DE3118868A1 - "vorrichtung zur erzeugung von laserstrahlung" - Google Patents
"vorrichtung zur erzeugung von laserstrahlung"Info
- Publication number
- DE3118868A1 DE3118868A1 DE19813118868 DE3118868A DE3118868A1 DE 3118868 A1 DE3118868 A1 DE 3118868A1 DE 19813118868 DE19813118868 DE 19813118868 DE 3118868 A DE3118868 A DE 3118868A DE 3118868 A1 DE3118868 A1 DE 3118868A1
- Authority
- DE
- Germany
- Prior art keywords
- electrode
- gas
- discharge
- laser
- insulated
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 230000005855 radiation Effects 0.000 title claims description 7
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims description 14
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims description 14
- 239000011521 glass Substances 0.000 claims description 8
- 239000004020 conductor Substances 0.000 claims description 7
- 239000012212 insulator Substances 0.000 claims description 7
- 239000003990 capacitor Substances 0.000 claims description 6
- -1 polytetrafluoroethylene Polymers 0.000 claims description 5
- 229920001343 polytetrafluoroethylene Polymers 0.000 claims description 5
- 239000004810 polytetrafluoroethylene Substances 0.000 claims description 5
- 125000006850 spacer group Chemical group 0.000 claims description 4
- 238000001816 cooling Methods 0.000 claims description 3
- 238000007599 discharging Methods 0.000 claims description 2
- 238000004146 energy storage Methods 0.000 claims 1
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 10
- 229920005372 Plexiglas® Polymers 0.000 description 6
- VVQNEPGJFQJSBK-UHFFFAOYSA-N Methyl methacrylate Chemical compound COC(=O)C(C)=C VVQNEPGJFQJSBK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000001208 nuclear magnetic resonance pulse sequence Methods 0.000 description 4
- 238000009413 insulation Methods 0.000 description 3
- 239000000463 material Substances 0.000 description 3
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 3
- 229910001374 Invar Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000010276 construction Methods 0.000 description 2
- 238000011161 development Methods 0.000 description 2
- 230000018109 developmental process Effects 0.000 description 2
- 230000005284 excitation Effects 0.000 description 2
- 239000012811 non-conductive material Substances 0.000 description 2
- 239000004926 polymethyl methacrylate Substances 0.000 description 2
- 230000003595 spectral effect Effects 0.000 description 2
- 229910001220 stainless steel Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010935 stainless steel Substances 0.000 description 2
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000006094 Zerodur Substances 0.000 description 1
- 239000002800 charge carrier Substances 0.000 description 1
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 description 1
- 238000002474 experimental method Methods 0.000 description 1
- 239000002241 glass-ceramic Substances 0.000 description 1
- 238000009434 installation Methods 0.000 description 1
- 239000011810 insulating material Substances 0.000 description 1
- 229920003023 plastic Polymers 0.000 description 1
- 239000004033 plastic Substances 0.000 description 1
- 239000010453 quartz Substances 0.000 description 1
- 230000003014 reinforcing effect Effects 0.000 description 1
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N silicon dioxide Inorganic materials O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YFTHZRPMJXBUME-UHFFFAOYSA-N tripropylamine Chemical compound CCCN(CCC)CCC YFTHZRPMJXBUME-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
- H01S3/00—Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
- H01S3/09—Processes or apparatus for excitation, e.g. pumping
- H01S3/097—Processes or apparatus for excitation, e.g. pumping by gas discharge of a gas laser
- H01S3/0971—Processes or apparatus for excitation, e.g. pumping by gas discharge of a gas laser transversely excited
- H01S3/09713—Processes or apparatus for excitation, e.g. pumping by gas discharge of a gas laser transversely excited with auxiliary ionisation, e.g. double discharge excitation
- H01S3/09716—Processes or apparatus for excitation, e.g. pumping by gas discharge of a gas laser transversely excited with auxiliary ionisation, e.g. double discharge excitation by ionising radiation
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Electromagnetism (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Toxicology (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Plasma & Fusion (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Lasers (AREA)
Description
-β- *4mr- . * * . Γ * *" .*'. * OI 1 CO
392-47 - 25/81 11. Mai 1981
CASCH/UMA
BATTELLE - INSTITUT E.V., Frankfurt/Main
Vorrichtung zur Erzeugung von Laserstrahlung
Die Erfindung betrifft eine Vorrichtung zur Erzeugung von Laserstrahlung, bestehend aus einem Paar Entladungselektroden,
durch die eine transversal zur Achse des Laserresonators verlaufende Gasentladung zündbar ist, wobei die Vorionisierung
durch eine Koronaentladung herbeigeführt wird, einem Lade- und Entladekreis und einem Gasumwälz- und Kühlsystem.
