DE2852789A1 - Verfahren zur ausbildung eines bildes - Google Patents
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Description
DR. E. WIEGAND DIPL-ING. W. NIEMANN
MÖNCHEN HAMBORy
MQNCHEN ς M0NCHEN 2852783
TELEFON: S3 0338/9 8 0 0 0 MDN CH EN 2,
TELEGRAMME: KARPATENT HerZOg-WiHielm-Str . 1 6
6.Dezember 19 7 8 V. 43341/78 - Ko/G
Fuji Photo Film Co.,Ltd. Minami Ashigara-Shi Kanagawa (Japan)
Verfahren zur Ausbildung eines Bildes
Die Erfindung betrifft ein Verfahren zur Ausbildung
eines Bildes, insbesondere ein Verfahren zur Herstellung eines Reliefbildes, welches die bildweise Belichtung eines
lichtempfindlichen Bxldausbildüngsmaterials und dessen Behandlung mittels Trockenentwicklung umfaßt.
,,QB
a-ii-I
AU. INSBEGiED
Zf-
'(, -2852/39
Gemäß der Erfindung wird ein Verfahren zur Ausbildung
eines Bildes vorgeschlagen, wobei ein lichtempfindliches Bildausbildungmaterial, welches aus einem
Träger und einer Schicht aus einer thermoplastischen lichtempfindlichen Masse, die bei gewöhnlichen Temperaturen
nicht-klebend ist, aufgebaut ist, belichtet und durch Erhitzen in innigem Kontakt mit einem Abschalentwicklungstragerblatt,
von dem mindestens eine Oberfläche aus einem bei gewöhnlichen Temperaturen nichtklebenden
thermoplastischen Material aufgebaut ist, entwickelt wird und anschließend das Entwicklungsträgerblatt
von dem lichtempfindlichen Bildausbildungsmaterial abgeschält wird.
Speziell betrifft die Erfindung ein Verfahren zur Ausbildung eines Bildes, welches die bildweise Belichtung
eines BildausbildungsmateriaJs, welches aus einem Träger
und einer darauf ausgebildeten Schicht aus einer lichtempfindlichen Masse aufgebaut ist, das Erhitzen des belichteten
Bildausbildungsmaterials in innigem Kontakt mit einem Abschalentwicklungstragerblatt mit einer Kunststoffschicht,
die für die lichtempfindliche Schicht bei gewöhnlichen Temperaturen nicht-haftend ist, sondern beim
Erhitzen erweicht und für die lichtempfindliche Schicht haftend wird, und die anschließende Abtrennung des Bildausbildungsmaterials
von dem Abschalentwicklungstragerblatt unter Wärme umfaßt, wobei lediglich der belichtete Bereich
oder unbelichtete Bereich der lichtempfindlichen Schicht selektiv auf dem Trägerblatt hinterbleibt und der entsprechende
unbelichtete Bereich oder belichtete Bereich auf dem Träger verbleibt, jeweils als getrennte Reliefbilder.
Zahlreiche Verfahren zur Ausbildung von Bildern durch Trockenentwicklung einer lichtempfindlichen Masse
wurden bereits vorgeschlagen und diese umfassen beispiels-
9 0 9 8 ? β / 0 B 2 2
2852739
weise die Entwicklung eines belichteten lichtempfindlichen Materials durch Erhitzen, ein thermisches Ent·=-
wicklungsverfahren durch geeignete Bestrahlung, durch Behandlung mit Gas, durch elektrostatische Behandlung
und durch Anwendung von Druck.
Ein typisches Trockenentwicklungsverfahren ist in der japanischen PatentVeröffentlichung 9663/63 beschrieben,
das das sogenannte Abschalentwxcklungsverfahren unter Anwendung eines lichtempfindlichen Bildausbildungsmaterials
darstellt, welches einen Träger, eine Schicht aus einer lichtempfindlichen Masse auf dem Träger und ein
auf der lichtempfindlichen Schicht angebrachtes Deckblatt umfaßt, bei dem die Haftung der lichtempfindlichen Schicht
an dem Träger und an dem Deckblatt sich bei der Belichtung ändert. Nach der Belichtung wird der Träger von dem Deckblatt
abgeschält, so daß lediglich die belichteten Bereiche der lichtempfindlichen Schicht auf dem Träger oder
dem Deckblatt und die unbelichteten Bereiche auf dem anderen Teil, jeweils als Reliefbilder, hinterbleiben.
