DE2905905C2

DE2905905C2 -

Info

Publication number: DE2905905C2
Application number: DE2905905A
Authority: DE
Inventors: Ryoichi Shioi; Tamotu Akita Jp Yamauchi
Original assignee: TDK Corp
Current assignee: TDK Corp
Priority date: 1978-02-22
Filing date: 1979-02-16
Publication date: 1989-09-21
Also published as: GB2015250B; GB2015250A; US4232214A; DE2905905A1

Description

Die Erfindung betrifft ein Heizelement nach Oberbe griff des Anspruches 1.

Derartige Heizelemente, deren Halbleitermaterial nach folgend als PTC Thermistor bezeichnet wird, weisen eine Reihe von Vorteilen auf, insbesondere den Vorteil, daß die gewünschte Erwärmungstemperatur erhalten werden kann durch Einstellen des Curiepunktes des PTC-Thermistors. Ein weiterer Vorteil ist darin zu sehen, daß keine Ge fahr besteht, daß der PTC-Thermistor überhitzt wird. Dieser Umstand ist darin zu sehen, daß der Widerstand des PTC-Thermistors bei einer Temperatur oberhalb des Curiepunktes plötzlich ansteigt. Derartige PTC-Thermi storen sind besonders günstig bei automatischen Tempe raturkontrollen und werden daher bei verschiedenen Heizelementen verwendet.

Die Heizelemente haben üblicherweise die Form von waben förmigen Halbleiterkeramikkörpern, welche Durchgangs bohrungen aufweisen, durch welche mittels eines Venti lators Luft strömt. Sie werden als Lufterhitzer, Haar trockner und für andere Arten von Trockner verwendet. Da der Widerstand des PTC-Thermistors oberhalb einer vom Curiepunkt bestimmten Temperatur plötzlich ansteigt, beispielsweise oberhalb von 170 bis 190°C, wird die Stromleitfähigkeit des Halbleiterkeramikkörpers ver mindert.

Zum Anlegen der Spannung an den wabenförmigen Halbleiter keramikkörper sind an dessen Stirnseiten Elektroden angeordnet.

Nach der DE-OS 26 39 370 bestehen die Elektroden aus einer unteren Schicht aus Silber mit Zusätzen von Zinn, Zink, Indium, Gallium, Antimon, Wismut und/oder Cadmium. Diese Zusätze dienen dazu, den Ohmschen Kontakt der Schicht mit dem Keramikkörper zu verbessern, gleichzei tig wird jedoch durch sie der elektrische Flächenwider stand erhöht. Damit dieser Flächenwiderstand nicht zu hoch wird, kann auf diese untere Schicht eine Zwischen schicht aufgebracht werden, die ausschließlich aus Silber besteht. Die Silberschicht wird jeweils in Pastenform aufgebracht und gebrannt. Die Elektroden werden von einer Schutzschicht aus einem Harz abgedeckt. Diese Harzschicht reduziert die Elektromikration des Silbers in den Keramikkörper.

Damit der Flächenwiderstand einer solchen Elektrode nicht zu hoch wird, ist es erforderlich, die eine oder beide Silberschichten relativ dick auszubilden.

Nach der US-PS 39 27 300 werden die Elektroden herge stellt durch heißes Aufsprühen von Aluminium und dem anschließenden Aufbringen einer Silberpaste, die gebacken wird. Die Aluminiumschicht soll die Elektromikration des Silbers, die zu Kurzschlüssen zwischen den Elektroden führen kann, verhindern. Eine solche Elektrode hat jedoch den Nachteil, daß sie sehr rasch korogiert. Da Alumi nium einen relativ hohen elektrischen Widerstand aufweist, ist es hier ebenfalls erforderlich, die Silberschicht relativ dick auszubilden.

Nach der US-PS 36 76 211 bestehen die Elektroden ebenfalls aus durch Flammspritzen aufgebrachtem Aluminium. Da an dieser Aluminiumschicht keine elektrischen Anschlüsse angelötet werden können, wird auf die Aluminiumschicht eine Schicht aus Kupfer oder Silber aufgebracht. Dieses Aufbringen kann durch Aufdampfen oder Elektroplatieren erfolgen.

