DE3148988C2 - Verfahren zur Wärmebehandlung eines Wolframat-Einkristalls - Google Patents

Verfahren zur Wärmebehandlung eines Wolframat-Einkristalls

Info

Publication number
DE3148988C2
DE3148988C2 DE3148988A DE3148988A DE3148988C2 DE 3148988 C2 DE3148988 C2 DE 3148988C2 DE 3148988 A DE3148988 A DE 3148988A DE 3148988 A DE3148988 A DE 3148988A DE 3148988 C2 DE3148988 C2 DE 3148988C2
Authority
DE
Germany
Prior art keywords
single crystal
crystal
oxygen
heat treatment
melting point
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired
Application number
DE3148988A
Other languages
English (en)
Other versions
DE3148988A1 (de
Inventor
Tokuumi Tachikawa Fukazawa
Kazumasa Tokyo Takagi
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Resonac Corp
Original Assignee
Hitachi Chemical Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Hitachi Chemical Co Ltd filed Critical Hitachi Chemical Co Ltd
Publication of DE3148988A1 publication Critical patent/DE3148988A1/de
Application granted granted Critical
Publication of DE3148988C2 publication Critical patent/DE3148988C2/de
Expired legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C01INORGANIC CHEMISTRY
    • C01GCOMPOUNDS CONTAINING METALS NOT COVERED BY SUBCLASSES C01D OR C01F
    • C01G41/00Compounds of tungsten
    • C01G41/006Compounds containing tungsten, with or without oxygen or hydrogen, and containing two or more other elements
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C01INORGANIC CHEMISTRY
    • C01GCOMPOUNDS CONTAINING METALS NOT COVERED BY SUBCLASSES C01D OR C01F
    • C01G41/00Compounds of tungsten
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C30CRYSTAL GROWTH
    • C30BSINGLE-CRYSTAL GROWTH; UNIDIRECTIONAL SOLIDIFICATION OF EUTECTIC MATERIAL OR UNIDIRECTIONAL DEMIXING OF EUTECTOID MATERIAL; REFINING BY ZONE-MELTING OF MATERIAL; PRODUCTION OF A HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; SINGLE CRYSTALS OR HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; AFTER-TREATMENT OF SINGLE CRYSTALS OR A HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; APPARATUS THEREFOR
    • C30B29/00Single crystals or homogeneous polycrystalline material with defined structure characterised by the material or by their shape
    • C30B29/10Inorganic compounds or compositions
    • C30B29/16Oxides
    • C30B29/22Complex oxides
    • C30B29/32Titanates; Germanates; Molybdates; Tungstates
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C30CRYSTAL GROWTH
    • C30BSINGLE-CRYSTAL GROWTH; UNIDIRECTIONAL SOLIDIFICATION OF EUTECTIC MATERIAL OR UNIDIRECTIONAL DEMIXING OF EUTECTOID MATERIAL; REFINING BY ZONE-MELTING OF MATERIAL; PRODUCTION OF A HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; SINGLE CRYSTALS OR HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; AFTER-TREATMENT OF SINGLE CRYSTALS OR A HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; APPARATUS THEREFOR
    • C30B33/00After-treatment of single crystals or homogeneous polycrystalline material with defined structure
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C01INORGANIC CHEMISTRY
    • C01PINDEXING SCHEME RELATING TO STRUCTURAL AND PHYSICAL ASPECTS OF SOLID INORGANIC COMPOUNDS
    • C01P2002/00Crystal-structural characteristics
    • C01P2002/80Crystal-structural characteristics defined by measured data other than those specified in group C01P2002/70
    • C01P2002/84Crystal-structural characteristics defined by measured data other than those specified in group C01P2002/70 by UV- or VIS- data
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C01INORGANIC CHEMISTRY
    • C01PINDEXING SCHEME RELATING TO STRUCTURAL AND PHYSICAL ASPECTS OF SOLID INORGANIC COMPOUNDS
    • C01P2006/00Physical properties of inorganic compounds
    • C01P2006/32Thermal properties
    • C01P2006/33Phase transition temperatures
    • C01P2006/34Melting temperatures
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C01INORGANIC CHEMISTRY
    • C01PINDEXING SCHEME RELATING TO STRUCTURAL AND PHYSICAL ASPECTS OF SOLID INORGANIC COMPOUNDS
    • C01P2006/00Physical properties of inorganic compounds
    • C01P2006/60Optical properties, e.g. expressed in CIELAB-values