Laseranordnungen, bei denen das Lasergemisch im Resonator quer zur optischen Achse bei Atmosphärendruck angeregt wird,
sind als TEA-Laser (Transversely Excited Atmospheric pressure Laser) bekannt und zählen heute zu den wichtigsten Entwicklungen
auf dem Lasergebiet. Als Beispiele für diesen Lasertyp sind die CO -TEA-Laser im infraroten Spektralbereich,
für den sichtbaren bzw. nahen ultravioletten Spektralbereich
die N„-Laser und die Excimer-Laser zu nennen. Allen gemeinsam
ist eine relativ einfache Betriebsweise und ein guter Wirkungsgrad. TEA-Laser mit einer hohen Pulsfolge sind für
technisch-wissenschaftliche Anwendungen von großem Interesse, z.B. in der Laserchemie, Materialbearbeitung und bei Lidarexperimenten.
Sie haben einerseits eine hohe mittlere Leistung, vergleichbar mit dem longitudinal angeregten kontinuierlichen
CO„-Laser, andererseits eine hohe Pulsspitzenleistung.
Beim TEA-Laser wird das Lasergasgemisch durch eine homogene elektrische Entladung bei etwa 30 bis 50 kV Spannung zwischen
zwei sich gegenüberliegenden und in Richtung der optischen Achse ausgedehnten Elektroden angeregt. Dabei ist es wichtig,
daß die Entladung gleichförmig zwischen den Elektrodenflächen erfolgt und sich nicht zu einem Funken zusammenzieht,
da das Lasergas sich dann partiell überhitzt und im übrigen gar nicht angeregt wird. Voraussetzung für eine
gleichförmige Entladung bei Atmoshärendruck sind Elektrodenpaare mit einem Rogowski- oder Changprofil, ein induktivitätsarmer
Aufbau des Entladungskreises, bestehend aus Hochspannungskondensatoren, Hochspannungsschalter und Zuleitungen
zu den Laserelektroden, sowie eine Vorionisierung des Lasergases
.
Durch die Vorionisierung werden zunächst freie Ladungsträger erzeugt, die sich homogen über den Entladungsraum verteilen.
Die kurz darauf einsetzende Hauptentladung kann sich dann schnell und gleichmäßig über das gesamte Volumen zwischen
den Elektroden ausbreiten. Der erste TEA-Laser von R. Dumanchin sowie der spätere Lamberton-Pearson-Laser und fast alle
heute in Betrieb befindlichen TEA-Laser haben gemeinsam, daß ultraviolette Strahlung oder Elektronenstrahlen zur Vorionisierung
eingesetzt werden (z.B. Appl. Phys. Letters, 19, 506, 1971). Dabei wird die UV-Strahlung durch eine Vorentladung
von einem Triggerdraht zur Anode über Hilfskondensatoren
erzeugt. Eine Einleitung eines Hilfsgases, bestehend aus
Tri-n-propylamin, das dem Lasergas beigemischt wird, erhöht auf Grund seines niedrigen Ionisierungspotentials die Wirksamkeit
dieser Anordnung. Andere UV-Vorionisierungssysteme bestehen aus Funkenketten, die auf einem Träger in Reihe oder
über ganze Flächen entweder neben den Elektroden oder auch direkt in einer Elektrode angeordnet werden. Nachteil all
dieser Funkenkettensysteme ist, daß sie einem Verschleiß unterliegen und meist nach einigen tausend Entladungen gewechselt
werden müssen. Ferner erfordern die Vorionisierungssysteme
zusätzliche Kondensatoren, Widerstände und Vortriggereinrichtungen, wie Zeitverzögerungsschaltungen, einen zweiten
Hochspannungsschalter usw.. Zusätzlich behindern die meisten Vorionisierungssysterne eine gleichmäßige Lasergasströmung
zwischen den Laserelektroden. Dies wirkt sich besonders bei TEA-Lasern mit schneller Pulsfolge und Gasumwälzung als
störend aus.
