DE2918063C3 - Verfahren zur Herstellung einer Siebtrommel für den Rotationssiebdruck - Google Patents
Verfahren zur Herstellung einer Siebtrommel für den RotationssiebdruckInfo
- Publication number
- DE2918063C3 DE2918063C3 DE2918063A DE2918063A DE2918063C3 DE 2918063 C3 DE2918063 C3 DE 2918063C3 DE 2918063 A DE2918063 A DE 2918063A DE 2918063 A DE2918063 A DE 2918063A DE 2918063 C3 DE2918063 C3 DE 2918063C3
- Authority
- DE
- Germany
- Prior art keywords
- drum
- layer
- image
- nickel
- metal
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired
Links
Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
- B41C—PROCESSES FOR THE MANUFACTURE OR REPRODUCTION OF PRINTING SURFACES
- B41C1/00—Forme preparation
- B41C1/14—Forme preparation for stencil-printing or silk-screen printing
- B41C1/142—Forme preparation for stencil-printing or silk-screen printing using a galvanic or electroless metal deposition processing step
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Printing Plates And Materials Therefor (AREA)
- Electroplating Methods And Accessories (AREA)
- Manufacture Or Reproduction Of Printing Formes (AREA)
Description
Die Erfindung bezieht sich auf ein Verfahren zur Herstellung einer Siebtrommel für den Rotationssiebdruck
durch Erzeugen einer metallischen bild-formenden Schicht mit einer glatten endlosen Außenseitenoberfläche
und einer Dicke von mehr als 5 μηι durch Anordnen eines metallischen bzw. nichtmetallischen,
elektrisch-oberflächenleitend gemachten Siebs an einer polierten Metallfläche und Plattieren bzw. Elektroplattieren
der Anordnung.
Ein Verfahren der eingangs genannten Art ist aus der DE-OS 20 32 644 bekannt.
Beim bekannten Verfahren wird die bild-formende Schicht durch einen Plattier-Vorgang bzw. Elektro-Plattier-Vorgang
auf einer Platte erzeugt und muß nach dem Lösen von der Platte zu einer Siebtrommel
zusammengefügt werden. Gemäß einer alternativen Ausführungsform kann die bild-formende Schicht auch
an der Oberfläche einer Siebtrommel erzeugt werden, wobei in diesem Falle jedoch keine glatte Sieboberfläche
erhalten wird, sondern ein Sieb mit einer Aufwickelvorrichtung, die um eine abstützende Trommel
gespannt ist.
Der Erfindung liegt die Aufgabe zugrunde, die Herstellung einer dauerhafteren Siebtrommel zu vereinfachen.
Diese Aufgabe wird beim erfindungsgemäßen Verfahren dadurch gelöst, daß das Sieb oder eine Netzanordnung aus feinen Metallfäden oder nichtmetallischen Fäden für die Durchführung eines chemischen und/oder Elektro-Plattier-Vorgangs als Siebtrommel an der Innenseite eines Metallzylinders odsr eines
Diese Aufgabe wird beim erfindungsgemäßen Verfahren dadurch gelöst, daß das Sieb oder eine Netzanordnung aus feinen Metallfäden oder nichtmetallischen Fäden für die Durchführung eines chemischen und/oder Elektro-Plattier-Vorgangs als Siebtrommel an der Innenseite eines Metallzylinders odsr eines
ίο nichtmetallischen Zylinders, nachdem dieser auf seiner
Innenseite leitend gemacht wurde, eingeführt und während des Plattier-Vorgangs belassen wird.
Als Folge der erfindungsgemäßen Verfahrensweise wird eine glatte endlose Siebfläche erhalten, ohne daß
für die Herstellung der Siebtrommel gesonderte Verbindungsvorgänge zusätzlich zum Plattier-Vorgang
notwendig sind.
Eine alternative Ausführungsform des erfindungsgemäßen Verfahrens ist dadurch gekennzeichnet, daß das
Sieb oder eine Netzanordnung aus feinen Metallfäden oder nichtmetallischen Fäden für die Durchführung
eines chemischen und/oder Elektro-Plattier-Vorgangs als Siebtrommel an der Innenseite eines Metallzylinders
oder eines nichtmetallischen Zylinders, nachdem dieser auf seiner Innenseite leitend gemacht wurde, eingeführt
und während des Plattier-Vorgangs belassen wird und daß ferner der Metallzylinder vor dem Einbringen des
Siebs mit einer bild-formenden Schicht (m) in einer Stärke von 5 bis 50 μπι versehen wird.
jo Bei der letztgenannten Verfahrensweise kann die
Stärke der bild-formenden Schicht beliebig gewählt und somit auf den jeweiligen Verwendungszweck abgestellt
werden.
Bei der Verwendung eines nichtleitenden Materials für die Siebfäden können auch Garne aus synthetischen
Fasern oder Kunstfasern verwendet werden.
Die Erfindung wird anschließend anhand von Ausführungsbeispielen in Verbindung mit den Zeichnungen
näher erläutert Es zeigt
F i g. 1 eine schematische Ansicht des Teils einer bild-formenden Schicht, auf der ein Bild gemäß eines
fotomechanischen Prozesses durch eine konventionelle Lackiermethode gebildet wird, und eine Trommel als
Bildträger,
F i g. 2 eine schematische Querschnittsansicht einer bild-formenden Schicht und einer Trommel als Bildträger,
die durch thermisches Kon takt-Verbinden eines nim-bildenden fotoempfindlichen Harzes zum Bilden
einer bild-formenden Schicht hergestellt wurde,
so F i g. 3 eine schematische Querschnittsansicht einer
Trommel mit einem Bild gemäß eines Galvano-Verfahrens,
F i g. 4a eine perspektivische Ansicht eines metallischen Zylinders der in dem Verfahren gemäß der
Erfindung verwendet wird,
Fig.4b eine Querschnittsansicht eines metallischen
Zylinders, der eine plattierte Ablöseschicht, eine metallische Zylinderschicht, und eine nichtleitende
Harzschicht aufweist, wie er in der Erfindung verwendet wird,
F i g. 4c eine schematische Ansicht des Querschnitts einer elektrischen Zelle, in der eine bild-formende
Schicht durch Plattieren gemäß dem Verfahren der Erfindung hergestellt wird,
Fig.4d eine Querschnittsansicht einer bild-formenden
Schicht, die an der Innenseite eines metallischen Zylinders gemäß dem Verfahren der Erfindung
aufgebracht ist,
Fig.5a eine schematische Querschnittsansicht eines
Siebes, das gemäß einem Plattier-Verfahren hergestellt
ist,
F i g, 5b eine schematische Querschnittsansicht eines Siebes, in dem gewobene Metallfaden oder synthetische
Fasergarne durch Überziehen gebunden sind,
F i g. 6 eine schematische Querschnittsansicht, die den Zustand zeigt, in dem eine Trommel als Bildträger in die
Innenseite eines Metallzylinders mit einer bild-formenden
Schicht eingeführt ist,
Fig.7 eine vergrößerte Querschniusansicht des Kontaktteile nach der oben beschriebenen Einführung,
Fig.8 eine Querschniusansicht des anhaftenden Teiles zwischen einer bild-formenden Schicht und einer
Trommelschicht als Bildträger mittels Überziehen,
F i g. 9 eine Querschniusansicht (einer Trommel und einer bild-formenden Schicht), in der eine bild-formende
Schicht abgelöst ist,
Fig. 10a eine Querschniusansicht (einer Trommel
und einer bild-formenden Schicht), wo eine an der bild-formenden Schicht anhaftende Harzschicht mit
Licht bestrahlt und entwickelt wird,
Fig. 10b eine Querschniusansicht eines Metallteils (einer Trommel und einer bild-formenden Schicht), der
nach dem Bestrahlen mit Licht nicht mit Harz überzogen und einem Ätzen unterworfen ist,
Fig. 11a eine Querschniusansicht (einer Trommel und einer bild-formenden Schicht), in der nur die
bild-formende Schicht geätzt wird,
F i g. 11 b eine Querschniusansicht wie in F i g. 11 a, in
der nur Kupfer allein geätzt und Nickel nicht geätzt wird,
Fig. 12a eine Querschniusansicht, die die Größenordnung
der Öffnung eines Siebes, das gemäß dem Lackierverfahren gebildet wurde, zeigt,
Fig. 12b eine Querschniusansicht, die die Größenordnung
der Öffnung eines Siebes, gemäß dem Verfahren der Erfindung zeigt,
Fig. 12c eine Querschnittsansicht, die die Größenordnung
^er Öffnung eines Siebes nach dem Ätzen gemäß dem Verfahren der Erfindung zeigt.