Es besteht die Aufgabe, das eingangs genannte Heizele ment so zu verbessern, daß die hauptsächlich aus Silber bestehende Elektrodenschicht möglichst dünn ausgebildet werden kann und die Elektrode korrosionsbeständig ist.

Gelöst wird diese Aufgabe mit den kennzeichnenden Merk malen des Anspruches 1. Vorteilhafte Ausgestaltungen sind den Unteransprüchen entnehmbar.

Die obere Schicht aus dem aufplatierten Metall macht die Elektrode korrosionsbeständig und verhindert die Elektromikration des Silbers in den Keramikkörper. Gleich zeitig weist diese obere Metallschicht den Vorteil auf, daß sie elektrisch leitend ist.

Ausführungsbeispiele der Erfindung werden nachfolgend an Hand der Zeichnungen näher erläutert. Es zeigt

Fig. 1 eine perspektivische Ansicht eines waben förmigen Körpers eines Heizelements;

Fig. 2 einen Querschnitt durch den wabenför migen Körper eines bekannten Heizele ments;

Fig. 3 eine vergrößerte Draufsicht auf den wabenförmigen Körper gemäß Fig. 1;

Fig. 4 eine graphische Darstellung der Wider stands-Temperaturkurve eines PTC- Thermistors;

Fig. 5 eine perspektivische Ansicht des waben förmigen Körpers nach Fig. 1 in Ver bindung mit Leitern zum Anschluß an eine Stromquelle;

Fig. 6 einen Querschnitt durch ein Heizelement mit zweischichtigen Elektroden und

Fig. 7 einen Querschnitt durch ein Heizelement mit dreischichtigen Elektroden.

Der wabenförmige PTC-Thermistorkörper 1 gemäß den Fig. 6 und 7 kann zusammengesetzt sein aus irgendeinem bekann ten PTC-Thermistormaterial.

Der PTC-Thermistorkörper ist zylindrisch ausgebildet. Durch ihn hindurch gehen runde, rechteckige, quadratische oder seckseckige Kanäle, welche im säulenförmigen Körper parallel zueinander verlaufen. Die festen Teile des PTC- Thermistorkörpers, d. h. die Wandungen haben im wesent lichen gleichförmige Dicke und diese Wandungen bilden die Kanäle. An gegenüberliegenden Enden der Wandungen, d. h. an den beiden Stirnseiten des Körpers sind Elektro den angeschlossen. Diese werden beispielsweise mittels einer Siebdrucktechnik aufgebracht. Ein Ventilator oder ein sonstiges, einen Luftstrom erzeugendes Mittel ist im festen Abstand in axialer Richtung von dem säulen förmigen PTC-Thermistorkörper angeordnet.

In Fig. 6 sind die beiden Schichten der Elektroden mit 3 und 11 bezeichnet. Bei diesen zweischichtigen Elektro den besteht die untere Schicht aus einer Silberpasten schicht 3, die adhäsive Oxyde enthält und einer oberen Metallschicht 11, welche von diesen adhäsiven Oxyden frei ist und welche ein Verschmoren dieser Schichten verhindert. Die Einzel- und Gesamtschichtdicken dieser Schichten 3 und 11 ist beträchtlich gering. Allgemein gesprochen wird die Dicke der Elektroden sehr dünn, wenn die Dicke d der Wandungen erhöht wird. Bei der vor liegenden Erfindung ist es möglich, die Dicke d der Wandungen im Vergleich zum Stand der Technik zu ver mindern, wodurch die erzeugte Wärmemenge erhöht werden kann, obwohl die Elektrodendicken sehr gering sind. Die Dicke d der Wandungen 4 ist vorteilhafterweise gering und liegt in der Größenordnung von 0,15 bis 3 mm. Die Gesamtschichtdicke der oberen und unteren Elektroden liegt jeweils in der Größenordnung von 10 bis 35 µm. Hierbei beträgt die Dicke der unteren Schicht 3 vorzugs weise 5 bis 10 µm und die Schichtdicke der darauf angeordneten oberen Schicht vorzugsweise 5 bis 20 µm.

