DE3116785C2 - - Google Patents
Info
- Publication number
- DE3116785C2 DE3116785C2 DE3116785A DE3116785A DE3116785C2 DE 3116785 C2 DE3116785 C2 DE 3116785C2 DE 3116785 A DE3116785 A DE 3116785A DE 3116785 A DE3116785 A DE 3116785A DE 3116785 C2 DE3116785 C2 DE 3116785C2
- Authority
- DE
- Germany
- Prior art keywords
- charge
- electrode
- semiconductor substrate
- region
- charge storage
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired
Links
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 claims description 27
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 19
- 239000004020 conductor Substances 0.000 claims description 4
- 210000003608 fece Anatomy 0.000 claims description 3
- 238000009413 insulation Methods 0.000 claims description 3
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 8
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 5
- 230000008859 change Effects 0.000 description 3
- 230000006870 function Effects 0.000 description 3
- 206010034960 Photophobia Diseases 0.000 description 2
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 2
- 230000001419 dependent effect Effects 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 208000013469 light sensitivity Diseases 0.000 description 2
- 238000000034 method Methods 0.000 description 2
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 2
- 230000008569 process Effects 0.000 description 2
- 230000005855 radiation Effects 0.000 description 2
- 230000035945 sensitivity Effects 0.000 description 2
- 230000000903 blocking effect Effects 0.000 description 1
- 238000001514 detection method Methods 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- 238000006073 displacement reaction Methods 0.000 description 1
- 230000005670 electromagnetic radiation Effects 0.000 description 1
- 238000002955 isolation Methods 0.000 description 1
- 230000005012 migration Effects 0.000 description 1
- 238000013508 migration Methods 0.000 description 1
- 108090000623 proteins and genes Proteins 0.000 description 1
- 230000004044 response Effects 0.000 description 1
- 238000005070 sampling Methods 0.000 description 1
- 238000004904 shortening Methods 0.000 description 1
- 230000007704 transition Effects 0.000 description 1
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L27/00—Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate
- H01L27/14—Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation
- H01L27/144—Devices controlled by radiation
- H01L27/146—Imager structures
- H01L27/148—Charge coupled imagers
- H01L27/14887—Blooming suppression
-
- H—ELECTRICITY
- H04—ELECTRIC COMMUNICATION TECHNIQUE
- H04N—PICTORIAL COMMUNICATION, e.g. TELEVISION
- H04N23/00—Cameras or camera modules comprising electronic image sensors; Control thereof
- H04N23/70—Circuitry for compensating brightness variation in the scene
- H04N23/71—Circuitry for evaluating the brightness variation
-
- H—ELECTRICITY
- H04—ELECTRIC COMMUNICATION TECHNIQUE
- H04N—PICTORIAL COMMUNICATION, e.g. TELEVISION
- H04N23/00—Cameras or camera modules comprising electronic image sensors; Control thereof
- H04N23/70—Circuitry for compensating brightness variation in the scene
- H04N23/73—Circuitry for compensating brightness variation in the scene by influencing the exposure time
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Power Engineering (AREA)
- Multimedia (AREA)
- Signal Processing (AREA)
- Electromagnetism (AREA)
- Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Computer Hardware Design (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Solid State Image Pick-Up Elements (AREA)
- Transforming Light Signals Into Electric Signals (AREA)
Description
Die Erfindung betrifft eine Festkörper-Bildabtastervor
richtung nach dem Oberbegriff des Patentanspruches 1.
