DE3148988C2 - Verfahren zur Wärmebehandlung eines Wolframat-Einkristalls - Google Patents
Verfahren zur Wärmebehandlung eines Wolframat-EinkristallsInfo
- Publication number
- DE3148988C2 DE3148988C2 DE3148988A DE3148988A DE3148988C2 DE 3148988 C2 DE3148988 C2 DE 3148988C2 DE 3148988 A DE3148988 A DE 3148988A DE 3148988 A DE3148988 A DE 3148988A DE 3148988 C2 DE3148988 C2 DE 3148988C2
- Authority
- DE
- Germany
- Prior art keywords
- single crystal
- crystal
- oxygen
- heat treatment
- melting point
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired
Links
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C01—INORGANIC CHEMISTRY
- C01G—COMPOUNDS CONTAINING METALS NOT COVERED BY SUBCLASSES C01D OR C01F
- C01G41/00—Compounds of tungsten
- C01G41/006—Compounds containing tungsten, with or without oxygen or hydrogen, and containing two or more other elements
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C01—INORGANIC CHEMISTRY
- C01G—COMPOUNDS CONTAINING METALS NOT COVERED BY SUBCLASSES C01D OR C01F
- C01G41/00—Compounds of tungsten
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C30—CRYSTAL GROWTH
- C30B—SINGLE-CRYSTAL GROWTH; UNIDIRECTIONAL SOLIDIFICATION OF EUTECTIC MATERIAL OR UNIDIRECTIONAL DEMIXING OF EUTECTOID MATERIAL; REFINING BY ZONE-MELTING OF MATERIAL; PRODUCTION OF A HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; SINGLE CRYSTALS OR HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; AFTER-TREATMENT OF SINGLE CRYSTALS OR A HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; APPARATUS THEREFOR
- C30B29/00—Single crystals or homogeneous polycrystalline material with defined structure characterised by the material or by their shape
- C30B29/10—Inorganic compounds or compositions
- C30B29/16—Oxides
- C30B29/22—Complex oxides
- C30B29/32—Titanates; Germanates; Molybdates; Tungstates
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C30—CRYSTAL GROWTH
- C30B—SINGLE-CRYSTAL GROWTH; UNIDIRECTIONAL SOLIDIFICATION OF EUTECTIC MATERIAL OR UNIDIRECTIONAL DEMIXING OF EUTECTOID MATERIAL; REFINING BY ZONE-MELTING OF MATERIAL; PRODUCTION OF A HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; SINGLE CRYSTALS OR HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; AFTER-TREATMENT OF SINGLE CRYSTALS OR A HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; APPARATUS THEREFOR
- C30B33/00—After-treatment of single crystals or homogeneous polycrystalline material with defined structure
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C01—INORGANIC CHEMISTRY
- C01P—INDEXING SCHEME RELATING TO STRUCTURAL AND PHYSICAL ASPECTS OF SOLID INORGANIC COMPOUNDS
- C01P2002/00—Crystal-structural characteristics
- C01P2002/80—Crystal-structural characteristics defined by measured data other than those specified in group C01P2002/70
- C01P2002/84—Crystal-structural characteristics defined by measured data other than those specified in group C01P2002/70 by UV- or VIS- data
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C01—INORGANIC CHEMISTRY
- C01P—INDEXING SCHEME RELATING TO STRUCTURAL AND PHYSICAL ASPECTS OF SOLID INORGANIC COMPOUNDS
- C01P2006/00—Physical properties of inorganic compounds
- C01P2006/32—Thermal properties
- C01P2006/33—Phase transition temperatures
- C01P2006/34—Melting temperatures
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C01—INORGANIC CHEMISTRY
- C01P—INDEXING SCHEME RELATING TO STRUCTURAL AND PHYSICAL ASPECTS OF SOLID INORGANIC COMPOUNDS
- C01P2006/00—Physical properties of inorganic compounds
- C01P2006/60—Optical properties, e.g. expressed in CIELAB-values
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Inorganic Chemistry (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Crystals, And After-Treatments Of Crystals (AREA)
- Measurement Of Radiation (AREA)
- Luminescent Compositions (AREA)
Abstract
Die Erfindung betrifft die Wärmebehandlung eines Ein kristalls aus Wolframat, der durch die allgemeine Formel MWO ↓4 dargestellt wird, worin M mindestens ein Element aus der Gruppe Mg, Zn oder Cd bedeutet. Erfindungsgemäß wird der Einkristall auf eine Temperatur unter dem Schmelzpunkt in einer Sauerstoff enthaltenden Atmosphäre erhitzt. Dadurch wird die optische Transmission des Kristalls verbessert.