In Fig. 7 sind die obere, mittlere und untere Schicht der dreischichtigen Elektroden mit 3, 13 und 14 be zeichnet. Die Zwischenschicht 13 besteht aus einem Metall oder aus Metallen wie Silber, Gold und Kupfer, wobei diese Schicht eine hohe elektrische Leitfähigkeit aufweist. Die Zwischenschicht 13 ist vorzugsweise zwi schen 5 bis 20 µm dick. Die obere Schicht 14 be steht aus einem Metall oder aus Metallen wie Nickel, Zink und Chrom und weist einen guten Widerstand gegen atmosphärische Korrosion auf. Werden Elektroden aus drei Schichten 3, 13 und 14 verwendet, dann ist die Dicke d der Wandungen des wabenförmigen PTC-Thermistor körpers 1 vorteilhafterweise klein, ohne daß die Ge fahr besteht, daß die untere Schicht 3 abschmort und ohne daß die Dicke der unteren Schicht erhöht werden müßte. Die Dicke d der Wandungen 4 liegt bevorzugt im Bereich zwischen 0,15 und 3 mm und die Gesamtschicht dicke der Elektroden liegt jeweils bevorzugt zwischen 15 und 40 µm.

Bei einem PTC-Thermistorkörper 1 gemäß den Fig. 6 und 7 läßt sich die Dicke der Elektroden auf 30 µm redu zieren, gleichzeitig ist es möglich, die Dicke der Wan dungen 4 beträchtlich zu vermindern, was dazu führt, daß die Wärmeabgabe des Heizelements gesteigert werden kann.

Durch die Verwendung von zwei- oder dreischichtigen Elektroden läßt sich weiterhin ein Abschmoren der Elek troden infolge Funkenbildung zwischen den Elektroden und dem PTC-Thermistorkörper verhindern. Wären die Schichten 3, 11, 13 und 14 dünn, dann wird der PTC- Thermistorkörper 1 ebenfalls dünn und weist eine Dicke zwischen 3,5 und 6 mm, vorzugsweise näherungsweise 3,5 mm auf, wobei die Wärmeerzeugung des PTC-Thermistor körpers groß ist.

Das Nickel, Zink oder Chrom der Oberschicht des Heizele ments mit zwei- oder dreischichtigen Elektroden ver bessert die Korrosionsfestigkeit der bekannten Silber elektroden der wabenförmigen Heizelemente. Die obere Schicht aus Nickel, Zink oder Chrom verhindert die Elektromigration des Silbers der unteren Schicht.

Bei der Herstellung der wabenförmigen Halbleiterkeramik körper wird bevorzugt wie folgt vorgegangen. Das pulver förmige Halbleitermaterial wird mit einem Druck zwischen 0,2 bis 1,0 Tonnen pro cm² zu einem Grünling verpreßt. Dieser Grünling wird sodann vorgesintert bei einer Tem peratur zwischen 1050 bis 1200°C. Der vorgesinterte Körper wird sodann pulverisiert auf eine Partikelgröße zwischen 1,5 bis 2,5 µm und anschließend mit einem organischen Binder vermischt, bei welchem es sich bei spielsweise um Polyvinylalkohol handeln kann. Diese Pulvermischung kann leicht in jede Form gebracht werden. Das Gewichtsverhältnis des Keramikmaterials zum organi schen Binder sollte zwischen 8 bis 12 liegen. Das dis pergierte Keramikmaterial wird sodann durch ein Gitter extrudiert in die gewünschte Form eines wabenförmigen PTC-Thermistorkörpers und anschließend bei einer Tem peratur von näherungsweise 200°C getrocknet. Der Kera mikmaterialkörper wird letztlich 0,5 bis 2 Stunden lang bei einer Temperatur zwischen 1250 und 1330°C gesintert.

An dem so erhaltenen PTC-Thermistorkörper werden dann zwei- oder dreischichtige Elektroden angebracht.