Das Verfahren zur Bildausbildung durch Abschälentwicklung wird im trockenen Zustand ausgeführt und der
Betrieb ist einfacher als die gewöhnliche Flüssigkeitsentwicklung unter Anwendung einer großen Menge an Wasser
oder Lösungsmittel. Ferner ist es lediglich der Bildbereich der Schicht aus der lichtempfindlichen Bildausbildungsmasse,
welcher auf dem Träger nach der Abschälung hinterbleibt und der Nichtbildbereich wird vom Träger durch
Abschälen entfernt. Das Verfahren hat also auch den Vorteil, daß die Stabilisierung des Nichtbildbereiches, die
für durch gewöhnliche Flüssigkeitsentwicklung oder thermische Entwicklungsverfahren entwickelte lichtempfindliche
Materialien wesentlich ist, d.h. deren Fixierung,gleichzeitig
mit dem Entwicklungsarbeitsgang ausgeführt werden
9 0 S 8 ? Ό / 0 G 2 2
-X-
kann. Da beim Abschalentwicklungsverfahren die lichtempfindliche
Masse im Nichtbildbereich auf dem abgeschälten Blatt als feste Schicht fixiert ist, kann sie
leicht beseitigt werden und dies ist vom Gesichtspunkt der Umgebungsverschmutzung günstig. Falls die Masse
wertvolle Bestandteile enthält, können diese vollständig zurückgewonnen und leicht wiederverwendet werden. Dieses
Behandlungsverfahren ist somit auch vorteilhaft vom Gesichtspunkt der Einsparung von Rohstoffen.
Seit das allgemeine Verfahren zur Bildausbildung durch Abschälung in der japanischen Patentveröffentlichung
9663/63 veröffentlicht wurde, wurde eine Anzahl spezifischer Verfahren vorgeschlagen. Diese Verfahren lassen
sich auf Grund ihrer Grundeigenschaften klassifizieren, wie sie nachfolgend kurz abgehandelt sind.
Eine Drei-Schichtstruktur, die aus einem Träger, einer ein photopolymerisierbares Monomeres enthaltenden
lichtempfindlichen Schicht und einem auf der lichtempfindlichen
Schicht aufgeschichteten Deckblatt aufgebaut ist, stellt ein sehr wichtiges Material auf dem Fachgebiet
dar. Die Abschälentwicklung dieses lichtempfindlichen Materials wird unter Ausnützung der Tatsache ausgeführt,
daß die Polymerisation in dem belichteten Bereich des Materials abläuft und infolgedessen die Haftung der lichtempfindlichen
Schicht an dem Träger und an dem Deckblatt zwischen dem belichteten Bereich und dem unbelichteten
Bereich sich unterscheidet. Dies ist beispielsweise in der japanischen Patentveröffentlichung 3193/62 (US-Patentschrift
3 060 024), der japanischen Patentveröffentlichung 22901/68 (US-Patentschrift 3 353 955), der japanischen
Patentanmeldung 7728/72 (US-Patentschrift 3 770 438) und den US-Patentschriften 3 060 023 und
3 525 615 beschrieben. Die US-Patentschriften 3 627 529, 3 591 377 und 3 607 264 geben ein ähnliches abschälent-
-28 5 2 73-9
wicklungsfähiges lichtempfindliches Material an, welches im wesentlichen aus einem Träger, einer lichtempfindlichen
Schicht und einem transparenten Deckblatt besteht, wobei die Schicht aus der lichtempfindlichen Masse einen photohärtbaren
Polyester (US-Patentschrift 3 591 377), eine photohärtbare Olefinverhindung (US-Patentschrift 3 607 264)
oder einen photohärtenden Katalysator und ein thiolhältiges Olefinpolymeres (US-Patentschrift 3 627 529) enthält.
Gemäß den vorstehend abgehandelten Verfahren wird die
Abschälentwicklung durch Ausnützung von Änderungen in der
Haftung auf Grund von photochemischer Reaktion eines photopolymerisierbaren
Monomeren oder einer photohärtbaren Verbindung ausgeführt.
Verfahren unter Anwendung anderer lichtempfindlicher
Verbindungen sind gleichfalls bekannt. Beispielsweise ist in der japanischen Patentanmeldung 57819/77 ein Verfahren
angegeben, bei dem eine Schichtstruktur, die aus einem
Blatt aus einem Träger und einer darauf aufgebrachten Schicht aus einer haftenden Masse und einem mit einer lichtempfindlichen Masse aus einem Diazoniumsalz und einem Binder
überzogenen transparenten Kunststoffilm besteht, wobei die
Schichtstruktur belichtet wird und dann der Film abgeschält wird, so daß der unbelichtete Bereich der Schicht
aus der lichtempfindlichen Masse auf dem transparenten Kunststoffilm
und der belichtete Bereich auf dem Träger verbleibt.
