JPS6344308B2 - - Google Patents
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- JPS6344308B2 JPS6344308B2 JP54502038A JP50203879A JPS6344308B2 JP S6344308 B2 JPS6344308 B2 JP S6344308B2 JP 54502038 A JP54502038 A JP 54502038A JP 50203879 A JP50203879 A JP 50203879A JP S6344308 B2 JPS6344308 B2 JP S6344308B2
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- discharge
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- discharge electrode
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- main discharge
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Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J17/00—Gas-filled discharge tubes with solid cathode
- H01J17/02—Details
- H01J17/30—Igniting arrangements
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
- H01S3/00—Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
- H01S3/09—Processes or apparatus for excitation, e.g. pumping
- H01S3/097—Processes or apparatus for excitation, e.g. pumping by gas discharge of a gas laser
- H01S3/0971—Processes or apparatus for excitation, e.g. pumping by gas discharge of a gas laser transversely excited
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- H01S3/09716—Processes or apparatus for excitation, e.g. pumping by gas discharge of a gas laser transversely excited with auxiliary ionisation, e.g. double discharge excitation by ionising radiation
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Description
【発明の詳細な説明】
この発明は、パルス放電気体レーザ装置に関す
る。かかる装置は、光学空洞と、第1および第2
の主放電電極であつて、それらの間に放電空間が
存し、かつこの放電空間を光学空洞の光学軸線が
通る主放電電極と、前記放電空間の中の気体を通
す主レーザ励起放電を生成させるために、前記電
極に電気的パルス信号を供給するための、パルス
信号供給手段と、前記気体を光イオン化して前記
主放電の開始を容易にする初期放電を生成させる
ために作動できる、前記放電空間の近くの予イオ
ン化手段とを、包含できる。
る。かかる装置は、光学空洞と、第1および第2
の主放電電極であつて、それらの間に放電空間が
存し、かつこの放電空間を光学空洞の光学軸線が
通る主放電電極と、前記放電空間の中の気体を通
す主レーザ励起放電を生成させるために、前記電
極に電気的パルス信号を供給するための、パルス
信号供給手段と、前記気体を光イオン化して前記
主放電の開始を容易にする初期放電を生成させる
ために作動できる、前記放電空間の近くの予イオ
ン化手段とを、包含できる。
かかる予イオン化によれば、主放電が容易にな
り、さらに、主電極の間に電弧を生成させるなど
の結果を生じることなしに、大量のエネルギが、
放電の中に注入できる。予イオン化手段は、静電
放射によつて気体を予イオン化するような形の放
電を生じるように作動でき、これは、例えば、一
方の主電極の近くまで延長する引金ワイヤを包含
でき、この引金ワイヤは、電極とこのワイヤの間
に静電放電を生じるように作動でき、或いは、光
イオン化放電を生じるように作動できる。かくし