Auf eine zusätzliche Vorionisierungseinrichtung kann jedoch
verzichtet werden, wenn die Seitenwände des Lasers gleichzeitig die Spannungszuführung zu einer Elektrode bilden.
Zwischen den elektrisch leitenden Seitenwänden und der zweiten Elektrode befindet sich eine Isolation und darauf an
jeder Seite eine Glasplatte (H. Jetter, K. Gürs, Optical Eng. 15, 1976, 17-19; G.J. Ernst, A.G. Boer, Optics Comm. 27,
1978, 1O5). Durch den schnellen Spannungsanstieg zu Beginn der Hauptentladung entsteht zwischen der oberen Elektrode
und den Seitenwänden in sehr kurzer Zeit eine hohe Feldstärke. Diese erzeugt für eine Dauer von 10 bis 30 nsec auf den mit
Isoliermaterial bedeckten Seitenwänden eine Koronaentladung.
Bei der Koronaentladung entsteht ein UV-Lichtimpuls, welcher
die Vorionisierung für die Hauptentladung bereitstellt. Die
Wirksamkeit der Vorionisierung und damit die Güte der Hauptentladung
hängt dabei wesentlich von der Geometrie der Anordnung und der Entladungsspannung ab.
Für TEA-Laser mit schneller Pulsfolge ist jedoch die zuletzt beschriebene Anordnung nicht geeignet, da das quer zur optischen
Achse strömende Lasergas über das Entladungsvolumen zwischen zwei Laserpulsen möglichst zweimal ausgetauscht werden
muß und daher Bandleiter, Platten, Wände usw., welche die beiden Elektroden verbinden, nicht in Frage kommen.
Der vorliegenden Erfindung liegt daher die Aufgabe zugrunde, einen TEA-Laser mit schneller Pulsfolge zu entwickeln, der
eine einfache, verschleißfreie und die Gasströmung quer zur optischen Achse nicht hindernde Konstruktion aufweist und
bei dem die Nachteile bekannter Anordnungen nicht auftreten.
Es hat sich gezeigt, daß sich diese Aufgabe mit einer Vorrichtung der eingangs genannten Art lösen läßt, wenn die
erste Elektrode an der Wand des aus nichtleitendem Material hergestellten Gasraums befestigt ist, wobei die Befestigungselemente
als Stromzuführungen dienen und die zweite Elektrode an derselben Wand auf mehreren Metallstangen montiert ist,
die gleichzeitig die mechanische Tragefunktion und die elektrische Stromzuführung ermöglichen und zumindest im Bereich
des Gasraums mit einem Isolatorrohr hoher Dielektrizitätskonstante umgeben sind, so daß zwischen der ersten Elektrode
und den isolierten Metallstangen eine Koronaentladung erzeugbar ist. Vorteilhafte Weiterbildungen der erfindungsgemäßen
Vorrichtung werden in den Unteransprüchen 2 bis 9 beschrieben.
Die erfindungsgemäße Laseranordnung erlaubt eine hohe Ausgangsleistung
bei hervorragender Qualität der optischen Strahlung und schneller Pulsfolge, ist billig herstellbar,
einfach aufgebaut und verschleißfrei. Durch die vorgeschlagene Anordnung des Gasumwälζsystems und des Kondensatorsatzes
sind diese Einheiten leicht zugänglich. Dip. Rinrichtung
zur Erzeugung der Koronaentladung behin-
• «»·· ···».· .» . ο 1 ι ο ο ί^ •'ί
•r 8,- : :;., ·.,· ·: J i I bdoo
dert die Strömung des Lasergases nicht. Die Gasumwälzgeschwindigkeit
kann leicht so bemessen werden, daß zwischen zwei Laserimpulsen ein zweimaliger Austausch des Gasvolumens
zwischen den Entladungselektroden erfolgen kann. 5
Die Erfindung wird anhand beiliegender, lediglich einen Ausführungsweg
darstellenden Zeichnungen näher erläutert. Es zeigen in schematischer Vereinfachung
Figur 1 im Schnitt quer zur optischen Achse die erfindungsgemäße Vorrichtung,
Figur 2 die Ausführungsform im Schnitt parallel zur optischen
Achse;
15
15
Figur 3a bis e) einige Möglichkeiten zur Anbringung eines Leiters zwischen einer Elektrode und den isolierten
Metallstangen, zum Zwecke der Verstärkung der Koronaentladung und
20
20
Figur 4a bis c) eine weitere Anbringungsmöglichkeit des Leiters.