Festkörper-Bildabtastervorrichtungen des Ladungsübertra
gungstyps werden derzeit verbreitet verwendet. Wenn eine
solche Vorrichtung bei einer Fernsehkamera oder einem
Faksimilegerät verwendet wird, die bzw. das ein Aufnahme
objekt durch Abtastung desselben mit einer bestimmten
Frequenz aufnimmt, wird der Blendenwert des Objektivs zur
Einstellung der Lichtempfindlichkeit der Festkörper-Bild
abtastervorrichtung entsprechend der Lichtintensität vom
Aufnahmeobjekt verändert. Dieser Blendenwert des Objektivs
wird nach Maßgabe der Meßgröße von Ausgangssignalen be
stimmt, die von der Bildabtastervorrichtung bei jedem
Abtastvorgang geliefert werden. Wenn die Ausgangssignale
niedrig sind, wird die Blende auf einen kleinen Wert
eingestellt, während sie bei hohem Ausgangssignalpegel auf
einen großen Wert eingestellt wird. Die Einstellung der
Blende des Objektivs erfolgt somit in Abhängigkeit von
Ausgangssignalen, die von der Festkörper-Bildabtaster
vorrichtung bei einem vorhergehenden Abtastvorgang ge
liefert werden, um dabei die Blendeneinstellung um eine
Zeitspanne zu verzögern, während welcher der vorhergehende
Abtastvorgang durchgeführt wird. Es kann vorausgesetzt
werden, daß diese Verzögerung in der Blendeneinstellung
im allgemeinen kein Problem aufwirft, wenn die Festkörper-
Bildab
tastervorrichtung bei einer Fernsehkamera o. dgl. verwendet wird. Anderer
seits wirft diese zeitliche Verzögerung der Blendeneinstellung
aber Probleme auf, wenn diese Bildabtastervorrichtung z. B. im optischen
Sucher bzw. Entfernungsmesser einer Kamera angeordnet ist.
Wenn ein von der Festkörper-Bildabtastervorrichtung in Abhängigkeit von der
Lichtmenge, die während einer vorherbestimmten ersten Licht
empfangszeit empfangen wird, erzeugtes Ausgangssignal nicht
einen vorbestimmten Pegel besitzt, wird eine zweite Licht
empfangsperiode oder Belichtungszeit in Abhängigkeit von der
Größe des Ausgangssignals eingestellt. Dabei wird bestimmt,
ob ein von der Festkörper-Bildabtastervorrichtung in Abhängigkeit von der
während einer zweiten Lichtempfangszeit empfangenen Licht
menge erzeugtes Ausgangssignal den vorbestimmten Pegel be
sitzt oder nicht. Der Vorgang der Lichtempfangszeiteinstel
lung wird wiederholt, bis festgestellt wird, daß das von der
Festkörper-Bildabtastervorrichtung abgegebene Ausgangssignal den vorbe
stimmten Pegel besitzt. Wie erwähnt, dauert es eine
längere Zeit, bis die passende Lichtempfangs- bzw. Belich
tungszeit eingestellt ist, und diese passende Zeit kann in
manchen Fällen nicht eingestellt werden, wenn sich das Auf
nahmeobjekt schnell bewegt. Außerdem steigt dabei der Strom
verbrauch unter Verkürzung der Betriebslebensdauer der Batterie
an. Weiterhin sind mehrere Schaltungssätze für die Einstellung
der Lichtempfangs- bzw. Belichtungszeit erforderlich, so daß
die Kosten für den optischen Sucher oder Entfernungsmesser
entsprechend ansteigen.
In der DE-OS 31 05 910 ist eine Einrichtung zur Erfassung
elektromagnetischer Strahlung beschrieben, wobei ein
Halbleitersubstrat vorgesehen ist, in welchem Eingangs-
Ladungsübertragungseinrichtungen mit Speicher-Quellen
elektroden vorhanden sind. Eine transparente Sensorelek
trode weist mehrere, durch wenigstens einen Verbindungs
bereich voneinander getrennte ausgewählte Bereiche auf,
die den Speicher-Quellenelektroden unmittelbar benachbart
gegenüber angeordnet sind, so daß die elektrische Ladungs
übertragung zwischen ihnen gesteuert werden kann. Eine
Schalteinrichtung ist an eine Bezugsspannung und an die
Sensorelektrode angeschlossen. Schließlich erzeugt eine
Puffereinrichtung an ihrem Ausgang eine Spannung, die ein
Maß für die über die Sensorelektrode erfaßte, elektro
magnetische Strahlung ist. Da bei dieser bekannten Ein
richtung die Sensorelektrode von der einfallenden Strahlung
durchsetzt wird, ist der photoelektrische Umsetzungswir
kungsgrad vermindert: Selbst wenn eine solche transparente
Sensorelektrode nur eine sehr geringe Filmdicke besitzt,
ändert sich nämlich der photoelektrische Umsetzungswir
kungsgrad abhängig von der Struktur bzw. Filmdicke dieser
transparenten Sensorelektrode.