In der japanischen Patentanmeldung 3215/78 (US-Patentanmeldung Serial Nr. 810 828 vom 28. Juni 1977) ist ein
Verfahren beschrieben, bei dem ein ähnlicher Bogen verwendet wird, welcher aus einem Träger und einer hierauf
ausgebildeten Schicht aus einer klebenden Masse aufgebaut ist. Eine dünne Filmschicht aus einem Metall oder Chalcogen
9.09/·-'/;--/ΠΠ22
HO 2852739
ist weiterhin zwischen dem Träger und der Schicht aus der lichtempfindlichen Masse angebracht, so daß eine
fünfschichtige Schichtstruktur gebildet wird. Es wird die Erscheinung ausgenützt, daß die Abschälentwicklung
nach der Belichtung eine selektive Abtrennung an der Grenzfläche zwischen der nicht-empfindlichen dünnen
Filmschicht und dem Träger einleitet.
Gemäß der japanischen Patentanmeldung 23632/78 wird eine lichtempfindliche Masse, die eine Polyhalogenverbindung
und ein Polymeres mit einem Phenolkern enthält, angewandt und durch Abschälung eines transparenten filmartigen
an der Sch4 -3ht aus der lichtempfindlichen Masse
anhaftenden Materials vor oder nach der Belichtung wird ein Bild entsprechend dem belichteten Bild auf dem Träger
erhalten.
In der britischen Patentschrift 1 319 295 ist ein Abschälentwicklungsverfahren beschrieben, welches die Aufschichtung
einer wärmeerweichbaren Polymerschicht und eines zur Absorption von Infrarotstrahlen fähigen Pulvers auf
einem Träger, die Belichtung des erhaltenen Materials mit Infrarotstrahlen zur Erzielung einer bildweisen Klebrigkeit
der wärmeerweichbaren Polymerschicht und die Abtrennung der Polymerschicht von dem Träger unter Bildung
eines Bildes auf dem Träger umfaßt.
Es wurden auch Verfahren beschrieben, wobei Verbindungen mit unterschiedlichen Eigenschaften in derartige
abschälentwicklungsfähige lichtempfindliche Materialien zur Anwendung auf speziellen Anwendungsgebieten einverleibt
wurden.
Beispielsweise ist in der US-Patentschrift 3 060 die selektive Haftung eines Pulvers aus einem Färbungs-
M -2852733
mittel an dem unbelichteten Bereich (unpolymerisierter
Bereich) unter Ausnützung der Klebrigkeit dieses Bereiches vorgeschlagen.
Zahlreiche Vorschläge wurden auch hinsichtlich der Anwendung der durch Abschälentwicklung erhaltenen Polymerbilder
für Photowiderstände gemacht und derartige Vorschläge sind beispielsweise in den japanischen Patentanmeldungen
120825/75 und 39025/76 und der US-Patentschrift 3 660 088 beschrieben.
Ein Verfahren zur Herstellung einer Druckplatte durch
Abschälentwicklung eines lichtempfindlichen Materials unter Einschluß einer druckfarbenabweisenden Siliconverbindung
oder fluorhaltigen Verbindung in einer Schicht aus einer photopolymerisierbaren oder photohärtbaren Masse
ist beispielsweise in den japanischen Patentanmeldungen 94503/73, 66304/75 (D&-0S2 449 172) und den japanischen
Patentanmeldungen 58105/76, 121330/76 und 134204/76 angegeben. , '
Im vorstehenden wurden die Eigenschaften der bekannten Verfahren hinsichtlich der Bildausbildung durch Abschälen
abgehandelt. Bisher liegt das Grundprinzip der Abschälentwicklung in der Änderung der Haftung zwischen der
Schicht aus der lichtempfindlichen Masse und dem Träger bei Lichteinwirkung. Zum Beispiel wird eine photopolymerisierbare
oder photohärtbare lichtempfindliche Masse verwendet und durch eine photochemische Umsetzung an dem belichteten
Bereich wird die Haftung der lichtempfindlichen Schicht zum Träger gesenkt oder erhöht gegenüber derjenigen
vor der Belichtung, wodurch der belichtete Bereich und der unbelichtete Bereich als auf unterschiedlichen Trägern
getrennte Bilder ausgebildet werden. Beispielsweise ist in japanischen Patentveröffentlichung 9663/63 ein Verfahren
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ORIGINAL INSPECTED
ORIGINAL INSPECTED
■/7*
zur Ausbildung eines Bildes vorgeschlagen, wobei eine lichtempfindliche Masse in innigem Kontakt mit einem
Deckblatt belichtet wird und das Deckblatt durch Ausnützung der Tatsache abgeschält wird, daß die lichtempfindliche
Haftungsschicht eine geeignete Klebrigkeit bei Raumtemperatur besitzt.