Die erfindungsgemäße Vorrichtung gemäß Figur 1 wird aus einem
Gasraum 1 und einer angrenzenden Hochspannungskammer 2, zusammengesetzt, welche aus einem nichtleitenden Material
gefertigt und durch eine Zwischenplatte 3, vorzugsweise aus Plexiglas, voneinander getrennt sind. Sowohl die
Hochspannungskammer 2 als auch der Gasraum 1 sind mit abnehmbaren Deckeln 4 und 5 versehen, um einen leichten Zugang
zu den einzelnen Komponenten zu ermöglichen.
In der Gaskammer 1 werden zwei Entladungselektroden 6 und 7, deren Querschnitt nach einem Rogowski- oder Changprofil
ausgebildet ist, die in Richtung der optischen Achse ausge-
O Ί 1
dehnt sind und sich gegenüberliegen, angeordnet. Die obere Elektrode 6 sitzt an der Zwischenplatte 3 und ist über Befestigungsschrauben
(nicht gezeigt), die gleichzeitig als Spannungszuführung dienen, mit der Elektrodenplatte 8 in
der Hochspannungskaimner 2 verschraubt. Die untere Elektrode 7 wird ebenfalls an der Zwischenplatte 3 montiert und
zwar über eine Anzahl von auf beiden Seiten der Entladestrecke angeordneten Metallstangen 9. Die Metallstangen
sind zur Isolierung gegenüber der zweiten Elektrode 7 mit Rohren 10 aus Polytetrafluoräthylen oder Plexiglas umgeben.
Im Gasraum 1 wird auf diese Isolierung 10 ein weiteres Mantelrohr 11 aus einem Material hoher Dielektrizitätskonstante,
z.B. aus Glas, angebracht. Zur Vorionisierung des Gasgemisches dient die Koronaentladung, die durch den
starken Feldstärkeanstieg vor dem eigentlichen Spannungsimpuls zwischen der Elektrode 6 und den Metallstäben 9 entsteht.
Die bei dieser Anordnung auftretende Koronaentladung wird verstärkt durch den erfindungsgemäßen Einbau eines elektrischen
Leiters, z.B. eines dünnen Kupferdrahts 12, der um die Glasmantelrohre 11 gelegt und mit der einen Elektrode 6,
z.B. Anode, verbunden ist. Durch Variation des Abstandes Draht - Kathode kann die Vorionisierung für einen bestimmten
Elektrodenabstand eingestellt werden.
Die gleichmäßige Gasumwälzung über die gesamte Elektrodenlänge erfolgt über Elektroniklüfter 13 (80 mm χ 80 mm), isoliert
durch z.B. eine Plexiglasplatte 14 unter der Elektrode 7 (Kathode). Zur Kühlung des Lasergases befindet sich
gleich hinter den Lüftern 13 ein von Wasser durchströmter
Gaskühler 15. Das gekühlte Lasergas wird über Gasleitschalen 16 durch das Anregungsvolumen in einem geschlossenen
Kreislauf geführt.
':- τό.-: ::·\. X Ί ' cO
Gegenüber anderen Gasumwälzsystemen hat diese Ausführung den Vorteil, daß es sich zwar direkt mit in der Gaskammer
befindet, aber dennoch leicht nur durch Abnahme der mit einem Rundschnurring gedichteten Bodenplatte 5 demontieren läßt.
5
Mit dem Gasumwälzsystem läßt sich zwischen den Elektroden un^ 7 eine sehr gleichmäßige Gasströmung mit einer Geschwindigkeit
von 3 m/sec erzielen. Entlang der optischen Achse variiert die Gasströmungsgeschwindigkeit nur um 2 %, was
zeigt, daß die Mantelrohre 11 weitgehend laminar umströmt
werden und nur einen geringen Strömungswiderstand darstellen.