Es ist Aufgabe der vorliegenden Erfindung, eine Festkörper-
Bildabtastvorrichtung zu schaffen, die einen einfachen
Aufbau besitzt und bei welcher die Lichtempfindlichkeit
hoch ist.
Diese Aufgabe wird bei einer Festkörper-Bildabtastervor
richtung nach dem Oberbegriff des Patentanspruches 1
erfindungsgemäß durch die in dessen kennzeichnenden Teil
enthaltenen Merkmale gelöst.
Eine vorteilhafte Weiterbildung der Erfindung ist im
Patentanspruch 2 angegeben.
Bei der erfindungsgemäßen Festkörper-Bildabtastervorrich
tung liegt die Reihe der Halbleiterzonen, die sogenannte
"Halbleiterinseln" bilden, in der Oberfläche des Halb
leitersubstrats frei, was bedeutet, daß einfallendes Licht
diese Oberfläche ohne jede Unterbrechung erreichen kann,
was wiederum zu einem hohen photoelektrischen Umsetzungs
wirkungsgrad führt.
Die Lichtempfangszeit bzw. Belichtungszeit wird in Ab
hängigkeit von der Potentialänderung der Ladungsspeicher
elektroden, d. h. der Änderung der Größe der jeweils unter
den Ladungsspeicherelektroden gespeicherten Ladungen,
eingestellt, so daß die jeweils passende Belichtungszeit
schnell eingestellt werden kann.
Im folgenden sind bevorzugte Ausführungsformen der Erfin
dung anhand der Zeichnung näher erläutert. Es
zeigt
Fig. 1 eine schematische Darstellung einer Festkörper-
Bildabtastervorrichtung gemäß der Erfindung mit
einem Bildabtaster und einer Steuerschaltung dafür,
Fig. 2 einen Schnitt längs der Linie II-II in Fig. 1,
Fig. 3 Wellenformdiagramme zur Erläuterung der Arbeitsweise
der Festkörper-Bildabtastervorrichtung gemäß Fig. 1,
Fig. 4 eine Fig. 2 ähnelnde Darstellung eines anderen Bild
abtasters bei einer anderen Ausführungsform der Er
findung und
Fig. 5 eine schematische Darstellung einer anderen Ausfüh
rungsform der erfindungsgemäßen Festkörper-Bildab
tastervorrichtung.
Die in Fig. 1 dargestellte Festkörper-Bildabtastervorrichtung
enthält einen schematisch in Aufsicht dar
gestellten Festkörper-Bildabtaster 10 und eine noch näher zu
beschreibende Steuerschaltung zur Steuerung der Arbeitsweise
des Festkörper-Bildabtasters 10. Gemäß Fig. 2, die einen
Schnitt längs der Linie II-II in Fig. 1 darstellt, ist eine
Isolierschicht auf Elektroden ausgebildet.