て、これは、例えばジヤーナル・オブ・アプライ
ド・フイジクス(J.appl.Phys.)第44巻第8号に
「U.V.で開示される高電圧T.E.A.レーザ放電のた
めの簡単な電極構造」と題して開示されているよ
うに、紫外光線を主放射空間の中に放射しその中
で気体を光イオン化させる一連の電弧放電および
火花放電またはそのいずれかを、主放電空間の近
くで形成させるための、多くのピン電極の形を取
ることができる。
り、さらに、主電極の間に電弧を生成させるなど
の結果を生じることなしに、大量のエネルギが、
放電の中に注入できる。予イオン化手段は、静電
放射によつて気体を予イオン化するような形の放
電を生じるように作動でき、これは、例えば、一
方の主電極の近くまで延長する引金ワイヤを包含
でき、この引金ワイヤは、電極とこのワイヤの間
に静電放電を生じるように作動でき、或いは、光
イオン化放電を生じるように作動できる。かくし
て、これは、例えばジヤーナル・オブ・アプライ
ド・フイジクス(J.appl.Phys.)第44巻第8号に
「U.V.で開示される高電圧T.E.A.レーザ放電のた
めの簡単な電極構造」と題して開示されているよ
うに、紫外光線を主放射空間の中に放射しその中
で気体を光イオン化させる一連の電弧放電および
火花放電またはそのいずれかを、主放電空間の近
くで形成させるための、多くのピン電極の形を取
ることができる。
上述した知られているシステムのおのおのは、
その応用面に依存した大なり小なり重要である欠
点を有し、この発明の一目的は、幾つかの応用面
に対して知られているものよりも有利な、気体レ
ーザのための従来の代りの予イオン化配備を提供
することにある。別の目的は、気体レーザ装置ま
たは他の気体放電装置における放電の効率を改善
するための、簡単かつ丈夫で、費用の安い予イオ
ン化システムを提供することにある。
その応用面に依存した大なり小なり重要である欠
点を有し、この発明の一目的は、幾つかの応用面
に対して知られているものよりも有利な、気体レ
ーザのための従来の代りの予イオン化配備を提供
することにある。別の目的は、気体レーザ装置ま
たは他の気体放電装置における放電の効率を改善
するための、簡単かつ丈夫で、費用の安い予イオ
ン化システムを提供することにある。
この発明によれば、光学空洞と、第1および第
2の主放電電極であつて、それらの間に放電空間
が存し、かつこの放電空間を光学空洞の光学軸線
が通る主放電電極と、前記放電空間の中の気体を
通る主レーザ励起放電を生成させるために、前記
電極に電気的パルス信号を供給するための、パル
ス信号供給手段と、前記気体を光イオン化して前
記主放電の開始を容易にする初期放電を生成させ
るために作動できる、前記空間の近くの予イオン
化手段とを有する、パルス放電気体レーザ装置に
おいて、前記予イオン化手段が、少くとも1個の
予イオン化放電電極部材からなり、前記予イオン
化部材が、前記光学軸線の大体の方向に前記放電
空間の近くで延長する表面部分を備え、かつ中間
抵抗率を有する材料で作られ、前記パルス信号供
給手段によつて供給される各パルス信号の一部分
が電流として予イオン化部材を流過するように、
かつ、各主放電に対して、予イオン化部材の前記
表面部分に沿つて実質的に均等に分布される初期
光イオン化効果と、これに応じて、放電空間の光
学軸線方向に沿つて実質的に一様な気体予イオン
化効果とが生じるように、前記予イオン化部材が
配置されていることを特徴とする装置、が提供さ
れる。
2の主放電電極であつて、それらの間に放電空間
が存し、かつこの放電空間を光学空洞の光学軸線
が通る主放電電極と、前記放電空間の中の気体を
通る主レーザ励起放電を生成させるために、前記
電極に電気的パルス信号を供給するための、パル
ス信号供給手段と、前記気体を光イオン化して前
記主放電の開始を容易にする初期放電を生成させ
るために作動できる、前記空間の近くの予イオン
化手段とを有する、パルス放電気体レーザ装置に
おいて、前記予イオン化手段が、少くとも1個の
予イオン化放電電極部材からなり、前記予イオン
化部材が、前記光学軸線の大体の方向に前記放電
空間の近くで延長する表面部分を備え、かつ中間
抵抗率を有する材料で作られ、前記パルス信号供
給手段によつて供給される各パルス信号の一部分
が電流として予イオン化部材を流過するように、
かつ、各主放電に対して、予イオン化部材の前記
表面部分に沿つて実質的に均等に分布される初期
光イオン化効果と、これに応じて、放電空間の光
学軸線方向に沿つて実質的に一様な気体予イオン
化効果とが生じるように、前記予イオン化部材が
配置されていることを特徴とする装置、が提供さ
れる。
有利な方式として、前記予イオン化部材が、第
1主放電電極に実質的に近接しまたは物理的に接
触し、前記予イオン化部材が第2主放電電極と結
合され、前記初期放電が、前記予イオン化部材の
前記表面部分と前記第1主放電電極との間で起る
ようにできる。
1主放電電極に実質的に近接しまたは物理的に接