Die Laserspiegel, die in Figur 1 nicht gezeigt werden können, werden über vier Abstandsstangen 17, vorzugsweise aus einem
Material geringer thermischer Ausdehnung, z.B. Invar, die durch die Zwischenplatte 3 und Isolierplatte 14 geführt sind,
miteinander gehaltert. Die Abstandsstangen 17 sind ebenfalls
von Isolatorrohren 18, z.B. aus Plexiglas, umgeben.
Auf der Elektrodenplatte 8 in der Hochspannungskammer 2 befindet sich die Funkenstrecke 19 für den Entladungsschaltkreis
und darüber auf einer zweiten Elektrodenplatte 20 ein Satz von induktivitätsarmen Hochspannungsspeicherkondensatoren
21. Der Kondensatorsatz 21 kann je nach gewünschter
Pulsenergie schnell verändert werden, da er durch Abnahme des Deckels 4 leicht zugänglich ist. Die Hochspannungskammer
bietet noch genug Raum für einen Triggertransformator 22,
Vorwiderstände und für weitere Hochspannungsbauteile.
Die von Polytetrafluoräthylen-Rohren 10 umgebenen Metallstäbe
9 ragen in die Hochspannungskammer 2 hinein und sind z.B. mittels Gewinde in die Elektrodenplatte 20 geschraubt.
In der Seitenansicht gemäß Figur 2 wird insbesondere die
Ausbildung des Laserresonators und die Anordnung der mit Glasmantelrohren 11 umgebenen Metallstäbe 9 deutlich.
Die Endplatten 23 aus Edelstahl, auf denen die Laserspiegel justierbar angeordnet sind, werden über in Figur 1 dargestellten
Abstandsstangen 17 mit Anschlag an den Enden verschraubt
und mit O-Ringen gegen das Gehäuse, z.B. aus Plexiglas, abgedichtet.
Diese Rahmenkonstruktion aus Edelstahl im Plexiglasgehäuse gewährleistet eine hohe mechanische und thermische Stabilität.
Bei besonders hohen Anforderungen an die thermische Resonatorstabilität können die Resonatorstangen 17 aus Invar,
Quarz oder Glaskeramik (Zerodur) hergestellt werden.
In Figur 3a) bis e) wird eine mögliche Anordnung zur Verstärkung der Koronaentladung gezeigt. Diese Ausführungsform
ist auch in Figuren 1 und 2 dargestellt. Gemäß Figur 3a) und
b) wird ein Draht 12 so um die entlang der Elektroden 6 und
7 angeordneten, isolierten Metallstäbe 9 geführt, daß ein punktförmiger Kontakt an zwei Stellen mit der Elektrode 6
hergestellt ist. In Figuren 3c) bis 3e) sind einige weitere Möglichkeiten zur Anbringung des Drahts 12 dargestellt.
Im Gasraum sind die Metallstangen 9 mit einem Polytetrafluoräthylenrohr
10 und darauf mit einem Glasmantelrohr 11 umgeben.
Eine Verstärkung der Koronaentladung bei gleichmäßiger Gasströmung
im Laseranregungsvolumen wird auch mit der Anordnung nach Figur 4a) bis 4c) erzielt. Hierbei werden kurze Drähte
in Glas oder Kunststoff 26 eingeschmolzen, parallel zu jedem Glasmantelrohr 11 angeordnet und elektrisch mit der einen
Elektrode 6 oder 7 (z.B. Anode) verbunden.
Claims (9)
- Patentansprüche20 25 30 35Vorrichtung zur Erzeugung von Laserstrahlung, bestehend aus einem Paar Entladungselektroden, durch die eine transversal zur Achse des Laserresonators verlaufende Gasentladung zündbar ist, wobei die Vorionisierung durch eine Koronaentladung herbeigeführt wird, einem Lade- und Entladekreis und einem Gasumwälz- und Kühlsystem, dadurch gekennzeichnet, daß die erste Elektrode (6) an der Wand des aus nichtleitendem Material hergestellten Gasraums (1; befestigt ist, wobei die Befestigungselemente als Stromzuführungen dienen, und daß die zweite Elektrode (7) an derselben Wand wie die erste Elektrode (6) auf mehrere Metallstangen (9) montiert ist, die gleichzeitig die mechanische Tragefunktion und die elektrische Stromzuführung ermöglichen und zumindest im Bereich des Gasraums (1) mit einem Isolatorrohr (11) hoher Dielektrizitätskonstante umgeben sind, so daß zwischen der ersten Elektrode (6) und den isolierten Metallstangen (9) eine Koronaentladung erzeugbar ist.5s- 2.'- : ::.. ·..· ·: ο ι ι uου σ
- 2. Vorrichtung nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß zur Verstärkung der Koronaentladung mindestens ein mit der ersten Elektrode (6) verbundener Leiter (12, 25) vorgesehen ist.