Bei den zweischichtigen Elektroden gemäß Fig. 6 wird die jeweils untere Schicht 3 an beiden Stirnseiten des Körpers 1 durch Siebdruck aufgebracht. Diese untere Schicht 3 besteht aus Silber mit einem adhäsiven Oxyd oder adhäsiven Oxyden. Die Elektrodenpaste besteht hauptsächlich aus Silberpulver mit Zusatz von mindestens einem adhäsiven Oxyd wie beispielsweise Bleiborsilikat glas (Fritte) welche an beiden Enden des Körpers 1 auf gebracht wird und die sodann bei einer Temperatur von 500 bis 700°C gebacken wird. Auf dem Markt sind zahl reiche solcher Silberelektrodenpasten erhältlich. Sol che Pasten bestehen beispielsweise aus Silber, einem Metall zur Herstellung eines guten Ohm'schen Kontaktes zwischen der Elektrode und dem PTC-Thermistor, wie bei spielsweise In, Ga, Zn, Cd, Bi und Sn, einem adhäsiven Glasoxyd mit einer niederen Schmelztemperatur, einem organischen Binder und Lösungsmittel. Das adhäsive Glasoxyd schmilzt oder erweicht während des Backens und verbessert die Verbindung zwischen der Paste und dem PTC-Thermistor. Nach dem Bilden der unteren Schicht wird die obere Schicht 11 aufplattiert oder aufgebracht mittels eines Plattierverfahrens, beispielsweise durch elektrolytisches Plattieren oder ein Verchromungsver fahren. Diese obere Schicht 11 wird auf die untere Schicht 3 aufgebracht. Die bevorzugten Bedingungen für den Auf trag sind folgende:

Nickel: Die Plattierlösung enthält 250 bis 350 g/l Nickelsulfat (NiSO₄), die Stromdichte beträgt zwischen 1 bis 5 Ampere pro dm².

Zink: Die Plattierlösung enthält 30 bis 100 g/l Zink sulfat (ZnSO₄), die Stromdichte der ersten Schicht liegt zwischen 1 bis 5 Ampere pro dm².

Chrom: Die Verchromungslösung enthält zwischen 3 und 10 g/l Kaliumchromat (K₂CrO₄).

Um das Plattierverfahren einfach ausführen zu können, wird vorzugsweise nur ein Metall, d. h. Nickel oder Chrom oder Zink aufplattiert. Es ist jedoch auch mög lich, eine Kombination von zwei oder drei dieser Me talle aufzubringen. Die beim Plattierverfahren ver wendete Anode ist eine Platte aus Zink oder Nickel. Ein Gleichstrom fließt zwischen dieser Anode und dem PTC- Thermistor, welcher in die elektrolytische Nickel- oder Zinkplattierlösung eintaucht, wobei dann eine Schicht aus Nickel oder Zink gleichförmig elektrolytisch sich auf der unteren Schicht 3 niederschlägt.

Bei der Herstellung der dreischichtigen Elektroden wird die untere Schicht 3 gemäß Fig. 7 auf die gleiche Weise hergestellt wie die untere Schicht 3 gemäß Fig. 6. Die Zwischenschicht 13 gemäß Fig. 7 wird elektrolytisch nie dergeschlagen oder mittels Siebdruck auf die untere Schicht 3 aufgebracht. Die bevorzugten Bedingungen für diesen elektrolytischen Niederschlag sind folgende:

Gold: Eine Plattierlösung enthält 5 bis 10 g/l Goldci trat und die Stromdichte der unteren Schicht beträgt 0,5 bis 1,0 Ampere pro dm².

Kupfer: Die Plattierlösung enthält 70 bis 130 g/l Kup ferpyrophosphat und die Stromdichte der unteren Schicht liegt zwischen 1 und 5 Ampere pro dm².

Die beim Plattierverfahren verwendete Anode besteht aus einer Kupfer- oder Goldplatte. Zwischen dieser Anode und dem PTC-Thermistor fließt ein Strom, wobei der PTC-Thermistor in die Elektrolytlösung eintaucht. Be vorzugt wird nur Kupfer oder Gold aufgebracht, jedoch ist es auch möglich, eine Kupfer-Silberlegierung nieder zuschlagen.