Gegenwärtig werden Trommeln für den Rotationssiebdruck (im weiteren als Drucktrommeln bezeichnet)
gemäß dem folgenden Verfahren hergestellt:
1. Gemäß einem Lackierverfahren, in dem eine TrommeS durch Beschichten hergestellt wird,
1.) wird eine Oberfläche einer Metallwalze wie etwa Eisen oder ähnliches, mit Kupfer überzogen und
die überzogene Oberfläche poliert;
II.) werden maschenartige Eindrücke oder Mulden auf der polierten Kupferoberfläche unter Verwendung einer Ei/idrückmaschine mit gehärteten Einwalz-Walzen, die eine höhere Härte und ein geeignetes Muster vorher vorbereiteter hervorstehender Maschen aufweisen, hergestellt; III.) wird ein Chromüberzug auf die Kupferoberfläche aufgebracht;
II.) werden maschenartige Eindrücke oder Mulden auf der polierten Kupferoberfläche unter Verwendung einer Ei/idrückmaschine mit gehärteten Einwalz-Walzen, die eine höhere Härte und ein geeignetes Muster vorher vorbereiteter hervorstehender Maschen aufweisen, hergestellt; III.) wird ein Chromüberzug auf die Kupferoberfläche aufgebracht;
IV.) wird ein nichtleitendes Harz in die maschenartigen Eindrücke eingelassen, und die durch die
erwähnten Verfahrensstufen erhaltene Walze wird als Mutterwalze bezeichnet;
V.) wird die Mutterwalze in ein Nickelplattierbad eingetaucht, um eine Überzugsdicke von 70- 120 μιτι herzustellen;
V.) wird die Mutterwalze in ein Nickelplattierbad eingetaucht, um eine Überzugsdicke von 70- 120 μιτι herzustellen;
Vl.) wird der Nickelteil aus der Mutterwalze herausgezogen,
um eine Trommel als Bildträger ζί schaffen;
VII.) wird die Oberfläche der Trommel als Bildträger mit einer Lösung aus lichtempfindlichem Harz beschichtet, das anschließend getrocknet wird und eine bild-formende Schicht ergibt; und
VIII.) wird ein Bild gemäß eines üblichen photomechanischen Prozesses gebildet, so daß eine Trommel zum Drucken geschaffen wird.
Ein Schnitt der so erhaltenen Drucktrommel ist in F i g. 1 gezeigt, in der a Nickel als Bildträger und b eine ausgehärtete Schicht von lichtempfindlichem Harz als bild-formende Schicht gezeigt ist In diesem Verfahren gibt es die folgenden Mißstände:
(I) Da die bild-formende Schicht aus Harz ist, ist sie minderwertig im Widerstand gegen Lösungsmittel und der Dauerhaftigkeit zum Drucken.
(II) Wie im Teil c der Fig. 1 gezeigt ist, tritt lichtempfindliches Harz in die Innenseite der Maschenhohlräume ein und dadurch ist die Erzielung gleichmäßiger Dicke der Membranen über die ganze Oberfläche und einer glatten Oberfläche schwierig.
VII.) wird die Oberfläche der Trommel als Bildträger mit einer Lösung aus lichtempfindlichem Harz beschichtet, das anschließend getrocknet wird und eine bild-formende Schicht ergibt; und
VIII.) wird ein Bild gemäß eines üblichen photomechanischen Prozesses gebildet, so daß eine Trommel zum Drucken geschaffen wird.
Ein Schnitt der so erhaltenen Drucktrommel ist in F i g. 1 gezeigt, in der a Nickel als Bildträger und b eine ausgehärtete Schicht von lichtempfindlichem Harz als bild-formende Schicht gezeigt ist In diesem Verfahren gibt es die folgenden Mißstände:
(I) Da die bild-formende Schicht aus Harz ist, ist sie minderwertig im Widerstand gegen Lösungsmittel und der Dauerhaftigkeit zum Drucken.
(II) Wie im Teil c der Fig. 1 gezeigt ist, tritt lichtempfindliches Harz in die Innenseite der Maschenhohlräume ein und dadurch ist die Erzielung gleichmäßiger Dicke der Membranen über die ganze Oberfläche und einer glatten Oberfläche schwierig.
(III) Wie im Teil dder F i g. 1 gez-.:gt, schwillt, wenn der
Endteil eines Bildes auf halbere. Wege zwischen einem Maschenhohlraum endet, das durch die
Bestrahlung mit Licht ausgehärtete Harz zum Zeitpunkt der Entwicklung an, und blockiert den
Maschenhohlraum sogar, wenn die Bestrahlung mit Licht genau bis zum halben Weg ausgeführt ist.
Als Ergebnis werden die Maschenhohlräume entweder vollständig geöffnet oder vollständig
geschlossen.
2. Es gibt ein Verfahren, in dem ein film-bildendes
lichtempfindliches Harz unter heißem Pressen angebakken wird, um die Mißstände des Beschichtens mit einem
flüssigen lichtempfindlichen Harz als bild-formende Schicht zu verbessern, jedoch gibt es einen Mißstand,
der in F i g. 2 gezeigt ist. Insbesondere wird, wie im Teil c
der F i g. 2 gezeigt ist, das Eindringen des Harzes in die Maschenhohlräume weniger, und die Kontaktfläche des
Harzes b, als bild-formende Schicht, dessen Oberfläche geglättet wurde, mit einer Trommel wird kleiner,
verglichen mit der in Fig. 1, woraus kleinerer Widerstand gegen Auflösung und Dauerhaftigkeit zum
Drucken resultiert. Wie im Teil /der F i g. 2 gezeigt ist,
ist es so völlig unmöglich, wegen der nebeneinander liegenden Teile des lichtempfindlichen Harzfilms eine
vollständig nahtlose und endlose Oberfläche zu erhalten.
3. In Verfahren, in denen eine bild-formende Schicht ganz aus Metall ist, gibt es ein Galvano-Prozeß
genanntes Verfahren, das wie folgt erklärt wird:
(I) Die Oberfläche einer rostfreien Stahlwalze oder einer Eisenwalze, deren Oberfläche mit Chrom
überzogen ist, wird mit einem lichtempfindlichen Harz beschichtet, das anschließend getrocknet
wird.
(II) Ein Film, der vorher vorbereitet wurde, wird um
die Walze gewunden und mit Licht bestrahlt.
(III) Nach dem Entwickeln und Abwaschen mit Wasser wird das Beschichten in einem Nickelbeschichtungsbad
ausgeführt, so daß eine bestimmte Dicke erreicht wird.
(IV) Der nickelbeschichtete Teil wird von der Walze abgezogen und ergibt eine Trommel zum Drucken.
In diesem Verfahren wird erzielt, daß, da eine bild-formende Schicht und ein Bildträger in einer
Schicht gebildet sind, ein Bild ganz durch Punkte repräsentiert ist. Dadurch kommt, wie in F i g. 3 gezeigt
ist, der obere Teil g-einer Abrundung oder eines Walls
29 IS 063
der Maschen in Kontakt mit einem zu druckenden Material und dadurch tritt der Effekt auf, daß eine
durchgezogene Linie zwangsläufig durch eine gepunktete Linie dargestellt wird und so gemäß dem
gegenwärtigen Stand der Technik die endlose Verbindung von Maschen völlig unmöglich ist. So hat dieses
Verfahren auch Nachteile, wie etwa die Begrenzung der Muster.
Kürzlich wurden einige Verfahren angekündigt, in denen eine bildformende Schicht und eine Trommel als
Bildträger, beide aus Metall hergestellt sind, und eine bild-formende Schicht einem Bildträger überlagert ist.
Das Wesentliche dieser Verfahren wird im Anschluß beschrieben.
4. Wie für die Verfahrensstufen, nach dem eine Nickeltrommel als Bildträger durch die gleichen
Verfahrensstufen wie die in dem oben erwähnten Lackierverfahren hergestellt wurde, gilt, werden,
Vi/ »-»nut. H^iUUJi-IH[VH u»-i ι ι <_m t it ii*. ι .m
> CJMCT
Mutterwalze. Maschenhohlräume mit einem elektrisch leitfähigen Harz aufgefüllt, zum Beispiel
einem Harz, das mit einem Pulver aus Metall wie etwa Kupfer gemischt wurde, wonach es getrocknet
wird. In diesem Fall liegt eine Beschränkung dann, daß das eingefüllte Harz hart genug sein
muß. um einen Poliervorgang zu erlauben.