- 3. Vorrichtung nach Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet, daß der Leiter aus einem parallel zu den Elektroden (6, 7) quer über die Isolatorrohre (11) gespannten Draht (12) besteht, der mit der ersten Elektrode (6) an einer oder mehreren Stellen verbunden ist.
- 4. Vorrichtung nach Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet, daß parallel zu jedem Isolatorrohr (11) ein mit der ersten Elektrode (6) verbundener isolierter Leiter (25) vorgesehen ist.
- 5. Vorrichtung nach einem der Ansprüche 1 bis 4, dadurch gekennzeichnet, daß die Isolatorrohre (11) aus Glas bestehen und zwischen der Metallstange (9) und dem Isolatorrohr (11) eine Polytetrafluoräthylen-Schicht (10) vorhanden ist.
- 6. Vorrichtung nach einem der Ansprüche 1 bis 5, dadurch gekennzeichnet, daß in dem Gasraum (1) unterhalb der zweiten Elektrode (7) mehrere Elektroniklüfter (13) und ein Gaskühler (15) angeordnet und gegenüber der zweiten Elektrode (7) isoliert sind und daß zwei gekrümmte Gasleitschalen (16) vorgesehen sind.
- 7. Vorrichtung nach einem der Ansprüche 1 bis 6, dadurch gekennzeichnet, daß der Laserresonator durch zwei in Endplatten (23) justierbar gefaßte Spiegel (24) und durch von dem elektrischen Entladekreis isolierten Abstandsstangen (17) gebildet ist.
- 8. Vorrichtung nach einem der Ansprüche 1 bis 7, dadurch gekennzeichnet, daß angrenzend an das Gasgehäuse (1) eine Hochspannungskammer (2) vorgesehen ist, in der Energiespeicherkondensatoren (21) und der Hochspannungsschalter (19) untergebracht sind und in die die isolierten Metallstangen (9) hineinragen und auf einer Platte (20) befestigt sind.
- 9. Vorrichtung nach Anspruch 8, dadurch gekennzeichnet, daß die Metallstangen (9) in der Hochspannungskammer (2) nur mit einem Polytetrafluoräthylenrohr (10) isoliert sind.
Priority Applications (6)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| DE19813118868 DE3118868A1 (de) | 1981-05-13 | 1981-05-13 | "vorrichtung zur erzeugung von laserstrahlung" |
| FR8208092A FR2506085B1 (fr) | 1981-05-13 | 1982-05-10 | Dispositif pour obtenir un rayonnement laser |
| GB8213833A GB2098389B (en) | 1981-05-13 | 1982-05-12 | Apparatus for producing laser radiation |
| US06/377,561 US4491949A (en) | 1981-05-13 | 1982-05-12 | Apparatus for producing laser radiation |
| CA000402803A CA1167151A (en) | 1981-05-13 | 1982-05-12 | Apparatus for producing laser radiation |
| JP57079792A JPS57210678A (en) | 1981-05-13 | 1982-05-12 | Laser radiation generator |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| DE19813118868 DE3118868A1 (de) | 1981-05-13 | 1981-05-13 | "vorrichtung zur erzeugung von laserstrahlung" |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| DE3118868A1 true DE3118868A1 (de) | 1982-11-25 |
| DE3118868C2 DE3118868C2 (de) | 1987-07-23 |
Family
ID=6132116
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| DE19813118868 Granted DE3118868A1 (de) | 1981-05-13 | 1981-05-13 | "vorrichtung zur erzeugung von laserstrahlung" |
Country Status (6)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US4491949A (de) |
| JP (1) | JPS57210678A (de) |
| CA (1) | CA1167151A (de) |
| DE (1) | DE3118868A1 (de) |
| FR (1) | FR2506085B1 (de) |