Gemäß den Fig. 1 und 2 weist der Festkörper-Bildabtaster 10
beispielsweise eine p-Typ-Halbleitersubstrat 12 sowie n-Typ-
Halbleiterzonen bzw. "-inseln" 14-1 bis 14-N auf, die in einer Reihe ange
ordnet sind und auf der Oberfläche des Substrats 12 einen
photoelektrischen Wandlerbereich oder -zone bilden. Auf dem
Substrat 12 ist unter Isolierung eine sich neben den Halb
leiterinseln 14-1 bis 14-N längs dieser erstreckende Ladungs
speicherelektrode 16 ausgebildet, während ein Ladungsüber
tragungselektrodenabschnitt 18 mit mehreren Paaren von Über
tragungselektroden 18-1 und 18-2 versehen ist, die von der
Ladungsspeicherelektrode 16 beabstandet und parallel dazu
angeordnet sind. Die verschiedenen Elektrodenpaare 18-1 und
18-2 des Ladungsübertragungselektrodenabschnitts 18 werden
selektiv z. B. an Spannungen verschiedener Phasen gelegt, und
sie dienen zum Übertragen von in dem darunter liegenden Halb
leiterbereich vorhandenen Ladungen. Eine zwischen der Ladungs
speicherelektrode 16 und dem Elektrodenabschnitt 18 angeord
nete Steuerelektrode 20 dient zur Steuerung der Verschiebung
von Ladungen in Richtung auf den Elektrodenab
schnitt 18; diese Ladungen werden in Abhängigkeit von dem
über ein Fenster, das durch eine undurchsichtige Isolier
schicht 21 und eine durchsichtige Isolierschicht 22 gebildet
wird, einfallenden Licht erzeugt. Eine in Fig. 1 schraffiert
eingezeichnete p⁺-Kanal-Stop- oder -Sperrzone 24 dient zur
Verhinderung einer Verschiebung oder Wanderung von Ladungen
zu unerwünschten Stellen. Der Bildabtaster 10 mit dem be
schriebenen Aufbau ist an sich bekannt.
Die Ladungsspeicherelektrode 16 ist mit einem N-Kanal-MOSFET
30 und über die Stromstrecke eines N-Kanal-MOSFETs 32 mit
einer Stromspeiseklemme V A verbunden. Die Stromstrecke des
MOSFETs 30 ist an seiner Drain-Elektrode mit einer Strom
speiseklemme V B verbunden, an seiner Source-Elektrode über
einen Widerstand 34 an Masse gelegt und an der ersten Ein
gangsklemme mit der zweiten Eingangsklemme eines Komparators
36 verbunden, der zur Abnahme einer Bezugsspannung V REF ge
schaltet ist und dessen Ausgangsklemme an einen Impuls
generator 38, dessen Ausgangsklemme wiederum mit der Gate-
Elektrode des MOSFETs 32 verbunden ist, sowie an einen Impuls
generator 40 angeschlossen ist, dessen Ausgangsklemme mit
der Steuerelektrode 20 verbunden ist.
Die Arbeitsweise der Festkörper-Bildabtastervorrichtung ge
mäß den Fig. 1 und 2 ist im folgenden anhand der Spannungs
wellenformen nach Fig. 3A bis 3D beschrieben.
Die Steuerelektrode 20 wird in Abhängigkeit von einem vom
Impulsgenerator 40 angelegten Ausgangsimpuls (Fig. 3A) auf
ein vorbestimmtes Potential vorgespannt, und der MOSFET 32
wird durch einen Ausgangsimpuls des Impulsgenerators 38
(Fig. 3B) durchgeschaltet, so daß eine vorbestimmte Spannung
V A an die Ladungsspeicherelektrode 16 angelegt wird. Die im
Oberflächenbereich des Halbleitersubstrats unter der La
dungsspeicherelektrode 16 gespeicherten Ladungen werden so
mit zum Oberflächenbereich des Substrats unter dem Ladungs
übertragungselektrodenabschnitt 18 verschoben. Diese Signal
ladungen werden sodann längs des Elektrodenabschnitts 18
übertragen. Wenn danach ein Ausgangsimpuls des Impulsgenera
tors 38 auf einen niedrigen Pegel übergeht und der MOSFET 32
sperrt, fällt das Potential in der Ladungsspeicherelektrode
16 unter den Potentialpegel V A ab, und zwar proportional zur
Größe der Ladungen, die entsprechend der auf dem photo
elektrischen Wandlerbereich einfallenden Lichtmenge im Ober
flächenbereich des Halbleitersubstrats unter der Ladungs
speicherelektrode 16 gespeichert sind. Das Source-Potential
des MOSFETs 30 fällt entsprechend der Potentialänderung der
Ladungsspeicherelektrode 16 gemäß Fig. 3C allmählich ab. Wenn
das Source-Potential des MOSFETs 30 den Bezugswert V REF er
reicht, liefert der Komparator 36 einen Impuls gemäß Fig. 3D.
