DE2854856A1 - Hochleistungspraezisionsjustiergeraet - Google Patents
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Description
Die Erfindung bezieht sich auf ein Hochleistungspräzisionsjustiergerät
und betrifft insbesondere ein Hochleistungspräzisions justiergerät mit einem mittels einem Luftlager schwimmend
gelagerten, parallel zu einer. Führung bewegbaren Justierschlitten,
gemäß dem Oberbegriff eines der Ansprüche 1-3.
Das Hochleistungspräzisionsjustiergerät gemäß der Erfindung
kann in Verbindung mit Geräten auf vielen Gebieten, bei denen es auf eine äußerst genaue Justierung in einer X- und einer Y-Richtung
ankommt, verwendet werden; die folgende Beschreibung soll jedoch am Beispiel der Justierung einer Maskenausrichteinrichtung
oder einem Fotokopierer oder ähnlichem in X-Y-Rich-
Deutsche Bank (München) KIo. 51/61070
Dresdner Bank (München) Kto. 3939 844
Postscheck (München) Kto. 670-43-804
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tung zur Herstellung von Halbleitern, bei der eine besonders große Präzision erforderlich ist, erfolgen.
In den letzten Jahren hat ein beachtlicher Fortschritt in Richrung
der Verkleinerung und der hohen Integration der Muster von Halbleiterbausteinen, wie z.B. IC, LSI oder ähnlichem, stattgefunden,
wobei die Leitungs- bzw. Linienbreite der Muster 1 bis
2 um erreichten. Zur weiteren Verkleinerung und Steigerung der Integration der Muster und um eine Kopierleistung zu erreichen,
die das Kopieren von Mustern von 1 bis 2 pm ermöglicht, ist es erforderlich, ungefähr 10 Fotomaskenmuster während mehreren
Verfahrenschritten genau zu justieren und die auf die Halbleiterscheiben mittels der Fotomaske im vorangegangenen Verfahrensschritt
kopierten Muster und das Muster der darauffolgenden Fotomaske genau anzuordnen.
Im allgemeinen ist für die Anordnung dieser Muster eine Genauigkeit
von ungefähr 1/10 der Linienbreite, d.h. bei einer Linienbreite von 1 bis 2 ptl, eine Genauigkeit von 0,1 bis 0,2 pm ,erforderlich.
Ein Justiergerät zur Ausrichtung eines Gegenstandes in X-Y-Richtung, der diese Forderung erfüllt, muß folgende
Bedingungen erfüllen:
1. Es muß zur Lagebestimmung mit der geforderten Genauigkeit
in der Lage sein; i.
2. das Justiergerät muß in X- und Y-Richtung so geführt werden, daß es auf einen geringen Antrieb gleichmäßig
anspricht;und
3. es muß einen Antrieb aufweisen, mit dem kleinste Bewegungseinheiten
durchgeführt werden können.
Bekannte Geräte erfüllen die Bedingung 1 mittels einem Laser-Interferometer
und Bedingung 2 mit einem Luftführungslager
oder ähnlichem.
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Mit der vorliegenden Erfindung soll ein Gerät geschaffen werden, mit dem die Bedingung 3 erfüllt wird. Hierzu sind zwar
verschiedene Antriebe zur Hochleistungsjustierung in X- und Y-Richtung
bekannt, die z.B. einen Motor mit einer Antriebsspindel oder einen Antrieb mittels Piezokristallen verwenden:
Bei einem Antrieb mittels Motor und Antriebsspindel ist jedoch zur Erzielung derartig hoher Genauigkeiten ein sehr hohes
Maß an mechanischer Genauigkeit erforderlich, andererseits erfordert ein Antrieb mittels einem Piezokristall für einen
Bereich in der Größenordnung von 1 bis 2 um eine Spannung von einigen tausend Volt, die an einen Piezokristall relativ grosser
Länge, d.h. etwa 30 mm, angelegt werden müssen.
Bei den gewöhnlichen Verfahren zur Einstellung des Justiergerätes in X- bzw. Y-Richtung ist es üblich, das Gerät in X-Richtung
zur Bestimmung der Position in X-Richtung und das Gerät in Y-Richtung zur Bestimmung der Position in Y-Richtung
zu verschieben, wobei die Führungen in X- bzw. in Y-Richtung des Justiergerätes als die festen Bezugspositionen dienen.