触し、前記予イオン化部材が第2主放電電極と結
合され、前記初期放電が、前記予イオン化部材の
前記表面部分と前記第1主放電電極との間で起る
ようにできる。
この場合に、前記予イオン化部材のそれぞれの
表面部材が、双方の前記主放電電極のそれぞれに
実質的に近接しまたは接触し、これによつて、別
の分布された予イオン化放電が、予イオン化部材
と第2主放電電極との間で起るようにすることが
望ましい。その代りに、予イオン化部材が、第2
主放電電極に容量的に結合されてもよく、その際
に、例えば、予イオン化部材が、介在する誘電材
料のシートによつて前記第2主放電電極から離さ
れる。
表面部材が、双方の前記主放電電極のそれぞれに
実質的に近接しまたは接触し、これによつて、別
の分布された予イオン化放電が、予イオン化部材
と第2主放電電極との間で起るようにすることが
望ましい。その代りに、予イオン化部材が、第2
主放電電極に容量的に結合されてもよく、その際
に、例えば、予イオン化部材が、介在する誘電材
料のシートによつて前記第2主放電電極から離さ
れる。
1つの有利な実施例によれば、気体が前記放電
空間を横に流過できるようにするため、予イオン
化部材が、この放電空間の各側を実質的にさまた
げないように、前記第1主放電電極と並んで配置
され、予イオン化部材が、導電手段によつて第2
主放電電極に結合される。
空間を横に流過できるようにするため、予イオン
化部材が、この放電空間の各側を実質的にさまた
げないように、前記第1主放電電極と並んで配置
され、予イオン化部材が、導電手段によつて第2
主放電電極に結合される。
予イオン化部材の前記表面部分が、放電空間の
長さの少くとも大半部分に沿つて、前記光学軸線
に沿う方向に延長することが望ましい。勿論、2
個またはそれ以上の予イオン化部材が配置でき、
これらは、望ましくは、放電空間のそれぞれの側
部に配置される。
長さの少くとも大半部分に沿つて、前記光学軸線
に沿う方向に延長することが望ましい。勿論、2
個またはそれ以上の予イオン化部材が配置でき、
これらは、望ましくは、放電空間のそれぞれの側
部に配置される。
この明細書の全体にわたつて、「中間抵抗率の
材料」とは、誘電体でもなく、金属のような良導
体でもない材料を意味し、かかる材料には、例え
ば結晶性半導体のような材料、並びに抵抗を作る
に使用されるような炭素および炭素組成物、が包
含される。材料の抵抗率が低過ぎまたは高過ぎる
と、予イオン化効果が低下しまたは全く消滅する
から、特定の材料の適合性および抵抗率の有用範
囲は、実験によつて容易に決定できる。適当な材
料の選択に関するその他の情報は、この明細書の
後段において与えられる。
材料」とは、誘電体でもなく、金属のような良導
体でもない材料を意味し、かかる材料には、例え
ば結晶性半導体のような材料、並びに抵抗を作る
に使用されるような炭素および炭素組成物、が包
含される。材料の抵抗率が低過ぎまたは高過ぎる
と、予イオン化効果が低下しまたは全く消滅する
から、特定の材料の適合性および抵抗率の有用範
囲は、実験によつて容易に決定できる。適当な材
料の選択に関するその他の情報は、この明細書の
後段において与えられる。
望ましくは、材料の抵抗率50オームcmと750オ
ームcmの間にある。さらに、炭素および炭素組成
物のような別の材料も使用できると述べたけれど
も、最良の結果は、今までのところ、上述したよ
うな結晶性半導体材料例えばシリコンおよびゲル
マニウムによつて得られた。
ームcmの間にある。さらに、炭素および炭素組成
物のような別の材料も使用できると述べたけれど
も、最良の結果は、今までのところ、上述したよ
うな結晶性半導体材料例えばシリコンおよびゲル
マニウムによつて得られた。
この発明の実施例について、図面を参照しなが
ら、以下に説明する。
ら、以下に説明する。
第1図および第2図を参照すれば、レーザ装置
は、例えば10:10:80の割合の二酸化炭素、窒素
およびヘリウムの混合物であるレーザ気体を受取
るための気体入口8と気体出口9とを備えた室を
有する。室の中には、2つの電極1および2が存
する。電極は、黄銅その他の当適な金属で製造で
き、望ましくは、これら電極の間に一様な電界分
布を与えるような形状に形成された端縁を有す
る。例えば、端縁は、図示のように丸められた形
状に形成でき、或いは当業界でロゴスキー
(Rogowski)の形状として知らている形状また
はこれに近似した形状に形成できる。98%反射凹
面鏡3および80%反射平面鏡4は、室の各端にそ
れぞれ配置されて、これらの間に光学空洞を限定
する。レーザ装置の使用の際に、気体混合物が、
実質的に大気圧で、室7を通して流され、放電パ
ルスが、普通の放電回路(図示なし)から電極に
印加されて、電極間に気体を通るグロー放電を生
成させる。かくして放電は、光学空洞の光学軸線
の方向(すなわち、レーザ光線の軸線の鏡の間の
方向)に横向きであり、故にレーザ装置は、「横