In Abhängigkeit von diesem Ausgangsimpuls des Komparators 36
erzeugt der Impulsgenerator 38 einen Ausgangsimpuls gemäß
Fig. 3B, und der Impulsgenerator 40 liefert in Abhängigkeit
vom Ausgangssignal des Komparators 36 ebenfalls einen Aus
gangsimpuls, der gemäß Fig. 3A eine vorbestimmte zeitliche
Verzögerung besitzt. Während der Aus
gangsimpuls vom Impulsgenerator 40 geliefert wird, werden
alle im Oberflächenbereich des Halbleitersubstrats unter der
Ladungsspeicherelektrode 16 gespeicherten Ladungen zu dem
unter dem Ladungsübertragungselektrodenabschnitt 18 befind
lichen Oberflächenbereich des Substrats verschoben und dann
längs dieses Elektrodenabschnitts 18 zu einer nicht darge
stellten Ausgangsschaltung übertragen.
Die an den Komparator 36 angelegte Bezugsspannung V REF wird
auf eine Größe im Bereich zwischen einer Source-Spannung V S 1
des MOSFETs 30 bei an dessen Gate-Elektrode anliegender
Spannung V A und einer Source-Spannung V S 2 des MOSFETs 30ein
gestellt, die dann erhalten wird, wenn Sättigungsladungen von
allen Halbleiterinseln 14-1 bis 14- N im photoelektrischen
Wandlerbereich geliefert werden, nachdem die Ladungsspeicher
elektrode 16 auf die Spannung V A aufgeladen worden ist.
Bei diesem Bildabtaster 10 werden somit Ladungen in Überein
stimmung mit der auf die Halbleiterinseln 14-1 bis 14-N im
photoelektrischen Wandlerbereich auftreffenden Lichtmenge
erzeugt und in Richtung auf den Ladungsübertragungselektro
denabschnitt 18 verschoben, wenn die Gesamtmenge der Ladungen
eine vorbestimmte Größe erreicht hat. Auf diese Weise ist es
möglich, ohne jede Verzögerung in der Abtastperiode eine
schnelle Empfindlichkeitseinstellung vorzunehmen. Darüber
hinaus umfaßt die für die Steuerung der Empfindlichkeitsein
stellung nötige Steuerschaltung den Komparator 36 und die
Impulsgeneratoren 38, 40, so daß der Schaltungsaufbau ent
sprechend vereinfacht ist.
Der photo
elektrische Wandlerbereich, in welchem die Halbleiterinseln 14-1
bis 14-N zur Erzeugung von Ladungen mittels des photoelektri
schen Wandlereffekts ausgebildet sind, ist bei der beschrie
benen Ausführungsform unabhängig von der Ladungsspeicherzone
angeordnet. Die n-Typ-Halbleiterzonen 14-1
bis 14-N können weggelassen werden, und eine durchsichtige Ladungs
speicherelektrode 42 kann auf die in Fig. 4 gezeigte Weise un
ter Isolierung auf dem Halbleitersubstrat ausgebildet werden,
wobei diese durchsichtige Elektrode 42 die photoelektrischen
Wandler- und Ladungsspeicherfunktionen übernehmen kann. In die
sem Fall werden Ladungen in Verarmungszonen unter dieser
Elektrode 42 in Abhängigkeit von der Lichtmenge erzeugt, die
über Fenster einfällt bzw. empfangen wird, welche durch die
undurchsichtige Isolierschicht 21, die durchsichtige Elektro
de 42 und die durchsichtige Isolierschicht 22 festgelegt wer
den, wobei diese Ladungen hauptsächlich in den Oberflächen
bereichen oder -zonen des Halbleitersubstrats 12 unter der
durchsichtigen Elektrode 42 gespeichert werden.
