 1
- 230000005855 radiation Effects 0.000 description 1
- 238000012552 review Methods 0.000 description 1
- 238000012800 visualization Methods 0.000 description 1
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-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01T—MEASUREMENT OF NUCLEAR OR X-RADIATION
- G01T1/00—Measuring X-radiation, gamma radiation, corpuscular radiation, or cosmic radiation
- G01T1/16—Measuring radiation intensity
- G01T1/24—Measuring radiation intensity with semiconductor detectors
- G01T1/246—Measuring radiation intensity with semiconductor detectors utilizing latent read-out, e.g. charge stored and read-out later
-
- G—PHYSICS
- G21—NUCLEAR PHYSICS; NUCLEAR ENGINEERING
- G21K—TECHNIQUES FOR HANDLING PARTICLES OR IONISING RADIATION NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; IRRADIATION DEVICES; GAMMA RAY OR X-RAY MICROSCOPES
- G21K4/00—Conversion screens for the conversion of the spatial distribution of X-rays or particle radiation into visible images, e.g. fluoroscopic screens
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L31/00—Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof
- H01L31/12—Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof structurally associated with, e.g. formed in or on a common substrate with, one or more electric light sources, e.g. electroluminescent light sources, and electrically or optically coupled thereto
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-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05G—X-RAY TECHNIQUE
- H05G1/00—X-ray apparatus involving X-ray tubes; Circuits therefor
- H05G1/08—Electrical details
- H05G1/64—Circuit arrangements for X-ray apparatus incorporating image intensifiers
Description
SIEMENS AKTIENGESELLSCHAFT Unser Zeichen Berlin und München VPA 81 P 5128 DE
Röntgenbildwandlungseinrichtung
Die Erfindung betrifft eine Röntgenbildwandlungseinrichtung nach dem Oberbegriff des Patentanspruchs 1.
Solche Einrichtungen sind z.B. in "Journal of Applied Photographic Engineering" Vol. 4, No. 4, 1978, Seiten
178 bis 182 beschrieben.
Zur Sichtbarmachung von elektrischen Ladungsbildern', die
mittels Röntgenstrahlen auf einer Fotohalbleiterschicht erzeugt werden, gibt es bekanntlich·eine Reihe von verschiedenen
Verfahren. Das Ladungsbild kann z.B. mittels geladener Farbteilchen in der in der Elektrofotografie
üblichen Weise entwickelt werden. Dies erfordert aber einerseits Zeit und andererseits eine aufwendige Ent-Wicklungsapparatur.
Bei Unterbringung des Ladungsbildes in einer Hochvakuumröhre kann es fernsehmäßig mit Elektronen
abgetastet werden. Dies erfordert aber für den Vakuumraum eine unhandliche Röhre und ergibt im Signal
geringe Auflösung sowie einen geringen Dynamikbereich.
• Eine Umwandlung in elektrische, etwa fernsehmäßig wiedergebbare
Bildsignale ist auch mittels berührungsloser Abtastung durch Elektrometer möglich, was allerdings
neben hohem Zeitaufwand auch höchste mechanische Präzision erforderlich macht. Schließlich Ist auch eine
Abtastung mit einem Lichtstrahl (z.B. Laser) möglich, um zu einer wiedergebbaren elektrischen Bildsignalfolge
zu kommen. Bei bekannten Vorrichtungen dieser Art wird aber gegenüber dem erhaltenen Gesamtsignal nur ein
kleines Bildsignal (Faktor -100) erhalten, d.h. das Signal
zu Rauschverhältnis ist gering.
Kn 5 Kof /17.12.1981
- 2 - VPA 81 P 5128 DE
Deshalb wurde gemäß obengenannter Literaturstelle eine Anordnung bekannt, bei welcher der Fotohalbleiter mit
einer isolierenden Folie abgedeckt ist und an den beiden Außenseiten dieser Kombination Elektroden liegen,
von denen wenigstens diejenige, die an der Isolierschicht liegt, für Licht durchlässig ist, ebenso wie
die Isolierschicht. Die Gegenelektrode kann als Aufbaubasis für die Schichtung verwendet werden und aus
röntgenstrahlendurchlässigem Material, etwa aus AIuminium, bestehen» An die beiden Elektroden wird eine
so große Spannung angelegt, daß das benötigte Feld E im Halbleiter entsteht. Dieses braucht aber nur während
der Belichtung und während des Auslesens der elektrischen Signale angelegt zu werden, so daß man Halbleiter
mit relativ geringem Widerstand ( 21 10 Jt cm) verwenden
kann.
