DE2953233C2 - - Google Patents
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Description
Die Erfindung betrifft einen Gaslaser mit
gepulster Entladung gemäß den im Oberbegriff des
Patentanspruchs 1 angegebenen Merkmalen.
Bei einem in der US-A-40 85 386 beschriebenen Gaslaser,
der als Hochdrucklaser ausgebildet ist, werden zur
Triggerung Hilfselektroden aus dielektrischem Material
benutzt, wobei die Hauptentladung durch Modulation nur
eines kleinen Teils des Gesamtenergieeingangs nach dem
Laserhohlraum gesteuert werden kann. Der
Hauptentladungsspalt des Lasers ist auf eine Spannung
unter der Lichtbogendurchbruchsspannung des
Elektrodenaufbaus unter statischen Bedingungen, aber über
die Glimmentladungsspannung der Elektrodenanordnung
vorgespannt. Wenn die Triggerelektroden gepulst werden,
um freie Elektroden in den Entladungsspalt zu überführen,
wird die Glimmentladung zwischen den Hauptelektroden
eingeleitet. Die dielektrischen Hilfselektroden sind an
eine Triggerimpulsquelle angeschlossen und geerdet. Durch
die Anwendung eines unabhängigen Triggerimpulses aus der
Triggerquelle wird eine Koronaentladung bewirkt und die
freien Elektronen der Koronaentladungen werden in den
Entladebereich überführt, während die
Hauptentladungselektroden die Glimmentladung einleiten.
Eine ähnliche Anordnung ist beschrieben in
US-Z: J. Appl. Phys., Vol. 44, Nr. 9, September 1973, S. 4125-4136,
L. J. Denes, L. A. Weaver "Laser gain characterization of near-atmospheric
CO₂:N₂:He glows in a planar electrode geometry".
Hier bestehen die Hauptentladungselektroden aus poliertem
sauerstofffreiem Kupfer und die Vorionisierungselektroden
aus Keramikmaterial mit hoher Dielektrizitätskonstanten,
die parallel zur optischen Achse des Lasers mit einem
Abstand von etwa 1 cm zu jeder Seite des ebenen Bereichs
der Hauptelektroden verlaufen. Die dielektrische
Entladung wird eingeleitet durch zwei aus Titanoxid
bestehende Zylinder, die mit abgeschrägten Rändern in der
Mittelebene aneinanderstoßen.
Die DE-PS 9 05 283 beschreibt eine elektronische
Glimmröhre mit drei Elektroden, deren eine als
Steuerelektrode für den Einsatz der Entladung zwischen
den Hauptelektroden dient, wobei der Zwischenraum
zwischen der Steuerelektrode und der ihr benachbarten
durch einen Isolator oder Halbleiter überbrückt ist,
derart, daß bei Anlegen einer bestimmten Spannung
zwischen den beiden Hauptelektroden an der Oberfläche des
Halbleiters eine Gleitentladung zustande kommt.
Der Erfindung liegt die Aufgabe zugrunde, bei einem
gattungsgemäßen gepulsten Gaslaser die
Vorionisierungsmittel derart zu verbessern, daß bei
einfachem, kostengünstigem und störunanfälligem Aufbau
eine wirksame Entladung gewährleistet ist.
Gelöst wird die gestellte Aufgabe durch die im
Kennzeichnungsteil des Patentanspruchs 1 angegebenen
Merkmale. Hierdurch wird eine hohe Hintergrundkonzentration
der Elektronen erzeugt, bevor die Hauptentladung
eingeleitet wird. Dadurch kann eine größere Energiemenge
in die Entladung gepumpt werden, ohne daß ein Lichtbogen
zwischen den Hauptentladungselektroden erzeugt wird. Das
Material der Vorionisierungselektroden mit dem angegebenen
mittleren Widerstand ist weder ein Dielektrikum, welches
bei den erwähnten bekannten Gaslasern Anwendung findet,
noch ein guter metallischer Leiter. (Derartige
metallische Leiter in Gestalt von Triggerdrähten wurden
auch bereits zur Vorionisierung benutzt.) Durch die
Verwendung des gekennzeichneten Materials, das bezüglich
seines Widerstandes zwischen den elektrischen Leitern und
den Isolatoren liegt, wird der Vorionisationseffekt in
überraschender Weise verbessert.
