DE3404063A1 - Optische vorrichtung, bei der die bildverzerrung aufgehoben ist - Google Patents
Optische vorrichtung, bei der die bildverzerrung aufgehoben istInfo
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Description
Optische Vorrichtung, bei der die Bildverzerrung
Die Erfindung bezieht sich auf eine abbildende optische Vorrichtung, und insbesondere auf eine optische Vorrichtung,
die den Bildvergrößerungsfehler ausgleichen bzw. korrigieren kann. Die Erfindung bewirkt insbesondere eine
Abschiebung jeglichen Seiten-Vergrößerungsfehlers. der
in einem optischen Präzisionssystem auftritt, bei dem integrierte Halbleiterschaltkreismuster projiziert und
auf Platten bzw. Plättchen (wafer) abgebildet werden.
In den letzten Jahren wurde die Forderung nach geringster Größe für integrierte Halbleiterschaltkreise immer dringlicher,
wobei die Abmessung der äußerst kleinen Muster bei elektronischen Schaltkreisen dicht bei 1 ^um liegt.
Als Herstellprozeß für derart hoch integrierte Elemente gibt es das Fotoverfahren, bei dem Maskenmuster auf Platten
übertragen werden.
F/22
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-6- DE 3665
Die sogenannte Halbleiterdruckvorrichtung wird zur Übertragung
solcher Maskenmuster verwendet und es gibt verschiedene Typen dieser Vorrichtung, wie z.B. das Berührungsaufnahmesystem,
bei dem das Drucken mit einer Maske und einer Platte durchgeführt wird, die miteinander in
Berührung gebracht sind, das Nahaufnahmesystem, bei dem das Drucken durchgeführt wird, wobei eine Maske'und eine
Platte um einige um voneinander entfernt sind, und das optische Projektionsaufnahmesystem, bei dem das Drucken
mittels eines. Objektivs oder eines Spiegels durchgeführt wird.
Im allgemeinen hat ein integrierter Halbleiterschaltkreis nicht einen Ein-Schichtaufbau, sondern mehrere Schichten,
wenn das Ausmaß der Integration größer wird. Deshalb ist es bei dem Fotoverfahren notwendig, die oben erwähnten
verschiedenen Drucksysteme genau anzuwenden und verschiedene Maskenmuster nacheinander mit hoher Maßgenauigkeit
auf eine Platte zu drucken. Andererseits wird der Durchmesser der Platten immer größer, um die Produktivität
der Schaltkreise zu erhöhen. Gegenwärtig wird der Durchmesser von 5 Zoll am häufigsten verwendet.
Wenn jedoch das Bild einer Maske auf eine solch große Platte übertragen werden soll, kann eine Kombination
verschiedener Faktoren manchmal ein Phänomen verursachen, dapi, obwohl eine Ausrichtung bzw. ein Abgleich durchgeführt
wurde, die Maske und die Platte bis auf das kleine Maß von 1 um oder weniger nicht in eine gewünschte Ortsbeziehung
gebracht werden können. D.h., das Bild der Maske und das gerade auf der Platte erzeugte Muster weichen
von ihrer richtigen Beziehung ab.
Die Arten, auf die solch ein. seitlicher Versatz auftritt, sind vielfältig, aber die meisten sind sogenannte Vergrö-
-7- DE 3665
ßerungsfehler, wobei der Vergrößerungsfehler als eine
linare Funktion der Position bzw. des Orts ausgedrückt werden kann. Falls jedoch das Maskenbild diesem Vergrößerungsfehler
unterliegt, wird das Bild der Maske auf die Platte übertragen, und dabei bezüglich der richtigen
Abmessungen vergrößert oder verkleinert, wie in den Fig. IA und IB dargestellt ist; folglich wird die Kopplung
mit dem momentan erzeugten Muster nicht fehlerfrei erfolgen, so daß ein mangelhaftes Produkt zustandekommt. In
den Figuren stellen die Abmessungen bzw. die Länge der Pfeile die Größe der Ortsabweichung dar.
Allgemein betrachtet gibt es verschiedene Gründe für den Vergrößerungsfehler. Eine erste Ursache ist der Vergrößerungsunterschied
des Maskenbildes, der vom Unterschied zwischen den oben erwähnten verschiedenen Projektionssystemen
abhängt, und eine zweite Ursache ist der den entsprechenden Vorrichtungen eigene Vergrößerungsunterschied, selbst wenn diese vom gleichen Typ sind.
Daneben hat die Ausdehnung oder Zusammenziehung der Platte, die aus einer Temperaturänderung während des Bearbeitungsverfahrens
resultiert, eine dem Vergrößerungsfehler gleichwertige Wirkung.
Ein Fehler beim Maskenbild ist für jedes System ungeeignet, und vor allem beim Spiegelprojektions-Aufnahrnesystem
schwerwiegend. Dieses System wird daher nachstehend beschrieben .
Was nachstehend als Spiegelprojektions-Aufnahrnesystem
bezeichnet wird, ist ein System, das einen aberrationskorrigierten,
außeraxialen bogenförmigen Bereich Ln einem optischen System verwendet, zun riT>uc'<
eines fasksnnusi-.ers
auf eine P J. *»*:*■. e heuptp^chlich aus Spiegelflächen
aufgebaut ist. Bei diesem System ist der obere Bildbe-
-8- DE' 3665
·*· reich des optischen Systems bogenförmig bzw. gewölbt.
Deshalb werden zum Drucken einer Maske mit großer
Fläche auf eine Platte die Maske M und die Platte W synchron miteinander in einer zur Richtung des bogenförmigen auf die Platte projizierten Bereichs (T in Fig. 2) senkrechten Richtung abgetastet.
Fläche auf eine Platte die Maske M und die Platte W synchron miteinander in einer zur Richtung des bogenförmigen auf die Platte projizierten Bereichs (T in Fig. 2) senkrechten Richtung abgetastet.