Description
25
Die Erfindung betrifft ein Verfahren zu Wärmebehandlung
eines Wolframat-Einkristalls.
In der Vergangenheit wurde BuGc3Oi2 als Szintillator
für Strahlungsdetektoren in Vorrichtungen, wie Tomographie-AbCastvorridnungen
*uf Röntgenstrahlbasis, verwendet Dieses war jedoch hinsichtlich der Intensität
der Lumineszenz, der Zerfalls it usw. nicht immer
zufriedenstellend.
Die Anmelderin hat bereits die Anwendung eines Einkristalls aus Wolframat, der durch die allgemeine Formel
MWO4 dargestellt wird, worin M für mindestens ein zweiwertiges Metallelement, wie Mg, Zn und Cd, steht,
und einer festen Lösung des zweiwertigen Metallelements
und Wolframats, bei einem Szintillator-Materia! für den Nachweis von Strahlung vorgeschlagen. Der
Einkristall aus Wolframat wird gemäß dem Czochralski-Verfahren
(Zieh-Verfahren) gezüchtet und dann auf die vorbestimmten Größen für SzintiUatoren geschnitten
und verwendet Bei einem Szintillator ist eine starke Lumineszenz erforderlich, und die Lumineszenzintensität
des Szintillator hängt stark von der Lumineszenzausbeute im Hinblick auf die auftreffende Strahlung und
Absorption der Lumineszenz durch den Kristall selbst ab. Es sind eine höhere Lumineszenzausbeute und eine
Null-Absorption erwünscht Das Wolframat und die feste Lösung, die mindestens eins der Metalle Mg, Zn und
Cd und W enthält, sind ein Szintillatormaterial mit hoher
Lumineszenzausbeute bei Zimmertemperatur und Lumineszenzspektren mit Peaks bei Wellenlängen von
480 bis 490 nm. Zur Erhöhung der Lumineszenzintensität des Wolframats ist es erforderlich, aus dem Kristall
oder der festen Lösung die Verunreinigungen zu entfernen, die die Lumineszenzausbeute erniedrigen. Jedoch
selbst wenn die Konzentration an gesamter Verunreinigung unter 5 ppm liegt zeigen die Kristalle eine helle
braune Farbe. Beispielsweise beträgt bei einer ZnWCvKristallplatte, die 2 mm dick ist die Lichtdurchlässigkeit
bei einer Wellenlänge bei 480 nm nur 60%, und die niedrige Lichtdurchlässigkeit bewirkt eine Absorption
der Lumineszenz, die durch Strahlung erzeugt wird, und demzufolge eine Abnahme in der Lumines
zenzintensität, wie oben beschrieben.
Die GB-PS1534160 betrifft ein Verfahren zur Entfernung
von Rissen, die streifenförmig auftreten durch Erhitzen. Durch die Rißbildung wird das Kristallgitter
gestört und es treten Gitterleerstellen auf. Angaben wie Leerstellen im Kristallgitter, die durch Fehlen von Sauerstoff
und entsprechender Änderung der Wertigkeit der Metallatome gebildet werden, finden sich L· dieser
literaturstelle nicht
In der DE-OS 22 40 301 wird ein Verfahren zur Herstellung
von Halbleitereinkristallstäben mit zur Stabmitte abfallendem spezifischen Widerstand beschrieben.