(II) Übermäßig viel Harz haftet an, weil ein Teil des eingefüllten Harzes an der oberen Oberfläche der Abrundungen des Siebs angeb;i< ken und die ganze Oberfläche gleichförmig glatt sein muß. Daher wird nacn dem Trocknen ein Polieren mit einem relativ feinen Sandpapier wie etwa Nr. 1000 - Nr. 2000 ausgeführt. Falls das Harz ein beigemengtes Metallpulver enthält, wird die Metalloberfläche bestrahlt, aber jedes Metallpulver wird unabhängig bestrahlt und durch ein elektrisch nicht leitendes Harz voneinander getrennt und befestigt, ohne eine fortgesetzte Leitfähigkeit über die ganze Oberfläche zu zeigen. Ferner ist nach mikroskopischer Beobachtung die Grenze der Harzoberfläche und der Metalloberfläche des Siebs nicht vollständig eben, obwohl sie sorgfältig und fein poliert wurde, und bildet Mulden an der Grenze. Auch falls das Auffüllen nur mil einem nichtleitenden Harz gemacht «urde. werden an der Grenze ähnlich Mulden gebildet, und die Oberfläche des Harzes zeigt keine vollständige Glätte verglichen mit der Oberflache des Metalls, sondern is' von konvexem :r.a konkasem Aussehen, entsprechend der Kornigki.·:· c^s Sandpapicrs.
(II) Übermäßig viel Harz haftet an, weil ein Teil des eingefüllten Harzes an der oberen Oberfläche der Abrundungen des Siebs angeb;i< ken und die ganze Oberfläche gleichförmig glatt sein muß. Daher wird nacn dem Trocknen ein Polieren mit einem relativ feinen Sandpapier wie etwa Nr. 1000 - Nr. 2000 ausgeführt. Falls das Harz ein beigemengtes Metallpulver enthält, wird die Metalloberfläche bestrahlt, aber jedes Metallpulver wird unabhängig bestrahlt und durch ein elektrisch nicht leitendes Harz voneinander getrennt und befestigt, ohne eine fortgesetzte Leitfähigkeit über die ganze Oberfläche zu zeigen. Ferner ist nach mikroskopischer Beobachtung die Grenze der Harzoberfläche und der Metalloberfläche des Siebs nicht vollständig eben, obwohl sie sorgfältig und fein poliert wurde, und bildet Mulden an der Grenze. Auch falls das Auffüllen nur mil einem nichtleitenden Harz gemacht «urde. werden an der Grenze ähnlich Mulden gebildet, und die Oberfläche des Harzes zeigt keine vollständige Glätte verglichen mit der Oberflache des Metalls, sondern is' von konvexem :r.a konkasem Aussehen, entsprechend der Kornigki.·:· c^s Sandpapicrs.
(Ill) Wenn eir. nichtleitendes Harz eingefüllt wurde. ■α rd ein ieitender Überzug durch die Anwendung
chemischen Beschichtens nach dem Polieren hergestellt.
i!\) Das Beschichten wird in einem galvano-plastischen
Bad ausgeführt and ergibt eine bild-formende Schicht mit einer Dicke von 10- 30 um. Falls
das Harz beigemengtes Metallpulver enthält, wird das Verfahren der Eiektro-Plattierung ;m allgemeinen
ohne die Anwendung der chemischen Platzierung angewandt, und so ist die Oberfläche
"eich an konvexen und konkaven Teilen und es feh!t ihr an Glätte.
(V) Sogar wenn eine bild-formende Schicht aus einem
Metall durch Überziehe- Hergestellt wird und eine Trommel als Bildträger an deren Unterschicht
anhafte:, ist es unmöelich. sie. so wie sie ist aus
einer Mutterwalze herauszuziehen, weil das eingefüllte Harz fest an das Harz der Mutterwalze
anhaftet. Eine Löseschicht ist nicht vorbereitet, weil das Ablösen zum Zeitpunkt des Polierens
, erfolgt. Aus diesem Grund wird ein Muster, das es
ermöglicht, die bildformende Schicht wegzunehmen, so daß das in die Maschenhohlräume
eingefüllte Harz soviel wie möglich bestrahlt wird, ausgewählt, und ein Metall als bild-formende
in Schicht wird mittels eines fotografischen Prozesses,
der ein lichtempfindliches Harz verwendet und eines Ätzprozesses zum Bestrahlen des in die
Innenseite der Maschenhohlräume eingefüllten Harzes, entfernt.
Γι (Vl) Dann wird das in die Maschenhohlräume eingefüllte,
bestrahlte Harz durch Herauslösen oder Aufquellen mittels eines Lösungsmittels entfernt.
In vielen Fällen wird auch das in der Mutterwalze eingefüllte Η2Γ2 ebenfalls durch dss L^cllncT?rn!ttel
angegriffen, so daß die Standzeit der Mutterwalze verkürzt wird.
(VII) Nach dem der Maschenteil als Bildträger (von dem die bild-formende Schicht und das eingefüllte
Harz entfernt wurde) abgezogen oder von der -, Mutterwalze gelöst wurde, wird das in dem
Unterteil der Metallschicht als bild-formende Schicht verbleibende eingefüllte Harz allmählich
nv·! einem Lösungsmittel ausgelöst oder von der Mutterwalze abgelöst und dann herausgezogen.
ρ Ein Verfahren, das ähnlich dem beschriebenen
Verfahren ist. ist in der Beschreibung der japanischen Patentschrift Nr. 45 327 von 1974
offenbart.
Diese Methoden sind extrem kompliziert und weisen , viele Nachteile in den Verfahrensstufen und Qualitäten
auf, wie etwa die Notwendigkeit einer Mutterwalze, bis das Bilder geformt sind, obwohl sie Vorteile in puncto
einer metallischen bild-formenden Schicht haben. Ferner wird in der Beschreibung der japanischen
1. Gebrauchsmusterschrift Nr. 1841 von 1976 ein Verfahren
aufgezeigt, in dem endlose Bilder nur durch die Verwendung von Plattier-Verfahren gleichzeitig mit
einem chemischen Plattier-Verfahren gebildet werden, jedoch sind dessen Verfahrensstufen kompliziert, und
! enthalten viele Schwierigkeiten, wie etwa, daß die Dicke
des Harzes gleich der Dicke des abgelagerten Metalls gemacht werden muß.
5. Ferner sind auch Trommeln zum Rotationssiebdruck aufgezeigt, in denen, nach dem eine bild-formende
Schicht in Form einer durch Walzen. Plattieren oder ähnliches vorbereiteten Metallfolie verwende; wird,
diese über eine Bildträger-Trommel ausgebreitet wird, die durch das Weben von Metallfaden oder ähnlichem
vorbereitet wurde, oder in der Form eines Siebes durch Plattieren, und wo die Folie und die Trommel durch ein
Plattier-Verfahren oder die Verwendung eines Klebers aneinander befestigt werden, so daß sie eine zylindrische
Form bilden, wobei der anhaftende Teil angeklebt wird. Dieses Verfahren gleicht demjenigen in der
japanischen Patentschrift Nr. 22 897 von 1976 offenbarten, in dem ein streifenförmiges Sieb durch die
Verwendung einer speziellen Technik in eine zylindrische Form gebracht wird. Jedoch hat dieses Verfahren
den Nachteil des erwähnten film-bildenden lichtempfindlichen
Harzes bezüglich des Punktes, daß eine bild-formende Schicht nicht in endloser Form hergestellt
werden kann, und sich viele Beschränkungen im Druckmusier auftun.
Die Details des Verfahrens gemäß der Erfindung werden im Anschluß beschrieben.
Die Trommeln für den Rotationssiebdruck, die gemäß dem Verfahren der Erfindung hergestellt sind, sind aus
drei Schichten aufgebaut, einer bild-formenden Schicht, einer Trommelschicht als Bildträger und einer Fixierschicht,
die die beiden erwähnten Schichten anheftet und i'.xiert, oder zwei Schichten, die durch das
Überziehen einer als Bildträger vorher hergestellten Trommelschicht mit einem Metall durch ein Plattier-Verfahren
gebildet sind, wobei dieses Meta'l gleichzeitig auf der Außenseite dieser Trommelschicht abgelagert
wird, und eine bild-formende Schicht bildet.