Demgegenüber ist es Aufgabe der Erfindung, ein Hochleistungspräzisions
justiergerät der eingangs genannten Art zu schaffen, mit dem eine Justierung in der Größenordnung von Micrometern
über einen großen Bereich in zwei senkrecht zueinander in einer Ebene liegenden Richtungen möglich ist.
Diese Aufgabe wird durch die Merkmale eines jeden der Ansprüche
1 bis 3 gelöst, wobei ein Justierschlitten relativ zu
einer Führung mittels eines Gaslagers schwimmend gelagert ist, und durch Ausgleich des dem Gaslager zugeführten Gasdrucks der
Justierschlitten längs einer Gegenrichtung einstellbar ist, indem das Spiel zwischen der Führung und dem Justierschlitten
verändert wird, wobei der schwimmend gelagerte Justierschlitten selbst auf einer schwimmend gelagerten Führung bzw. einem Ju-
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Stierschlitten angeordnet ist und die beiden Justierschlitten in X- bzw. Y-Richtung mittels Luftlagern verschiebbar sind.
Ein Ausführungsbeispiel der Erfindung ist in der Zeichnung dargestellt und wird im folgenden näher beschrieben. Es zeigen:
Fig. 1 eine Ansicht des mittels Gaslagern arbeitenden Justiergeräts;
Fig. 2 eine Seitenansicht des Geräts von Fig. 1.
Fig. 2 eine Seitenansicht des Geräts von Fig. 1.
Fig. 1 zeigt eine Kopiereinrichtung zur Herstellung von Halbleiterschaltelementen
mit dem Hochleistungspräzisionsjustiergerät. Eine Maske 1 ist auf einem nicht gezeigten Maskenträger
angeordnet und funktionsmäßig einem optischen Projektionssystem
2 zur Ausbildung des Maskenbildes auf einer Scheibe 3 zugeordnet. Die Maske 1 und das Projektionssystem 2 sind stationär
angeordnet. Die Scheibe 3 ist beweglich mittels eines Hochleistungspräzisions Justiergerätes zur Ausrichtung in X- bzw.
Y-Richtung angeordnet, wodurch das Bild der Maske 1 und die Scheibe 3 in die gewünschte lagemäßige Beziehung zueinander
gebracht werden können. Eine Führung 5 des Hochleistungspräzisions Justiergerätes 4 zur Ausrichtung in Y-Richtung ist
stationär angeordnet. Ein Führungsschlitten 6 ist mittels Lagern schwimmend zur Bewegung längs der Führung 5 senkrecht
zur Zeichnungsebene von Fig. 1 oder nach links und rechts in
Fig. 2 (im folgenden als Y-Richtung bezeichnet) gelagert. Die Lager sind als Gaslager 7a,7b,7c und 7d ausgebildet, die mittels
Düsen ein Gas unter hohem Druck, z.B. Luft zwischen die Führung 5 und den Justierschlitten 6 bringen.
Der erste Justierschlitten 6 ist mittels dieser Gaslager in Bezug auf die Führung 5 in Y-Richtung mittels der Hochdruckluft
aus den Düsen schwimmend gelagert. Ein Antrieb 8 zur Grobeinstellung des ersten Justierschlittens 6 in Y-Richtung
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ist in Fig. 2 gezeigt. Der Antrieb 8 umfaßt einen L-förmigen Arm 9, der an der Y-Führung 5 befestigt ist, einen Motor 10,
eine mit der Welle des Motors 10 verbundene Schraubenspindel 11, die in Y-Richtung bewegbar ist, und eine Rückholfeder
Wenn der Motor zur Bewegung der Spindel 11 nach rechts gedreht
wird, wird der erste Justierschlitten 6 längs der Y-Führung nach rechts bewegt, und wenn die Schraubenspindel 11 in die
entgegengesetzte Richtung gedreht wird, wird der Justierschlitten 6 mittels der Rückholfeder 12 nach links bewegt.