Es wird insbesondere ein Verfahren zum Züchten von sinem Siliciumeinkristall durch Zonenschmelzen beschrieben.
Der gezüchtete Einkristall weist makroskopische Störungen wie Wachstumsstreifen etc. auf, die
hauptsächlich durch eine ungleichmäßige Verteilung von Verunreinigungsatomen verursacht werden. Das
Erhitzen erfolgt, um die Atome, die die Verunreinigung
bewirken, gleichmäßig zu verteilen.
Zum Stand der Technik wird noch auf die JA-OS 130899/55 verwiesen.
Der vorliegenden Erfindung liegt die Aufgabe zugrunde,
durch die Wärme-Behandlung des Wolframat-Einkristalls einen Szintillator mit hoher Lumineszenzintensität
zu erhalten.
Dies wird erfindungsgemäß dadurch erreicht daß man einen Einkristall der allgemeinen Formel MWO4,
worin M mindestens ein Element aus der Gruppe Mg, Zn und Cd bedeutet, bei einer Temperatur, die niedriger
ist als der Schmelzpunkt und höher als eine Temperatur, die 200°C niedriger ist als der Schmelzpunkt in einer
Sauerstoff enthaltenden Atmosphäre erhitzt
Bei dem erfindungsgemäßen Verfahren kann man als Wolframat ZnWO4, CdWO4 oder (Zn · Mg)WO4 einsetzen.
In der einzigen Figur ist ein Diagramm dargestellt in dem die Lichtdurchlässigkeitskurve^ vor und nach der
Wärmebehandlung eines ZnWO«-Kristalls dargestellt sind.
Die Verfärbung des Wolframat-Kristalls scheint durch Sauerstoff-Leerstellen-Wolframionen und Sauerstoff-Leerstelien-Verunreinigungsionen
hervorgerufen tu werden. Dies wird durch die Tatsache bestätigt daß
die optische Absorption innerhalb eines breiten Bereichs der Wellenlänge stattfindet und daß im allgemeinen
die Oxidschmelze einen hohen Sauerstoffzersetzungsdruck aufweist, so daß der Kristall, der aus der
Schmelze erzeugt wird, wahrscheinlich in sauerstoffverarmtem Zustand vorliegt
Erfindungsgemäß wird der gezüchtete Kristall bei einem hohen Sauerstoffpartialdmck erhitzt Dadurch diffundiert
der Sauerstoff aus der K.ristalloberfläche in den Kristall, und es werden die Sauerstoff-Leerstellen, die
beim Wachstum des Kristalls gebildet werden, beseitigt Die Absorption der Lumineszenz (maximale Lumineszenz-Wellenlänge
480 nm) wird dadurch beseitigt und die Lumineszenzintensität erhöht
Die praktisch bevorzugte Elrwärmungstemperatur liegt so nahe am Schmelzpunkt wie möglich, was eine
schnellere Sauerstoffdiffusion bedingt Durch ein Erhitzen bei einer Temperatur, die wenig unter dem
Schmelzpunkt liegt wird die Kristalloberfläche beeinträchtigt und es ist daher besser, den Einkristall bei
einer Temperatur zu erhitzen, die mindestens 300C
niedriger ist als der Schmelzpunkt Andererseits werden keine bemerkenswerten Wirkungen erhalten bei einer
Temperatur, die um mindestens 20O0C niedriger ist als
der Schmelzpunkt Das heißt, es ist bevorzugt, den Einkristall
innerhalb eines Bereichs der Temperatur, die um 300C niedriger ist als der Schmelzpunkt und der Temperatur,
die um 2000C niedriger ist als der Schmelzpunkt
zu erhitzen.