Eine beispielhafte Konstruktion zur deutlicheren Darstel-
s lung des oben beschriebenen Aufbaus ist in Fig. 3 gezeigt.
Hierbei sind dargestellt ein Beleuchtungssystem IS, ein
Ausricht- bzw. Abgleichsystem AS für die Maske und die Platte, ein optisches Spiegelsystem PS, wobei das Muster
der Maske M auf die Platte W übertragen wird, ein Rahmen
J zur gemeinsamen Halterung der Maske M und der Platte W, sowie eine Antriebsvorrichtung D zur Bewegung des
Rahmens J. Der Rahmen J wird bei der Bewegung durch eine Führungsvorrichtung (K, G) wie z.B. ein Gas- oder Luftlager
geführt.
Das optische Spiegelsystem PS ist bezüglich seiner optischen Achse 00' symmetrisch, und darin auftretende Aberrationen
werden bei einer Bildhöhe R korrigiert. Das System kann das kleine Muster in der Maske auf die Platte
mittels der Verwendung eines bogenförmigen Bereichs übertragen, der einen Teil des Umfangs des Radius R umfaßt,
der der höhere Bildbereich ist. Falls man für die Abbildungsbeziehung
ein von einem Punkt auf der Maske M austretendes Lichtbündel betrachtet, wird dieses an einem
planen Spiegel BSI reflektiert, anschließend an einem konkaven Spiegel Ml und einem konvexen Spiegel M2, der
die Wirkung einer Blende erfüllt, und dann an dem konkaven Spiegel M1 reflektiert, und sein optischer Weg wird
von einem planen Spiegel BS2 abgelenkt, woraufhin es an einem Punkt auf der Platte W konvergiert.
-9- DE 3665
* Die bei dieser Vorrichtung auftretenden Vergrößerungsfehler
werden unterteilt in optisch im optischen Projektionssystem verursachte und in diejenigen, die dem mechanischen
FUhrungsfehler zuzuordnen sind, wenn die Maske
und die Platte abgetastet werden, wobei die Problerne des letzteren,wie später beschrieben wird, bereits gelöst
sind. Andererseits wird im folgenden die Ursache für den erstgenannten Vergrößerungsfehler erläutert. Wie
zuvor beschrieben, werden heutzutage Platten mit einem Durchmesser von 5 Zoll verwendet und somit wird die Tendenz
zu Platten größeren Durchmessers aufrecht erhalten. Um eine Platte solcher Größe in einem Spiegelprojektions-Aufnahmesystem
zu bedrucken, muß der Durchmesser des konkaven Spiegels Ml ungefähr 400 mm betragen. Um ein
kleines Muster von ungefähr 1 pm genauestens auf die Platte zu übertragen, während dieser Tendenz des Spiegels
zu größerem Durchmesser begegnet wird, muß die Verzerrung der gekrümmten Fläche nach dem Polieren der Spiegelfläche
bei hoher Genauigkeit unterhalb 1/10 der Wellenlänge liegen. Dies ist deshalb der Fall, da ein Lichtstrahl,
der auf eine Stelle auf der Spiegelfläche auftrifft, an der eine Oberflächenverzerrung vorhanden ist, im weiteren
Verlauf von der Richtung abweicht, in die er ursprünglich reflektiert werden sollte. Folglich ist das
auf der Platte erzeugte Bild in einer zur optischen Achse senkrechten Richtung von seiner eigentlichen Position
versetzt, wodurch ein Vergrößerungsfehler im Bild entstanden ist.
Bei dem optischen Spiegelsystem des .Abtasttyps tritt
diese Art von Fehler auf der Platte hauptsächlich in einer zur Abtastrichtung y senkrechten Richtung auf,
wie durch die kleinen Pfeile in Fig. 4A schematisch dargestellt ist. Im Gegensatz hierzu tritt der Maß- bzw.
Maßstabsfehler, der aus der zweiten, nämlich der rnechani-
-10- DE 3665
sehen Ursache herrührt, bei der Bewegung der Maske und
der Platte auf und entsteht, wie in Fig» 4B dargestellt ist, hauptsächlich entlang der Abtastrichtung y.
Falls diese beiden Vergrößerungsfehler somit unabhängig
voneinander eliminiert werden, wird die Überlagerungsdruckgenauigkeit integrierter Schaltkreise über die gesamte
Fläche der Platte verbessert und eine Kombination dieses Systems mit anderen Druckvorrichtungen wird moglieh.
Das optische Spiegelsystem ist insbesondere sowohl auf der Objektseite als auch der Bildseite' telezentrisch
und hat eine solche optische Charakteristik, daß seine Abbildungsvergrößerung insgesamt nicht verändert wird,
selbst wenn die Lage der Maske oder der Platte, die das Objekt ist in Richtung der optischen Achse verändert
wird. Folglich wird der Vergrößerungsfehler in einer zur Abtastrichtung senkrechten Richtung durch das optisehe
System bestimmt, wobei eine Einrichtung für dessen Korrektur bisher nicht bekannt ist.
Andererseits hält man die Flachheit der Einheit und Arbeitsgenauigkeit der Maschine für die hauptsächlichen
mechanischen Ursachen des Vergrößerungsfehlers. Wenn z.B., wie in Fig. 5 dargestellt ist, ein Gleitelement
K, auf dem eine Maske und eine Platte angeordnet sind, entlang einer Fuhrungsflache G bewegt und dabei durch
statische Gaslager bl und b2 getragen wird, und falls' die Führungsfläche nach oben zu konvex ist, kommt das
Gleitelement K vor und hinter dem Abtastbereich in eine
geneigte Lage. Somit wird die Fläche der Platte ebenfalls geneigt, wodurch der Fehler in der Form gemäß Fig. 4B
entsteht. Um dies zu verhindern, kann der dem Lager bl zugeführte Druck an der vorderen Stelle des Abtastbereichs
erhöht werden, und der dem Lager b2 zugeführte Druck kann am hinteren Ende des Abtastbereichs erhöht
-11- DE 3665
werden; hierbei müssen die Drücke gesteuert, werden, um
eine horizontale Bewegung des Gleitelements K zu gewährleisten .