1. Beim Herstellen einer bild-formenden Schicht wird
die Innenseite eines rostfreien Stahl- oder Eisenzylinders h geschliffen und poliert, um einen notwendigen
Umfang, wie er in F i g. 4a gezeigt ist. herzustellen.
Auf der polierten Oberfläche wird ein Clirombelag ;
pnfcTohrarht und dip Λπβρηςρίΐρ dp« 7vlindpr<>
wird mit einem nichtleitenden Harz j überzogen. Die Chromschicht wird hergestellt um Härte und Schlagfestigkeit
zu schaffen und dient als Ablöseschicht. Der Belag mit dem nichtleitenden Harz dient dazu, die Ablagerung von
überschüssigem Plattier-Metall zu verhindern. Der Metallzylinder h mit der erwähnten Struktur wird in ein
Nickelbeschichtungsbad k eingetaucht, zum Beispiel wie in F i g. 4c gezeigt, und die Beschichtung wird durch das
Einführen einer Nickelanode /ausgeführt. Die Dicke m des Nickels liegt vorzugsweise im Bereich von
5-50μιη. Die resultierende Metallschicht wird als
bild 'ormende Schicht m wie in Fig. 4d gezeigt,
verwendet. Die bild-formende Schicht m ist nicht von dem aus h. i und j aufgebauten Zylinder abgelöst,
sondern in die nächste Verfahrensstufe gegeben wie sie ist. So kann eine bild-formende Schicht m mit einer
endlosen und glatten Oberfläche erhalten werden. Als Ablöseschicht kann Kupfer. Nickel usw. verwendet
werden. Wenn Kupfer verwendet wird, wird dessen Oberfläche mit einer wässerigen Lösung von AgNOj
oder Chromsäure behandelt, und wenn Nickel verwendet wird, kann sie verwendet werden, wie sie ist. Als
bild-formende Schicht kann neben Nickel zum Beispiel Kupfer als eine einzelne oder doppelte Schicht
verwendet werden.
2. Bei der Herstellung einer Trommel als Bildträger kann nicht nur eine Trommel die für Lackierverfahren
verwendet wird, sondern auch eine Trommel verwendet werden, die aus dem Verweben feiner Metallfäden wie
etwa rostfreier Stahlfäden oder Fäden aus chemischen synthetischen Harzen, zum Beispiel Polyesterfäden,
dem Formen zur Gestalt eines nahtlosen Zylinders, und Befestigen des gewobenen Geflechts mittels chemischem
Plattieren bei chemischem synthetischem Harz oder mittels Elektro-Plattieren bei Metall oder mittels
gleichzeitiger Verwendung beider Verfahren zum Verhindern deren Verschiebung, erhalten wird. Die
Schnittansicht dieser Trommel ist in Fig. 5a oder 5b gezeigt. F i g. 5a zeigt einen Schnitt eines Siebes, das
durch ein Plattier-Verfahren hergestellt ist. wobei a Nickel zeigt und Fig. 5b zeigt einen Schnitt eines
Siebes, das durch die Befestigung gewobener Metallfäden oder synthetischer Harzfäden (gewöhnlich 40 — 400
Maschen) durch Plattieren erhalten wurde, wobei η Metalldraht oder synthetische Harzfäden, und ο
beschichtendes Metall zeigt. Die Dicke der Trommel liegt im Bereich von 40—Ί20μπι. Nach Vollenden des
Plattierens oder Webens und Formens in die Gestalt eines nahtlosen Zylinders, wird ein Oberziehen ausgeführt,
um die gewobenen Maschen zu fixieren, und danach wird die Trommel aus der Mutterwalze
herausgezogen usw.
3. Die herausgezogene Trommel bzw. Umkleidung als Bildträger wird in die Innenseite eines metallischen
Zylinders, der eine Metallschicht als abbildende Schicht trägt, hinein eingeführt. Dieser Zustand ist in F i g. 6
gezeigt, in der h einen Metallzylinder und seine Innenseite /eine Ablöseschicht zeigt, zum Beispiel eine
mit Chrom belegte Schicht, und m, das an dessen Innenseite vorhanden ist, zeigt ein Metall der abbildenden
Schicht, zum Beispiel Nickel, die durch ein Plattier-Verfahren erhalten wird. Dann wird in die
Innenseite einer Trommel, die als abbildende Schicht durch Plattieren erhalten wurde, eine Trommel als
Bildträger, zum Beispiel die durch Plattieren erhaltene Trommel a eingeführt. Der Kontaktteil nach dem
Einführen ist in Fig. 7 in vergrößerter Ansicht gezeigt. Der ganze Körper des metallischen Zylinders mit einer
eingeführten Trommel wird in ein chemisches Plattierbad eingetaucht, um chemisches Plattieren anzuwenden,
oder der ganze Körper des Metallzylinders mit der eingeführten Trommel wird in ein Elektro-Plattierbad
eingetaucht, und Elektroplattieren wird ausgeführt, nach dem ein Anodenmetal! in den Mittelteil des
Zylinders eingeführt wird. Als Ergebnis wird die abbildende Schicht m und die Trommelschicht a als
Bildträger, durch das Metall ο aneinander befestigt, das durch das Plattieren wie in F i g. 8 gezeigt ist, abgelagert
wird. Ferner ist es wie aus Fig.9 gefolgert wird, auch
möglich, das abgelagerte Metall o, das die abbildende
Schicht m befestigt, während es die Trommelschicht a als Bildträger bzw. Bildstütze umhüllt, effektiv zu
nützen, und dadurch m als abbildende Schicht in F i g. 9
wegzulassen.
Als Siebe werden solche gewünscht, die ein gutes Öffnungsverhältnis haben, weil sie eine größere Fläche
zum Durchtreten von Farbe zur Zeit des Druckes schaffen. Unter den Sieben, die nach dem erfindungsgemäßen
Verfahren erhalten werden, können die Siebe, die ein so gutes Öffnungsverhältnis haben, wie es nie
zuvor durch ein Lackierverfahren oder ein Galvano-Verlahren ernaiten wurde, durch Herstellung einet
Trommel als Bildträger durch ein Elektro-PIattier-Verfahren
und deren Befestigung auf einer abbildenden Schicht durch Elektroplattieren erhalten werden. Die
F i g. 12a. 12b und 12c zeigen den Vergleich. Wenn eine
Trommel gemäß einem Lackierverfahren erzeugt wird, und wenn das Überziehen nur von einer Seite erfolgt, so
daß eine Trommel mit einer vorbestimmten Stärke hergestellt wird, ist eine minimale Dicke von y = 80 μηι
Lei 39.3 Linien/cm notwendig. Als Ergebnis wird auch eine transversale Verbreiterung oder Ausdehnung
wegen des Überziehens 80 μπι, was in eine Lochgröße
von r = 40 μπι resultiert (Fig. 12a). Im Gegensatz dazu
reicht, nach dem erfindungsgemäßen Verfahren, da das Überziehen auf beiden Seiten ausgeführt wird, die Dicke
einer Trommel aus, wenn sie es ermöglicht, die Trommel aus einer Mutterwalze herauszuziehen, und die notwendige
minimale Dicke wird ζ = 40 μπι (F i g. 12b). Dies ist
ein Fall für eine Trommel mit einem Umfang von 640 mm und einer Länge von 1500 mm. Wenn der
Umfang und die Länge der Trommel kleiner sind, würde die zum Herausziehen notwendige Dicke dünner sein.
Ferner ist es durch die Verwendung eines Elektro-PIattier-Verfahrens
zur Zeit der Befestigung auf einer abbildenden Schicht möglich, die Dicke allein zu
vergrößern und die Ablagerung auf der Seite der
Löcher oder auf einer abbildenden Schicht zu verringern, durch die Wirkung eines Klemmstroms, was
in eine Lochgröße von r = 80μιτι (Fig. 12c) resultiert.
Mit dem Öffnungsverhältnis ausgedrückt, ist dies ungefähr eine vierfache Verbesserung im Fall quadratischer
Löcher. Dies kann als einer der Vorteile erwähnt werden, die nach dem erfindungsgemäßen Verfahren
erzielt werden
In Fig. 12a, 12b und 12c ist χ = 200 μιπ, y = 80μιη.
■ζ=40μιη, ρ = 40 μιτι. <7=12Ομιη, r = 80 μιη und
W = 80 μπι.