Nachteilig ist dabei aber, daß der Halbleiter in seinen Eigenschaften sowohl der primären Belichtung als auch
der abtastenden Belichtung genügen muß. Im Fall der Erzeugung eines Röntgenbildes wird wegen der erforderlichen
Absorption von Röntgenquanten (ΐ> 30 %) der Halbleiter
in dicker Schicht ( 2Ξ 100/u) benutzt, wobei die
Empfindlichkeit S proportional zur angelegten Spannung ist. Um beim Einschreiben des Bildes und Auslesen bei
der Abtastung brauchbare Signale erzielen zu können, muß daher bei beiden Vorgängen hohe Spannung angelegt
werden, z.B. U0 = 3000 V. Nach dem Einschreiben des
Bildes liegt dann eine Spannung U(xy) = U - U · S( V- ) · D(xy) an der Grenzfläche zwischen der Fotoleiter-
und der Isolierschicht an. Abtastung mit einem Lichtstrahl bei einer Empfindlichkeit S des Halbleiters
gegenüber dem Lichtstrahl S=U- S(L) · L (L = 10 mW Leistung der Lichtquelle) ergibt das Signal (z.B. einen
Spannungsabbau Δ V):
■U-
-Z- VPA 81 P 5128 DE Δ V(xy) = JV - U · S( *) · D(xy)J -
D(xy)J ' S(L) · L = U0 Jj - S(^) D(xy)J [Ϊ - S(L)
4 V(xy) = O bis 100 V (Spannungsabbau am Ort xy)
D(xy) = O bis 100/uR(Dosisleistung am Ort xy)
L = 10 mW (Lichtintensität)
S( γ-) = O,3/mR(Empfindlichkeit auf \Λ oder Röntgenstrah
len)
S(L) = 3 · 10"3/mW (Empfindlichkeit auf Licht)
S(L) = 3 · 10"3/mW (Empfindlichkeit auf Licht)
Dem eigentlichen Bildsignal ist aber wegen S(L) *L ein hohes Gleichlichtsignal überlagert, so daß auch bei
dieser bekannten Ausführung das Signal zu Rauschverhältnis gering ist.
Selbstverständlich wird nicht der Spannungsabbau selbst, sondern die dem Spannungsabbau äquivalente abfließende
Ladung gemessen, wie auch sonst üblich.
Der Erfindung liegt die Aufgabe zugrunde, bei einer Röntgenbildwandlungseinrichtung nach dem Oberbegriff
des Patentanspruchs 1 ein großes Bildsignal mit verbessertem Rauschverhältnis zu erhalten. Diese Aufgabe
wird erfindungsgemäß durch die im kennzeichnenden Teil dieses Anspruchs angegebenen Maßnahmen gelöst. Vorteilhafte
Weiterbildungen und zweckmäßige Ausgestaltungen der Erfindung sind Gegenstand der Unteransprüche.
' Durch die Verwendung eines lichtempfindlichen Fotohalbleiters als Material für die Isolierschicht kann während
der Röntger.belichtung an den beiden Elektroden eine so hohe Spannungsdifferenz angelegt v/erden, daß im Röntgenhalbleiter
eine genügend hohe Feldstärke, z.B.10 V/cm, herrscht. Nach der Röntgenbelichtung werden die beiden
ο ο ο
O O O O * O
- pe - VPA 81 P 5128 DE
Elektroden miteinander kurzgeschlossen, so daß an der · Grenzfläche zwischen dem Röntgenhalbleiter (RHL) und
dem Lichthalbleiter (LHL) sich ein Ladungsbild ansammelt, welches in seiner Verteilung der Verteilung der
Röntgenintensitäten im Querschnitt des Bildes entspricht, d,h, gegenüber den beiden Elektroden ergibt
sich an der Grenzfläche eine Potentialverteilung V(xy).