Ferner gibt es ein System zur Ausschaltung des Vergrößerungsfehlers
mittels Temperatursteuerung der Platte, oder ein System zur Korrektur des Vergrößerungsfehlers
durch die Bewegung eines optischen Elements in einem optischen System, das zur Abbildungscharakteristik beiträgt.
Bei dem mit der Temperatursteuerung arbeitenden System dehnt sich die Platte bzw. zieht sich zusammen
und zwar radial relativ zu ihrem Mittelpunkt, und deshalb kann der Vergrößerungsfehler in der Abtastrichtung und
in einer hierzu senkrechten Richtung nicht unabhängig korrigiert werden. Darüberhinaus hat dieses System den
Nachteil, daß das Arbeiten mit Wärmeleitung viel Zeit erfordert. Das System zur Korrektur des Vergrößerungsfehlers
mittels der Bewegung des optischen Elements im optischen System, das zur Abbildungscharakteristik beiträgt,
bringt auch darin ein Problem mit sich, daß die Abbildiingsleistung
des Projektionssystems selbst verschlechtert wird.
Der Erfindung liegt die Aufgabe zugrunde, eine optische Vorrichtung zu schaffen, die einen in einem Objektbild
erzeugten Vergrößerungsfehler ausgleicht bzw. beseitigt. Ferner soll eine in einem projizierten Bild eindimensional
hervorgerufene Verzerrung kompensiert werden; auch eine zweidimensional in diesem projizierten Bild hervorgerufene
Verzerrung soll ausgeglichen werden. Hierbei soll das Maß der Kompensation der Bildverzerrung in Abhängigkeit
des für das projizierte Bild erforderlichen Auflösungsvermögens variiert werden.
Diese Aufgabe wird erfindungsgemäß durch die Merkmale
-12- DE-3665
im kennzeichnenden Teil von Patentanspruch 1 bzw. 17
bzw. 18 gelöst. Hierbei wird in einer beispielhaften
Ausführungsform ein durchsichtiges dünnes Filmelement, das andere Abbildungscharakteristiken des optischen Projektionssystems
als die Abweichung bzw. Versetzung des Bildorts kaum beeinflußt, in einen optischen Weg eingebracht,
der zwischen einem Objekt und dessen Bild verläuft, und zwar zweckmäßigerweise in der Nähe des Objekts
oder des Hi.ids oder der Zwischenbildebene; dieses Element
ist zu einer gekrümmten Linie symmetrisch oder punktsyinmetrisch,
wodurch die Abbildungsposition in einer zur optischen Achse senkrechten Richtung verändert wird.
Ausfuhrungsbeispiele der Erfindung werden nachstehend anhand schematischer Zeichnungen ausführlich erklärt.
Es zeigen:
Fig. IA und IB Ansichten zur Darstellung der Vergrößerungsfehler,
Fig. 2 eine Draufsicht auf das Bild auf einer Platte,
Fig. 3 einen optischen Querschnitt eine.s erfindungsgemäßen
Ausführungsbeispiels_,
Fig. 4A und 4B Ansichten, die Vergrößerungsfehler darstellen,
Fig. 5 eine erläuternde· Darstellung einer Abtastvorrichtung;
|, .
Fig. 6 eine vergrößerte Ansicht der wesentlichen Abschnitte des Ausführungsbeispiels,
-13- DE 366 5
Fig. 7 eine optische Querschnittsansicht des Ausführungsbeispiels
,
Fig. 8 einen Graphen mit einem Parameter für Radius und Dicke j
Fig. 9 eine Abänderung der wesentlichen Abschnitte^
Fig. 1OA eine Draufsicht auf ein Bauteil bzw. Trägerteil,
Fig. 1OB eine perspektivische Ansicht des Bauteils,
Fig. 11 einen die Funktion zwischen Ort und Maß der Abweichung darstellenden Graphen, und
Fig. 12 und 13 perspektivische Ansichten optischer Systeme.
Die meisten Bauteile des optischen Systems gemäß Fig. 3 wurden schon beschrieben. So bezeichnet M eine Maske
und W eine Platte bzw. einen Wafer. Diese werden zusammen in der Abtastriohtung y bewegt. S bezeichnet eine lichtabschirmende
Platte, die eine bogenförmige Öffnung der Gestalt, wie sie bei der Stelle T in Fig. 2 nezeint is^haf
und die nahe bei der Platte W befestigt ist. BSI und BS2 bezeichnen den optischen Weg ändernde Spiegel; ein konkaver
Spiegel Ml und ein konvexer Spiegel M2 sind in der optischen Achse 00' angeordnet, wobei ihre Kugelmittelpunkte
voneinander abweichen. Der mittlere Lichtstrahl aus der beleuchteten Maske M wird von einem Spiegel reflektiert,
anschließend von dem konkaven Spiegel Ml, dem konvexen Spiegel M2, dem konkaven Spiegel Ml und dem
Spiegel BS2 in dieser Reihenfolge reflektiert^ und trifft
dann auf die Platte W auf.
-14- DE 3665
Ferner ist ein erfindungsgemäßes Element D in der Nähe
der Platte W befestigt; es umfaßt ein dünnes Element, das eine solche Dickenabmessung hat, die die Abbildungsleistung bzw. Abbildungscharakteristik nicht beeinflußt7
und das in eine halb-zylinderförmige Gestalt gekrümmt
ist. Der gekrümmte dünne Film B ist so angeordnet, daß seine Mantellinie mit der Abtastrichtung y zusammenfällt.
Die Fig. 6 und 7 zeigen seine Ansicht in einer zur Zeichenebene senkrechten Richtung.