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Inorganic Chemistry (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Crystals, And After-Treatments Of Crystals (AREA)
  • Measurement Of Radiation (AREA)
  • Luminescent Compositions (AREA)

Abstract

Die Erfindung betrifft die Wärmebehandlung eines Ein kristalls aus Wolframat, der durch die allgemeine Formel MWO ↓4 dargestellt wird, worin M mindestens ein Element aus der Gruppe Mg, Zn oder Cd bedeutet. Erfindungsgemäß wird der Einkristall auf eine Temperatur unter dem Schmelzpunkt in einer Sauerstoff enthaltenden Atmosphäre erhitzt. Dadurch wird die optische Transmission des Kristalls verbessert.

Description

25
Die Erfindung betrifft ein Verfahren zu Wärmebehandlung eines Wolframat-Einkristalls.
In der Vergangenheit wurde BuGc3Oi2 als Szintillator für Strahlungsdetektoren in Vorrichtungen, wie Tomographie-AbCastvorridnungen *uf Röntgenstrahlbasis, verwendet Dieses war jedoch hinsichtlich der Intensität der Lumineszenz, der Zerfalls it usw. nicht immer zufriedenstellend.
Die Anmelderin hat bereits die Anwendung eines Einkristalls aus Wolframat, der durch die allgemeine Formel MWO4 dargestellt wird, worin M für mindestens ein zweiwertiges Metallelement, wie Mg, Zn und Cd, steht, und einer festen Lösung des zweiwertigen Metallelements und Wolframats, bei einem Szintillator-Materia! für den Nachweis von Strahlung vorgeschlagen. Der Einkristall aus Wolframat wird gemäß dem Czochralski-Verfahren (Zieh-Verfahren) gezüchtet und dann auf die vorbestimmten Größen für SzintiUatoren geschnitten und verwendet Bei einem Szintillator ist eine starke Lumineszenz erforderlich, und die Lumineszenzintensität des Szintillator hängt stark von der Lumineszenzausbeute im Hinblick auf die auftreffende Strahlung und Absorption der Lumineszenz durch den Kristall selbst ab. Es sind eine höhere Lumineszenzausbeute und eine Null-Absorption erwünscht Das Wolframat und die feste Lösung, die mindestens eins der Metalle Mg, Zn und Cd und W enthält, sind ein Szintillatormaterial mit hoher Lumineszenzausbeute bei Zimmertemperatur und Lumineszenzspektren mit Peaks bei Wellenlängen von 480 bis 490 nm. Zur Erhöhung der Lumineszenzintensität des Wolframats ist es erforderlich, aus dem Kristall oder der festen Lösung die Verunreinigungen zu entfernen, die die Lumineszenzausbeute erniedrigen. Jedoch selbst wenn die Konzentration an gesamter Verunreinigung unter 5 ppm liegt zeigen die Kristalle eine helle braune Farbe. Beispielsweise beträgt bei einer ZnWCvKristallplatte, die 2 mm dick ist die Lichtdurchlässigkeit bei einer Wellenlänge bei 480 nm nur 60%, und die niedrige Lichtdurchlässigkeit bewirkt eine Absorption der Lumineszenz, die durch Strahlung erzeugt wird, und demzufolge eine Abnahme in der Lumines
zenzintensität, wie oben beschrieben.
Die GB-PS1534160 betrifft ein Verfahren zur Entfernung von Rissen, die streifenförmig auftreten durch Erhitzen. Durch die Rißbildung wird das Kristallgitter gestört und es treten Gitterleerstellen auf. Angaben wie Leerstellen im Kristallgitter, die durch Fehlen von Sauerstoff und entsprechender Änderung der Wertigkeit der Metallatome gebildet werden, finden sich dieser literaturstelle nicht