Wird nun dieses Schichtensystem mit einem Licht- bzw«, Laserstrahl abgetastet (gescannt), so wird das Ladungsbild
abgebaut und V(xy) geht gegen O. Die kapazitiv in den Elektroden gespeicherten Ladungen ergeben dann das
Bildsignal S(xy)„ Ist dabei der RHL gegenüber dem Scanstrahl
unempfindlich, so kann das Signal allein an der Elektrode abgenommen werden, die der LHL-Schicht anliegt,
Bei der vorgenannten Schichtung wird an den RHL die Anforderung
gestellt, daß hohe Röntgenempfindlichkeit und
hoher Dunkelwiderstand vorliegt. Die LHL-Schicht sollte möglichst hohe Fotoleitfähigkeit mit möglichst geringer
Sättigungsspannung und geringer Röntgenempfindlichkeit aufweisen. Bei den bekannten LHL ist dies im allgemeinen
sowieso erfüllt;, weil die benutzten Schichten sehr dünn sind und darüber hinaus eventuell eine geringe
effektive Kernladungszahl haben (z.B. organische Fotoleiter) und schließlich die Röntgenstrahlung bereits
sehr geschwächt ist, wenn sie in den LHL eintritt» Eine geeignete Kombination könnte etwa aufgebaut sein auf
einer Aluminiumfolie als Träger und erster Elektrode.
Darauf kann Selen als RHL aufgedampft sein. Schließlich
wird Arsentrisulfid (As2Se,) in bekannter Form aufge-•
tragen. /-Is Durchsicht! ge Deckel oki roie k';:m etwa Zir.r.-dioxid
(SnOp) aufgetragen werden.
Sind die Halbleiter RHL und LHL aufgrund ihrer Fermi- und Leitungsbandkanten entsprechend so aufeinander ab-
• b.
- $ - VPA 81 P 51 ?8 I)FJ
\\κ'\. I. i min t., ilnB 'lic [,.'nlung:. l.rilgur π i eh I an
<ler ,:,w I: ι h'Mi
ihnen gebildeten Grenzfläche festgehalten werden, so kann zwischen den beiden Schichten eine elektrisch isolierende
Schicht eingebracht werden. Als Isolator kann für diese Isolierschicht Mylar etc. verwendet werden.
Es ist lediglich darauf zu achten, daß diese Schicht sehr dünn ist, z.B. < 5/um. Die Erzeugung des Bildsignals
kann an sich mit derjenigen übereinstimmen, die ohne Isolierschicht durchgeführt wird. Wie dort muß
allerdings nach der Auslesung der Bildsignale und vor Wiederverwendung der Schichtung zur Erzeugung eines
neuen Ladungsbildes durch Lichtflutung eine Entladung durchgeführt werden. Das kann z.B. mit weißem Licht geschehen.
Weitere Einzelheiten und Vorteile der Erfindung werden nachfolgend anhand der in der Figur dargestellten Ausführungsbeispiele
erläutert.
In der Figur ist schematisch ein Übersichtsschaubild
einer erfindungsgemäß ausgestalteten Aufnahmeeinrichtung
gezeichnet.
In der Figur ist mit 1 eine Röntgenstrahlenquelle bezeichnet,
von der aus ein Strahlenbündel 2 einen Patienten 3 durchstrahlt. Das so erzeugte Durchstrahlungsbild
gelangt auf eine erfindungsgemäße Aufnahmeanordnung 4. Diese Anordnung 4 besteht aus einer etwa als Träger aus
2 mm starkem Aluminiumblech bestehenden Elektrode 5, einer darauf aufgetragenen Röntgenhalbleiterschicht 6,
einer auf diener liegenden Lichthalbleiterschicht 7 und Oiir.er Elektrode i>.
Die beiden Elektroden 5 und 8 liegen über Leitungen 9 und 10 sowie einem Schalter 11 mit den Schaltmöglichkeiten
11a und 11b an einer Spannungsquelle 12. Außer-
- & - VPA 81 P 5128 DE
dem sind die Leitungen 9 und 10 mit einem Widerstand 13
verbunden und einem Verstärker 14. Letzterer liegt über einen Analog-Digital-Wandler 15 an einem Verarbeitungsgerät 16 für die Bildsignale, die andererseits mit einer
Abtastvorrichtung 17 in Verbindung stehen, von welcher ein Laserstrahl 18 durch die Elektrode 8 hindurch,
die Halbleiterschicht 7 der Aufnahmeanordnung 4 abtastend 5 ausgeht.