Ferner ist in den japanischen Patentanmeldungen 57819/77, 3215/78 und 141003/76 beispielsweise ein Verfahren
angegeben, bei dem die Klebrigkeit der Schicht aus der lichtempfindlichen Masse selbst bei Raumtemperatur
nicht wesentlich ist. Bei diesem Verfahren wird die zur Abschälentwicklung erforderliche Klebrigkeit durch
Ausbildung einer druckempfindlichen Klebschicht auf einem als Deckblatt verwendeten Abschälblatt gewonnen.
Bei diesem Verfahren haftet das klebrige Abschälblatt innig an der Schicht aus der lichtempfindlichen Masse
vor oder nach der bildweisen Belichtung an und kann dann abgeschält werden. Infolgedessen ist ein breiter Bereich
der Auswahl für die Eigenschaften der lichtempfindlichen Masse möglich gegenüber den vorstehenden Verfahren, bei
denen eine photopolymerisxerbare Verbindung als Material eingesetzt wird und die Klebrigkeit der Schicht aus der
lichtempfindlichen Masse selbst bei gewöhnlichen Temperaturen ausgenützt wird.
Es sind auch einige Verfahren zur wirksameren Abtrennung eines Bildes durch Erhitzen des Bildausbildungsmaterials
zum Zeitpunkt der Abschälung beschrieben. Beispielsweise ist in der US-Patentschrift 3 060 023 ein
Verfahren angegeben, wobei ein Gemisch aus einem photopolymerisierbaren
Monomeren und einem thermoplastischen Polymeren als Schicht aus der lichtempfindlichen Masse
angewandt wird, wobei nach der Belichtung die lichtempfindliche Schicht in innigen Kontakt mit einem Aufnahme-
9 0 9 3 ?■:/ 0 P 2 2
ft 2852739
blatt bei einer Temperatur von mindestens 40°C gebracht wird, so daß der unbelichtete, d.h. der unpolymerisierte
Bereich, des photopolymerisierbaren Monomeren selektiv erweicht und das Bild thermisch auf
das Aufnahmeblatt übertragen wird. Dieses Verfahren nützt die Übertragung des unbelichteten Bereiches (unpolymerisierten
Bereiches) der thermoplastischen photopolymerisierbaren Masse auf das Aufnahmeblatt unter
Erhitzen aus und liefert eine Anzahl von Kopien, indem
die belichtete Schicht aus der photopolymerisierbaren Masse in Kontakt mit einem geeigneten Träger zur Übertragung
des unbelichteten Bereiches unter Erwärmen gebracht wird. Da bei diesem Verfahren ein aus dem unpolymerisierten
Bereich aufgebautes Übertragungsbild stets als Bild verwendet wird, ist es, falls man das
auf dem Träger erhaltene Bild weiterhin für eine Druckplatte
oder einen Photowiderstand ausnützen will, notwendig, eine zusätzlich Stufe der Härtung des übertragenen
Bildes durch eine Nachbehandlung, beispielsweise
durch Belichtung, anzuwenden.
In der japanischen Patentanmeldung 39025/76 ist ein Verfahren angegeben, wobei ein dreischichtiges Bildausbildungsmaterial,
das aus einem Metallsubstrat, einer Schicht aus einer lichtempfindlichen Masse aus einem
additionspolymerisierbaren Monomeren und Polyvinylbutyral und einem Deckblatt aufgebaut ist, bildweise belichtet
wird und das belichtete Material unter Erhitzung abgeschält wird, wodurch eine Kohäsionszerstörung des unbelichteten
Bereiches, d.h. des unpolymerisierten Bereiches, der lichtempfindlichen Schicht eingeleitet wird und das
gleiche positive Bild, wie es bei der bildweisen Belichtung verwendet wurde, auf dem Metallsubstrat erhalten
wird, wobei dieses Bild als Photowiderstandsbild verwendet
wird.
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Somit wird bei den üblichen Verfahren der Erhitzungsarb
extsgang lediglich zum Zweck der Erhöhung
der Fließfähigkeit des unbelichteten Bereiches der lichtempfindlichen Bildausbildungsschicht bei der
Übertragungsstufe angewandt. In der Beschreibung der japanischen Patentanmeldung 3215/78 findet sich ein Hinweis
auf den Effekt des Erhitzens vor der Abschälung in einem Arbeitsbeispiel. Jedoch enthält das in diesem
Beispiel eingesetzte lichtempfindliche Bildausbildungsmaterial eine Schicht aus einer klebenden Masse als
wesentlichen Bestandteil des Abschalentwicklungstragers
und der Erhitzungsarbeitsgang spielt keine wesentliche Rolle hinsichtlich der Erzielung von Klebrigkeit zwischen
dem Abschalentwicklungsblatt und der Bildausbildungsschicht
.