Zweckmäßige, für die Vorionisierungselektroden in Frage
kommende Materialien ergeben sich aus Anspruch 2.
Nachstehend werden Ausführungsbeispiele der Erfindung
anhand der Zeichnung beschrieben. In der Zeichnung
zeigt
Fig. 1 eine schematische Schnittansicht des
Gaslasers mit
gepulster Entladung,
Fig. 2 einen Schnitt nach der Linie A-A gemäß
Fig. 1,
Fig. 3a bis 3f verschiedene Ausführungsbeispiele
möglicher Lageanordnungen einer
Vorionisierungselektrode relativ zu den
Hauptentladungselektroden, zum Einsatz bei
einem Gaslaser gemäß Fig. 1.
Gemäß Fig. 1 und 2 besteht der Laser aus einem Gehäuse 7 mit
einem Gaseinlaß 8 zur Einleitung von Lasergas, z. B. einer
Mischung aus Kohlendioxid, Stickstoff und Helium in
Anteilen 10 : 10 : 80, und es ist außerdem ein Gasauslaß 9
vorgesehen. Innerhalb des Gehäuses befinden sich zwei Hauptentladungselektroden
1 und 2. Die Elektroden können aus Messing
hergestellt sein, und sie sind
so profiliert, daß dazwischen eine
gleichmäßige Feldausbreitung erfolgt.
Ein mit 98% reflektierender Hohlspiegel 3 und ein
80% reflektierender ebener Spiegel 4 sind an den Enden des
Gehäuses angeordnet und definieren einen optischen Hohlraum dazwischen.
Im Betrieb strömt die Gasmischung unter atmosphärischem Druck
durch das Gehäuse 7, und die Entladeimpulse
werden den Hauptentladungselektroden von einer herkömmlichen Entlade
schaltung (nicht dargestellt) zugeführt, um eine Glimmentladung
durch das Gas zwischen den Elektroden hindurch zu erzeugen.
Die Entladung findet demgemäß quer zur Richtung der
zwischen den Spiegeln verlaufenden Laserachse statt, und daher
wird in der vorliegenden Beschreibung von einem "quer erregten"
Laser gesprochen. An den gegenüberliegenden Seiten des Ent
ladungsraumes zwischen den Hauptentladungselektroden sind Vorionisierungselektroden
5 und 6 angeordnet, die zwischen den Hauptentladungselektroden verlaufen und
diese berühren. Die Vorionisierungselektroden bestehen aus einem
Material mit einem mittleren Widerstand, d. h. sie sind weder
gute Leiter noch gute Isolatoren. Wenn ein Spannungsimpuls an
die Hauptentladungselektroden angelegt wird, dann führt das Vorhandensein
der Vorionisierungselektroden 5 und 6 zur Erzeugung einer hohen Hintergrund
konzentration von Elektronen innerhalb des Hohlraumes zwischen den
Hauptentladungselektroden, und diese Vorionisation unterstützt die Einleitung
einer Glimmentladung zwischen den Hauptentladungselektroden. Diese Wirkung
scheint eine Folge der Formation von zahlreichen kleinen
elektrischen Lichtbogen zwischen den Hauptentladungselektroden und den
Vorionisierungselektroden zu sein, und die Hauptentladungselektroden erzeugen wahrscheinlich
eine ultraviolette Strahlung, die ihrerseits den Vorionisationseffekt
bewirkt. Demgemäß sollte der Widerstand
des Materials der Vorionisierungselektroden 5 und 6 genügend niedrig sein, um
zu gewährleisten, daß der den Lichtbogen bildende Strom
fließen kann, wobei der Widerstand aber nicht so niedrig
ist, daß die Lichtbogen sich selbst aufrechterhalten oder
aufhören über die Länge jeder Berührungsfläche zwischen den
Hauptentladungselektroden und den Vorionisierungselektroden verteilt aufzutreten. Das heißt,
wenn das Material ein guter Leiter ist, können die Lichtbogen
an nur wenigen im großen Abstand zueinander liegenden
Stellen konzentriert werden und es entstehen kräftige Lichtbogen
mit einer hieraus resultierenden Verschlechterung der
Gleichförmigkeit des Vorionisierungseffektes. Der spezifische
Widerstand sollte demgemäß wenigstens etwa 50 ω cm betragen,
weil unter diesem Wert ein zu großer Anteil der Entladungsenergie
durch die Vorionisierungselektroden fließt und verlorengeht. Es wird
auch angenommen, daß einige Materialien, die spezifische
Widerstände über etwa 750 ω cm besitzen, nachteilige,
nicht lineare Wirkungen ergeben, z. B. Oberflächenkriechströme.