Die Metallzwischenschicht 13, welche bevorzugt aus Sil ber besteht, kann auf die untere Metallschicht 3 auch mittels eines Druckverfahrens aufgebracht werden. Beim Druckverfahren wird eine das Metall, wie beispielsweise Silber in Pulverform und einen organischen Binder ent haltende Paste aufgebracht, welche anschließend bei ei ner Temperatur zwischen 500 und 700°C gebacken wird.

Hierbei ist es nicht notwendig, daß ein adhäsives Glas oxyd ein Bestandteil der Paste ist. Ist in der Zwischen schicht 13 kein Glas enthalten, können die bei einer Glaszugabe auftretenden Nachteile bei einer dreischich tigen Elektrode vermieden werden.

Das Verfahren zum Aufbringen der oberen Schicht 14 nach Fig. 7 kann das gleiche sein wie das Verfahren zum Er zeugen der oberen Schicht 11 nach Fig. 6.

Kontrollbeispiel 1

Die Hauptbestandteile eines PTC-Thermistors wurden in Pulverform hergestellt, so daß die Zusammensetzung aus 52 Gew.-% BaO, 13 Gew.-% PbO und 35 Gew.-% TiO₂ bestand. Ein Halbleiter bildendes Element, wie beispielsweise Y₂O₃ wurde in einem Anteil von 0,15 Gew.-% neben Mangan mit einem Anteil von 0,001 Gew.-% zugegeben und sodann wurde ein wabenförmiger Körper gemäß den Fig. 1 und 3 geformt und gesintert. Hierbei wurden die Bestandteile zuerst in einer Kugelmühle gemischt, komprimiert, vorge sintert bei einer Temperatur von 1130°C, pulverisiert auf eine Korngröße von 1,5 bis 2,0 µm und gemischt mit einem organischen Binder aus Polyvinylalkohol mit einem Anteil von 10 Gew.-%. Die Mischung des vorgesinter ten Keramikmaterials und des organischen Binders wurde zu einem wabenförmigen Körper extrudiert, welcher an schließend bei einer Temperatur von 1250 bis 1300°C ge sintert wurde. Der Widerstand des PTC-Thermistors bei 20°C betrug 20 Ohm. Der Durchmesser und die Dicke des wabenförmigen Körpers 1 waren 40 mm bzw. 10 mm. Die Durchgangskanäle 2 hatten eine Breite von 1 mm und die Dicke der Wandungen 4 betrug 0,2 mm. Der Widerstand des wabenförmigen PTC-Thermistors änderte sich in Abhängig keit mit der Temperatur wie in Fig. 4 dargestellt, wobei der Curiepunkt t 185°C betrug. An beiden Enden des Körpers 1 wurde eine Paste aufgebracht, welche näherungs weise aus 90% Silber, näherungsweise 4% Bleiborsili katglas mit einem Rest aus Indium und Gallium bestand. Diese Paste wurde mittels eines Siebdruckverfahrens aufgebracht und sodann gebacken bei einer Temperatur von 600°C, wobei sich Ohm'sche Elektroden 3 ergaben, welche 20 µm dick waren. Der wabenförmige Heizkör per 10 a wurde sodann verbunden mit zwei Anschlüssen 5, wie in Fig. 5 gezeigt.

Über die Anschlüsse 5 wurde sodann der wabenförmige Heizkörper 10 a an Wechselstrom von 100 Volt angeschlos sen. Hierbei wurde der Heizkörper 10 a für 20 Zyklen lang 1 Minute bestromt und 1 Minute nicht bestromt. Da nach wurde festgestellt, daß verschiedene Teile der Elektroden 3 abgebrannt waren.

Kontrollbeispiel 2

Der gleiche wabenförmige Heizkörper wie im Kontrollbei spiel 1 wurde wie zuvor beschrieben bestromt, jedoch betrug die Elektrodendicke diesmal 30 µm. Hierbei wurde kein Abtrennen von Elektrodenbereichen festge stellt.