Eine Führung 13 zur Führung in X-Richtung ist an dem ersten
Justierschlitten 6 befestigt (siehe Fig. 1). Auf dieser Führung 13 ist ein zweiter Justierschlitten 14 angeordnet, der
eine Halterung zur Anordnung der Scheibe 3 aufweist und zur Bewegung in X-Richtung relativ zu der X-Führung mittels einem
Luftalger schwimmend gelagert ist. Das Luftlager 15a,15b,15c
und 15d umfaßt die in Fig. 2 gezeigten Luftdüsen. Ein Antrieb 16 zur Grobeinstellung in X-Richtung umfaßt einen L-förmigen
Arm 17, einen Motor 18, eine Schraubenspindel 19 und eine
Rückholfeder 20, entsprechend dem Antrieb 8 in Y-Richtung.
Weiter ist ein Interferometer 21 zur Abtastung des Bewegungsbetrages des zweiten Justierschlittens 14 in X-Richtung relativ
zur optischen Achse des Projektionsobjektivs 2 vorgesehen.
Das Interferometer arbeitet mit einer Laser-Licht-
r-
quelle 22, einem Durchgangsspiegel'23, und Spiegeln 24,25,26.
Weiter ist ein Lichtfühler 27 vorgesehen. Ein ähnliches Interferometer
ist senkrecht zu dem,Interferometer 21 zur Abtastung
des Bewegungsbetrages des zweiten Justierschlittens in Y-Richtung vorgesehen.
Das beschriebene Gerät arbeitet wie folgt.
Wenn ein gleichmäßiger Gasdruck bzw. Luftdruck dem Luftlager bzw. den Düsen 7a und 7b zugeführt wird, und man annimmt, daß
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die Scheibe um einige Micron in X-Richtung von der gewünschten
Position abweicht, wird der, der linken und rechten Düse 7a und 7b zugeführte Luftdruck mittels eines Ventils eingestellt.
Beide Luftdrücke können geändert werden, wobei in der vorliegenden Beschreibung aus Gründen der Einfachheit von dem
Fall ausgegangen wird, bei dem nur ein Luftdruck geändert wird, Wenn die Scheibe 3 zuerst einige Micron nach rechts bewegt
wird, und wenn dann der Luftdruck der Düse 7b konstant eingestellt wird, kann der Luftdruck der Düse 7a durch Schließen des
Ventils graduell verändert werden, wodurch sich der Justierschlitten 6 nach rechts bewegt und das Spiel άX zwischen der
Führung 5 und dem Justierschlitten 6 verändert wird. Dieses A.X entspricht dem Bewegungsbetrag, wobei dieser Betrag mittels
des Interferometers 21 erfaßt wird. Wenn sich der erste Justierschlitten 6 um einige Micron bewegt hat und dies mittels
des Interferometers erfaßt wurde, wird das Schließen des Ventils unterbrochen, wodurch die Scheibe in der vorbestimmten
Lage angeordnet ist.
Im folgenden soll die Lage der Scheibe von der vorbestimmten Lage um einen großen Betrag, z.B. einige Zentimeter, in X-
und Y-Richtung abweichen. Nun wird zuerst der Antriebsmotor 18 angetrieben, wodurch die Schraubenspindel 19 die Führung
14 in X-Richtung bewegt. Der Antriebsmotor 18 wird mittels
des Ausgangssignals des Laser-Interferometers 21 angehalten, wenn eine Lagegenauigkeit von 1 trait erreicht ist.
Darauf wird der Druck im Gaslager bzw. den Düsen 7a und
7b an der Y-Führung 6, die zur Führung nach links und
rechts dient, mittels des Ausgangssignals des Laser-Interferometers
gesteuert, wodurch das Spiel AX verändert wird, und die Y-Führung 6 in X-Richtung bewegt wird, wodurch die Lage
der Scheibe 3 mit einer äußerst hohen Genauigkeit von weniger als 0,1 um verändert wird.
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Zur Einstellung in Y-Richtung wird die Y-Führung 6 mittels
des Antriebsmotors 10 mit einer Genauigkeit in der Größenordnung von 1 um angeordnet, woraufhin der Gasdruck des Gaslagers
bzw. der Düsen 15a und 15b, die links und rechts der X-Führung 14 angeordnet sind, so gesteuert, daß die Y-Richtung
mit äußerst hoher Präzision eingestellt wird. Die Berührungsabschnitte zwischen der Spindel 19 und der X-Führung
14 und der Spindel 11 und der Y-Führung 6 weisen eine ausreichend geringe Reibung auf, so daß die Einstellung mit einer
Genauigkeit von weniger als 0,1 um nicht beeinträchtigt wird.