4. Dann wird das Metall der abbildenden Schicht und die Trommel als Bildträger, die an einem Metallzylinder
befestigt ist, vom Metallzylinder herausgezogen, wobei die Grenzschicht nunmehr durch die Chromschicht im
Inneren des Metallzylinders gebildet wird. Als Verfahren für das Herausziehen wird zum Beispiel eine
Messerklinge oder ähnliches zwischen die abbildende Schicht und die Chromschicht eingeführt, und nach
teilweisem Ablösen kann das Ablösen leicht durch das Anlegen von Druck mit einer Gummiwalze von dem
gelösten oder abgetrennten Teil ausgeführt werden. Dieser Zustand ist in F i g. 9 gezeigt.
5. Die resultierende Trommel für den Rotationssiebdruck hat eine glatte Oberfläche einer endlosen
metallischen abbildenden Schicht, die durch die oben geschilderten Verfahrensstufen erhalten wurde, und ist
vom unnötigen Metall der abbildenden Schicht mittels eines gegenwärtigen benützten metall-fotomechanischen
Verfahrens befreit.
In diesem Verfahren wird, nachdem eine Trommel unter Zug durch Befestigung von Eindringen an beiden
Enden der Trommel ausgedehnt wurde, diese in eine vertikale Ringstreichmaschine gesetzt, so daß sie der
Entfettung, dem Waschen mit Wasser, der Neutralisation und weiterem Waschen mit Wasser ausgesetzt ist.
Dann wird sie getrocknet und mit einer Lösung eines lichtempfindlichen Harzes überzogen. Nach dem Trocknen
wird sie aus der vertikalen Ringstreichmaschine herausgenommen, und die Endringe werden entfernt.
Dann wird eine ballonähnliche Gummiwalze (Blase) in die Trommel eingeführt und mit kompremierter Luft
mit Druck versehen, so dab keine Unebenheiten geschaffen werden. Dann wird ein vorher vorbereiteter
Film mit der Trommel in Kontakt gebracht und einer Belichtungsmaschine ausgesetzt, so daß eine Belichtung
bewirkt wird. Nach dem Belichten wird der Film abgetrennt und der Entwicklung und dem Waschen mit
Wasser unterworfen, so daß das lichtempfindliche Harz in den nicht belichteten Teilen entfernt wird, und die
metallische Oberfläche als die abbildende Schicht freigelegt wird. Dieser Zustand ist in Fig. 10 gezeigt.
Dann wird die abbildende Schicht nur wo Metall freigelegt ist, durch Ätzen entfernt.
Beim Ausführen des Ätzens sollte, wenn das Metall der abbildenden Schicht die Metalltrommel als
Bildträger und das Metall zur Befestigung der beiden Metalle aneinander dieselben sind, oder wenn eine
solche Ätzlösung, die das gleiche Ausmaß von Korrosionseigenschaften gegenüber all den Metallen
aufweist, zum Beispiel eine Eisen-HI-chloridlösung,
verwendet wird, das Ätzen ausgeführt weruen. während sichergestellt ist, daß die abbildende Schicht ausreichend
geätzt wird, aber die Siebschicht als Bildträger während des Ätzprozesses nicht korrodiert wird, fn
diesem Fall wird ein Zustand wie er in Fig. 10 gezeigt
ist, erhalten, wo ein Teil des Siebmetalls als Bildträger korrodiert wird, aber dies keinen Einfluß auf das
Druck η hat.
V/a :- Verjähren zum vollständigen Schutz eines
metallischen Siebteils als Bildträger zum Zeitpunkt des Ätzens anbetrifft, falls Nickel als abbildende Schicht m
- wie in F i g. 1 la gezeigt ist, verwendet wird, und Kupfer,
Chrom oder eine Nickellegierung als Metall ο zur Befestigung der beiden aneinander verwendet wird,
sogar wenn ein metallisches Sieb a als Bildträger ebenfalls aus Nickel ist, und ferner eine gemischte
m Lösung aus Salpetersäure und Wassersto'.fhyperoxyd
als Ätzlösung verwendet wird, dann wird das Kupfer oder ähnliches kaum korrodiert (vergleiche die offengelegte
japanische Anmeldung Nr. I 35 703 von 1974). Als Ergebnis stoppt das Ätzen in dem Zustand, wo das
ii Metall der abbildenden Schicht allein geätzt wurde. Bei
Verwendung einer gemischten Lösung aus Schwefelsäure oder Wasserstoffperoxyd ist es so eingerichtet, üdß
Nickel kaum korrodiert wird, und nur das Abälzen des Kupfers fortschreitet, wodurch das freigelegte Kupfer
>n entfernt werden kann. In den Hallen von Chrom oder
einer Nickellegierung, wird die Chrom- oder Nickellegierungsschicht im öffentlichen Teil durch Verwendung
unter Druck stehenden Wassers entfernt. Dieser Zustand ist in F i g. 11b gezeigt.
j-, So ist es durch eine Kombination individueller
Metalle und Auswahl der Ätzlösung möglich, das Metall allein, das auf dem Metall der abbildenden Schicht
befestigt ist, durch ätzende Behandlung zu entfernen, und dadurch Trommeln zu produzieren, ohne daß das
in Sieb als Bildträger überhaupt verletzt wird. Nachdem
das Ätzen vorbei ist, wird die komprimierte Luft herausgelassen, so daß eine Trommel für den Rotationssiebdruck
geschaffen wird.
Falls notwendig, wird eine ausgehärtete Membrane lichtempfindlichen Harzes durch Verwendung einer
Ablöselösung (ein organisches Lösungsmittel) entfernt.
Die ein Bild enthaltende Trommel, die durch die oben
geschilderten Verfahrensstufen erhalten wird, ist ganz aus Metall hergestellt. Da ihre mit einem zu
■in bedruckenden Objekt in Kontakt gelangende Oberfläche
eine glatte, nahtlose Waizenfläche ist, kann sie für
jedes Muster ohne jegliche Einschränkungen verwendet weroen. Da UIC Dliuei liniicia eines ΓΛΪζ.νύΓιαΓιΓ0Γΐ3
hergestellt werden, werden die Ätzgrenzen scharf. Da
4-, es kein Ausdehnen oder Schrumpfen wie etwa
Anschwellen oder ähnliches wegen einer Farblösung während der Druckzeit gibt, kann ein scharfes Drucken
ausgeführt werden. Da das Material, das eine abbildende Schicht an einer Trommel befestigt, Metall ist, gibt es
vi kein Angreifen eines Lösungsmittels, das in Farbe
überhaupt gegenwärtig ist, und es gibt weder einen Ausfall von Bildern noch eine Änderung der gedruckten
Sache, was während der Druckzeit geschehen kann. Ferner wird die sonst bei Harz auftretende Besorgnis
während der Zeit des Waschens und des Speichers, das heißt eine Zerstörung des Harzes, überhaupt unnötig.