Ein optisch dünner Film, der im allgemeinen als eine Membran dargestellt ist, kann optisch als eine sehr dünne
parallele Fläche betrachtet werden. Es ist bekannt, daß dieses optische Element sehr dünn ist und keine Brechkraft
hat und deshalb kaum die Abbildungscharakteristik verschlechtert. Deshalb ist, selbst "renn ein transparentes
optisches Element, das relativ zu dem den Kernstrahl (Hauptstrahl) des Lichtbündels bildenden Lichtstrahl
geneigt ist, beispielsweise ein in Richtung der optischen Achse gekrümmtes optisches dünnes Element, dessen Mantellinie
seiner zylindrischen Fläche die optische Achse des abbildenden Systems schneidet, erfindungsgemäß in
die Nähe eines Objekts oder der Bildebene eingebracht
ist, das Ausmaß, in dem dieses die Abbildungscharakteristik in der Bildebene verschlechtert, gering. Nichtsdestoweniger
wird der Hauptstrahl durch das dünne Element B gemäß dem Gesetz von She.llin's wie; in Fig. 6 gezeigt
ist, gebrochen.
Aus dem oben erwähnten Grund ist es bei einer Halbleiterdruckvorrichtung
möglich, das auf die Platte gedruckte •Bild zu verschieben, ohne dessen Abbildungscharakteristik
zu verschlechtern, indem ein mäßig gekrümmtes, transparentes optisches dünnes Element in die Nähe einer Maske,
die die Objektfläche in dessen druckenden optischen Weg
-15- DE 3665
ist, oder einer Platte eingebracht t-iird, die die Bildebene
ist.
Das optische System der Halbleiterdruckvorrichtung wird gewöhnlich als telezentrisches System bezeichnet und
ist so aufgebaut, daß der Hauptstrahl bezüglich allen
Punkten in der druckenden Bildebene senkrecht zur Fläche der Platte projiziert ist. Dies hat den Vorteil, daß
selbst bei defokussierter Platte der Mittelpunkt des Lichtbündels keine seitliche Abweichung auf der Platte
verursacht und daß deshalb kein Vergrößerungsfehler hervorgerufen wird.
Gemäß Fig. 6 kann das Maß der Krümmung ζ (mm) des eingebrachten
optischen dünnen Films in der Richtung ζ als eine Funktion von χ ausgedrückt werden, wobei die Dicke
des eingebrachten optischen dünnen Films d (mm) und dessen Brechungsindex η ist, und wobei die Richtung, in
der eine seitliche Abweichung des auf der Platte gedruckten Bild hervorgerufen werden soll, die χ-Achse ist,
und wobei die dazu senkrechte Richtung des Hauptstrahls die z-Achse ist. Das Maß der seitlichen Abweichung /\x
(mm) in der Richtung χ wird somit erhalten zu
1 dz
Ax = d(l - - ) . — (1)
Ax = d(l - - ) . — (1)
η dx
Wenn das optische dünne Element die Form einer sphäri-
sehen Fläche mit einem Radius R (mm) hat, gilt ζ = x^/2R
und deshalb wird Gleichung (1) zu
dl
Π η
Wenn η = 1,5 ist und d/R variiert wird, erhält man einen
Graphen gemäß Fig. 8. Durch die Anwendung dieses Graphs kann d/R für das zu verändernde Maß der Abweichung her-
-16- DE 3665
ausgefunden werden. Beim Experiment mit diesem Ausführungsbeispiel
wurde mit der Verwendung einer Membran mit einer Dicke von IO μπι ein gutes Ergebnis erhalten;
in Übereinstimmung mit der Leistung des optischen Systems kann jedoch geeignet eine dickere oder eine dünnere Membran verwendet werden. Bei einem optischen Präzisionssystem
ist es jedoch üblich, den Unterschied- zwischen der Wellenfrontaberration vor dem Einbringen des dünnen Elements
und der Wellenfrontaberration nach dem Einbringen des dünnen Elements im Bereich von % (Wellenlänge)
bis -/C zu halten.
Gemäß Fig. 6 sollen Hauptstrahlen in den Punkten a, b, c, d und e auf der Platte W auf treffen, wenn das dünne
Element nicht vorhanden ist. Wenn das dünne Element B so eingebracht ist, daß seine konkave Fläche auf die
Platte W gerichtet ist, wird jeder Strahl gebrochen und bei a1, b1, d1 und e1 abgebildet. Folglich kann die Bildvergrößerung
in Richtung der x-Achse verringert werden.
Wenn umgekehrt das dünne Element B so eingebracht ist, daß seine konvexe Fläche auf die Platte W gerichtet ist,
wie Fig. 9 zeigt, werden die gebrochenen Strahlen bei a", b", d" und e" abgebildet. Folglich kann das Bild
in Richtung der χ-Achse vergrößert werden.
D.h., falls der'numerische Wert durch die Krümmungsrichtung
des dünnen Elements B und Gleichung (2) bestimmt wird, daß jeder Vergrößerungsfehler beseitigt werden
kann·
Da das gekrümmte dünne Element B eine halb-zylinderförmige
Gestalt hat, wirkt es bezüglich einer zur Zeichenebene senkrechten Richtung, d.h. einer zur Mantellinie parallelen
Richtung, als einfache parallele flache Platte und beeinflußt die Vergrößerung in dieser Richtung nicht.
-17- DE 366 5
In der vorangehenden Beschreibung wurde angenommen, daß
das die Vergrößerung korrigierende bzw. einstellende Element in der Nähe der Platte (Stelle 13) gemäß Fig.
3 eingebracht wurde, jedoch kann theoretisch der gleiche Effekt erhalten werden, wenn das die Vergrößerung einstellende
Element in der Nähe der Maske (Stelle B1) eingebracht
wird. In diesem Fall unterscheidet sich jedoch die Beziehung zwischen Vergrößerung und Verkleinerung
von derjenigen in dem Fall , in dem das die Vergrößerung
einstellende Element in der Nähe der PJatte eingebracht
ist. D.h., wenn das die Vergrößerung einstellende Element so eingebracht ist, daß es bezüglich der Platte in B
konvex ist, wird das gedruckte Bild der Platte"vergrößert,
während es verringert wird, wenn das die Vergrößerung einstellende Element so eingebracht ist, daß es
bezüglich der Maske in B1 konvex ist. Ferner kann das dünne Element zwischen dem den optischen Weg ändernden
Spiegel BSI bzw. BS2 und dem konvexen Spiegel Ml verschoben werden, und, falls eine Zwischenbildebene im optisehen
Weg vorhanden ist, kann das dünne Element in deren Nähe angeordnet sein.