Beispiel 1

Ein wabenförmiger Heizkörper 10 a wurde entsprechend dem Kontrollbeispiel 1 hergestellt und mit Silberelektroden von 10 µm Dicke versehen. Mittels einer Elektrolyt plattierlösung wurde auf diese untere Schicht 3 elek trolytisch eine Nickelschicht von 5 µm Dicke nie dergeschlagen. Es wurde hierbei eine elektrolytische Plattierlösung verwendet, welche 250 g/l NiSO₄, 50 g/l NiCl₂, und 40 g/l Borsäure enthielt, deren pH-Wert 5 und deren Temperatur 40°C betrug. Durch die Lösung wur de 20 Minuten lang ein Strom mit einer Dichte von 5 Ampere pro dm² geleitet. Das wabenförmige Heizelement wurde sodann gemäß Kontrollbeispiel 1 bestromt. Es war kein Abbrand bei den Elektroden feststellbar.

Beispiel 2

Ein wabenförmiger Heizkörper 10 a wurde gemäß Kontroll beispiel 1 hergestellt und mit Silberelektroden von 10 µm Dicke versehen.

Auf diese untere Silberschicht 3 wurde eine Zinkschicht aufgebracht, welche eine Dicke von 5 µm aufwies. Hierbei wurde eine Elektrolytlösung verwendet, welche 70 g/l ZnSO₄ enthielt, deren pH-Wert 1 und deren Tempe ratur 25°C betrug. Durch die Lösung wurde 20 Minuten lang ein Strom mit einer Dichte von 5 Ampere pro dm² ge leitet.

Danach wurde das wabenförmige Heizelement bestromt wie in Zusammenhang mit dem Kontrollbeispiel 1 beschrieben. Nach diesem Test war kein Abbrand feststellbar.

Beispiel 3

Es wurde ein wabenförmiger Heizkörper 10 a entsprechend dem Kontrollbeispiel 1 hergestellt mit Silberelektroden von 10 µm Dicke.

Auf diese Silberschicht wurde eine Zinkschicht elektro lytisch niedergeschlagen mit einer Dicke von 5 µm. Hierbei wurde eine Elektrolytlösung verwendet, welche 70 g/l ZnSO₄ enthielt, deren pH-Wert 1 betrug und bei der die Temperatur 25°C war.

Das wabenförmige Heizelement wurde sodann bestromt, wie beim Kontrollbeispiel 1 beschrieben. Nach dem Test war keinerlei Abbrand feststellbar.

Auf die Zinkschicht wurde eine Chromschicht von 100 Ang ström Dicke aufgebracht, wobei der Chromumwandlungspro zeß ausgeführt wurde unter Verwendung einer Kaliumchro matlösung mit 5 g pro Liter.

Beispiel 4

Entsprechend dem Kontrollbeispiel 1 wurde ein wabenför miger Heizkörper 10 a hergestellt, dessen Silberelektro den 3 eine Dicke von 10 µm hatten. Der Ohm'sche Kon takt zwischen jeder der Silberelektroden 3 (Fig. 7) und den aus einem PTC-Thermistor bestehenden wabenförmigen Heizkörper 10 a war somit hergestellt.

Eine Silberschicht 13 von 5 µm Dicke wurde mittels Siebdruck auf den Silberelektroden aufgebracht. Die hier bei verwendete Silberpaste bestand hauptsächlich aus Silberpulver und einem organischen Binder, wobei das Backen der Paste bei 600°C erfolgte.

Auf jede der Silberzwischenschichten 13 wurde sodann eine Nickelschicht von 5 µm Dicke elektrolytisch aufge bracht. Die Elektrolytlösung enthielt 300 g/l NiSO₄, 50 g/l NiCl₂ und 40 g/l Borsäure, wobei der pH-Wert 5 und die Temperatur 40°C betrug. Die Stromdichte der Lösung während 20 Minuten betrug 5 Ampere pro dm².