Bei der beschriebenen Ausführungsform sind die Halbleiter
inseln 14-1 bis 14-N im photoelektrischen Wandlerbereich in
einer Reihe angeordnet, doch können sie gemäß Fig. 5 auch
in zweidimensionaler Anordnung vorliegen. Dieser zweidi
mensionale Bildabtaster enthält eine Anzahl von Bildabtast
abschnitten 10-1 bis 10-M, die auf ähnliche Weise wie beim
Bildabtaster 10 gemäß Fig. 1 angeordnet sind, sowie eine
Ladungsübertragungsvorrichtung 44 zur Übertragung von Signal
ladungen, die durch diese Bildabtastabschnitt 10-1 bis 10-M
erhalten werden, zu einer nicht dargestellten Ausgangsschal
tung. Im Bildabtastabschnitt 10-1 werden beispielsweise die
von den photoelektrischen Wandlerbereichen 14-11 bis 14-1N
erzeugten Ladungen in Abhängigkeit von einem an die Steuer
elektrode 20-1 angelegten Spannungsimpuls in Richtung auf den
Übertragungselektrodenabschnitt 18-11 übertragen. Auf ähn
liche Weise werden z. B. von den photoelektrischen Wandlerbe
reichen 14-M 1 bis 14-MN im Bildabtastabschnitt 10- M erzeugte
Signallampen in Richtung auf den Übertragungselektroden
abschnitt 18-M 1 übertragen. Sodann werden diese Signalladun
gen jeweils parallel längs der Übertragungselektrodenab
schnitte 18-11 bis 18-M 1 zur Ladungsübertragungsvorrichtung 44
verschoben und hierauf durch letztere nacheinander zur nicht
dargestellten Ausgangsschaltung übertragen.
Die Ladungsspeicherelektroden 16-1 bis 16-M sind gemeinsam
an die Gate-Elektrode des MOSFETs 30 und über den MOSFET 32
an die Stromspeiseklemme V A angeschlossen. Die Steuer
elektroden 20-1 bis 20-M sind gemeinsam mit der Ausgangs
klemme eines Impulsgenerators 40 verbunden. Die anderen
Schaltungsabschnitte entsprechen denen gemäß Fig. 1 und sind
daher mit denselben Bezugsziffern wie dort bezeichnet. Wenn
die Gesamtmenge der von allen photoelektrischen Wandlerbe
reichen 14-11 bis 14-MN erzeugten Signalladungen eine vor
bestimmte Größe erreicht, werden diese Singalladungen in der
Bildabtastervorrichtung gemäß Fig. 5 ausgelesen. Hierbei wird
dieselbe Wirkung erzielt wie bei der Bildabtastervorrichtung
gemäß Fig. 1. Die Ladungsspeicherelektroden 16-1 bis 16-M
können auf die in Verbindung mit Fig. 4 beschriebene Weise
durchsichtig ausgelegt und im photoelektrischen Wandlerbe
reich ausgebildet werden, so daß sie photoelektrische Wandler-
und Ladungsspeicherfunktionen zu erfüllen vermögen.
Während bei den vorstehend beschriebenen Ausführungsformen
ein p-Typ-Halbleitersubstrat 12 verwendet wird, kann auch
ein n-Typ-Halbleitersubstrat verwendet werden, wenn die
anderen Halbleiterbereiche oder -zonen den gegenüber Fig. 2
entgegengesetzten Leitungstyp besitzen. Der dargestellte
Übertragungselektrodenabschnitt 18 ist vom Zweiphasentyp,
doch kann er auch von einem beliebigen anderen Typ sein.