向きに励起される」として記載される。電極間の
放電空間の両側には、予イオン化部材5および6
がそれぞれ配備され、これらは、電極の間で広が
り、かつこれらのおのおのに接触する。かくし
て、予イオン化部材5および6のおのおのは、電
極1および2のそれぞれに物理的に接触する2つ
の表面部分を有し、これら表面部分は、光学空洞
の光学軸線に平行に、放電空間に沿つて延長す
る。予イオン化部材は、中間抵抗率を有する材料
で作られる、すなわち良導体でもなく良絶縁体で
もない。電圧パルスが、電極の間に印加されると
きに、その一部分は、電流として、両予イオン化
部材5および6を通つて流れ、電極と接触するイ
オン化部材の表面部分に、イオン化部材のこれら
表面部分に沿つて実質上均等に分布される放電が
生じる。各放電は、電極と予イオン化部材の間の
多くの小さな電弧からなり、この電弧が紫外放射
を生じ、これが次いで、予イオン化効果を生じ
る。故に、予イオン化部材5および6を形成する
材料の抵抗率は、確実に電弧形成電流が流れるこ
とができる程度に充分に低くなければならない
が、電弧が自己維持性を有するようになる程度ま
で、または電弧が電極と接触する予イオン化部材
の各表面部分の長さに渉つて良好に分布されない
ようになる程度まで、低くてはならない(すなわ
ち、材料が良導体であると、電弧は、いくつかの
広く離れた強い電弧だけに集中するようになり、
その結果として、予イオン化効果の一様性が低下
するかも知れない)。抵抗率を少くとも約50オー
ムcmにすることは望ましい、何故ならば、これ以
下であると、多すぎる放電電流が、予イオン化部
材を流過し、浪費されるからである。また約750
オームcm程度以上の抵抗率を有する或る材料は、
表面トラツキングのような異常な非直線効果を呈
するかも知れない。しかしながら、範囲50から
750オームcmの外側の特にそれ以上の抵抗率を有
する或る材料も、充分に有効でないとしても、使
用でき費用の点から有利であることが見出される
かも知られない。
は、例えば10:10:80の割合の二酸化炭素、窒素
およびヘリウムの混合物であるレーザ気体を受取
るための気体入口8と気体出口9とを備えた室を
有する。室の中には、2つの電極1および2が存
する。電極は、黄銅その他の当適な金属で製造で
き、望ましくは、これら電極の間に一様な電界分
布を与えるような形状に形成された端縁を有す
る。例えば、端縁は、図示のように丸められた形
状に形成でき、或いは当業界でロゴスキー
(Rogowski)の形状として知らている形状また
はこれに近似した形状に形成できる。98%反射凹
面鏡3および80%反射平面鏡4は、室の各端にそ
れぞれ配置されて、これらの間に光学空洞を限定
する。レーザ装置の使用の際に、気体混合物が、
実質的に大気圧で、室7を通して流され、放電パ
ルスが、普通の放電回路(図示なし)から電極に
印加されて、電極間に気体を通るグロー放電を生
成させる。かくして放電は、光学空洞の光学軸線
の方向(すなわち、レーザ光線の軸線の鏡の間の
方向)に横向きであり、故にレーザ装置は、「横
向きに励起される」として記載される。電極間の
放電空間の両側には、予イオン化部材5および6
がそれぞれ配備され、これらは、電極の間で広が
り、かつこれらのおのおのに接触する。かくし
て、予イオン化部材5および6のおのおのは、電
極1および2のそれぞれに物理的に接触する2つ
の表面部分を有し、これら表面部分は、光学空洞
の光学軸線に平行に、放電空間に沿つて延長す
る。予イオン化部材は、中間抵抗率を有する材料
で作られる、すなわち良導体でもなく良絶縁体で
もない。電圧パルスが、電極の間に印加されると
きに、その一部分は、電流として、両予イオン化
部材5および6を通つて流れ、電極と接触するイ
オン化部材の表面部分に、イオン化部材のこれら
表面部分に沿つて実質上均等に分布される放電が
生じる。各放電は、電極と予イオン化部材の間の
多くの小さな電弧からなり、この電弧が紫外放射
を生じ、これが次いで、予イオン化効果を生じ
る。故に、予イオン化部材5および6を形成する
材料の抵抗率は、確実に電弧形成電流が流れるこ
とができる程度に充分に低くなければならない
が、電弧が自己維持性を有するようになる程度ま
で、または電弧が電極と接触する予イオン化部材
の各表面部分の長さに渉つて良好に分布されない
ようになる程度まで、低くてはならない(すなわ
ち、材料が良導体であると、電弧は、いくつかの
広く離れた強い電弧だけに集中するようになり、
その結果として、予イオン化効果の一様性が低下
するかも知れない)。抵抗率を少くとも約50オー
ムcmにすることは望ましい、何故ならば、これ以
下であると、多すぎる放電電流が、予イオン化部
材を流過し、浪費されるからである。また約750
オームcm程度以上の抵抗率を有する或る材料は、
表面トラツキングのような異常な非直線効果を呈
するかも知れない。しかしながら、範囲50から
750オームcmの外側の特にそれ以上の抵抗率を有