| GB (1) | GB2098389B (de) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE3242085A1 (de) * | 1982-11-13 | 1984-05-17 | Battelle-Institut E.V., 6000 Frankfurt | Vorrichtung zur erzeugung von laserstrahlung |
Families Citing this family (15)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE3313811A1 (de) * | 1983-04-15 | 1984-10-18 | Siemens AG, 1000 Berlin und 8000 München | Transversal angeregter gaslaser |
| JPS60192467U (ja) * | 1984-05-31 | 1985-12-20 | 日本電気株式会社 | パルスガスレ−ザ装置 |
| JPS61137380A (ja) * | 1984-12-10 | 1986-06-25 | Toshiba Corp | 横励起形ガスレ−ザ発振装置 |
| JPS6231186A (ja) * | 1985-08-02 | 1987-02-10 | Mitsubishi Electric Corp | パルスレ−ザ発振器 |
| JPH0445268Y2 (de) * | 1985-08-20 | 1992-10-23 | ||
| JPH06105807B2 (ja) * | 1986-05-08 | 1994-12-21 | 三菱電機株式会社 | レ−ザ励起装置 |
| JPS636886A (ja) * | 1986-06-27 | 1988-01-12 | Nec Corp | 横方向励起型レ−ザ装置 |
| WO1989010646A1 (en) * | 1988-04-26 | 1989-11-02 | Siemens Aktiengesellschaft | Excitation circuit for gas lasers with a multichannel pseudo-spark switch and use of said circuit |
| US4882735A (en) * | 1988-12-01 | 1989-11-21 | United Technologies Corporation | Modular UV preionization package for a CO2 laser |
| US5081638A (en) * | 1990-12-05 | 1992-01-14 | Lumonics Inc. | Excimer laser |
| US6650679B1 (en) | 1999-02-10 | 2003-11-18 | Lambda Physik Ag | Preionization arrangement for gas laser |
| US6456643B1 (en) | 1999-03-31 | 2002-09-24 | Lambda Physik Ag | Surface preionization for gas lasers |
| US6757315B1 (en) | 1999-02-10 | 2004-06-29 | Lambda Physik Ag | Corona preionization assembly for a gas laser |
| US6671302B2 (en) | 2000-08-11 | 2003-12-30 | Lambda Physik Ag | Device for self-initiated UV pre-ionization of a repetitively pulsed gas laser |
| DE102006023392A1 (de) * | 2006-05-17 | 2007-11-22 | Forschungszentrum Karlsruhe Gmbh | Schaltfunkenstrecke mit einer Koronaelektrode |
Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| GB1443127A (en) * | 1973-05-23 | 1976-07-21 | Us Energy Research Dev Adminis | Pulsed multiline co2 laser oscillator spparatus and method |
| DE2910177B2 (de) * | 1979-03-15 | 1981-04-09 | Opower, Hans, Dr., 8033 Krailling | Elektrisch angeregter CO↓2↓-Laser |
| DD150974A1 (de) * | 1980-05-20 | 1981-09-23 | Matthias Scholz | Laserkanal fuer einen impulsgaslaser |
Family Cites Families (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US3721915A (en) * | 1969-09-19 | 1973-03-20 | Avco Corp | Electrically excited flowing gas laser and method of operation |
-
1981
- 1981-05-13 DE DE19813118868 patent/DE3118868A1/de active Granted
-
1982
- 1982-05-10 FR FR8208092A patent/FR2506085B1/fr not_active Expired
- 1982-05-12 CA CA000402803A patent/CA1167151A/en not_active Expired
- 1982-05-12 GB GB8213833A patent/GB2098389B/en not_active Expired
- 1982-05-12 US US06/377,561 patent/US4491949A/en not_active Expired - Fee Related
- 1982-05-12 JP JP57079792A patent/JPS57210678A/ja active Granted
Patent Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| GB1443127A (en) * | 1973-05-23 | 1976-07-21 | Us Energy Research Dev Adminis | Pulsed multiline co2 laser oscillator spparatus and method |
| DE2910177B2 (de) * | 1979-03-15 | 1981-04-09 | Opower, Hans, Dr., 8033 Krailling | Elektrisch angeregter CO↓2↓-Laser |