Da scharfe und endlose Trommeln für den Rotationssiebdruck mit einem Höchstmaß an Dauerhaftigkeit für
das Drucken erhalten werden können, sollte gesagt sein, daß das Leistungsvermögen, das gemäß dem erfindungsgemäßen
Verfahren erzielt wird, extrem hoch ist. Die folgenden Beispiele werden als beispielhafte
Verdeutlichungen der Erfindung dargestellt
6_ B e i s ρ i e I 1
Auf der Oberfläche einer Kupferwalze mit einem Umfang von 638,05 mm und einer Oberflächenlänge
von 400 mm werden konkave Teile gemäß einem
Einschneideverfahren eingraviert, so daß 80 Linien/in. (31,5 Linien/cm) vorhanden sind, und die ganze
Oberfläche der Walze wird in einem Plattierbad aus Chromsäure beschichtet, so daß eine Chromdicke von
2 μ über die ganze Oberfläche erreicht wird. Dann wird ein nichtleitendes Harz (ein aushärtbares Epoxydharz)
in die konkaven Teile eingefüllt, und durch das Abschleifen nach dem Trocknen wird eine Mutterwalze
erhalten. Diese Mutterwalze wird in einem Nickel-Plattierbad aus Nickelsulfamat beschichtet, so daß eine
Dicke des Nickels von 80 μ erreicht wird. Durch Einführen einer Messerklinge in ein Ende der Walze
hinein, wird die Nickelschicht von der Mutterwalze gelöst und ein Nachdrücken wird mit einer Gummiwalze
auf die ganze Oberfläche der Mutterwalze angelegt, i<s so daß die Adhäsion gelöst oder die ganze Oberfläche
abgelöst wird, worauf dann die Nickelschtcht aus der Mutterwalze abgezogen wird, so daß eine Trommel
geschaffen wird. Dann wird die ganze Oberfläche eines Eisenzyiinders mit einem innenumfang von 640,i 9 mm, 2»
einer Länge von 400 mm und einer Dicke von 5 mm einem Plattieren mit Chrom unterworfen, so daß eine
Chromdicke von 2 μ erreicht wird. Die äußere Oberfläche dieses Zylinders wird mit einem nichtleitenden
Harz (einem aushärtbaren Epoxydharz) überzogen 2") und getrocknet. Ein chrom-plattierter Eisenzylinder
wird vertikal in ein Nickel-Plattierbad eingeführt, eine Nickelstange wird in die Mitte des Zylinders eingeführt,
und ein Plattieren mit Nickel wird ausgeführt, so daß eine Dicke des Nickels von 30 y erreicht wird, während
der Eisenzylinder gedreht wird, und eine abbildende bzw. bild-formende Schicht gebildet wird. Dann wird die
als Bildträger vorher hergestellte Trommel in den Zylinder eingeführt, und nach der Wiederholung des
Waschens mit Wasser, Entfetten, Waschens mit Wasser, r>
Neutralisieren und Waschens mit Wasser mittels eines Spriihverfahrens, wird ein Plattieren mit Nickel in dem
erwähnten Nickelbad ausgeführt, so daß eine Dicke des Nickels von 2 μ und die Befestigung der beiden
Nickelschichten bewirkt wird. Nach Vollendung des w Plattierens, wird die Nickeltrommel als abbildende
Schicht durch Einführen einer Messerklinge in das
3dC
der belichteten abbildenden Schicht wird geä.zt, während die Maschine auf halbem Weg zum Prüfen
gestoppt wird. Nach Vollendung des Ätzens wird ein Waschen mit Wasser ausgeführt, und die aus der
ballonähnlichen Walze herausgezogene belichtete Harzmembrane wird abgelöst. Wenn die resultierende
Drucktrommel genügend geprüft wird, wird festgestellt, daß der Siebteil als Träger mehr oder weniger
korrodiert ist, aber keinerlei Hindernis für den Drucktest bildet, und ein endlos breites Drucken
erhalten werden kann.
Auf der Innenseite eines auf die gleiche Art wie im Beispiel 1 mit Chrom beschichteten Eisenzylinders wird
ein Plattieren mit Nickel ausgefühlt, so daß eine Dicke
des Nickels von 30 μηι als abbildende Schicht erreicht
ist, und dann wird eine Nickeltrommel mit einer Dicke von 80 μιτι als Bildträger auf die gleiche Art wie im
Beispiel i hergestellt, und dann aus dem Kupferzyiinder herausgezogen. Die Adhäsion der Nickeltromrr.el als
Bildträger an die Nickeltrommel als abbildende Schicht wird durch Einführen der Nickeltrommel in die
Innenseite des Eisenzylinders hinein ausgeführt, gefolgt von Waschen, Entfetten, Waschen, Neutralisieren und
dann Eintauchen der resultierenden Nickeltrommel zusammen mit der Eisenwalze in eine Lösung mit einer
Zusammensetzung, c'ie aus 40 g/l Nickelsulfat, 24 g/l Natriumhypophosphi:, 14 g/l Natriumacetat und 5 g/1
Ammoniumchlorid als chemische Nickel-Plattierlösung besteht, bei einer Lösungstemperatur von 6O0C für eine
Stunde, so daß eine Dicke von 4 μπι erreicht wird. Die
Nickeltrommel und die Eisenwalze werden aus der Plattierlösung herausgenommen und mit Wasser gewaschen,
die Nickeltrommel wird auf die gleiche Weise wie im Beispiel I von dem Eisenzylinder heruntergezogen,
ferner wird ein SiId auf die gleiche Art wie im Beispiel 1 geformt und das Ätzen ausgeführt. In diesem Fall wird
das Ätzen an dem Nickel als abbildende Schicht ausgeführt, und trotzdei.i daß das Ätzen riie gleicher
Zeitdauer wie in Beispiel 1 ausgeführt wird, wird die chemisch nickelplattierte Schicht, durch welche die
Chromoberfläche des Eisenzylinders abgelöst. Von diesem Teil an wird wie in dem oben erwähnten Fall -ü
Druck mit einer Gummiwalze angelegt, um die Trommel von dem Eisenzylinder abzulösen und in der
zylindrischen Form zum Bilden einer Drucktrommel herauszuziehen. Dann werden Endringe in beide Enden
der Trommel eingeführt, und in eine vertikale Ringstreichmaschine eingesetzt, gefolgt von wiederholtem
Waschen mit Wasser, Entfetten, Waschen mit Wasser, Neutralisieren und Trocknen. Danach wird die
Trommel mit einer Lösung eines lichtempfindlichen Harzes (Polyvinyl-Cinnamat) beschichtet und getrock- 5s
net. Nach der Wegnahme der Endringe, wird eine ballonähnliche Gummiwalze in die Drucktrommel
eingeführt und mit komprimierter Luft ausgedehnt. Ein vorher vorbereiteter Film wird in engen Kontakt mit
der Membrane des lichtempfindlichen Harzes gebracht und in einer Belichtungsmaschine mit Licht bestrahlt.
Nach Vollendung der Bestrahlung mit Licht, wird der Film heruntergenommen, entwickelt und mit Wasser
gewaschen und die metallische Oberfläche (Nickel) als abbildende Schicht des unbelichteten Teils wird dem
i-.iCiit ausgesetzt. Dann wiru uic Trommel m eine
Sprüh-Ätzmaschine gestellt, die eine Ätzlösung von 6,2% HNO3 und 7% H2O2 verwendet, und der Nickelteil
haften, kaum angeätzt. Dies rührt wahrsche · lieh von
der Bildung einer Legierungsschicht von Nickel und Phosphor in der chemisch nickel-plattierten Schicht her,
wenn man die Lösungszusammensetzung in Betracht zieht. Als nächstes wird der Zylinder in eine 40° Be
Eisen-III-chloridlösung eingetaucht, so daß die chemisch
mit Nickel plattierte Schicht geätzt wird. Als Folge davon werden auch das Nickel als abbildende Schicht
und das Nickel als Bildträger zusammen mit dem Nickel der chemisch mit Nickel plattierten Schicht im gleichen
Ausmaß mittels der Eisen-III-chloridlösung geätzt, aber es tritt kein Hindernis zum Zeitpunkt des Drückens auf
und ein endloses und klares Drucken kann ausgeführt werden.
Ein Plattieren mit Nickel wird ausgeführt, so daß eine abbildende Schicht mit einer Dicke von 30 μΐη auf
dieselbe Art wie im Beispiel 1 erreicht wird, dann wird eine Nickeltrommel als Bildträger mit der gleichen
Dicke wie in Beispiel I auf die gleiche Art wie in Beispiel 1 hergestellt, und nach dem sie herausgezogen wurde,
wird die Trommel als Bildträger auf die innere Seite der
abbildenden Schicht eingeführt. Die Trommel und der Eisenzylinder werden in ein chemisches Kupfer-Plat-
29 i8 063
tierbad eingetaucht, das eine Zusammensetzung aus
10 g/I Kupfersulfat, 25 g/l Rochelle Salz, 10 g/l Paraformaldehyd
und 0,1 g/l Thioharnstoff besteht, und ferner Natriumhydroxyd enthält, das zugesetzt wurde,
um einen pH-Wet von 12,5 zu erreichen, bei einer
Lösungstemperatur von 25° C, und für zwei Stunden, so daß eine Dicke von 2 μπι erreicht wird, und die
Anhaftung zwischen der abbildenden Schicht und der bildtragenden Schicht ausgeführt wird. Als nächstes
wird ein Bild auf die gleiche Art wie in Beispiel 1 geformt, und das Nickel als abbildende Schicht wird auf
die gleiche Ätzart wie in Beispiel 1 geätzt Als Folge davon als Ergebnis, trotz der gleichen Ätzdauer wie in
Beispiel 1, wird Kupfer als Adhäsionsschicht überhaupt nicht angeätzt. Als nächstes wird der Zylinder in eine
wässerige Ätzlösung eingetaucht, die 10% Schwefelsäure
und 7% Wasserstoffperoxyd enthält, um das Kupfer zu ätzen. Das Nickel wird mit dieser Ätzlösung kaum
angeätzt Als Ergebnis der Untersuchung wurde kein Anätzen des Nickels als Bildträger beobachtet, und
endloses and klares Drucken kann ausgeführt werden.