Die Atmosphäre beim Erhitzen muß eine Sauerstoff enthaltende Atmosphäre sein. Wenn der Einkristall in
einer reduzierenden Atmosphäre erhitzt wird, zersetzt sich die Verbindung. Es ist daher bevorzugt den Einkristall
in einer aus einem Inertgas und mindestens 10 VoL-% Sauerstoff enthaltenden Atmosphäre zu erhitzen.
Eine Atmosphäre aus 100% Sauerstoff ist nicht nachteilig.
10
15
Zuerst wird ein Beispiel aus Zinkwolframat (ZnWO4)
beschrieben. ZnWO4 besitzt einen Schmelzpunkt von 1220 ± 5°C (1190"C entsprechend J. C Brice), und das
Einkristallwachstum wird in einem Piatintiegei gemäß dem Czochralski-Verfahren durchgeführt D<üoit eine
Zersetzung und eine Verdampfung der Schmsize verhindert
wird, wird als Wachstumsatmosphäre Sauerstoff verwendet Ein Einkristall, der aus einem Rohmaterial
mit hoher Reinheit gezüchtet wurde, zeigt eine mäßig braune Farbe, und die Lichtdurchlässigkeit des Einkristalls
im ultravioletten und sichtbaren Bereich wird durch die Kurve »A« in der Figur dargestellt Die Probe
ist 2 mm dick. Wie aus der Durchlässigkeitskurve folgt findet eine breite Absorption statt und die Durchlässigkeit
beträgt 60% bei einer maximalen Lumineszenz-Wellenlänge von 480 nm. Wenn der Einkristall in Luft
bei 11000C während 30 Stunden erhitzt wird, diffundiert
Sauerstoff in den Kristall aus der Kristalloberfläche, und die braunen Kristalle werden hellgelb. Die Tiefe zur
Grenze dieser beiden Farben von der Kristalloberfläche, d. h. die Entfernung der Sauerstoffdiffusion ist gerichtet
Bei Erhitzungsbedingungen von 1100° C während
30 Stunden beträgt sie 2,4 bis 2,7 mm in den Riehtungen
der a-Achse [100] und 6-Achse [010] und 3,2 mm
in der Richtung der oAchse [001]. Die Anisotropie der
Diffusionstiefe beruht auf der Anisotropie der Kristallstruktur des Wolframats (Einkristall). Die Lichtdurchlässigkeit
der gelbgefärbten Kristalle wird durch die Kurve »ß« in der Figur dargestellt Als Folge der Wärmebehandlung
erscheint eine neue Absorption bei einer Wellenlänge von 340 bis 420 nm. Aber die Lichtdurchlässigkeit
von ZnWCu bei einer maximalen Lumineszenz-Wellenlänge von 480 nm beträgt 72%. Die Korrektur
der Lichtdurchlässigkeit durch die Oberflächenreflexion von Zr.WÜ4 mit einem hohen Brechungsindex
(n - 2,14) zeigt daß die Lichtdurchlässigkeit keine wesentliche Absorption zeigt
Durch die Beseitigung der Kristallfärbung auf die. oben beschriebene Art wird die Absorption der Lumineszenz
erniedrigt und die Lumineszenzintensität wird um 7% erhöht
Die Lumineszenzintensität wird auf folgende Weise bestimmt Der Kristall wird mit ^-Strahlen (Energie:
60 keV) des radioaktiven Isotops 241Am bestrahlt und
die erzeugte Lumineszenz wird durch die elektrischen Pulse eines Photoelektronenvervielfachers bestimmt
Die Höhe der elektrischen Pulse wird mit einem Wellenlängenanalysator
am Peak-Maximum als Fluoreszenzin- es tsnsität bestimmt Die Fluoreszenzintensität von einem
CdWCvKristall und (Zn, Mg) WO4-Kristallen wird auf
gleiche Weise, bestimmt
Eine Untersuchung der Bedingungen der Wärmebehandlung zeigt daß der Diffusionskoeffizient von Sauerstoff
in ZnWO4 1,4 χ 10-'0InVs bei 11800C und
1,2 χ 10-'° m2/s bei 11400C beträgt Es wurde gefunden,
daß die Aktivierungsenergie, die aus der Temperaturabhängigkeit des Diffusionskoeffizienten bestimmt wurde,
4,0 χ 10« J beträgt
Beim Erhitzen bei 10600C während 30 Stunden ist
andererseits die Diffusionsentfernung 1,7 mm, und ein
Erhitzen unterhalb 1000° C ist praktisch ergebnislos.