Claims (2)
1. Festkörper-Bildabtastervorrichtung, bestehend aus
einem Halbleitersubstrat (12), einem unter Isolierung
auf dem Halbleitersubstrat (12) angeordneten Ladungs
speicherelektroden (16) aufweisenden Ladungserzeugungs-
und -speicherbereich zur Erzeugung von Signalladungen
entsprechend dem einfallenden oder empfangenen Licht
und zur Speicherung dieser Signalladungen, einem La
dungsübertragungsbereich (18), einer zwischen dem La
dungserzeugungs- und -speicherbereich sowie dem La
dungsübertragungsbereich (18) angeordneten Steuer
elektrode (20) zur Steuerung der Bewegung von Signal
ladungen vom Ladungserzeugungs- und -speicherbereich
zum Ladungsübertragungsbereich (18) sowie einer
Steuerschaltung zur Steuerung des Auslesezeitpunkts
für die im Ladungserzeugungs- und -speicherbereich
gespeicherten Ladungen, wobei die Steuerschaltung
eine zwischen eine Stromspeiseklemme (V A ) und die
Ladungsspeicherelektrode (16) geschaltete Schalter
einrichtung ( 32) sowie Einheiten (30, 34, 36, 38, 40)
zur Erfassung des Potentials der Ladungsspeicherelek
trode (16) zwecks Steuerung des Schaltzustands der
Schaltereinrichtung (32) sowie des Potentials der
Steuerelektrode (20) entsprechend Änderungen des Poten
tials der Ladungsspeicherelektrode (16) aufweist, da
durch gekennzeichnet, daß der Ladungserzeugungs- und
-speicherbereich eine Reihe von Halbleiterzonen 14-1
bis 14-N aufweist, die einen dem Halbleitersubstrat
(12) entgegengesetzten Leitungstyp besitzen und im
Oberflächenbereich des Halbleitersubstrats (12) aus
gebildet sind, um Ladungen entsprechend der einfallen
den bzw. empfangenen Lichtmenge zu erzeugen, und daß
die Ladungsspeicherelektrode (16) aus einer Leiter
schicht geformt ist, die unter Isolierung auf dem der
Reihe von Halbleiterzonen (14-1 bis 14-N) benachbar
ten Bereich des Halbleitersubstrats (12) angeordnet
ist.
2. Vorrichtung nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet,
daß die Steuerelektrode (20) mehrere Leiterschichten
(20-2 bis 20-M) aufweist, die jeweils zwischen den
einzelnen Leiterschichten angeordnet sind, welche ge
meinsam die Ladungsspeicherelektrode (16) und La
dungsübertragungsvorrichtungen im Ladungsübertragungs
bereich (18) bilden und welche elektrisch miteinander
verbunden sind.
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP5750380A JPS56154880A (en) | 1980-04-30 | 1980-04-30 | Solid-state image sensor |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE3116785A1 DE3116785A1 (de) | 1982-01-28 |
DE3116785C2 true DE3116785C2 (de) | 1987-08-20 |
Family
ID=13057521
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE19813116785 Granted DE3116785A1 (de) | 1980-04-30 | 1981-04-28 | Festkoerper-bildabtastervorrichtung |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS56154880A (de) |
DE (1) | DE3116785A1 (de) |
Families Citing this family (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4479062A (en) * | 1981-02-06 | 1984-10-23 | Asahi Kogaku Kogyo Kabushiki Kaisha | Photo-electric conversion device with accumulation time control |
JPS58127371A (ja) * | 1982-01-25 | 1983-07-29 | Toshiba Corp | 固体撮像装置 |
JPS5975773A (ja) * | 1982-10-25 | 1984-04-28 | Toshiba Corp | 固体撮像装置 |
JPS59221178A (ja) * | 1983-05-31 | 1984-12-12 | Toshiba Corp | 固体撮像装置 |
JPS60254770A (ja) * | 1984-05-31 | 1985-12-16 | Fujitsu Ltd | イメージセンサ |