Wie oben beschrieben, stellt ein System, bei dem ein an
einem halb-zylinderförmigen gekrümmten Metallrahmen angebrachtes
optisches dünnes Element in das optische System PS eingebracht ist, ein erstes Ausführungsbeispiel der
Erfindung dar. Durch das Einbringen dieses Elements wird es möglich, die problembehaftete Vergrößerung leicht
bei zahlreichen Vorrichtungen zu korrigieren. Wenn sich die Platte auch während des Verfahrensablaufs ausdehnt
oder zusammenzieht, kann das erfindungsgemäße korrigierende Element in Übereinstimmung mit dem Maß der Ausdehnung
oder Zusammenziehung ausgetauscht werden, und falls seine Krümmung veränderbar ist, ist es möglich, jede
Änderung in der Vergrößerung durch ein einziges Element frei zu steuern..
«· ι« 4
-18- DE 3665
Das korrigierende Element, das einen das optische dünne Element tragenden Rahmen umfaßt, wird nachstehend ausführlicher
beschrieben. Gemäß einer ersten Ausführungsform, die in den Fiq. IGA und 1OB dargestellt ist, hat ein
° optischer dünner Film eine Dicke von einigen pm und ist über einen Metallrahmen gespannt, der in eine halb-zylinderförmige
Gestalt gekrümmt ist und wobei die Krümmung des Umfangsabschnitts des Metallrahmens variiert wird.
Insbesondere ist in einem rechtwinkeligen Metallrahmen eine bogenförmige Öffnung AP, die zufriedenstellend ein
Lichtbündel hindurchgehen läßt, vorgesehen , und Kräfte werden von gegenüberliegenden Seiten auf diesen ausgeübt,
wodurch der Metallrahmen in eine halb-zylinderförmige
Gestalt gebracht wird. Ein optischer dünner Film ist über diesen Metallrahmen gespannt und, falls die auf
den Metallrahmen einwirkende Kraft angepaßt bzw. verändert wird, kann die Krümmung des Umf angsabschnitts des
llalb-Zylinders frei verändert werden. Deshalb .kann die
Vergrößerung des gedruckten Bildes auf der Platte korrigiert werden. Bei einem dritten Ausführungsbeispiel ist
der dünne Film in eine andere übliche Gestalt als eine einfache halb-zylinderförmige gespannt. D.h., das Ausmaß
der Korrektur des Orts auf der Fläche der Platte ist eine Funktion ersten Grades des Orts auf der Platte,
wie in Fig. 8 gezeigt ist, wenn der dünne Film in eine halb-zylinderförmige Gestalt gespannt ist. Bei den Abweichungen
gedruckter Bilder treten jedoch diejenigen tatsächlich auf, die durch eine Funktion zweiten oder höheren
Grads des Orts darstellbar sind. Um diese Bildabweichungen auszuschalten, ist es erforderlich, das optische
Element in eine geeignete Form zu krümmen, die die Gleichung (1) erfüllt. Wenn z.B. die Bildabweichung als eine
Beziehung des Orts zweiten oder dritten Grades dargestellt ist (Fig. 11) ist, ist, falls diqse korrigiert werden
soll, aus Gleichung (1) ersichtlich, daß das Krümmungs-
-19 DE 366b
maß des dünnen Films einer Funktion dritten oder vierten
Grades des Orts folgen muß.
Ferner ist es auch möglich, das optische dünne Klomen L
dreidimensional zu krümmen, um dadurch eine zweid ίιηοη-sionale
Korrektur der Bildvergrößerung zu bewirken. Gemäß Fig. 12 ist ein dünnes, in eine Ilalbkugel-Gestalt geformtes
dünnes Element B" in eine Projektionsbelichtungsvorrichtung eingebracht, die ein Projektionsobjektiv PL
verwendet, wobei der Mittelpunkt seiner Kugel mit der
optischen Achse zusammenfällt, wodurch die Vergrößerung
korrigiert wird. Bei einer ein Objektiv verwendenden Vorrichtung wird das Drucken in einem Bereich um die
optische Achse ausgeführt und deshalb nimmt die Korrektureinrichtung eine dreidimensionale halbkugeiförmigc
Gestalt an. Das halbkugelförmige Element kann durch einen
Festkörper wie z.B. Glas oder Plastik realisiert sein oder auch dadurch verwirklicht werden, daß ein Film aus
Nitrozellulose in einem luftdichten Kasten gestreckt wird und der Unterschied im Luftdruck verwendet wird,
um den Film in eine Halbkugel-Form aufzublasen.
Die technische Idee der Erfindung ist auch zur Korrektur geringer Verzerrung eines optischen Linsensystems anwendbar.
Z.B. kann bei einem Linsensystem manchmal ein kleiner
Vergrößerungsunterschied zwischen oincr b·;:·.t. inmitcn.
Richtung, in de'r Fertigungsfehler und Montagefehler der
Linsen bzw. Gläser gehäuft auftreten, und einer hierzu senkrechten Richtung vorkommen. Selbst in einem solchen
Fall ist es möglich, den Vergrößerungsunterschied zu
korrigieren bzw. einzustellen, indem das beschriebene
optische Element in den optischen Weg eingesetzt, und in eine zylindrische Form gekrümmt wird. Hierbei ist
die Mantellinie des Zylinders in eine Richtung gelegt, die im wesentlichen mit einer der zwei Richtungen zusam-
-20- DE 3665
menfällt, in denen der Vergrößerungsfehler hauptsächlich
auftritt. Dieser Aufbau ist in Fig. 13 gezeigt, wobei ein optisches Element CL eine anisotrope Vergrößerung korrigiert.