In der DE-OS 22 40 301 wird ein Verfahren zur Herstellung von Halbleitereinkristallstäben mit zur Stabmitte abfallendem spezifischen Widerstand beschrieben. Es wird insbesondere ein Verfahren zum Züchten von sinem Siliciumeinkristall durch Zonenschmelzen beschrieben. Der gezüchtete Einkristall weist makroskopische Störungen wie Wachstumsstreifen etc. auf, die hauptsächlich durch eine ungleichmäßige Verteilung von Verunreinigungsatomen verursacht werden. Das Erhitzen erfolgt, um die Atome, die die Verunreinigung bewirken, gleichmäßig zu verteilen.
Zum Stand der Technik wird noch auf die JA-OS 130899/55 verwiesen.
Der vorliegenden Erfindung liegt die Aufgabe zugrunde, durch die Wärme-Behandlung des Wolframat-Einkristalls einen Szintillator mit hoher Lumineszenzintensität zu erhalten.
Dies wird erfindungsgemäß dadurch erreicht daß man einen Einkristall der allgemeinen Formel MWO4, worin M mindestens ein Element aus der Gruppe Mg, Zn und Cd bedeutet, bei einer Temperatur, die niedriger ist als der Schmelzpunkt und höher als eine Temperatur, die 200°C niedriger ist als der Schmelzpunkt in einer Sauerstoff enthaltenden Atmosphäre erhitzt
Bei dem erfindungsgemäßen Verfahren kann man als Wolframat ZnWO4, CdWO4 oder (Zn · Mg)WO4 einsetzen.
In der einzigen Figur ist ein Diagramm dargestellt in dem die Lichtdurchlässigkeitskurve^ vor und nach der Wärmebehandlung eines ZnWO«-Kristalls dargestellt sind.
Die Verfärbung des Wolframat-Kristalls scheint durch Sauerstoff-Leerstellen-Wolframionen und Sauerstoff-Leerstelien-Verunreinigungsionen hervorgerufen tu werden. Dies wird durch die Tatsache bestätigt daß die optische Absorption innerhalb eines breiten Bereichs der Wellenlänge stattfindet und daß im allgemeinen die Oxidschmelze einen hohen Sauerstoffzersetzungsdruck aufweist, so daß der Kristall, der aus der Schmelze erzeugt wird, wahrscheinlich in sauerstoffverarmtem Zustand vorliegt
Erfindungsgemäß wird der gezüchtete Kristall bei einem hohen Sauerstoffpartialdmck erhitzt Dadurch diffundiert der Sauerstoff aus der K.ristalloberfläche in den Kristall, und es werden die Sauerstoff-Leerstellen, die beim Wachstum des Kristalls gebildet werden, beseitigt Die Absorption der Lumineszenz (maximale Lumineszenz-Wellenlänge 480 nm) wird dadurch beseitigt und die Lumineszenzintensität erhöht
Die praktisch bevorzugte Elrwärmungstemperatur liegt so nahe am Schmelzpunkt wie möglich, was eine schnellere Sauerstoffdiffusion bedingt Durch ein Erhitzen bei einer Temperatur, die wenig unter dem Schmelzpunkt liegt wird die Kristalloberfläche beeinträchtigt und es ist daher besser, den Einkristall bei einer Temperatur zu erhitzen, die mindestens 300C niedriger ist als der Schmelzpunkt Andererseits werden keine bemerkenswerten Wirkungen erhalten bei einer Temperatur, die um mindestens 20O0C niedriger ist als
der Schmelzpunkt Das heißt, es ist bevorzugt, den Einkristall innerhalb eines Bereichs der Temperatur, die um 300C niedriger ist als der Schmelzpunkt und der Temperatur, die um 2000C niedriger ist als der Schmelzpunkt zu erhitzen.