する或る材料も、充分に有効でないとしても、使
用でき費用の点から有利であることが見出される
かも知られない。
単に例として、図示のように構成されたレーザ
装置は、約5mm相離れた約150mm×10mmの面積の
電極、それらの間の約220mmの長さの光学空洞、
および約1.5mmの厚さの200オームcmのP型シリコ
ンで作られた予イオン化部材を有することができ
る。このようなレーザ装置は、約90ジユール/リ
ツトルの入力エネルギ密度を備え、約8%の効率
を有するであろう。
装置は、約5mm相離れた約150mm×10mmの面積の
電極、それらの間の約220mmの長さの光学空洞、
および約1.5mmの厚さの200オームcmのP型シリコ
ンで作られた予イオン化部材を有することができ
る。このようなレーザ装置は、約90ジユール/リ
ツトルの入力エネルギ密度を備え、約8%の効率
を有するであろう。
別の結晶性半導体も、予イオン化部材5および
6に使用でき、例えば、50オームcmの多結晶性ゲ
ルマニウムおよび100オームcmのP型シリコンが、
試験に成功している。また、このような結晶性半
導体以外の材料、例えば炭素および炭素組成物
も、使用できる。
6に使用でき、例えば、50オームcmの多結晶性ゲ
ルマニウムおよび100オームcmのP型シリコンが、
試験に成功している。また、このような結晶性半
導体以外の材料、例えば炭素および炭素組成物
も、使用できる。
上述し図示したレーザ装置は、気体の中へ光花
を導入するための二重放電系または静電引金ワイ
ヤを、全く備えていない。
を導入するための二重放電系または静電引金ワイ
ヤを、全く備えていない。
1個だけの半導体予イオン化部材が必要であ
り、これは、電極よりも長さを短くできるが、こ
の長さが短くなるほど、放電が短くなる。或る状
態では、この効果を、後述するように、有利なも
のにすることも可能である。その間で放電が起
り、従つてその間でレーザ作用が起るような電極
の部分において、その端縁を前述したような形状
に形成することは望ましい。放電が電極の長さに
渉つて生じる場合には、その端部は、側部と同様
の形状に形成されるべきであり、このことは、特
に側部と端部が出会う角隅に関して、電極の機械
加工の費用に反映するかも知れない。予イオン化
部材が電極より若干短い場合には、放電は、その
端部では生起せず、この場合には、これら端部
は、特別の形状に形成する必要がなく、よつて電
極は、全体に渉つて同じ横断面を有するようにで
きる。これは、レーザ装置の生産費用を低減でき
る。
り、これは、電極よりも長さを短くできるが、こ
の長さが短くなるほど、放電が短くなる。或る状
態では、この効果を、後述するように、有利なも
のにすることも可能である。その間で放電が起
り、従つてその間でレーザ作用が起るような電極
の部分において、その端縁を前述したような形状
に形成することは望ましい。放電が電極の長さに
渉つて生じる場合には、その端部は、側部と同様
の形状に形成されるべきであり、このことは、特
に側部と端部が出会う角隅に関して、電極の機械
加工の費用に反映するかも知れない。予イオン化
部材が電極より若干短い場合には、放電は、その
端部では生起せず、この場合には、これら端部
は、特別の形状に形成する必要がなく、よつて電
極は、全体に渉つて同じ横断面を有するようにで
きる。これは、レーザ装置の生産費用を低減でき
る。
次ぎに第3図を参照すれば、電極に対する予イ
オン化部材Mの可能な位置が、単に例示として、
ここに図示される。第3図aおよびbに示される
ように、予イオン化部材Mは、電極1,2の双方
に接触できる。第3図cにおいて、予イオン化部
材Mは、双方の電極から離れるとして図示され、
前述したようなレーザ装置に対して、間隔は、約
1mmまで、望ましくは約0.5mmまたはそれ以下で
ある。第3図dは、下方の電極2には接触するけ
れども、上方の電極1との間に間隙を残すよう
な、予イオン化部材Mを示す。この間隙は、約2
―3mmにできる。
オン化部材Mの可能な位置が、単に例示として、
ここに図示される。第3図aおよびbに示される
ように、予イオン化部材Mは、電極1,2の双方
に接触できる。第3図cにおいて、予イオン化部
材Mは、双方の電極から離れるとして図示され、
前述したようなレーザ装置に対して、間隔は、約
1mmまで、望ましくは約0.5mmまたはそれ以下で
ある。第3図dは、下方の電極2には接触するけ
れども、上方の電極1との間に間隙を残すよう
な、予イオン化部材Mを示す。この間隙は、約2
―3mmにできる。
予イオン化部材は、容量的に電極の一方に結合
でき、例えば第3図eに示されるように、誘電材
料のシートまたは層10が、予イオン化部材Mと
電極1の間に介在できる。
でき、例えば第3図eに示されるように、誘電材
料のシートまたは層10が、予イオン化部材Mと
電極1の間に介在できる。
第3図fにおいては、予イオン化部材Mが、電