Diese Vergrößerung kann natürlich auf der Seite der Maske (bzw. Fadennetz) M durchgeführt werden.
Beim oben beschriebenen Ausführungsbeispiel wurde ein
optischer dünner Film verwendet, der einen einheitlichen .Brechungsindex und eine einheitliche Dicke hat und gekrümmt
ist, jedoch kann alternativ eine parallele flache Platte, die einen sich mit einer bestimmten
Verteilung kontinuierlich ändernden Brechungsindex hat, oder eine flache Platte, die eine sich geeignet
kontinuierlich ändernde Fläche hat, in der Nähe der Objektfläche oder der Bildebene oder der Zwischenbildebene
angeordnet werden. In diesem Fall bringt die Änderung des Brechungsindex oder der Dicke der flachen
Platte eine Brechwirkung mit sich, die ähnlich derjenigen eines kleinen Prismas gegenüber Lichtstrahlen ist, und
kann die Vergrößerung in eine gewünschte Vergrößerung ändern. Z.B. ist zur Herstellung einer Brechungsindexverteilung
in einer parallelen flachen Glasplatte die Verwendung des Iondiffundierverfahrens geeignet, und
zur Herstellung einer Dicken-Variation kann eine Substanz mit dem gleichen Brechungsindex wie der dünne Film durch
Aufdampfen auf den dünnen Film aufgebracht werden.
Entsprechend der beschriebenen Erfindung ist eine Änderung der seitlichen bzw. quergerichteten Vergrößerung
möglich, ohne das herkömmliche optische System neu zu gestalten. Beim bekannten Halbleiterdruckverfahren wurde
eine flachgestreckte Membran in geringem Abstand zu einer
Platte eingebracht, um zu verhindern, daß sich auf dieser Staub ablagert, und die Erfindung kann verwirklicht werden,
indem die Membran dieses Typs vorteilhaft und erfindungsgemäß verwendet wird.
-21- DE 3665
Durch die Formgebung des optischen dünnen Elements in eine bestimmte erfindungsgemäße Gestalt ist es möglich
geworden, Ausdehnung oder Zusammenziehung der Platte zu korrigieren, die aus komplizierten Unterschieden zwisehen
Maschinen oder dem Verfahren resultieren. Diese Tatsache ist bei der Herstellung von VLSI (Höchstiritenrierte
Element^-bedBLtend, bei der Abgleich- bz-»j. Ausrichtfehler in der Größenordnung von 0,1 um kritisch sind. Wenn die Erfindung bei einem optischen Spiegelsystem angewendet wird, kann die Vergrößerung in einer zur Abtastrichtung senkrechten Richtung frei verändert werden. Dies ist ein Vorteil, der beim Stand der Technik nicht vorhanden ist.
Element^-bedBLtend, bei der Abgleich- bz-»j. Ausrichtfehler in der Größenordnung von 0,1 um kritisch sind. Wenn die Erfindung bei einem optischen Spiegelsystem angewendet wird, kann die Vergrößerung in einer zur Abtastrichtung senkrechten Richtung frei verändert werden. Dies ist ein Vorteil, der beim Stand der Technik nicht vorhanden ist.
Durch die Anwendung der Erfindung wurde der Abgleich- bzw. Ausrichtfehler bei der Herstellung von LSI (Hochinteorierte
Elemente) in hohen Maße verringert und eine Produktion mit hoher WirtschafUichteit wurde möglich.Die technische Idee der Erfindung
ist nicht nur auf diesem Gebiet anwendbar, sondern auch auf allen Gebieten, die genaueste Ausrichtung erfordern.
Offenbart ist eine optische Vorrichtung, bei der die Verzerrung eines Bildes kompensiert ist. Sie hat ein
abbildendes optisches System zur Erzeugung des Bildes eines Objekts in der Bildebene und zur Festlegung eines
abbildenden optischen Wegs, wobei eine kompensierende dünne Platte in diesem optischen Weg angeordnet ist,
die ein solches" Maß optischer Dicke hat, da;; kaum andere
Einflüsse als die Verschiebung der Bildposition auf die Abbildungs-leistung ausübt, und die eine zweidimensional oder dreimensiona.l
gekrümmte Gestalt hat.
Claims (19)
- Patentansprüche1/ Optische Vorrichtung, gekennzeichnet durch ein abbildendes optisches System (IS, PS) zur Erzeugung des Bilds eines Objekts (M) auf einer Bildebene (u) und zur Bestimmung eines abbildenden optischen Wegs, und durch eine optische Einrichtung (B) zur Verschiebung der Position des Bildes in einer zum abbildenden optischen Weg senkrechten Richtung, wobei die optische Einrichtung ein solches Maß an optischer Dicke hat, das kaum einen anderen Einfluß als die Positionsverschiebung auf die Abbildungsleistung ausübt, und in dem abbildenden optischen Weg angeordnet ist und eine gekrümmte Gestalt annimmt.
- 2. Optische Vorrichtung nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die optische Einrichtung (B) zwischen der Bildebene (W) und dem abbildenden optischen System (IS) angeordnet ist und auf die Bildebene zuweist.
- 3. Optische Vorrichtung nach Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet, daß die optische Einrichtung (B) nahe der Bildebene (W) angeordnet ist.F/22Dresdner Bank (München) KIo 3938 844Postscheck (München) Kto β70-43-804
- 4. Optische Vorrichtung nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die optische Einrichtung (B) zwischen dem Objekt (M) und der Bildebene (W) angeordnet und aufdas Objekt zu gerichtet ist.
5 - 5. Optische Vorrichtung nach Anspruch 4, dadurch gekennzeichnet, daß die optische Einrichtung (B) nahe bei dem Objekt (M) angeordnet ist.