Die Einstellung des Spiels von 0,1 um kann, wie man sieht,
durch einfaches Ändern des Gasdrucks der linken und rechten Düse im Bereich von·· 0,05 atmosphärischem Druck erreicht werden.
Weiter ist es möglich durch Steuerung der Gasdruckdifferenz
zwischen den Düsen 15a- und 15a2 oder 7b- und 7b„, die längs
der Bewegungsrichtung der Führung angeordnet sind, den Justierschlitten
relativ zur Führung ein wenig zu drehen, wobei es weiter möglich ist, den Betrag der Drehung als Ergebnis
der Verdrehung des Justiergerätes zu dem Laser-Interferometer
zu messen, und mittels eines Ausgangssignals des Interferometers die Dfehkomponente des Justiergerätes zu berücksichtigen.
Es wurde ein Hochleistungspräzisionsjustiergerät mit einem,
mittels einem Luftlager in einer Führung, zur Parallelbewegung relativ zu der Führung gelagerten Justierschlitten beschrieben.
Durch Druckluftausgleich der einzelnen Düsen des Luftlagers kann der Justierschlitten in eine gewünschte Richtung
bewegt werden, wodurch eine Präzisionsjustierung im Micrometerbereich möglich ist.
ICLSi = Intergrierter Schaltkreis mit hohem Integrationsgrad
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Leerseite
Claims (3)
1. Hochleistungspräzisionsjustiergerät gekennzeichnet
durch eine stationäre Führung (5), durch einen längs der stationären Führung (5) bewegbaren Justierschlitten (6),
durch ein Gaslager (7a,7b,7c,7d) zur schwimmenden Lagerung des
Justierschlittens (6) in Bezug auf die stationäre Führung (5), und durch eine Einrichtung zur Steuerung des Gasdrucks quer
zur Führungsrichtung der Führung (5).
2. Hochleistungspräzisionsjustiergerät gekennzeichnet
durch eine erste stationäre Führung (5), durch einen auf der ersten stationären Führung (5) mittels eines Gaslagers (7a,7b,
7c,7d) schwimmend gelagerten Justierschlitten (6), durch eine zweite auf dem schwimmend gelagerten Justierschlitten (6) befestigte
Führung (13), durch einen längs der zweiten Führung (13) bewegbaren Justierschlitten (14), durch einen Antrieb (16)
für den Justierschlitten (14) zur Bewegung längs der Führung
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Deutsche Bank !München) Kto. ~5I/61 070
Dresdn.. Bank (München) Kto. 3939 844
Postscheck (Muiictau Klo 6/u-M H04
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(13) und durch eine Einrichtung zur Steuerung des Gasdrucks
quer zur Führungsrichtung der Führung (13).
3. Hochleistungspräzisionsjustiergerät zur Justierung eines
Gegenstandes in zwei senkrecht zueinander in einer Ebene liegenden Richtungen, gekennzeichnet durch eine erste Führung
(5) zur Führung eines Justierschlittens (6) in einer ersten Richtung, durch ein erstes Gaslager (7a,7b,7c,7d) zur schwimmenden
Lagerung des Justierschlittens (6) in Bezug auf die erste Führung (5), durch eine am Justierschlitten (6) befestigte
zweite Führung (13) zur Führung eines zweiten Justierschlittens (14) in einer zur ersten Richtung senkrechten Richtung,
durch ein zweites Gaslager (15a,15b,15c,15d) zur schwimmenden
Lagerung des zweiten Justierschlittens (14) in Bezug auf die zweite Führung, durch einen Antrieb (8) für den ersten Justierschlitten
(6) zur Bewegung in der ersten Richtung längs der Führung (5), durch eine Einrichtung zur Änderung und Einstellung
des Gasdrucks des Gaslagers (7a,7b,7c,7d) zur Bestimmung
einer schwimmend gelagerten Position des ersten Justierschlittens (6) in der zweiten Richtung, durch einen Antrieb (16) für
den Justierschlitten (14) zur Bewegung in der zweiten Richtung längs der Führung (13), und durch eine Einrichtung zur Änderung
und Einstellung des Gasdrucks des Gaslagers (15a,15b,15c,15d)
zur Bestimmung einer schwimmend gelagerten Position des zweiten Justierschlittens (14) in der ersten Richtung.