Die Atmosphäre beim Erhitzen muß eine Sauerstoff enthaltende Atmosphäre sein. Wenn der Einkristall in einer reduzierenden Atmosphäre erhitzt wird, zersetzt sich die Verbindung. Es ist daher bevorzugt den Einkristall in einer aus einem Inertgas und mindestens 10 VoL-% Sauerstoff enthaltenden Atmosphäre zu erhitzen. Eine Atmosphäre aus 100% Sauerstoff ist nicht nachteilig.
Die folgenden Beispiele erläutern die Erfindung. Beispiel 1
10
15
Zuerst wird ein Beispiel aus Zinkwolframat (ZnWO4) beschrieben. ZnWO4 besitzt einen Schmelzpunkt von 1220 ± 5°C (1190"C entsprechend J. C Brice), und das Einkristallwachstum wird in einem Piatintiegei gemäß dem Czochralski-Verfahren durchgeführt D<üoit eine Zersetzung und eine Verdampfung der Schmsize verhindert wird, wird als Wachstumsatmosphäre Sauerstoff verwendet Ein Einkristall, der aus einem Rohmaterial mit hoher Reinheit gezüchtet wurde, zeigt eine mäßig braune Farbe, und die Lichtdurchlässigkeit des Einkristalls im ultravioletten und sichtbaren Bereich wird durch die Kurve »A« in der Figur dargestellt Die Probe ist 2 mm dick. Wie aus der Durchlässigkeitskurve folgt findet eine breite Absorption statt und die Durchlässigkeit beträgt 60% bei einer maximalen Lumineszenz-Wellenlänge von 480 nm. Wenn der Einkristall in Luft bei 11000C während 30 Stunden erhitzt wird, diffundiert Sauerstoff in den Kristall aus der Kristalloberfläche, und die braunen Kristalle werden hellgelb. Die Tiefe zur Grenze dieser beiden Farben von der Kristalloberfläche, d. h. die Entfernung der Sauerstoffdiffusion ist gerichtet Bei Erhitzungsbedingungen von 1100° C während 30 Stunden beträgt sie 2,4 bis 2,7 mm in den Riehtungen der a-Achse [100] und 6-Achse [010] und 3,2 mm in der Richtung der oAchse [001]. Die Anisotropie der Diffusionstiefe beruht auf der Anisotropie der Kristallstruktur des Wolframats (Einkristall). Die Lichtdurchlässigkeit der gelbgefärbten Kristalle wird durch die Kurve »ß« in der Figur dargestellt Als Folge der Wärmebehandlung erscheint eine neue Absorption bei einer Wellenlänge von 340 bis 420 nm. Aber die Lichtdurchlässigkeit von ZnWCu bei einer maximalen Lumineszenz-Wellenlänge von 480 nm beträgt 72%. Die Korrektur der Lichtdurchlässigkeit durch die Oberflächenreflexion von Zr.WÜ4 mit einem hohen Brechungsindex (n - 2,14) zeigt daß die Lichtdurchlässigkeit keine wesentliche Absorption zeigt
Durch die Beseitigung der Kristallfärbung auf die. oben beschriebene Art wird die Absorption der Lumineszenz erniedrigt und die Lumineszenzintensität wird um 7% erhöht
Die Lumineszenzintensität wird auf folgende Weise bestimmt Der Kristall wird mit ^-Strahlen (Energie: 60 keV) des radioaktiven Isotops 241Am bestrahlt und die erzeugte Lumineszenz wird durch die elektrischen Pulse eines Photoelektronenvervielfachers bestimmt Die Höhe der elektrischen Pulse wird mit einem Wellenlängenanalysator am Peak-Maximum als Fluoreszenzin- es tsnsität bestimmt Die Fluoreszenzintensität von einem CdWCvKristall und (Zn, Mg) WO4-Kristallen wird auf gleiche Weise, bestimmt
Eine Untersuchung der Bedingungen der Wärmebehandlung zeigt daß der Diffusionskoeffizient von Sauerstoff in ZnWO4 1,4 χ 10-'0InVs bei 11800C und 1,2 χ 10-'° m2/s bei 11400C beträgt Es wurde gefunden, daß die Aktivierungsenergie, die aus der Temperaturabhängigkeit des Diffusionskoeffizienten bestimmt wurde, 4,0 χ 10« J beträgt