- 6. Optische Vorrichtung nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die optische Einrichtung im wesentlichen mit einer Zwischenbildebene des abbildenden optischen Systems (IS, PS) zusammenfällt.
- 7. Optische Vorrichtung nach Anspruch 2, 4 oder 6, dadurch gekennzeichnet, daß die optische Einrichtung (B) zylindrische Gestalt hat.
- 8. Optische Vorrichtung nach Anspruch 7, dadurch gekennzeichnet, daß die optische Einrichtung (B) eine Membran ist.
- 9. Optische Vorrichtung nach Anspruch 2, 4 oder 6, dadurch gekennzeichnet, daß die optische Einrichtung(B) ein dünnes Element mit halbkugelförmiger Gestalt ist.
- 10. Optische Vorrichtung nach Anspruch 1, gekennzeichnet durch eine Einrichtung (J) zur gemeinsamen HaI-terung des Objekts (M) und eines AufZeichenelements zum Tragen der Bildebene (B) sora.e zun Aufzeichnen eines Bildes unter Bewegung dieser relativ zum abbildenden optischen System (IS), und durch eine zylindrische Gestalt der optischen Einrichtung (B), wobei eine Mantellinie der zylindrischen Gestalt mit der Bewegungsrichtung des Objekts zusammenfällt.-3- DE 3665
- 11. Optische Vorrichtung nach Anspruch 10, dadurch gekennzeichnet, daß das abbildende optische System (IS, PS) ein Spiegelobjektiv ist.
- 12. Optische Vorrichtung nach Anspruch 10, dadurch gekennzeichnet, daß die optische Einrichtung (B) eine Membran ist.
- 13. Optische Vorrichtung nach Anspruch 10, dadurch gekennzeichnet, daß die Dicke der optischen Einrichtung (B) so bestimmt ist, daß der Unterschied zwischen der Wellenf rontaberration bei eingebauter optischer Einrichtung und der !!el lenf rnntaberration bei ausgebauter optischer Einrichtung zwischen 5 und -^(Wellenlänge) liegt.
15 - 14. Optische Vorrichtung nach Anspruch 10, gekennzeichnet durch einen Rahmen zur Halterung der optischen Einrichtung (B).
- 15. Optische Vorrichtung nach Anspruch 14, dadurch gekennzeichnet, daß der Rahmen mit einer Maske versehen ist, die eine bogenförmige Öffnung (T) hat.
- 16. Optische Vorrichtung nach Anspruch 10, dadurch gekennzeichnet,' daß das Maß der Krümmung der optischen Einrichtung (B) variabel ist.
- 17. Optische Vorrichtung, gekennzeichnet durch ein abbildendes optisches System (IS, PS) zur Erzeugung des Bildes eines Objekts (M) in einer Bildebene (W) und zur Bestimmung eines abbildenden optischen Wegs, und durch eine dünne Platte (B) zur Verschiebung des Bildes in einer zum abbildenden optischen Weg senkrechten Richtung,wobei die dünne Platte ein solches Maß an optischer Dicke hat, das kaum einen anderen Einfluß als die Positionsverschiebung auf die Abbildungscharakteristik ausübt, und ferner eine sich kontinuierlich ändernde Brechzahlverteilung hat und in dem abbildenden optischen Weg angeordnet ist.
- 18. Optische Vorrichtung, gekennzeichnet durch ein abbildendes optisches System (IS, PS) zur Erzeugung des Bilds eines Objekts (M) in einer Bildebene und zur Bestimmung eines abbildenden optischen Wegs, und durch eine dünne Platte (B) zur Verschiebung der Position des Bildes in einer zum abbildenden optischen Weg senkrechten Richtung, wobei die dünne Platte eine Dicke hat, die sich kontinuierlich innerhalb der Bereichsgrenzen für eine solche optische Dicke ändert, die kaum einen anderen Einfluß als die Positionsverschiebung auf die Abbildungsleistung ausübt, und in dem abbildenden optischen Weg angeordnet ist.
- 19. Optische Vorrichtung nach Anspruch 17 oder 18, dadurch gekennzeichnet, daß die Dicke der dünnen Platte (B) so bestimmt ist, daß der Unterschied zwischen der Wellenf rontaberrptj.on bei im abbildenden optischen Weg eingebauter dünner Platte und der Wellenfrontsberration bei ausgebauter dünner Platte zwischen % (Wellenlänge) und - % liegt.