Eine Hauptaufgabe der Erfindung besteht in einem Verfahren zur Abschälentwicklung, wobei lichtempfindliche
Materialien, die bisher als ungeeignet für Abschälentwicklungsverfahren betrachtet wurden, eingesetzt
werden.
Eine weitere Aufgabe der Erfindung besteht in einem Verfahren zur Abschälentwicklung, wobei die Schicht aus
der lichtempfindlichen Masse und das Abschälentwicklungstragblatt bei gewöhnlichen Temperaturen nicht-haftend oder
-klebrig sind.
Eine weitere Aufgabe der Erfindung besteht in einem Verfahren zur Abschälentwicklung, bei der keine Abdeckung
der lichtempfindlichen Schicht vor der Belichtung erforderlich ist, so daß ein inniger Kontakt zwischen der
lichtempfindlichen Schicht und dem Belichtungsdia erzielt werden kann.
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■ ο R £ τ- ■ 3 Q
Eine weitere Aufgabe der Erfindung besteht in einem Abschälentwicklungsverfahren, bei dem Reliefbilder
mit guter Abschichtung sowohl auf dem Abschälentwicklungsträgerblatt als auch dem Träger für die lichtempfindliche
Schicht erhalten werden.
Eine weitere Aufgabe der Erfindung besteht in der Ausbildung von Reliefbildern durch Trockenbehandlung,
die für lithographische Druckplatten, Reliefdruckplatten,
Gravuredruckplatten und Photowiderstände verwendet werden können.
Diese und weitere Aufgaben werden gemäß der Erfindung durch ein Verfahren zur Ausbildung eines Bildes
erreicht, welches die bildweise Belichtung eines Bildausbildungsmaterials, welches aus einem Träger mit einer
darauf aufgezogenen Schicht aus einer lichtempfindlichen Masse, die bei Raumtemperaturen fest und nicht-klebend
ist, jedoch durch Erhitzen erweicht wird, aufgebaut ist, den innigen Kontakt des belichteten Materials unter Erwärmen
mit einem blattartigen Träger mit einer wärmeerweichbaren Kunststoffschicht, die bei Raumtemperatur
nicht-haftend ist, und die anschließende Abtrennung des
Bildausbildungsmaterials von dem Abschälentwicklungsträger
umfaßt, so daß der belichtete Bereich oder unbelichtete Bereich der lichtempfindlichen Schicht selektiv auf dem
Abschälentwicklungsblatt fixiert wird und ein aus dem unbelichteten Bereich oder belichteten Bereich aufgebautes
Bild entsprechend dem Bild auf dem Abschälentwicklungsblatt auf dem Träger als Relief erhalten wird.
In den Zeichnungen stellen
Fig. 1 ein lichtempfindliches Bildausbildungsmaterial, welches durch ein Dia gemäß der Erfindung belichtet
wird,
9098?'·/Π622
Fig. 2 das belichtete Bildausbildungsmaterial in innigem Kontakt mit dem Abschälentwicklungsträgerblatt,
Fig. 3 die Abtrennung des Abschälentwicklungsträgerblattes von dem Bildausbildungsmaterial,
die Fig. 4 und 5 weitere Ausführungsformen der Erfindung
dar.
dar.
Allgemein müssen die folgenden Bedingungen erfüllt sein, um gute Reliefbilder bei der bildweisen Belichtung
eines lichtempfindlichen Bildausbildungsmaterials, das aus einem Träger und einer Schicht aus einer lichtempfindlichen
Masse aufgebaut ist, mit anschließender Abschälung zu erhalten.
Wenn angenommen wird, daß unmittelbar vor dem Abschälarbeitsgang ein Bildausbildungsträger (B), eine Schicht
aus einer lichtempfindlichen Masse (P) und ein Abschälentwicklungsträgerblatt (H) aneinander in dieser Reihenfolge
haften, beträgt die Haftungsfestigkeit zwischen der lichtempfindlichen
Schicht und dem Bildausbildungsträger Fp„
und die Haftungsfestigkeit zwischen der lichtempfindlichen Schicht und dem Abschälentwicklungsträgerblatt beträgt
und die Kohäsionskraft der lichtempfindlichen Schicht
beträgt f . Dann müssen, um ein positives Reliefbild auf
dem Bildausbildungsträger auszubilden, die folgenden Bedingungen erfüllt sein:
| FPB(D) | ^ FPH(D) | (D |
| FPB(L) | < FPH(L) | (2) |
| FPH(D) | < FPH(L) | (3) |
| FPB(D) | > FPB(L) | (4) |
| 90982B/0822 | ||
-28 5.2 739
D und L geben den Zustand vor bzw. nach der Belichtung
an. Die gleichen Zeichen der Gleichungen 3 und 4 gelten nicht gleichzeitig.