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Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP15417077A JPS5485678A (en) | 1977-12-20 | 1977-12-20 | High accuracy alignment method for air bearing guide system xy stage |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE2854856A1 true DE2854856A1 (de) | 1979-06-28 |
DE2854856C2 DE2854856C2 (de) | 1991-08-29 |
Family
ID=15578354
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE19782854856 Granted DE2854856A1 (de) | 1977-12-20 | 1978-12-19 | Hochleistungspraezisionsjustiergeraet |
Country Status (3)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US4234175A (de) |
JP (1) | JPS5485678A (de) |
DE (1) | DE2854856A1 (de) |
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
FR2490809A1 (fr) * | 1980-09-22 | 1982-03-26 | Philips Nv | Dispositif permettant de determiner la structure et/ou la forme de la surface d'un objet |
EP0109718A1 (de) * | 1982-11-17 | 1984-05-30 | Koninklijke Philips Electronics N.V. | Bewegungsvorrichtung, insbesondere für die Behandlung eines photolithographischen Substrats |
EP0145507A1 (de) * | 1983-08-29 | 1985-06-19 | Kabushiki Kaisha Myotoku | Einrichtung zum Bewegen und Arrretieren von Werkzeugen |
DE3446967A1 (de) * | 1983-12-27 | 1985-07-04 | Canon K.K., Tokio/Tokyo | Praezisionsbewegungsvorrichtung |
WO2019137695A1 (de) * | 2018-01-15 | 2019-07-18 | Festool Gmbh | Bearbeitungsvorrichtung |
Families Citing this family (52)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS6218033Y2 (de) * | 1980-06-23 | 1987-05-09 | ||
US4571799A (en) * | 1980-12-22 | 1986-02-25 | Anorad Corporation | Method for producing air bearing pads for positioning table |
US4392642A (en) * | 1980-12-22 | 1983-07-12 | Anorad Corporation | Workpiece positioning table with air bearing pads |
JPS57164731A (en) * | 1981-04-02 | 1982-10-09 | Canon Inc | Projecting and printing device |
JPS5975642A (ja) * | 1982-10-25 | 1984-04-28 | Toshiba Corp | 部品の位置決め装置 |
JPS5978533A (ja) * | 1982-10-27 | 1984-05-07 | Canon Inc | 露光装置 |
US4505464A (en) * | 1983-03-28 | 1985-03-19 | Anorad Corporation | High precision workpiece positioning table |
JPS60150950A (ja) * | 1984-01-20 | 1985-08-08 | Hitachi Ltd | 案内装置 |
JPS61278913A (ja) * | 1985-06-04 | 1986-12-09 | Ntn Toyo Bearing Co Ltd | 磁気浮上式位置決め装置 |
JPS625420A (ja) * | 1985-07-01 | 1987-01-12 | Omron Tateisi Electronics Co | 速度制御装置 |
JPS62108185A (ja) * | 1985-11-06 | 1987-05-19 | 大日本スクリ−ン製造株式会社 | 移動テ−ブル装置 |
DD297758A7 (de) * | 1987-03-13 | 1992-01-23 | Elektromat Gmbh,De | Positionierungseinrichtung fuer die herstellung von halbleiterbauelementen |
NL8701139A (nl) * | 1987-05-13 | 1988-12-01 | Philips Nv | Geleideinrichting. |
US4834353A (en) * | 1987-10-19 | 1989-05-30 | Anwar Chitayat | Linear motor with magnetic bearing preload |
US5092961A (en) * | 1988-06-09 | 1992-03-03 | Beloit Corporation | Apparatus for cleaning a porous cover |
JP2631396B2 (ja) * | 1988-10-28 | 1997-07-16 | キヤノン株式会社 | 静圧気体軸受xyステージ |
US4913012A (en) * | 1988-11-29 | 1990-04-03 | Eastman Kodak Company | High-precision punch and die method |
US4913021A (en) * | 1988-11-29 | 1990-04-03 | Eastman Kodak Company | High-precision punch and die apparatus |