Beim Erhitzen bei 10600C während 30 Stunden ist andererseits die Diffusionsentfernung 1,7 mm, und ein Erhitzen unterhalb 1000° C ist praktisch ergebnislos.
Es hat sich gezeigt daß keine Entfärbung stattfindet wenn in NrAtmosphäre erhitzt wird. Die gleiche Wirkung wie in Luft wird erhalten, wenn eine NrAtmosphäre, die 10 VoL-% O2 enthält verwendet wird. Eine besonders gute Wirkung wird in einer O2-Atmosphäre erhalten. Es wird jedoch kein Einfluß des Sauerstoffpartialdrucks auf die Diffusionsentfernung bei einem Sauerstoffpartialdruck über 10 VoL-% O2 in N2-Atmosphäre beobachtet
Aus dem vorherigen folgt, daß ein?, bevorzugte Wärmebehandlung für den ZnWG4-Einkri!>iai! das Erhitzen bei einer Temperatur von 10200C bis 11900C in einer Atmosphäre ist die mindestens lOVoL-% Sauerstoff enthält
Beispiel 2
In diesem Beispiel wird die Wärmebehandlung eines Cadmiumwolframat (CdWO4)-Einkristat!s beschrieben. CdWO4 besitzt einen Schmelzpunkt von 1325" C, der somit um 1000C höher ist als der von ZnWO4. Der Einkristall wird nach dem Czochralski-Verfahren auf gleiche Weise wie der ZnWO4-EinkristalI gezüchtet Der gezüchtete CdWO4-Einkristall besitzt eine gelbe Farbe, wird jedoch weniger gelb, wenn er bei einem Sauerstoffpartialdruck von mindestens 10 Vo!.-% auf gleiche Weise wie bei ZnWO4 beschrieben, erhitzt wird. Der Diffusionskoeffizient des Sauerstoffs von der Kristallobirfläche beträgt l,0x 10-|pm2/s bei 12400C und ist im wesentlichen gleich dem von ZnWO4. Die Lumineszenzintensuät erhöht sich um 5%. Man beobachtet keine wesentliche Diffusion bei 1000° C bei CdWO4. Man kann daher sagen, daß ebenso wie bei CdWO4 die Wirkung schlechter ist bei einer Temperatur, die um mindestens 2000C unter dem Schmelzpunkt liegt.
Beispiel 3
Ein MgWO4-EinkristaIi wird nicht direkt aus der Schmelze hergestellt Der Einkristall kann jedoch als feste Lösungen von (Zn · Mg)WO4 wachsen, die 1, 15 oder IC Gew.-% MgWO4 enthalten, gemäß dem Czochralski-Verfahren. Die Wachstumsrate (Zieh-Rate) der Kristalle beträgt 3 mm/h. Die Lumineszenzintensität der entsprechendes gewachsenen Kristalle ist im wesentlichen gleich wie die von ZnWO4. Diese Einkristalle haben im wesentlichen die gleiche Farbe und die gleiche Lichtdurchlässigkeitskurve wie die Einkristalle aus ZnWO4. Der KrisUll, der 10Gew.-% MgWO4 besitzt, besitzt einen Schmelzpunkt, der um etwa 200C höher ist als der von ZnWO4. Er wird bei 1040° C oder höher erhitzt Der Diffusionskoeffizient beträgt l,5xlO-Iom2/s bei 11800C und ist gleich dem von ZnWO4. Die Lumineszenzintensität der festen Lösungen erhöht sich um 7%, vergiichen mit der vor der Wärmebehandlung.
Aus dem vorhergehenden folgt, daß bei der vorliegenden Erfindung die Lumineszenzintensität um 5 bis
7% erhöht werden kann.
Die erfindungsgemäße Wärmebehandlung besitzt außerdem die Wirkung, daß Restspannung in dem Kristall entfernt wird, und erleichtert die Verarbeitung des Einkristalls, der unbehandelt eine hohe Spannung und einen leichten Bruch aufweist.
Hierzu 1 Blatt Zeichnungen
10
15
20
25
30
35
40
50