Falls ferner die lichtempfindliche Schicht selbst eine Kohäsionszerstörung während der Abschälentwicklung
erleidet, wird kein gutes Reliefbild erhalten. Deshalb
muß die Kohäsionskraft der lichtempfindlichen Schicht die folgenden Gleichungen erfüllen:
fp(D) Ϊ FPH(D)
f P(L) > 15Vb(L)
f P(L) > 15Vb(L)
In gleicher Weise sind die Bedingungen zur Erzielung
eines negativ arbeitenden Reliefbildes die folgenden, daß
die Ungleichheitszeichen der Gleichungen (1) bis (4) umgekehrt sind und daß gleichzeitig die Gleichungen (5) und
(6') ebenfalls erfüllt werden;
| FPB(D): * | FPH(D) |
| FPB(L) > | Tph(l) |
| FPH(D) ^ | FPH(L) |
| FPB(D) ^ | FPB(D) |
| fP(D) > | FPB(D) |
| fP(L) ■> | FPH(L) |
Die Werte dieser Gleichungen variieren entsprechend Temperatur, Feuchtigkeit, Druck, Atmosphäre und anderen
Faktoren. Falls jedoch die Bedingungen der Gleichungen (1) bis (6) oder (I1) bis (6') zum Zeitpunkt der Bildausbildung,
d.h. dem Abschälarbeitsgang erfüllt werden, können
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ORIGINAL INSPECTED
ORIGINAL INSPECTED
285:.
Reliefbilder für positive Arbeit oder negative Arbeit erhalten werden.
Der Einfluß der Temperatur auf die vorstehenden Bedingungen
wurde ausgedehnt untersucht und darauf beruht die vorliegende Erfindung. Insbesondere beruht die Erfindung
darauf, daß die vorstehenden Bedingungen zur Bildausbildung erfüllt werden können, wenn eine Temperatursteuerung
mit einer Kombination aus einer thermoplastischen lichtempfindlichen Bildausbildungsschicht und einem
thermoplastischen Abschälentwicklungsträgerblatt ausgeführt wird.
Das charakteristische Merkmal des erfindungsgemäßen Verfahrens liegt darin, daß thermoplastische Materialien
ohne Klebrigkeit bei Raumtemperatur als Schicht aus der
lichtempfindlichen Masse und Abschälentwicklungsträgerblatt verwendet werden und daß sie unter Druck erhitzt
werden, um die für die Abschälentwicklung erforderliche Haftungsfestigkeit zu erzielen und die vorstehend aufgeführten
zur Erzielung guter Reliefbilder notwendigen Bedingungen zu erreichen.
Da die Schicht aus der lichtempfindlichen Masse keine Klebrigkeit bei Raumtemperatur besitzt, haften die durch
Aufziehen der lichtempfindlichen Masse auf einen Träger erhaltenen lichtempfindlichen Bildausbildungsmaterialien
nicht aneinander während der Handhabung und es ist kein Abdeckblatt oder keine Schutzschicht zur Verhinderung
der Haftung im Gegensatz zu dem in der japanischen Patentveröffentlichung 9663/63 beschriebenen Verfahren und zahlreichen
weiteren bekannten Verfahren unter Einschluß der Anwendung von photopolymerisierbaren Massen notwendig.
90982 8/0622
ίβ 2852739
Es ist auch unnötig, ein Deckblatt zum Zeitpunkt der Belichtung aufzulegen, und das lichtempfindliche Bildausbildungsmaterial
kann in einem Zustand der vollständigen Haftung an ein Dia, d.h. in innigem Kontakt mit dem Dia,
gehalten werden. Dies bringt den Vorteil mit sich, daß die Abnahme der Auflösung durch Streuung oder Reflektion
von Licht während der Belichtung auf einem Minimum gehalten werden kann.
Falls beispielsweise die vorliegende Erfindung auf die Herstellung von lithographischen Druckplatten angewandt
wird, ergibt sich ein Verfahren zur Trockenbehandlung nach der Belichtung eines Bildausbildungsmaterials,
das in der gleichen Form wie die gegenwärtig im allgemeinen Gebrauch befindlichen vorsensibilisierten Druckplatten
(PS-Platten) sein kann.
Ein weiteres Merkmal des erfindungsgemäßen Verfahrens liegt in der großen Vielzahl von lichtempfindlichen
Materialien, welche zur Ausbildung der lichtempfindlichen Bildausbildungsschicht eingesetzt werden können.