Gemäß einem Ausführungsbeispiel kann der Laser entsprechend der
zeichnerischen Darstellungen Elektroden besitzen, die etwa
155 mm×10 mm groß sind, wobei der Abstand zwischen den
Elektroden etwa 5 mm beträgt. Die Länge des optischen Hohlraums
beträgt etwa 220 mm und die Vorionisierungselektroden besitzen
einen spezifischen Widerstand von 200 ω cm. Sie
bestehen aus Silizium der p-Type und sind ungefähr 1,5 mm
dick. Ein solcher Laser kann mit einer Eingangsenergiedichte von
etwa 90 Joule/Liter gespeist werden und besitzt einen
Wirkungsgrad von etwa 8%.
Für die Vorionisierungselektroden 5 und 6 können andere kristalline Halbleiter
Anwendung finden, beispielsweise polykristallines Germanium
mit 50 ω cm und p-Silizium mit 100 ω cm. Diese Materialien
haben sich im Versuch als befriedigend erwiesen. Es können
jedoch auch andere Materialien als kristalline Halbleiter
benutzt werden, beispielsweise Kohlenstoff und Kohlenstoffverbindungen.
Es braucht auch nur eine Halbleiter-Vorionisierungselektrode benutzt
zu werden, und diese kann in ihren Abmessungen kürzer
sein als die Hauptentladungselektroden. Je kürzer die Abmessung, desto
kürzer wird jedoch die Entladung. Es
ist zweckmäßig, daß die Ränder jener Abschnitte der Hauptentladungselektroden,
zwischen denen die Entladung auftritt und zwischen denen daher
eine Laserwirkung wirksam wird, in der oben beschriebenen Weise
profiliert werden sollten. Wenn eine Entladung über die Länge
der Hauptentladungselektroden auftritt, dann sollten die Enden der Hauptentladungselektroden
ebenso wie die Seiten entsprechend profiliert sein und dies
kann sich jedoch im Hinblick auf die Kosten der spanabhebenden
Bearbeitung der Hauptentladungselektroden niederschlagen, insbesondere soweit
es die Ecken anbetrifft, wo sich die seitlichen und die stirnseitigen
Profile treffen. Wenn die Vorionisierungselektroden
etwas kürzer bemessen werden als die Hauptentladungselektroden, dann kann
an deren Enden keine Entladung auftreten, und in diesem Fall
brauchen diese Enden nicht profiliert zu werden, d. h. die
Hauptentladungselektroden könnten über die gesamte Länge gleichen Querschnitt
aufweisen. Hierdurch können die Herstellungskosten für den
Laser gesenkt werden.
Im folgenden wird auf Fig. 3 Bezug genommen. Hier sind ver
schiedene Stellungen einer Vorionisierungselektrode M relativ
zu den Hauptentladungselektroden beispielsweise dargestellt. In Fig. 3
(a) und in Fig. 3 (b) kann die Vorionisierungselektrode M in
Berührung mit beiden Hauptentladungselektroden 1 und 2 stehen. Bei dem
Ausführungsbeispiel nach Fig. 3 (c) liegt die Vorionisierungselektrode
M im Abstand von beiden Hauptentladungselektroden, und der Abstand für einen
Laser der beschriebenen Bauart könnte bis etwa 1 mm betragen,
er liegt jedoch vorzugsweise bei ungefähr 0,5 mm oder weniger.
Fig. 3 (d) zeigt die Vorionisierungselektrode M in Berührung mit
der unteren Hauptentladungselektrode 2, wobei jedoch ein Spalt zwischen diesem
und der oberen Hauptentladungselektrode 1 verbleibt. Dieser Spalt kann etwa
2 bis 3 mm betragen.