Die Innenseite eines mit Chrom plattierten Eisenzylinders mit den gleichen Abmessungen wie in Beispiel 1
wird einem chemischen Silberplattieren unterworfen, um die Ablösbarkeit weiter zu verbessern. Eine in der
ü'c liehen Fotoentwicklung erhaltene Ablauge wird als
Versilberungslösung verwendet Als nächstes wird ein Plattieren mit Kupfer in einer Kupfersulfat-Plattierlösung
ausgeführt, so daß eine abbildende Schicht mit einer Dicke von 30 μπι erreicht wird. Danach wird eine
Nickeltrommel auf die gleiche Art wie in Beispiel 1 hergestellt, aus der Mutterwalze herausgezogen und auf
der Innenseite der abbildenden Schicht des Eisenzylinders eingeführt Die Nickeltrommel zusammen mit dem
Eisenzylinder werden in eine chemische Kupfer-Plattierlösung mit der gleichen Zusammensetzung wie in
Beispiel 3 eingetaucht, so daß die abbildende Schicht und der Bildträger aneinander anhaften. Nach dem ein
Bild auf die gleiche Art wie in Beispiel 1 gebildet wurde, werden die Trommel und die Schicht mit dem Bild in
eine Spriih-Ätzmaschine, die eine 40° Be Eisen-III-chlorid-Ätzlösung
enthält, gestellt und das Ätzen ausgeführt. Als Ergebnis, das belichtete Kupfer als abbildende
Schicht und das Kupfer, das als Adhäsionsschicht zum Anhaften des Bildträgers auf der abbildenden Schicht
verwendet wird, wird geätzt, aber das Nickel als Bildträger wird kaum angeätzt. Als Ergebnis wird eine
Trommel für den Rotationssiebdruck, die endlos und klar ist und außerdem noch eine hervorragende
Druckdauerhaftigkeit aufweist, erhalten.
Eine zylindrische Trommel mit einem Geflecht (118
Linien/cm), das aus rostfreien Stahlfäden mit einem Durchmesser von 25 μπι in quadratischer Form gewebt
ist und einen Umfang von 640 mm und eine Länge von 400 mm aufweist (entsprechend dem Verfahren, das in
dem offengelegten japanischen Patent Nr. 1 34 405/ 1974 offenbart ist), wird in die Innenseite einer
ίο abbildenden Schicht aus Nickel, die vorher auf die
gleiche Art wie im Beispiel 1 erhalten wurde, eingeführt,
worauf die abbildende Schicht und die aus gewobenen rostfreien Stahlfäden hergestellte zylindrische Trommel
als Bildträger haftend verbunden wurden, und zwar in
η der gleichen Plattierlösung wie in Beispiel 1, und die
Trommel wird aus der abbildenden Schicht herausgezogen.
Als nächstes wird ein Bild gemäß eines fotografischen Prozesses auf dje gleiche Art wie in Beispiel 1 geformt,
und dann das Ätzen ausgeführt, indem eine wässerige Ätzlösung, die 6,2% Salpetersäure und 7% Wasserstoffsuperoxyd
enthält, verwendet wird. Ein Ergebnis ist daß die belichtete abbildende Schicht und die anhaftende
Schicht (Nickel), die durch das Anhaften der abbilden-
;ϊ den Schicht und der Trommel aneinander erhalten wird,
ohne Anätzen der rostfreien Stahldrähte geätzt werden kann. Zu diesem Zeitpunkt wird, wenn ein Bild mit einer
Linienbreite von 53 μπι gebildet wird, eine ausreichende
Reproduzierbarkeit sogar mittels des Ätzens erreicht,
in und außerdem kann ein klares Drucken mit 50μπι
ausgeführt werden.
Die gleiche Behandlung wie im Beispiel 5 wird ausgeführt, außer daß die rostfreien Stahldrähte von
Beispiel 5 durch Nylongarne ersetzt werden und diese mittels chemischen Nickel-PIattierens befestigt werden,
so daß die gleichen Ergebnisse erhalten werden.
Eine Nickeltrommel mit einer Dicke von 100 μπι wird
mittels der in Beispiel 1 gezeigten Mutterwalze vorbereitet, und in die Innenseite eines Metallzylinders
auf die gleiche Art wie in Beispiel 1 eingeführt, dann
wird das Plattieren auf die gleiche Art wie in Beispiel 1 ausgeführt, so daß eine Plattier-Dicke von 10 μπι
erreicht wird, und die Nickeltrommel, die die abbildende
Schicht enthält, wird aus dem Metallzylinder wie ir Beispiel 1 herausgezogen, so daß eine Trommel mil
einer bild-formenden Schicht und einer glatten Oberflä
ehe erhalten wird.
Hierzu 3 Blatt Zeichnungen
Claims (3)
1. Verfahren zur Herstellung einer Siebtrommel zum Drucken durch Erzeugen einer metallischen
bild-formenden Schicht mit einer glatten endlosen Außenseitenoberfläche durch Anordnen eines metallischen
bzw. nichtmetallischen, elektrisch-oberflächenleitend gemachten Siebs an einer polierten
Metallfläche und Plattieren bzw. Elektroplattieren der Anordnung, dadurch gekennzeichnet,
daß das Sieb oder eine Netzanordnung aus feinen Metallfäden oder nichtmetallischen Fäden für die
Durchführung eines chemischen und/oder Elektro-Plattier-Vorgangs
als Siebtrommel an der Innenseite eines Metallzylinders oder eines nichtmetallischen
Zylinders, nachdem dieser auf seiner Innenseite leitend gemacht wurde, eingeführt und während des
Plattier-Vorgangs belassen wird.
2. Verfahren zur Herstellung einer Siebtrommel zum Drucken durch Erzeugen einer metallischen
bild-formenden Schicht mit einer glatten endlosen Außenseitenoberfläche durch Anordnen eines metallischen
bzw. nichtmetallischen elektrisch-oberflächenleitenden Siebs an einer polierten Metallfläche
und Plattieren bzw. Elektroplattieren der Anordnung, dadurch gekennzeichnet, daß das Sieb oder
eine Netzanordnung aus feinen Metallfaden oder nichtmetallischen Fäden für die Durchführung eines
chemischen und/oder Elektro-Plattier-Vorgangs als Siebtrommel an der Innenseite eines Metallzylinders
oder eines nichtmetallischen Zylinders, nachdem dieser auf seiner Innenseite idtend gemacht wurde,
eingeführt und während, des Plattier-Vorgangs
belassen wird und daß ferner d r Metallzylinder vor dem Einbringen des Siebs mit einer bild-formenden
Schicht (m) in einer Stärke von 5 bis 50 μπι versehen
wird.
3. Verfahren nach Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet, daß die Innenseitenoberfläche des
nichtmetallischen Zylinders durch ein chemisches Plattier-Verfahren hergestellt wird.