極2と同じ平面の中に位置し、針金11などの金
属導電部材が、予イオン化部材Mと電極1の間に
連結される。第3図fで、電極2の厚さは約5
mm、また予イオン化部材Mの厚さは、約2mmであ
る。第3図fの変型では、予イオン化部材Mは、
電極2と同じ平面の中に位置し、従つて電極間の
空間の側方をふさぐことがない。この変型ではさ
らに、レーザ軸線に横向きにレーザ気体が放電空
間を流過するように、レーザ装置が配備できる。
これは、良好な冷却効果を与えることができ、従
つて、電極に印加される放電パルスの繰返し頻度
を増大させることができる。
極2と同じ平面の中に位置し、針金11などの金
属導電部材が、予イオン化部材Mと電極1の間に
連結される。第3図fで、電極2の厚さは約5
mm、また予イオン化部材Mの厚さは、約2mmであ
る。第3図fの変型では、予イオン化部材Mは、
電極2と同じ平面の中に位置し、従つて電極間の
空間の側方をふさぐことがない。この変型ではさ
らに、レーザ軸線に横向きにレーザ気体が放電空
間を流過するように、レーザ装置が配備できる。
これは、良好な冷却効果を与えることができ、従
つて、電極に印加される放電パルスの繰返し頻度
を増大させることができる。
第3図のaからeでは、勿論、電極の各側に1
個づつの、計2個の予イオン化部材が配備でき
る。第3図fでは、各電極の各側縁に1個づつの
計4個までの、予イオン化部材が配備できる。
個づつの、計2個の予イオン化部材が配備でき
る。第3図fでは、各電極の各側縁に1個づつの
計4個までの、予イオン化部材が配備できる。
図面において、第1図は、横向きに励起される
気体レーザ装置の光学空洞の略示横断面図であ
る。第2図は、第1図のA―A線に沿う断面図で
ある。第3図は、第1図のレーザ装置に使用され
る予イオン化部材の可能な位置のいくつかの例を
示す図である。 図面において、1および2は主放電電極、5,
6およびMは予イオン化放電電極部材(予イオン
化部材)を示す。
気体レーザ装置の光学空洞の略示横断面図であ
る。第2図は、第1図のA―A線に沿う断面図で
ある。第3図は、第1図のレーザ装置に使用され
る予イオン化部材の可能な位置のいくつかの例を
示す図である。 図面において、1および2は主放電電極、5,
6およびMは予イオン化放電電極部材(予イオン
化部材)を示す。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1 光学空洞と、第1および第2の主放電電極で
あつて、それらの間に放電空間が存し、かつこの
放電空間を光学空洞の光学軸線が通る主放電電極
と、前記放電空間の中の気体を通る主レーザ励起
放電を生成させるために、前記電極に電気的パル
ス信号を供給するための、パルス信号供給手段
と、前記気体を光イオン化して前記主放電の開始
を容易にする初期放電を生成させるために作動で
きる、前記空間の近くの予イオン化手段とを有す
る、パルス放電気体レーザ装置において、前記予
イオン化手段が、少くとも1個の予イオン化放電
電極部材からなり、前記予イオン化部材が、前記
光学軸線の大体の方向に前記放電空間の近くで延
長する表面部分を備え、かつ中間抵抗率を有する
材料で作られ、前記パルス信号供給手段によつて
供給される各パルス信号の一部分が電流として予
イオン化部材を流過するように、かつ、各主放電
に対して、予イオン化部材の前記表面部分に沿つ
て実質的に均等に分布される初期光イオン化放電
と、これに応じて、放電空間の光学軸線方向に沿
つて実質的に一様な気体予イオン化効果とが生じ
るように、前記予イオン化部材が配置されている
ことを特徴とする装置。 2 前記予イオン化部材の前記表面部分が、第1
主放電電極に実質的に近接しまたは物理的に接触
し、前記予イオン化部材が第2主放電電極と結合
され、前記初期放電が、前記予イオン化部材の前
記表面部分と前記第1主放電電極との間で起る、
特許請求の範囲第1項に記載の装置。 3 前記予イオン化部材のそれぞれの表面部材
が、双方の前記主放電電極のそれぞれに実質的に
近接しまたは接触し、これによつて、別の分布さ
れた予イオン化放電が、予イオン化部材と第2主
放電電極との間で起る特許請求の範囲第2項に記
載の装置。 4 予イオン化部材が、第2主放電電極に容量的
に結合される、特許請求の範囲第2項に記載の装
置。 5 予イオン化部材が、前記容量的結合を提供す
るため、介在する誘電材料のシートによつて前記
第2主放電電極から離される、特許請求の範囲第
4項に記載の装置。 6 気体が前記放電空間を横に流過できるように
するため、予イオン化部材が、この放電空間の各
側を実質的にさまたげないように、前記第1主放
電電極と並んで配置され、予イオン化部材が、導
電手段によつて第2主放電電極に結合される、特
許請求の範囲の範囲第2項に記載の装置。 7 前記予イオン化部材の前記表面部分が、前記
放電空間の長さの少くとも大半部分に沿つて、前
記光学軸線に沿う方向に延長する、特許請求の範