Die Vorionisierungselektrode kann kapazitiv mit einer der Hauptent
ladungselektroden gekoppelt werden, indem beispielsweise ein Blatt oder
eine Schicht dielektrischen Materials 10 zwischen die Vorionisierungselektrode
M und die Hauptentladungselektrode 1 eingefügt wird, wie dies in Fig. 3
(e) dargestellt ist.
Wie aus Fig. 3 (f) dargestellt, liegt die Vorionisierungselektrode M in der
gleichen Ebene wie die Hauptentladungselektrode 2 und es ist eine
metallische Leiterverbindung 11
zwischen die Vorionisierungselektrode M und die Hauptentladungselektrode 1 gelegt. Die Hauptentladungselektrode
2 in Fig. 3 (f) kann etwa 5 mm dick sein und die Vorionisierungselektrode M
ungefähr 2 mm dick. Fig. 3 (f) demonstriert eine weitere mögliche
Abwandlung, die durch die Tatsache bedingt ist, daß
die Vorionisierungselektrode M in diesem Fall in der gleichen Ebene wie die
Hauptentladungselektrode 2 liegt, und demgemäß die Seite des Hohlraumes zwischen
den Hauptentladungselektroden nicht behindert. Diese weitere mögliche
Abwandlung besteht darin, den Laser so anzuordnen, daß der
Laser-Gasstrom im Entladungsraum quer zur Laserachse verläuft.
Dies kann eine bessere Abkühlungswirkung zur Folge haben,
und es kann die Wiederholfrequenz der Entladungsimpulse vergrößert
werden, die an die Hauptentladungselektroden angelegt werden.
In den Fig. 3 (a) bis 3 (e) könnten natürlich Vorionisierungselektroden
jeweils eines auf jeder Seite der Hauptentladungselektroden vorgesehen
werden. In Fig. 3 (f) könnten bis zu vier Vorionisierungselektroden M
vorgesehen werden, und zwar jeweils eines auf jeder Seite
jeder Hauptentladungselektrode.
Claims (3)
1. Gaslaser mit gepulster Entladung
- - mit einem optischen Hohlraum und einer ersten und zweiten Hauptentladungselektrode (1, 2), die zwischen sich einen elektrischen Entladungsraum definieren, durch den die optische Achse des Hohlraums hindurchtritt,
- - mit einer Impulssignalquelle, um den Hauptentladungselektroden elektrische Impulssignale zuzuführen und um die Hauptentladung durch das Gas in dem Entladungsraum zu erzeugen,
- - mit mindestens einer Vorionisierungselektrode (5, 6, M), die benachbart zum Entladungsraum angeordnet ist, wobei sie einen Oberflächenabschnitt aufweist, der sich benachbart zum Entladungsraum in Richtung der optischen Achse erstreckt und wobei beim Anlegen eines Entladungspotentials zwischen den Hauptentladungselektroden ein Stromfluß innerhalb der Vorionisierungselektrode (5, 6, M) auftritt, durch welche das Gas einer Photoionisierung unterworfen wird, die die Hauptentladung einleitet,
dadurch gekennzeichnet,
daß die Vorionisierungselektrode (5, 6, M) aus einem Material besteht, das einen spezifischen Widerstand von 50 Ohm cm bis 750 Ohm cm aufweist.
daß die Vorionisierungselektrode (5, 6, M) aus einem Material besteht, das einen spezifischen Widerstand von 50 Ohm cm bis 750 Ohm cm aufweist.
2. Gaslaser mit gepulster Entladung nach Anspruch 1,
dadurch gekennzeichnet, daß die
Vorionisierungselektrode aus einem kristallinen
Halbleitermaterial, beispielsweise Silizium oder
Germanium, besteht.
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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Family
ID=10500477
Family Applications (1)
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NL (1) | NL7920148A (de) |
SE (1) | SE422259B (de) |
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Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
8110 | Request for examination paragraph 44 | ||
D2 | Grant after examination | ||
8364 | No opposition during term of opposition | ||
8339 | Ceased/non-payment of the annual fee |