Das Gerät 16 enthält einen Mikroprozessor 19, in welchen,
das Signal vom Analog-Digital-Wandler 15 gelangt. Durch den Mikroprozessor wird ein Steuersignal über eine
Leitung 20 der Abtastvorrichtung 17 zur Steuerung der Abtastbewegung des Strahls 18 zugeführt. Außerdem
wird das Signal über einen Anschluß 21 zu einem Speicher 22 geleitet, von welchem das Bildsignal über eine
Leitung 23 einem Rechner 24 zugeführt werden kann. Schließlich gelangt das Signal über eine Leitung 25
zu einem Fernsehmonitor 26, wo es auf einem Bildschirm 27 sichtbar gemacht werden kann.
Ein mittels des Strahlenbündels 2 vom Patienten 3 in der RHL-Schicht 4 erzeugtes Strahlungsbild ergibt wegen der
an die Elektroden 5 und 8 angelegten Spannung von 3000V an der Grenzfläche 28 der Schichten 6 und 7 eine Ladungsverteilung
j, die der Intensitätsverteilung im Strahlenbündel 2 entspricht. Wird nach Beendigung der Einwirkung
des Strahlenbündels 2 auf die Schicht 6, d.h. nach Ausschalten der Röntgenstrahlenquelle 1 mittels
des Schalters 11, in Schaltstellung 11b die an die Elektroden 5 und 8 angelegte Spannung kurzgeschlossen und
mittels 16, d.h. einer LascraM^:· lanordnung, ein Laserstrahl
18 abtastend über die·Anordnung 4 geführt, so dringt dieser Strahl 18 durch eine aus Zinndioxid(SnOg)
bestehendes 5 mm dicke Elektrode 8 in die aus Arsenselenid
(AsgSe^) .bestehende, ca. 15/um dicke LHL-Schicht7
- ? - VPA 81 P 5128 DE
ein. Der Strahl 18 bewirkt dabei, daß das Ladungsbild
an der Grenzfläche 28 in Form einer Bildsignalfolge über die Leitungen 9 und 10 an den Verstärker 14 gelangen
kann. Nach Passieren des Wandlers 15 und an sich bekannte Verarbeitung im Gerät 16 kann dann auf
dem Bildschirm 27 des Monitors 26 das Durchleuchtungsbild des Patienten 3 erscheinen. Die im Gerät 16 angedeutete,
Bildbearbeitungs- und Fernseheinrichtung kann in an sich bekannter Weise, wie etwa in "Röntgenpraxis"
6 (1981), Seiten 239 bis 246 beschrieben, in digitaler Röntgentechnik ausgebildet sein, so daß
zusätzlich Veränderungen von Helligkeit, Kontrast etc. des Röntgenbildes möglich werden.
In der Schichtanordnung 4 ist an der Grenzfläche zusätzlich eine elektrisch isolierende Schicht 29 zwischen
der RHL-Schicht 6 und der LHL-Schicht 7 angeordnet. Dadurch baut sich das Ladungsbild w(xy) an der
Grenzfläche 28 zwischen den Schichten 6 und 7 auf.
Dieses Ladungsbild wird beim Auslesen mittels des Strahls 18 durch ein sich dabei bildendes Ladungsbild
-w(xy) kompensiert. Nach dem Auslesen werden durch Lichtflutung beider Halbleiterschichten 6 und
7 die Ladungsbilder w(xy) und -w(xy) gelöscht. Da das Signal-zu-Rausch-Verhältnis beim Auslesen des Ladungsbildes
von der Kapazität der Signalelektrode 8 abhängt, ist es oft zweckmäßig, diese etwa in Streifen
zu unterteilen.