囲第1項から第6項のいずれか1項に記載の装
置。 8 前記抵抗率が50オームcmと750オームcmの間
である、特許請求の範囲第1項から第7項のいず
れか1項に記載の装置。 9 予イオン化部材が、シリコンまたはゲルマニ
ウムのような結晶性半導体で作られる、特許請求
の範囲第1項から第8項のいずれか1項に記載の
装置。 10 少くとも1つの別の予イオン化放電電極部
材を包含し、予イオン化部材が、前記空間のそれ
ぞれの側に配置される、特許請求の範囲第1項か
ら第9項のいずれか1項に記載の装置。
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
GB7841376 | 1978-10-20 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS55501119A JPS55501119A (ja) | 1980-12-11 |
JPS6344308B2 true JPS6344308B2 (ja) | 1988-09-05 |
Family
ID=10500477
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP54502038A Expired JPS6344308B2 (ja) | 1978-10-20 | 1979-10-19 |
Country Status (8)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US4387463A (ja) |
EP (1) | EP0020624B1 (ja) |
JP (1) | JPS6344308B2 (ja) |
DE (1) | DE2953233T1 (ja) |
GB (1) | GB2053556B (ja) |
NL (1) | NL7920148A (ja) |
SE (1) | SE422259B (ja) |
WO (1) | WO1980000898A1 (ja) |
Families Citing this family (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
IT1170739B (it) * | 1981-02-20 | 1987-06-03 | Selenia Ind Elettroniche | Integratore di preionizzazione con interruttore a.t. per laser a gas impulsato |
GB2098791B (en) * | 1981-04-23 | 1985-02-20 | United Technologies Corp | Sealed-off co2 laser |
US4504955A (en) * | 1982-08-13 | 1985-03-12 | At&T Bell Laboratories | Low voltage operation of arc discharge devices |
GB2279175B (en) * | 1988-07-07 | 1997-07-02 | Us Energy | Improved laser beam generating apparatus |
US4905250A (en) * | 1987-11-13 | 1990-02-27 | The European Atomic Energy Community | Pre-ionizing electrode arrangement for a gas discharge laser |
GB8827702D0 (en) * | 1988-11-28 | 1988-12-29 | Marconi Gec Ltd | Electric discharge apparatus |
US8258632B1 (en) * | 2005-10-24 | 2012-09-04 | Lawrence Livermore National Security, Llc | Optically-initiated silicon carbide high voltage switch with contoured-profile electrode interfaces |
Family Cites Families (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE759857C (de) * | 1940-07-21 | 1954-02-01 | Siemens Schuckertwerke A G | Anordnung zur Herabsetzung der elektrischen Festigkeit in beliebigen gasfoermigen oder fluessigen isolierenden oder halbleitenden Medien |