Es hat sich gezeigt daß keine Entfärbung stattfindet wenn in NrAtmosphäre erhitzt wird. Die gleiche Wirkung
wie in Luft wird erhalten, wenn eine NrAtmosphäre,
die 10 VoL-% O2 enthält verwendet wird. Eine
besonders gute Wirkung wird in einer O2-Atmosphäre erhalten. Es wird jedoch kein Einfluß des Sauerstoffpartialdrucks
auf die Diffusionsentfernung bei einem Sauerstoffpartialdruck über 10 VoL-% O2 in N2-Atmosphäre
beobachtet
Aus dem vorherigen folgt, daß ein?, bevorzugte Wärmebehandlung
für den ZnWG4-Einkri!>iai! das Erhitzen
bei einer Temperatur von 10200C bis 11900C in einer
Atmosphäre ist die mindestens lOVoL-% Sauerstoff enthält
In diesem Beispiel wird die Wärmebehandlung eines Cadmiumwolframat (CdWO4)-Einkristat!s beschrieben.
CdWO4 besitzt einen Schmelzpunkt von 1325" C, der
somit um 1000C höher ist als der von ZnWO4. Der Einkristall
wird nach dem Czochralski-Verfahren auf gleiche Weise wie der ZnWO4-EinkristalI gezüchtet Der
gezüchtete CdWO4-Einkristall besitzt eine gelbe Farbe,
wird jedoch weniger gelb, wenn er bei einem Sauerstoffpartialdruck von mindestens 10 Vo!.-% auf gleiche Weise
wie bei ZnWO4 beschrieben, erhitzt wird. Der Diffusionskoeffizient
des Sauerstoffs von der Kristallobirfläche beträgt l,0x 10-|pm2/s bei 12400C und ist im wesentlichen
gleich dem von ZnWO4. Die Lumineszenzintensuät
erhöht sich um 5%. Man beobachtet keine wesentliche Diffusion bei 1000° C bei CdWO4. Man kann
daher sagen, daß ebenso wie bei CdWO4 die Wirkung
schlechter ist bei einer Temperatur, die um mindestens 2000C unter dem Schmelzpunkt liegt.
Ein MgWO4-EinkristaIi wird nicht direkt aus der
Schmelze hergestellt Der Einkristall kann jedoch als feste Lösungen von (Zn · Mg)WO4 wachsen, die 1, 15
oder IC Gew.-% MgWO4 enthalten, gemäß dem Czochralski-Verfahren.
Die Wachstumsrate (Zieh-Rate) der Kristalle beträgt 3 mm/h. Die Lumineszenzintensität
der entsprechendes gewachsenen Kristalle ist im wesentlichen gleich wie die von ZnWO4. Diese Einkristalle
haben im wesentlichen die gleiche Farbe und die gleiche Lichtdurchlässigkeitskurve wie die Einkristalle aus
ZnWO4. Der KrisUll, der 10Gew.-% MgWO4 besitzt,
besitzt einen Schmelzpunkt, der um etwa 200C höher ist
als der von ZnWO4. Er wird bei 1040° C oder höher
erhitzt Der Diffusionskoeffizient beträgt l,5xlO-Iom2/s bei 11800C und ist gleich dem von
ZnWO4. Die Lumineszenzintensität der festen Lösungen erhöht sich um 7%, vergiichen mit der vor der Wärmebehandlung.