JPH02201913A (ja) * | 1989-01-31 | 1990-08-10 | Canon Inc | 露光装置 |
US4934671A (en) * | 1989-04-27 | 1990-06-19 | Motorola Inc. | Self aligning air bearing platform |
JPH0757457B2 (ja) * | 1990-03-01 | 1995-06-21 | 株式会社東芝 | 移動テーブル装置 |
US6989647B1 (en) * | 1994-04-01 | 2006-01-24 | Nikon Corporation | Positioning device having dynamically isolated frame, and lithographic device provided with such a positioning device |
US7365513B1 (en) | 1994-04-01 | 2008-04-29 | Nikon Corporation | Positioning device having dynamically isolated frame, and lithographic device provided with such a positioning device |
US5874820A (en) * | 1995-04-04 | 1999-02-23 | Nikon Corporation | Window frame-guided stage mechanism |
US5528118A (en) | 1994-04-01 | 1996-06-18 | Nikon Precision, Inc. | Guideless stage with isolated reaction stage |
US6246204B1 (en) | 1994-06-27 | 2001-06-12 | Nikon Corporation | Electromagnetic alignment and scanning apparatus |
US5623853A (en) * | 1994-10-19 | 1997-04-29 | Nikon Precision Inc. | Precision motion stage with single guide beam and follower stage |
KR0141161B1 (ko) * | 1995-03-20 | 1998-07-01 | 이대원 | 회전 테이블을 구비한 스테이지 장치 및 스테이지 장치의 구동 방법 |
US6008500A (en) * | 1995-04-04 | 1999-12-28 | Nikon Corporation | Exposure apparatus having dynamically isolated reaction frame |
TW318255B (de) | 1995-05-30 | 1997-10-21 | Philips Electronics Nv | |
JPH08323567A (ja) * | 1995-05-31 | 1996-12-10 | Ntn Corp | Xyテーブル |
US5760564A (en) * | 1995-06-27 | 1998-06-02 | Nikon Precision Inc. | Dual guide beam stage mechanism with yaw control |
US5812310A (en) * | 1996-10-16 | 1998-09-22 | Applied Precision, Inc. | Orthogonal high accuracy microscope stage |
CH693071A5 (de) * | 1998-01-23 | 2003-02-14 | C R I D S A Cie De Rech S Ind | Gleitlager. |
GB9912611D0 (en) * | 1999-05-28 | 1999-07-28 | Rolt Richard C | A printing machine |
US6238092B1 (en) | 1999-06-01 | 2001-05-29 | Tru-Stone Corporation | Air bearing for a motion system |
DE10040277C2 (de) * | 2000-08-14 | 2003-08-28 | Lat Suhl Ag | Kreuztisch zur Bereitstellung von Bewegungen in einem zweidimensionalen Koordinatensystem |
US6467960B1 (en) | 2000-08-18 | 2002-10-22 | Nikon Corporation | Air bearing linear guide for use in a vacuum |
US20030230729A1 (en) * | 2000-12-08 | 2003-12-18 | Novak W. Thomas | Positioning stage with stationary and movable magnet tracks |
US6753534B2 (en) | 2000-12-08 | 2004-06-22 | Nikon Corporation | Positioning stage with stationary and movable magnet tracks |
JP2002214374A (ja) * | 2001-01-15 | 2002-07-31 | Agilent Technologies Japan Ltd | 位置決め装置及び位置決め方法 |
US20060124864A1 (en) * | 2004-12-14 | 2006-06-15 | Nikon Corporation | Air bearing compatible with operation in a vacuum |
JP5031459B2 (ja) | 2007-06-27 | 2012-09-19 | 株式会社アルバック | 粗微移動装置及びそれを備えた液体供給装置 |
DE102008025138B4 (de) * | 2008-05-26 | 2013-01-17 | Institut für Mikroelektronik- und Mechatronik-Systeme gGmbH | Vorrichtung zur planaren Positionierung von Werkstücken |
WO2013110338A1 (de) * | 2012-01-26 | 2013-08-01 | Carl Zeiss Industrielle Messtechnik Gmbh | Verfahren zum ermitteln eines korrekturwerts für eine überwachung eines fluidlagers und maschine mit mindestens einem fluidlager |
CN103240755B (zh) * | 2012-02-14 | 2016-01-06 | 鸿富锦精密工业(深圳)有限公司 | 调节机构 |