Das so erzeugte wabenförmige Heizelement wurde bestromt entsprechend dem Kontrollbeispiel 1. Ein Abbrand bei den Elektroden war nicht feststellbar.

Das wabenförmige Heizelement wurde sodann einem Korro sionstest unterworfen entsprechend dem ASTM Standard D 2247. Anschließend wurde ein Salzwassertest ent sprechend dem ASTM Standard B 287 ausgeführt. Es waren danach keine Anormalitäten feststellbar.

Beispiel 5

Das Verfahren gemäß Beispiel 4 wurde wiederholt. Die Silberzwischenschicht 13 gemäß Beispiel 4 wurde jedoch ersetzt durch eine elektrolytisch aufgebrachte Gold zwischenschicht 13. Hierzu wurde das wabenförmige Heiz element 10 a in eine Elektrolytlösung getaucht, welche 10 g/l Goldzitrat enthielt und deren pH-Wert 4,0 und deren Temperatur 25°C betrug. Die Stromdichte über 20 Minuten betrug im Bad 0,7 Ampere pro dm². Die Tester gebnisse waren die gleichen wie in Beispiel 4.

Beispiel 6

Das Verfahren gemäß Beispiel 4 wurde wiederholt. An stelle einer oberen Nickelschicht 14 gemäß Beispiel 4 wurde jedoch eine Zinkschicht entsprechend dem Bei spiel 2 elektrolytisch aufgebracht. Die Testergebnisse waren die gleichen wie bei Beispiel 4.

Beispiel 7

Das Verfahren gemäß Beispiel 4 wurde wiederholt. An stelle einer oberen Nickelschicht 14 gemäß Beispiel 4 wurden jedoch Zink- und Chromschichten aufgebracht, wie in Zusammenhang mit Beispiel 3 beschrieben. Die Testergebnisse waren die gleichen wie in Beispiel 4.

Beispiel 8

Das Verfahren gemäß den vorerwähnten Beispielen wurde wiederholt bei einem PTC-Thermistorkörper 1, dessen Dicke auf 3,5 mm verändert wurde. Die Testergebnisse waren die gleichen wie bei den vorerwähnten Beispielen.

Claims

1. Heizelement aus einem wabenförmigen Halbleiterkeramikkörper aus Bariumtitanat, das oberhalb des Curiepunkts einen positiven Temperaturkoeffizienten des Widerstands aufweist, wobei an den Stirnseiten des Körpers Elektroden angeordnet sind, die jeweils aus einer unteren Schicht in der Hauptsache aus Silber mit den Übergangswiderstand zu den Stirnseiten vermindernden Zusätzen und einer oberen Schutzschicht bestehen, dadurch gekennzeichnet, daß die obere Schicht aus min destens einem aufplattierten Metall der Nickel, Zink oder chrom enthaltenden Gruppe besteht.

2. Heizelement nach Anspruch 1, dadurch gekenn zeichnet, daß zwischen der oberen und der unteren Schicht eine Zwischenschicht vorgesehen ist, die aus mindestens einem Metall der Silber, Gold und Kupfer enthaltenden Gruppe besteht.

3. Heizelement nach Anspruch 1, dadurch gekenn zeichnet, daß die Gesamtdicke der oberen und unteren Schichten im Bereich zwischen 10 und 35 µm liegt.

4. Heizelement nach Anspruch 3, dadurch gekenn zeichnet, daß die Dicke der unteren Schichten im Bereich zwischen 5 und 10 µm und die Dicke der oberen Schichten im Bereich zwischen 5 und 20 µm liegt.

5. Heizelement nach Anspruch 2, dadurch gekenn zeichnet, daß die Gesamtdicke der oberen, mittleren und unteren Schichten im Bereich zwischen 15 und 40 µm liegt.

6. Heizelement nach Anspruch 5, dadurch gekenn zeichnet, daß die Dicke der unteren Schichten im Be reich zwischen 5 und 10 µm, die Dicke der mittleren Schicht im Bereich zwischen 5 und 20 µm und die Dicke der oberen Schicht im Bereich von 3 bis 7 µm liegt.