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP5280478A JPS54156880A (en) | 1978-05-04 | 1978-05-04 | Production of sleeve for rotary screen printing |
Publications (3)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE2918063A1 DE2918063A1 (de) | 1979-11-29 |
DE2918063B2 DE2918063B2 (de) | 1981-01-15 |
DE2918063C3 true DE2918063C3 (de) | 1981-11-26 |
Family
ID=12925022
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE2918063A Expired DE2918063C3 (de) | 1978-05-04 | 1979-05-04 | Verfahren zur Herstellung einer Siebtrommel für den Rotationssiebdruck |
Country Status (8)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US4309455A (de) |
JP (1) | JPS54156880A (de) |
CA (1) | CA1160176A (de) |
CH (1) | CH640786A5 (de) |
DE (1) | DE2918063C3 (de) |
FR (1) | FR2432387A1 (de) |
GB (1) | GB2023660B (de) |
NL (1) | NL177737C (de) |
Families Citing this family (15)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5963793A (ja) * | 1982-10-02 | 1984-04-11 | 中沼ア−トスクリ−ン株式会社 | メタルマスクスクリ−ン版基材の製法 |
JPS63164499U (de) * | 1987-04-14 | 1988-10-26 | ||
US5322763A (en) * | 1992-05-06 | 1994-06-21 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Process for making metal ledge on stencil screen |
DE4404560C1 (de) * | 1994-02-12 | 1995-08-24 | Schepers Druckformtechnik Gmbh | Verfahren zur Herstellung einer Muttermatrize für die galvanische Erzeugung von nahtlosen Rotations-Siebdruckschablonen, insbesondere aus Nickel |
US9307648B2 (en) * | 2004-01-21 | 2016-04-05 | Microcontinuum, Inc. | Roll-to-roll patterning of transparent and metallic layers |
US7833389B1 (en) * | 2005-01-21 | 2010-11-16 | Microcontinuum, Inc. | Replication tools and related fabrication methods and apparatus |
KR100634315B1 (ko) * | 2004-02-12 | 2006-10-16 | 한국과학기술원 | 폴리머 패턴 |
EP1849181A4 (de) | 2005-01-21 | 2009-03-18 | Microcontinuum Inc | Duplikationswerkzeuge und diesbezügliche herstellungsverfahren und -vorrichtungen |
WO2007100849A2 (en) | 2006-02-27 | 2007-09-07 | Microcontinuum, Inc. | Formation of pattern replicating tools |
US7798063B2 (en) * | 2006-11-13 | 2010-09-21 | Esko-Graphics Imaging Gmbh | Reducing back-reflection during ablative imaging |
US20090296073A1 (en) * | 2008-05-28 | 2009-12-03 | Lam Research Corporation | Method to create three-dimensional images of semiconductor structures using a focused ion beam device and a scanning electron microscope |
DE102012011901A1 (de) * | 2012-06-14 | 2013-12-19 | Gallus Ferd. Rüesch AG | Flächiges Siebmaterial und Sieb |
US9589797B2 (en) | 2013-05-17 | 2017-03-07 | Microcontinuum, Inc. | Tools and methods for producing nanoantenna electronic devices |
JP6778494B2 (ja) * | 2016-03-15 | 2020-11-04 | セーレン株式会社 | ロータリースクリーンプリント用スクリーン版およびそれを用いたプリント方法 |
CN113755837B (zh) * | 2021-09-07 | 2024-01-30 | 刘未艾 | 一种温针艾灸装置的制备方法 |
Family Cites Families (14)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US2338091A (en) * | 1936-12-10 | 1944-01-04 | Brennan | Screen stencil and method of making same |
US2395448A (en) * | 1936-12-10 | 1946-02-26 | Brennan | Method of making screen stencils |
US2255440A (en) * | 1939-02-20 | 1941-09-09 | Wilson R Sherman | Electroforming method of preparing stencils |
US2288020A (en) * | 1939-03-27 | 1942-06-30 | David B Noland | Method of making printing screens |
US2282203A (en) * | 1941-01-31 | 1942-05-05 | Edward O Norris Inc | Stencil |
GB711209A (en) * | 1949-11-26 | 1954-06-30 | Ludwig Theodore Gmach | Improvements relating to screen printing apparatus |
FR1365655A (fr) * | 1963-07-22 | 1964-07-03 | Procédé et dispositif pour la fabrication d'un pochoir cylindrique sans couture | |
US3482300A (en) * | 1966-10-31 | 1969-12-09 | Screen Printing Systems Inc | Printing screen and method of making same |
NL6710443A (de) * | 1967-07-28 | 1969-01-30 | ||
GB1315538A (en) * | 1969-07-02 | 1973-05-02 | Screen Printing Systems Inc | Printing member and method of making the same |
US3610143A (en) * | 1969-07-25 | 1971-10-05 | Hallmark Cards | Method of preparing rotary screen printing cylinder |
US3783779A (en) * | 1969-07-25 | 1974-01-08 | Hallmark Cards | Rotary screen printing cylinder |
CH532271A (de) * | 1971-07-23 | 1972-12-31 | Buser Ag Maschf Fritz | Verfahren zur Dessinierung von Siebschablonen |
US3759800A (en) * | 1971-09-27 | 1973-09-18 | Screen Printing Systems | Seamless rotary printing screen and method of making same |
-
1978
- 1978-05-04 JP JP5280478A patent/JPS54156880A/ja active Granted
-
1979
- 1979-05-02 US US06/035,239 patent/US4309455A/en not_active Expired - Lifetime
- 1979-05-02 CA CA000326824A patent/CA1160176A/en not_active Expired
- 1979-05-04 CH CH419879A patent/CH640786A5/de not_active IP Right Cessation
- 1979-05-04 GB GB7915690A patent/GB2023660B/en not_active Expired
- 1979-05-04 NL NLAANVRAGE7903529,A patent/NL177737C/xx not_active IP Right Cessation
- 1979-05-04 FR FR7911307A patent/FR2432387A1/fr active Granted
- 1979-05-04 DE DE2918063A patent/DE2918063C3/de not_active Expired
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPS54156880A (en) | 1979-12-11 |
DE2918063A1 (de) | 1979-11-29 |
JPS6220032B2 (de) | 1987-05-02 |
GB2023660B (en) | 1983-01-12 |
FR2432387A1 (fr) | 1980-02-29 |
CH640786A5 (de) | 1984-01-31 |
GB2023660A (en) | 1980-01-03 |
US4309455A (en) | 1982-01-05 |
FR2432387B1 (de) | 1983-11-10 |
NL177737B (nl) | 1985-06-17 |
DE2918063B2 (de) | 1981-01-15 |
NL177737C (nl) | 1985-11-18 |
CA1160176A (en) | 1984-01-10 |
NL7903529A (nl) | 1979-11-06 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
DE2918063C3 (de) | Verfahren zur Herstellung einer Siebtrommel für den Rotationssiebdruck | |
DE2064861C3 (de) | Verfahren zur Herstellung von gedruckten Schaltkarten. Ausscheidung in: 2065346 und 2065347 und 2065348 und 2065349 | |
DE3441593C2 (de) | ||
DE2728084A1 (de) | Verfahren zum herstellen einer nahtlosen zylindrischen schablone sowie unter anwendung des verfahrens hergestellte siebdruckschablone | |
DE3231831C2 (de) | Verfahren zur galvanoplastischen Herstellung eines Rotationsdrucksiebs | |
DE1920735A1 (de) | Lochmaske fuer Farbfernsehbildroehren | |
EP0925196B1 (de) | Verfahren zum herstellen einer gewebebahn, insbesondere für eine siebdruckform, sowie gewebe, insbesondere siebdruckgewebe | |
EP0036595B1 (de) | Verfahren zur Herstellung von Siebdruckschablonen auf galvanischem Wege | |
CH505693A (de) | Offsetdruckplatte | |
EP2810778A1 (de) | Verfahren zum Herstellen einer Siebstruktur | |
DE2945778A1 (de) | Nahtloser siebdruckzylinder und herstellungsverfahren dafuer | |
DE4123708A1 (de) | Verfahren zum herstellen eines filtermaterials | |
DE3631804C2 (de) | ||
DE2225826C3 (de) | Verfahren zum Herstellen einer Vielzahl von jeweils ein Loch enthaltenden Elektroden für Elektronenstrahlsysteme | |
DD244525A5 (de) | Siebdruckschablone | |
DE1461088A1 (de) | Metallgewebe fuer Papiermaschinen sowie Verfahren zur Herstellung derselben | |
DE2051728C3 (de) | Verfahren zum Herstellen eines Schablonensiebes | |
DE2936693A1 (de) | Rotations-filmdruck-walze und herstellungsverfahren dafuer | |
DE743162C (de) | Verfahren zur Herstellung von Flachdruckformen | |
DE2822455C3 (de) | Verfahren zur galvanoplastischen Herstellung eines zylindrischen oder ebenen Siebgitters und seine Verwendung | |
DE2605330A1 (de) | Verfahren zur herstellung von bogenfuehrenden folien fuer druckmaschinen | |
DE1255491B (de) | Verfahren zum Herstellen einer Druckwalze mit einer lichtempfindlichen Schicht | |
DE1954973C (de) | Verfahren zur Herstellung von mit einem Metallkern versehenen gedruck ten Schaltungen | |
DE928988C (de) | Verfahren und Vorrichtung zur Herstellung bimetallischer Druckplatten | |
DE1611181C3 (de) | Verfahren zur Herstellung einer Runddruckschablone |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
OAP | Request for examination filed | ||
OD | Request for examination | ||
C3 | Grant after two publication steps (3rd publication) | ||
8339 | Ceased/non-payment of the annual fee |