Durch geeignete Wahl und Kombination von Binder, Träger, Abschalentwicklungstragerblatt, Erhitzungstemperatur und
Abschältemperatür können beim erfindungsgemäßen Verfahren
zahlreiche lichtempfindliche Substanzen verwendet werden, die bisher nicht als geeignet zur Bildausbildung durch
Abschälentwicklung bekannt sind.
Die Erfindung betrifft auch ein Verfahren zur Ausbildung eines Reliefbildes durch Trockenbehandlung eines
Bildausbildungsmaterials mit einer lichtempfindlichen Bildausbildungsschicht, die bei Raumtemperatur nichtklebend
ist. Der hier angewandte Ausdruck "gewöhnliche Temperatur" oder "Raumtemperatur" bezeichnet Temperaturen,
die häufig in der natürlichen Umgebung auftreten und
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liegt im Bereich von etwa 5 C bis etwa 40°C.
Die wichtigste Aufgabe der Erfindung besteht in der Erzielung eines Reliefbildes auf einem Träger durch
Trockenbehandlung eines lichtempfindlichen Bildausbildungsmaterials, welches bei gewöhnlichen Temperaturen
nicht-klebend ist und welches infolgedessen kein Deckblatt oder dergleichen während der Lagerung oder Belichtung
benötigt. Zur Erzielung dieser Aufgabe muß die Bildausbildungsschicht eine Erweichungstemperatur von
mindestens 1O0C höher als Raumtemperatur besitzen. Andererseits
wird bei der Trockenentwicklung gemäß der Erfindung die Änderung der Haftungsfestigkeit zwischen der lichtempfindlichen
Bildausbildungsschicht und em Abschälentwicklungsträger auf Grund von Erhitzen ausgenützt. Ein gewöhnliches
Klebband, welches bei gewöhnlicher Temperatur klebrig ist, nimmt hinsichtlich der Haftungsfestigkeit beim
Erhitzen ab und die Klebschicht selbst er,leidet eine Kohäsionszerstörung. Deshalb ist ein derartiges Klebband im
Rahmen der Erfindung nicht sehr geeignet.
Die klebende Oberfläche des Abschälentwicklungstragblattes, welches innig an der lichtempfindlichen Bildausbildungsschicht
bei der Abschälentwicklung anhaften soll, muß eine geeignete Klebfestigkeit besitzen, um die belichteten
oder unbelichteten Bereiche der lichtempfindlichen Schicht bei der Abschälentwicklungstemperatur zu entfernen
und darf keine Kohäsionszerstörung erleiden. D.h. das belichtete Bildausbildungsmaterial und das Abschälentwicklungsträgerblatt
müssen einen Erweichungspunkt von mindestens 50°C besitzen.
Die vorliegende Erfindung liefert ein Verfahren zur Erzielung der vorstehenden Aufgaben bei geeigneter Wahl
einer geeigneten Kombination aus lichtempfindlicher Substanz,
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285 j."39.
Binder, Träger und Abschälentwicklungsträgerblatt und
Wärmebindungstemperatur und Abschältemperatur. Verschiedene Untersuchungen führten zu der Feststellung, daß es
bei der praktischen Ausübung des erfindungsgemäßen Verfahrens
wichtig ist, daß die klebende Oberfläche des Abschälentwicklungsträgers einen Erweichungspunkt von
mindestens 50 C besitzt.
Die Nichtklebrigkeit des Abschälentwicklungsträgers bei gewöhnlicher Temperatur ist sehr vorteilhaft für solche
Arbeitsgänge wie Aufwickeln und Positionsfeststellung.
Die einfachste und genaueste Maßnahme, um den Abschälentwicklungsträger
in innigen Kontakt mit der Bildausbildungsschicht unter Erwärmen zu bringen, besteht darin,
diese zwischen einer Mehrzahl von Heizwalzen durch zuführen. Es gibt verschiedene andere verfügbare Verfahren
wie Druckhaftung mittels anderer Maßnahmen als Walzen, eine Kombination von Erhitzung durch thermische Strahlung
und Druckhaftung, die Anwendung von Heißluft und das Erhitzen durch überhitzte Fließmittel wie Wasser oder Öl.