DE905283C (de) * | 1943-10-21 | 1954-03-01 | Siemens Ag | Elektrische Glimmroehre |
DE1017708B (de) * | 1951-09-29 | 1957-10-17 | Ericsson Telefon Ab L M | Vorrichtung zur Herabsetzung der Zuendverzoegerung bei Glimmentladungsroehren mit kalten Kathoden |
US3777279A (en) * | 1972-03-30 | 1973-12-04 | United Aircraft Corp | Deposition of power in a moving gas stream by electric discharge means |
US3781712A (en) * | 1972-10-17 | 1973-12-25 | Hughes Aircraft Co | Gas laser with discharge conditioning using ultraviolet photons generated in high current density preliminary discharge |
US3842366A (en) * | 1973-03-12 | 1974-10-15 | Battelle Memorial Institute | Double discharge, large volume excitation gas laser |
US4085386A (en) * | 1973-05-30 | 1978-04-18 | Westinghouse Electric Corporation | Independent initiation technique of glow discharge production in high-pressure gas laser cavities |
CH587573A5 (ja) * | 1975-01-10 | 1977-05-13 | Lasag Sa | |
ZA753563B (en) * | 1975-06-03 | 1977-01-26 | South African Inventions | A laser and its method of operation |
-
1979
- 1979-10-19 GB GB8019633A patent/GB2053556B/en not_active Expired
- 1979-10-19 DE DE792953233T patent/DE2953233T1/de active Granted
- 1979-10-19 WO PCT/GB1979/000168 patent/WO1980000898A1/en unknown
- 1979-10-19 NL NL7920148A patent/NL7920148A/nl unknown
- 1979-10-19 JP JP54502038A patent/JPS6344308B2/ja not_active Expired
-
1980
- 1980-05-07 EP EP79901605A patent/EP0020624B1/en not_active Expired
- 1980-06-11 SE SE8004334A patent/SE422259B/sv not_active IP Right Cessation
- 1980-06-20 US US06/193,277 patent/US4387463A/en not_active Expired - Lifetime
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Publication number | Publication date |
---|---|
EP0020624B1 (en) | 1983-06-22 |
WO1980000898A1 (en) | 1980-05-01 |
SE8004334L (sv) | 1980-06-11 |
DE2953233C2 (ja) | 1992-02-27 |
EP0020624A1 (en) | 1981-01-07 |
DE2953233T1 (de) | 1980-12-11 |
SE422259B (sv) | 1982-02-22 |
NL7920148A (nl) | 1980-08-29 |
GB2053556A (en) | 1981-02-04 |
GB2053556B (en) | 1983-03-30 |
JPS55501119A (ja) | 1980-12-11 |
US4387463A (en) | 1983-06-07 |
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