| DD150974A1 (de) * | 1980-05-20 | 1981-09-23 | Matthias Scholz | Laserkanal fuer einen impulsgaslaser |
Non-Patent Citations (3)
| Title |
|---|
| NL-Z: Opt. Comm., Bd. 27, 1978, S. 105-110 * |
| US-Z: Electronics Lett., Bd. 7, 1971, 141-142 * |
| US-Z: J. Appl. Phys., Bd. 44, 1973, S. 4125-4136 * |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE3242085A1 (de) * | 1982-11-13 | 1984-05-17 | Battelle-Institut E.V., 6000 Frankfurt | Vorrichtung zur erzeugung von laserstrahlung |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| GB2098389A (en) | 1982-11-17 |
| JPH0225266B2 (de) | 1990-06-01 |
| US4491949A (en) | 1985-01-01 |
| GB2098389B (en) | 1984-08-01 |
| JPS57210678A (en) | 1982-12-24 |
| FR2506085B1 (fr) | 1985-12-20 |
| CA1167151A (en) | 1984-05-08 |
| FR2506085A1 (fr) | 1982-11-19 |
| DE3118868C2 (de) | 1987-07-23 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| DE3118868A1 (de) | "vorrichtung zur erzeugung von laserstrahlung" | |
| EP0772900B1 (de) | Entladungsanordnung für impulsgaslaser | |
| DE4108474C2 (de) | ||
| EP0048407A1 (de) | Hochenergielaser des TEA-Typs mit laser-achsparallel angeordneten Vorionisierungsstäben | |
| DE2952046C2 (de) | Verfahren und Vorrichtung zur Erzeugung einer elektrischen Entladung in einem mit Überschallgeschwindigkeit strömenden Gas | |
| DE2406290C2 (de) | Gas-Laser vom Wellenleitertyp | |
| EP0482230B1 (de) | Hochleistungsstrahler | |
| EP0517929B1 (de) | Bestrahlungseinrichtung mit einem Hochleistungsstrahler | |
| EP0122597B1 (de) | Transversal angeregter Gaslaser | |
| EP0590346A1 (de) | Diffusionsgekühlter CO2-Bandleiterlaser mit reduzierter Zündspannung | |
| EP0074586B1 (de) | Laser des TE-Typs, insbesondere Hochenergielaser | |
| CH629342A5 (de) | Querstrom-gaslaser. | |
| DE3242085C2 (de) | ||
| DE3046687A1 (de) | Elektronenstrahlgeschaltete entladung fuer schnellgepulste laser | |
| DE3035702C2 (de) | ||
| EP0011062B1 (de) | Pulsweise arbeitender, transversal elektrisch angeregter Atmosphärendruck-Gaslaser (TEA-Laser) | |
| DE19816377C2 (de) | Verfahren zur Anregung von Entladungen zwischen wenigstens zwei Hauptelektroden sowie Vorrichtung zur Durchführung eines solchen Verfahrens | |
| DE3816413A1 (de) | Verfahren zum betreiben eines gasentladungslasers und gasentladungslaser | |
| DE2919709B2 (de) | Gepulster CO↓2↓-Laser | |
| DE8025354U1 (de) | Hochenergielaser des tea-typs mit laser-achsparallel angeordneten vorionisierungsstaeben | |
| DE19613357A1 (de) | Gepulste Lichtquelle | |
| DE60112343T2 (de) | Vorrichtung zum Entstauben eines optischen Laserelements | |
| EP0169391A1 (de) | Gaslaser | |
| AT366517B (de) | Pulsweise arbeitender, transversal elektrisch angeregter atmosphaerendruck(tea-)-gaslaser | |
| DE2411309C3 (de) | Elektrodensystem für die impulsförmige transversale Anregung eines Gaslasers, zugehörige Stromversorgungsschaltung und Verfahren zu ihrem Betrieb |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| OP8 | Request for examination as to paragraph 44 patent law | ||
| D2 | Grant after examination | ||
| 8364 | No opposition during term of opposition | ||
| 8339 | Ceased/non-payment of the annual fee |