Claims (4)

Patentansprüche:
1. Verfahren zur Wärmebehandlung eines WoIframat-Einkristalls, dadurch gekennzeichnet, daß man einet: Einkristall der allgemeinen Formel KfWO4, worin M mindestens ein Element aus der Gruppe Mg, Zn und Cd bedeutet, bei einer Temperatur, die niedriger ist als der Schmelzpunkt und höher als eine Temperatur, die 200°C niedriger ist als der Schmelzpunkt, in einer Sauerstoff enthaltenden Atmosphäre erhitzt
2. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß man in einer Atmosphäre erhitzt, die 10 bis 100 VoL-% Sauerstoff und als Rest ein Inertgas enthält
3. Verfahren nach Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet, daß man im Temperaturbereich zwischen 3O*,C niedriger als der Schmelzpunkt und 200° C n'"*i^tvr al« AfT £rhnu»brotnlrt erhitzt.
4. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß der Einkristall nach dem Czochraiski-Verf ahren gezüchtet worden ist
DE3148988A 1980-12-15 1981-12-10 Verfahren zur Wärmebehandlung eines Wolframat-Einkristalls Expired DE3148988C2 (de)

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP55175807A JPS57100999A (en) 1980-12-15 1980-12-15 Heat treatment of single crystal of tungstic acid compound

Publications (2)

Publication Number Publication Date
DE3148988A1 DE3148988A1 (de) 1982-06-24
DE3148988C2 true DE3148988C2 (de) 1986-01-02

Family

ID=16002574

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
DE3148988A Expired DE3148988C2 (de) 1980-12-15 1981-12-10 Verfahren zur Wärmebehandlung eines Wolframat-Einkristalls

Country Status (3)

Country Link
JP (1) JPS57100999A (de)
DE (1) DE3148988C2 (de)
GB (1) GB2089777B (de)

Families Citing this family (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4560877A (en) * 1982-12-29 1985-12-24 General Electric Company Solid state detector module
CN1274887C (zh) * 2001-07-12 2006-09-13 古河机械金属株式会社 制备钨酸盐单晶的方法
JP2003041244A (ja) * 2001-07-25 2003-02-13 Furukawa Co Ltd シンチレータ
JP2005263621A (ja) * 2004-02-17 2005-09-29 Mitsui Mining & Smelting Co Ltd タングステン酸亜鉛単結晶及びその製造方法
JP2005263515A (ja) * 2004-03-16 2005-09-29 Mitsui Mining & Smelting Co Ltd タングステン酸亜鉛単結晶及びその製造方法
WO2005078171A1 (ja) * 2004-02-17 2005-08-25 Mitsui Mining & Smelting Co., Ltd. タングステン酸亜鉛単結晶及びその製造方法
JP2005343753A (ja) * 2004-06-03 2005-12-15 Mitsui Mining & Smelting Co Ltd タングステン酸亜鉛単結晶及びその製造方法
JP2005272274A (ja) * 2004-03-26 2005-10-06 Mitsui Mining & Smelting Co Ltd タングステン酸亜鉛単結晶及びその製造方法
JP5087913B2 (ja) 2006-05-30 2012-12-05 日立化成工業株式会社 シンチレータ用単結晶及びその製造方法