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| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP58018714A JPS59144127A (ja) | 1983-02-07 | 1983-02-07 | 像調整された光学装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| DE3404063A1 true DE3404063A1 (de) | 1984-08-09 |
| DE3404063C2 DE3404063C2 (de) | 1993-04-08 |
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|---|---|---|---|
| DE19843404063 Granted DE3404063A1 (de) | 1983-02-07 | 1984-02-06 | Optische vorrichtung, bei der die bildverzerrung aufgehoben ist |
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|---|---|
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Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO1999067683A2 (de) * | 1998-06-20 | 1999-12-29 | Carl Zeiss | Optisches system, insbesondere projektions-belichtungsanlage der mikrolithographie |
| JP2015180945A (ja) * | 2009-11-20 | 2015-10-15 | コーニング インコーポレイテッド | リソグラフィック結像システムの倍率制御 |
| CN110109104A (zh) * | 2019-04-17 | 2019-08-09 | 电子科技大学 | 一种阵列sar等距离切片成像几何畸变校正方法 |
Families Citing this family (12)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0752712B2 (ja) * | 1989-12-27 | 1995-06-05 | 株式会社東芝 | 露光装置 |
| JP3341269B2 (ja) | 1993-12-22 | 2002-11-05 | 株式会社ニコン | 投影露光装置、露光方法、半導体の製造方法及び投影光学系の調整方法 |
| JP3221226B2 (ja) * | 1994-03-30 | 2001-10-22 | キヤノン株式会社 | 照明装置及びそれを用いた投影露光装置 |
| JP3893626B2 (ja) * | 1995-01-25 | 2007-03-14 | 株式会社ニコン | 投影光学装置の調整方法、投影光学装置、露光装置及び露光方法 |
| JPH1054932A (ja) * | 1996-08-08 | 1998-02-24 | Nikon Corp | 投影光学装置及びそれを装着した投影露光装置 |
| DE19733193B4 (de) * | 1997-08-01 | 2005-09-08 | Carl Zeiss Jena Gmbh | Mikroskop mit adaptiver Optik |
| US6937394B2 (en) | 2001-04-10 | 2005-08-30 | Carl Zeiss Semiconductor Manufacturing Technologies Ag | Device and method for changing the stress-induced birefringence and/or the thickness of an optical component |
| SG118242A1 (en) | 2003-04-30 | 2006-01-27 | Asml Netherlands Bv | Lithographic apparatus device manufacturing methods mask and method of characterising a mask and/or pellicle |
| JP4195674B2 (ja) * | 2004-03-31 | 2008-12-10 | 株式会社オーク製作所 | 投影光学系および投影露光装置 |
| KR100588941B1 (ko) | 2004-08-03 | 2006-06-09 | 주식회사 대우일렉트로닉스 | 실린드리컬 방식의 홀로그래픽 데이터 기록 장치 및 그제어 방법 |
| US7304715B2 (en) | 2004-08-13 | 2007-12-04 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic apparatus and device manufacturing method |
| JP5095946B2 (ja) * | 2005-02-18 | 2012-12-12 | ハイデルベルガー ドルツクマシーネン アクチエンゲゼルシヤフト | 少なくとも１つのレーザダイオードバーを備える版の画像付け装置 |
Citations (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CH234371A (de) * | 1942-10-22 | 1944-09-30 | Zeiss Ikon Ag | Verfahren zur Abbildung von Zeichnungen, Plänen und dergleichen und Vorrichtung zur Durchführung dieses Verfahrens. |
| US2976785A (en) * | 1955-09-23 | 1961-03-28 | Bariquand & Marre Sa Atel | Italic-forming anamorphotic device for use in photo-composition |
| DE1922318A1 (de) * | 1968-05-06 | 1969-11-20 | Eastman Kodak Co | Verfahren zum Herstellen von Reproduktionen mit genau festlegbaren Dimensionsabweichungen gegenueber der Vorlage |
| US4215934A (en) * | 1977-10-06 | 1980-08-05 | Canon Kabushiki Kaisha | Printing apparatus |
| US4294538A (en) * | 1978-03-18 | 1981-10-13 | Canon Kabushiki Kaisha | Image forming optical system |
| GB1605160A (en) * | 1977-02-11 | 1982-08-11 | Perkin Elmer Corp | Annular field optical system |
| GB2115167A (en) * | 1981-12-29 | 1983-09-01 | Canon Kk | Correcting errors in projection printing |
| GB2124397A (en) * | 1981-12-23 | 1984-02-15 | Canon Kk | Optical projection |
-
1983
- 1983-02-07 JP JP58018714A patent/JPS59144127A/ja active Granted
-
1984
- 1984-02-02 GB GB08402807A patent/GB2138163B/en not_active Expired
- 1984-02-06 DE DE19843404063 patent/DE3404063A1/de active Granted
Patent Citations (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CH234371A (de) * | 1942-10-22 | 1944-09-30 | Zeiss Ikon Ag | Verfahren zur Abbildung von Zeichnungen, Plänen und dergleichen und Vorrichtung zur Durchführung dieses Verfahrens. |
| US2976785A (en) * | 1955-09-23 | 1961-03-28 | Bariquand & Marre Sa Atel | Italic-forming anamorphotic device for use in photo-composition |
| DE1922318A1 (de) * | 1968-05-06 | 1969-11-20 | Eastman Kodak Co | Verfahren zum Herstellen von Reproduktionen mit genau festlegbaren Dimensionsabweichungen gegenueber der Vorlage |
| GB1605160A (en) * | 1977-02-11 | 1982-08-11 | Perkin Elmer Corp | Annular field optical system |
| US4215934A (en) * | 1977-10-06 | 1980-08-05 | Canon Kabushiki Kaisha | Printing apparatus |
| US4294538A (en) * | 1978-03-18 | 1981-10-13 | Canon Kabushiki Kaisha | Image forming optical system |
| GB2124397A (en) * | 1981-12-23 | 1984-02-15 | Canon Kk | Optical projection |
| GB2115167A (en) * | 1981-12-29 | 1983-09-01 | Canon Kk | Correcting errors in projection printing |
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO1999067683A2 (de) * | 1998-06-20 | 1999-12-29 | Carl Zeiss | Optisches system, insbesondere projektions-belichtungsanlage der mikrolithographie |
| WO1999067683A3 (de) * | 1998-06-20 | 2000-04-20 | Zeiss Carl | Optisches system, insbesondere projektions-belichtungsanlage der mikrolithographie |
| US6388823B1 (en) | 1998-06-20 | 2002-05-14 | Carl-Zeiss-Stiftung Trading As Carl Zeiss | Optical system, especially a projection light facility for microlithography |
| JP2015180945A (ja) * | 2009-11-20 | 2015-10-15 | コーニング インコーポレイテッド | リソグラフィック結像システムの倍率制御 |
| CN110109104A (zh) * | 2019-04-17 | 2019-08-09 | 电子科技大学 | 一种阵列sar等距离切片成像几何畸变校正方法 |
| CN110109104B (zh) * | 2019-04-17 | 2022-03-15 | 电子科技大学 | 一种阵列sar等距离切片成像几何畸变校正方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| GB8402807D0 (en) | 1984-03-07 |
| GB2138163B (en) | 1987-06-24 |
| GB2138163A (en) | 1984-10-17 |
| DE3404063C2 (de) | 1993-04-08 |
| JPS59144127A (ja) | 1984-08-18 |
| JPH059934B2 (de) | 1993-02-08 |
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