Aus dem vorhergehenden folgt, daß bei der vorliegenden Erfindung die Lumineszenzintensität um 5 bis
7% erhöht werden kann.
Die erfindungsgemäße Wärmebehandlung besitzt außerdem die Wirkung, daß Restspannung in dem Kristall
entfernt wird, und erleichtert die Verarbeitung des Einkristalls, der unbehandelt eine hohe Spannung und einen
leichten Bruch aufweist.
10
15
20
25
30
35
40
50
Claims (4)
1. Verfahren zur Wärmebehandlung eines WoIframat-Einkristalls,
dadurch gekennzeichnet, daß man einet: Einkristall der allgemeinen
Formel KfWO4, worin M mindestens ein Element aus
der Gruppe Mg, Zn und Cd bedeutet, bei einer Temperatur,
die niedriger ist als der Schmelzpunkt und höher als eine Temperatur, die 200°C niedriger ist
als der Schmelzpunkt, in einer Sauerstoff enthaltenden Atmosphäre erhitzt
2. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet,
daß man in einer Atmosphäre erhitzt, die 10 bis 100 VoL-% Sauerstoff und als Rest ein Inertgas
enthält
3. Verfahren nach Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet, daß man im Temperaturbereich zwischen
3O*,C niedriger als der Schmelzpunkt und 200° C n'"*i^tvr al« AfT £rhnu»brotnlrt erhitzt.
4. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß der Einkristall nach dem Czochraiski-Verf
ahren gezüchtet worden ist
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP55175807A JPS57100999A (en) | 1980-12-15 | 1980-12-15 | Heat treatment of single crystal of tungstic acid compound |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| DE3148988A1 DE3148988A1 (de) | 1982-06-24 |
| DE3148988C2 true DE3148988C2 (de) | 1986-01-02 |
Family
ID=16002574
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| DE3148988A Expired DE3148988C2 (de) | 1980-12-15 | 1981-12-10 | Verfahren zur Wärmebehandlung eines Wolframat-Einkristalls |
Country Status (3)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS57100999A (de) |
| DE (1) | DE3148988C2 (de) |
| GB (1) | GB2089777B (de) |
Families Citing this family (9)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4560877A (en) * | 1982-12-29 | 1985-12-24 | General Electric Company | Solid state detector module |
| CN1274887C (zh) * | 2001-07-12 | 2006-09-13 | 古河机械金属株式会社 | 制备钨酸盐单晶的方法 |
| JP2003041244A (ja) * | 2001-07-25 | 2003-02-13 | Furukawa Co Ltd | シンチレータ |
| JP2005263621A (ja) * | 2004-02-17 | 2005-09-29 | Mitsui Mining & Smelting Co Ltd | タングステン酸亜鉛単結晶及びその製造方法 |
| JP2005263515A (ja) * | 2004-03-16 | 2005-09-29 | Mitsui Mining & Smelting Co Ltd | タングステン酸亜鉛単結晶及びその製造方法 |
| WO2005078171A1 (ja) * | 2004-02-17 | 2005-08-25 | Mitsui Mining & Smelting Co., Ltd. | タングステン酸亜鉛単結晶及びその製造方法 |
| JP2005343753A (ja) * | 2004-06-03 | 2005-12-15 | Mitsui Mining & Smelting Co Ltd | タングステン酸亜鉛単結晶及びその製造方法 |
| JP2005272274A (ja) * | 2004-03-26 | 2005-10-06 | Mitsui Mining & Smelting Co Ltd | タングステン酸亜鉛単結晶及びその製造方法 |
| JP5087913B2 (ja) | 2006-05-30 | 2012-12-05 | 日立化成工業株式会社 | シンチレータ用単結晶及びその製造方法 |
Family Cites Families (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE2240301A1 (de) * | 1972-08-16 | 1974-02-28 | Siemens Ag | Verfahren zum herstellen von halbleitereinkristallstaeben mit zur stabmitte abfallendem spezifischen widerstand |