Family Cites Families (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE2240301A1 (de) * 1972-08-16 1974-02-28 Siemens Ag Verfahren zum herstellen von halbleitereinkristallstaeben mit zur stabmitte abfallendem spezifischen widerstand
DE2550154A1 (de) * 1975-11-07 1977-05-12 Alusuisse Thermische behandlung von substratplaettchen

Also Published As

Publication number Publication date
GB2089777A (en) 1982-06-30
GB2089777B (en) 1984-06-13
DE3148988A1 (de) 1982-06-24
JPS57100999A (en) 1982-06-23
JPS646160B2 (de) 1989-02-02

Similar Documents

Publication Publication Date Title
DE69524458T2 (de) Glasmatrix mit zur lumineszenz aktivierten nanokristallinen teilchen
DE68905529T2 (de) Laserkristall aus diamant und verfahren zu seiner herstellung.
DE102011050767B4 (de) Züchtungsverfahren für einen Einkristall-Szintillator-Werkstoff auf der Basis von Oxysilikaten und nach dem Verfahren hergestellter Einkirstall-Szintillator-Werkstoff
DE3148988C2 (de) Verfahren zur Wärmebehandlung eines Wolframat-Einkristalls
DE3714357C2 (de) Siliciumwafer und Verfahren zu dessen Herstellung und Siliziumwafer-Auswahleinrichtung
DE69508473T2 (de) Verfahren zur Herstellung von Silizium-Einkristall und Tiegel aus geschmolzenem Silika dafür
DE2013576B2 (de) Verfahren zum Aufbringen von dotierten und undotierten Kieselsaure filmen auf Halbleiteroberflachen
EP1288171A2 (de) Optische Farbgläser
DE102009046303B4 (de) CaF2-Kristall und optisches Element für einen Laser mit verbesserterLaserbeständigkeit umfassend denselben
DE69008892T2 (de) Verfahren zur Herstellung von Kieselsäure mit einem niedrigen Silanolgehalt.
DE4402258A1 (de) Leuchtstoff mit reduziertem Nachleuchten
DE10304397A1 (de) GSO-Einkristall und Szintillator für die PET
DE1234699B (de) Verfahren zur Herstellung von Lanthanaluminat-Einkristallen
DE2758888C2 (de) Verfahren zur Herstellung reinster Siliciumeinkristalle
DE2811959A1 (de) Verfahren zur herstellung von (u, pu)0 tief 2 -mischkristallen
DE68903228T2 (de) Verfahren zur fluoreszenzverbesserung von ti:al2o3-laser-kristallen.
DE3616427C2 (de)
DE68918821T2 (de) Verfahren zur Fluoreszenzverbesserung von Titandotierten Oxid-Kristallen für abstimmbaren Laser.
DE1108605B (de) Verfahren zur Herstellung von Mangan-Zink-Ferriten
DE2710772C2 (de)
DE2729105A1 (de) Leuchtstoffe, leuchtmassen und damit hergestellte schirme oder folien zur intensivierung der wirkung von roentgenstrahlen
EP0170309A1 (de) Einkristall auf Basis von Seltenerdmetall-Gallium-Granat
DE3001592C2 (de) Dotierter Wismutgermanat-Einkristall
DE4427022A1 (de) Leuchtstoff mit Zusatz zur Verringerung des Nachleuchtens
DE10334513B4 (de) Verfahren zur Herstellung eines Einkristalls aus einem Cerdotierten Gadoliniumsilicat

Legal Events

Date Code Title Description
OP8 Request for examination as to paragraph 44 patent law
D2 Grant after examination
8363 Opposition against the patent
8330 Complete disclaimer