CN102528472B (zh) * | 2012-03-05 | 2015-04-29 | 广东工业大学 | 垂直轴宏微复合直线运动平台装置 |
CN104440343B (zh) * | 2014-11-26 | 2017-05-10 | 广东工业大学 | 直线电机共定子双驱动宏微一体化高速精密运动一维平台 |
EP3141336B1 (de) * | 2015-09-10 | 2019-01-16 | Schneeberger Holding AG | Positionierungsanordnung |
JP6019260B1 (ja) * | 2016-04-26 | 2016-11-02 | 有限会社ニューリー研究所 | 重量物支持装置 |
CN105945618B (zh) * | 2016-06-30 | 2018-04-17 | 何淑琼 | 电磁阀阀盖加工设备的第一换位装置 |
CN107725587A (zh) * | 2017-10-17 | 2018-02-23 | 吴永强 | 一种用于机械加工设备上的竖直滑动机构 |
Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US3271086A (en) * | 1962-10-26 | 1966-09-06 | Mecanorga S A | Device for maintaining constant the distance between adjacent surfaces of a reference body and a movable body subject to a variable external force |
DD101974A5 (de) * | 1971-07-09 | 1973-11-20 | ||
US3813789A (en) * | 1967-06-26 | 1974-06-04 | Shelton Metrology Labor Inc | Measuring apparatus |
Family Cites Families (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE1914936U (de) * | 1964-12-22 | 1965-04-29 | Loewe Opta Ag | Einrichtung zur fokusverstellung einer blitzlampe in fotografischen elektronenblitzgeraeten. |
JPS5823398B2 (ja) * | 1975-06-19 | 1983-05-14 | 第一製薬株式会社 | ピペリジルベンゾイミダゾ−ルユウドウタイノセイゾウホウ |
JPS5313272A (en) * | 1976-07-23 | 1978-02-06 | Hitachi Ltd | Precision planar moving plate |
-
1977
- 1977-12-20 JP JP15417077A patent/JPS5485678A/ja active Granted
-
1978
- 1978-12-18 US US05/970,149 patent/US4234175A/en not_active Expired - Lifetime
- 1978-12-19 DE DE19782854856 patent/DE2854856A1/de active Granted
Patent Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US3271086A (en) * | 1962-10-26 | 1966-09-06 | Mecanorga S A | Device for maintaining constant the distance between adjacent surfaces of a reference body and a movable body subject to a variable external force |
US3813789A (en) * | 1967-06-26 | 1974-06-04 | Shelton Metrology Labor Inc | Measuring apparatus |
DD101974A5 (de) * | 1971-07-09 | 1973-11-20 |
Non-Patent Citations (3)
Title |
---|
Feingerätetechnik, 17. Jg., 1968, H. 8, S. 354-359 * |
Feingerätetechnik, 9. Jg., 1960 H. 4, S. 166-172 * |
In Betracht gezogene ältere Anmeldung: DE-OS 27 31 704 * |
Cited By (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
FR2490809A1 (fr) * | 1980-09-22 | 1982-03-26 | Philips Nv | Dispositif permettant de determiner la structure et/ou la forme de la surface d'un objet |
EP0109718A1 (de) * | 1982-11-17 | 1984-05-30 | Koninklijke Philips Electronics N.V. | Bewegungsvorrichtung, insbesondere für die Behandlung eines photolithographischen Substrats |
EP0145507A1 (de) * | 1983-08-29 | 1985-06-19 | Kabushiki Kaisha Myotoku | Einrichtung zum Bewegen und Arrretieren von Werkzeugen |
DE3446967A1 (de) * | 1983-12-27 | 1985-07-04 | Canon K.K., Tokio/Tokyo | Praezisionsbewegungsvorrichtung |
WO2019137695A1 (de) * | 2018-01-15 | 2019-07-18 | Festool Gmbh | Bearbeitungsvorrichtung |
US11667032B2 (en) | 2018-01-15 | 2023-06-06 | Festool Gmbh | Processing device |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US4234175A (en) | 1980-11-18 |
JPS6130419B2 (de) | 1986-07-14 |
JPS5485678A (en) | 1979-07-07 |
DE2854856C2 (de) | 1991-08-29 |
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