4 Fa- L(!Ii lalls"pi'uehe"
Claims (1)
- • ·« »β OVPA 81 P 5128 DEPatentansprücheQ), Röntggnbildwandlungseinrichtung mit einer Kombination,, di@ aus einer an einer rö'ntgendurchlässigen Elektrode liegenden Röntgenfotoleitschicht und einer Isolierschicht besteht, wobei die elektrisch isolierende Schicht aus einem bei Einwirkung von Licht leitfähig werdendem Stoff besteht und daß an ihrer Außenseite ©ine Elektrode anliegt-, die Licht durchläßt, d a -durch gekennzeichnet, daß zwischen der Röntgenhalbleiterschicht (FlHL) und der Lichthalbleiterschicht (LHL) eine elektrisch isolierende Schicht liegt.2, Röntgenbildwandlungseinrichtung nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet , daß der RHL aus .Selen (Se) oder Wismuth-Germaniumoxid (Bi^gGeOgQ) oder aus den Oxiden, Seleniden, Sulfiden, von Zink (Zn), Cadmium (Cd), Quecksilber (Hg), Wolfram (W)9 Blei (Pb) und Antimon (Sb) ausgewählt ist, der LHL aus der Gruppe der organischen Halbleiter oder der Oxide, Selenide, Sulfide von Zink (Zn) und Arsen (As) sowie aus Silizium (Si) oder Galliumarsenid (GaAs) mit seiner bekannten Variationen ausgewählt ist und daß die Isolierschicht aus einer organischen Schicht, wie etwa Polyäthylen, Mylar und Polyimid, hergestellt ist.3« Röntgenbildwandlungseinrichtung nach einem der vorhergehenden Ansprüche9 dadurch gekennzeichnet, daß die an der LHL-Schicht liegende Elektrode vielfach unterteilt ist.4. Röntgenbildwandlungseinrichturig nach Anspruch 3, dadurch gekennzeichnet, daß die Unterteilung streifenförmig ist.
Priority Applications (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE19813151155 DE3151155A1 (de) | 1981-12-23 | 1981-12-23 | Roengtenbildwandlungseinrichtung |
FR8220936A FR2518818B1 (fr) | 1981-12-23 | 1982-12-14 | Dispositif de conversion d'une image radiologique |
JP57225774A JPS58121689A (ja) | 1981-12-23 | 1982-12-21 | X線像変換装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE19813151155 DE3151155A1 (de) | 1981-12-23 | 1981-12-23 | Roengtenbildwandlungseinrichtung |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE3151155A1 true DE3151155A1 (de) | 1983-06-30 |
Family
ID=6149592
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE19813151155 Withdrawn DE3151155A1 (de) | 1981-12-23 | 1981-12-23 | Roengtenbildwandlungseinrichtung |
Country Status (3)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS58121689A (de) |
DE (1) | DE3151155A1 (de) |
FR (1) | FR2518818B1 (de) |
Families Citing this family (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
FR2605167B1 (fr) * | 1986-10-10 | 1989-03-31 | Thomson Csf | Capteur d'images electrostatique |
EP0338091A4 (en) * | 1987-10-21 | 1992-12-09 | Hitachi, Ltd. | Light-receiving element and method of operating the same |
Family Cites Families (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
FR70038E (fr) * | 1956-09-07 | 1959-02-02 | Thomson Houston Comp Francaise | Dispositif et procédé d'intensification de l'énergie radiante |
DE2141934A1 (de) * | 1971-08-20 | 1973-03-01 | Siemens Ag | Strahlenmessgeraet |
DE2644168C3 (de) * | 1976-09-30 | 1981-06-11 | Siemens AG, 1000 Berlin und 8000 München | Verwendung einer kristallinen Wismutoxid-Verbindung der Zusammensetzung Bi↓10↓-14X↓1↓O↓n↓, sowie Vorrichtungen hierzu und Verfahren zu deren Herstellung |
US4268750A (en) * | 1979-03-22 | 1981-05-19 | The University Of Texas System | Realtime radiation exposure monitor and control apparatus |
-
1981
- 1981-12-23 DE DE19813151155 patent/DE3151155A1/de not_active Withdrawn
-
1982
- 1982-12-14 FR FR8220936A patent/FR2518818B1/fr not_active Expired
- 1982-12-21 JP JP57225774A patent/JPS58121689A/ja active Pending
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
FR2518818B1 (fr) | 1986-03-07 |
JPS58121689A (ja) | 1983-07-20 |
FR2518818A1 (fr) | 1983-06-24 |
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