JPS614376A (ja) * | 1984-06-19 | 1986-01-10 | Olympus Optical Co Ltd | 固体撮像装置 |
JPS61226953A (ja) * | 1985-03-30 | 1986-10-08 | Fujitsu Ltd | イメ−ジセンサ |
JP2563370B2 (ja) * | 1986-12-27 | 1996-12-11 | オリンパス光学工業株式会社 | 焦点検出用光電変換装置 |
Family Cites Families (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4321486A (en) * | 1980-02-22 | 1982-03-23 | Honeywell Inc. | Photodetector signal control in charge transfer device imager |
-
1980
- 1980-04-30 JP JP5750380A patent/JPS56154880A/ja active Granted
-
1981
- 1981-04-28 DE DE19813116785 patent/DE3116785A1/de active Granted
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPS56154880A (en) | 1981-11-30 |
DE3116785A1 (de) | 1982-01-28 |
JPS6161589B2 (de) | 1986-12-26 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
DE3008858C2 (de) | Fotoelektrische Halbleiteranordnung | |
DE1917324C3 (de) | Schaltung zum Umwandeln eines optischen Musters in ein elektrisches Signal | |
DE971860C (de) | Wechselstrom-Steuerschaltung | |
DE68907017T2 (de) | Photoempfindliche vorrichtung mit signalverstaerkung im bereich der photoempfindlichen punkte. | |
DE2213765C3 (de) | Bildaufnahmevorrichtung mit einem Feldeffekttransistor als Sensor | |
DE3345215C2 (de) | Festkörper-Bildaufnahmewandler | |
DE3302725C2 (de) | ||
DE2600962A1 (de) | Verfahren und vorrichtung zur steuerung der ueberstrahlung bei halbleiterbildwandlern | |
DE2210303A1 (de) | Aufnehmer zum Umwandeln eines physikalischen Musters in ein elektrisches Signal als Funktion der Zeit | |
DE3013282A1 (de) | Detektoranordnung fuer ein optisches system | |
DE3006267C2 (de) | Festkörper-Abbildungsanordnung | |
DE3039264A1 (de) | Festkoerper-bildabtastvorrichtung und deren ladungsuebertragungsverfahren | |
DE3116785C2 (de) | ||
DE3784991T2 (de) | Schaltkreis für ein photoempfindliches Pixel mit einem belichteten Blockierglied. | |
EP0026380B1 (de) | Verfahren zur zeilenweisen Abtastung eines kontinuierlich bewegten Bildes unter Abtastung von Tilebildern nach dem Zeilensprungverfahren | |
DE4321789C2 (de) | Festkörperbildwandler | |
DE3725004A1 (de) | Bildaufnahmeanordnung mit einem feststoffbildaufnehmer und einem elektronischen verschluss | |
DE3345238A1 (de) | Festkoerper-bildaufnahmewandler | |
DE2902532C2 (de) | Ladungskopplungsanordnung | |
DE3105910C2 (de) | ||
DE2939403C2 (de) | ||
DE2801495C3 (de) | Vorrichtung zur Erzeugung eines oder mehrerer Bildsignale, die eine Information über die Bildschärfe eines Bildes oder über die Lagedifferenz zwischen zwei Bildern enthalten | |
DE2405843C2 (de) | Strahlungsabtastvorrichtung | |
DE69010450T2 (de) | Programmierbare Integrationszeit für Photosensor. | |
DE68905268T2 (de) | Photoempfindliche matrix mit zwei dioden gleicher polaritaet und einer kapazitaet pro photoempfindlichem punkt. |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
OP8 | Request for examination as to paragraph 44 patent law | ||
8128 | New person/name/address of the agent |
Representative=s name: HENKEL, G., DR.PHIL. FEILER, L., DR.RER.NAT. HAENZ |
|
8125 | Change of the main classification |
Ipc: H01L 27/14 |
|
8127 | New person/name/address of the applicant |
Owner name: KABUSHIKI KAISHA TOSHIBA, KAWASAKI, KANAGAWA, JP |
|
D2 | Grant after examination | ||
8364 | No opposition during term of opposition | ||
8339 | Ceased/non-payment of the annual fee |