| DE2550154A1 (de) * | 1975-11-07 | 1977-05-12 | Alusuisse | Thermische behandlung von substratplaettchen |
-
1980
- 1980-12-15 JP JP55175807A patent/JPS57100999A/ja active Granted
-
1981
- 1981-12-10 DE DE3148988A patent/DE3148988C2/de not_active Expired
- 1981-12-14 GB GB8137633A patent/GB2089777B/en not_active Expired
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| GB2089777A (en) | 1982-06-30 |
| GB2089777B (en) | 1984-06-13 |
| DE3148988A1 (de) | 1982-06-24 |
| JPS57100999A (en) | 1982-06-23 |
| JPS646160B2 (de) | 1989-02-02 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| DE69524458T2 (de) | Glasmatrix mit zur lumineszenz aktivierten nanokristallinen teilchen | |
| DE68905529T2 (de) | Laserkristall aus diamant und verfahren zu seiner herstellung. | |
| DE102011050767B4 (de) | Züchtungsverfahren für einen Einkristall-Szintillator-Werkstoff auf der Basis von Oxysilikaten und nach dem Verfahren hergestellter Einkirstall-Szintillator-Werkstoff | |
| DE3148988C2 (de) | Verfahren zur Wärmebehandlung eines Wolframat-Einkristalls | |
| DE3714357C2 (de) | Siliciumwafer und Verfahren zu dessen Herstellung und Siliziumwafer-Auswahleinrichtung | |
| DE69508473T2 (de) | Verfahren zur Herstellung von Silizium-Einkristall und Tiegel aus geschmolzenem Silika dafür | |
| DE2013576B2 (de) | Verfahren zum Aufbringen von dotierten und undotierten Kieselsaure filmen auf Halbleiteroberflachen | |
| EP1288171A2 (de) | Optische Farbgläser | |
| DE102009046303B4 (de) | CaF2-Kristall und optisches Element für einen Laser mit verbesserterLaserbeständigkeit umfassend denselben | |
| DE69008892T2 (de) | Verfahren zur Herstellung von Kieselsäure mit einem niedrigen Silanolgehalt. | |
| DE4402258A1 (de) | Leuchtstoff mit reduziertem Nachleuchten | |
| DE10304397A1 (de) | GSO-Einkristall und Szintillator für die PET | |
| DE1234699B (de) | Verfahren zur Herstellung von Lanthanaluminat-Einkristallen | |
| DE2758888C2 (de) | Verfahren zur Herstellung reinster Siliciumeinkristalle | |
| DE2811959A1 (de) | Verfahren zur herstellung von (u, pu)0 tief 2 -mischkristallen | |
| DE68903228T2 (de) | Verfahren zur fluoreszenzverbesserung von ti:al2o3-laser-kristallen. | |
| DE3616427C2 (de) | ||
| DE68918821T2 (de) | Verfahren zur Fluoreszenzverbesserung von Titandotierten Oxid-Kristallen für abstimmbaren Laser. | |
| DE1108605B (de) | Verfahren zur Herstellung von Mangan-Zink-Ferriten | |
| DE2710772C2 (de) | ||
| DE2729105A1 (de) | Leuchtstoffe, leuchtmassen und damit hergestellte schirme oder folien zur intensivierung der wirkung von roentgenstrahlen | |
| EP0170309A1 (de) | Einkristall auf Basis von Seltenerdmetall-Gallium-Granat | |
| DE3001592C2 (de) | Dotierter Wismutgermanat-Einkristall | |
| DE4427022A1 (de) | Leuchtstoff mit Zusatz zur Verringerung des Nachleuchtens | |
| DE10334513B4 (de) | Verfahren zur Herstellung eines Einkristalls aus einem Cerdotierten Gadoliniumsilicat |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| OP8 | Request for examination as to paragraph 44 patent law | ||
| D2 | Grant after examination | ||
| 8363 | Opposition against the patent | ||
| 8330 | Complete disclaimer |