Die Abtrennung des Abschälentwicklungsträgers und der Bildausbildungsschicht nach der Haftung unter Erwärmen
kann gleichfalls nach verschiedenen Maßnahmen ausgeführt werden. Wie bei den anderen Abschälentwicklungsverfahren
beeinflußt die Geschwindigkeit des Abschälens und der zwischen dem Abschalentwicklungsträger und der Bildausbildungsschicht
zum Zeitpunkt der Abschälung ausgebildete Winkel (Abschälwinkel) die Ausbildung der Bilder. Obwohl
es schwierig ist, den genauen Bereich der Abschälgeschwindigkeit und des Abschälwinkels zu bestimmten, liegt die Geschwindigkeit
des Abschälens allgemein im Bereich von 0,1 cm/sec bis 100 cm/sec, vorzugsweise 0,5 cm/sec bis
20 cm/sec und der bevorzugte Abschälwinkel beträgt 15°
bis 160°.
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Die erfindungsgemäß eingesetzten Einzelbestandteile sind nachfolgend im einzelnen unter Bezugnahme
auf spezifische Beispiele erläutert.
Die erfindungsgemäß eingesetzte Schicht aus der lichtempfindlichen Masse enthält eine lichtempfindliche
Substanz, die photochemisch bei Bestrahlung mit aktinischem Licht reagiert, und einen Binder als wesentliche Bestandteile.
Gegebenenfalls enthält die Masse Zusätze zur Verwendung zur Erzielung einer Lagerungsstabilität für die
lichtempfindliche Verbindung, Färbungsmittel und zur Begünstigung der Abschälentwicklung und für weitere Zwecke.
Die erfindungsgemäß eingesetzte Masse kann die bekannten auf dem Fachgebiet eingesetzten lichtempfindlichen Substanzen
enthalten. Spezifisch lassen sich diese wie folgt unterteilen:
Die erste Gruppe umfaßt lichtzersetzbare Verbindungen wie Diazoniumsalze, o-Chinondiazidverbindungen und aromatische
Azidverbindungen. Spezifische Beispiele derartiger Verbindungen für die Fachleute sind beispielsweise in
J. KosarjLight-Sensitive Systems, John Wiley & Sons, Inc.,
New York (1965), S. 194 bis 357 angegeben.
Die zweite Gruppe umfaßt lichtempfindliche Massen vom freien Radikaltyp, die aus Polyhalogenverbindungen
wie Jodoform, Tetrabromkohlenstoff, ö£, Οέ,ο^-Tribromacetophenon
und Tribrommethylphenylsulfon als lichtempfindliche Substanz in Kombination mit Diphenylamin, Naphthol, Phenol
und dergleichen bestehen. Spezifische Beispiele sind beispielsweise in der japanischen Veröffentlichung Manual
of Photographic Techniques, Bd. 1, Takashi Yamamoto, einem Spezialband von Photographic Industry, Photographic Industry
Press (1977) auf S. 192 bis 204 angegeben.
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ORIGINAL INSPECTED
ORIGINAL INSPECTED
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Eine dritte Gruppe umfaßt lichtempfindliche Massen, welche Chinone als lichtempfindliche Substanz enthalten,
die in einem Verfahren zur Ausbildung eines Bildes durch Reduktion eines Metallkomplexsalzes oder Oxides unter Erwärmung
durch das bei der Photoreduktion von Phenanthrachinon,
Naphthochinon, Benzochinon und dergleichen gebildete Hydrochinon verwendet wird. Beispiele für Metallkomplexsalze
umfassen organische Tellurverbindungen und Kobalt-III-Komplexsalze,
die in der japanischen Patentanmeldung 139722/75 beschrieben sind.
Eine vierte Gruppe umfaßt lichtempfindliche Polymere
oder Photowiderstände. Beispiele dieser Gruppe sind beispielsweise in Manual of Photographic Techniques, ibid, Bd.1
von Tsuguo Yamaoka, einem Spezialband von Photographic Industry, ibid, S. 172 bis 191 und Revised Edition, Photosensitive Resins von Takahiro Sumida, Publishing Department
of Japanese Society of Printing, 1976, beschrieben.
Spezifische Beispiele umfassen photohärtbare lichtempfindliche Materialien, welche Diazoniumsalze oder aromatische
Bisamidverbindungen als lichtempfindliche Verbindungen, lichtempfindliche Bichromatsalz-Kolloid-Materialien, Polymere
mit lichtempfindlichen Gruppen und lichtempfindliche Bildausbildungsmassen auf der Basis der Photopolymerisation
oder Photovernetzung von Verbindungen mit Vinylgruppen unter Anwendung einer Carbonylverbindung, eines Peroxids,
einer Schwefelverbindung, einer Halogenverbindung, eines Photoredoxsystems und dergleichen als Initiator. Die vierte
Gruppe umfaßt auch Vinylcinnamat und Polyvinylcinnamylidenacetat.
Die fünfte Gruppe umfaßt lichtempfindliche Materialien, die Silberhalogenid enthalten, welche bei den gewöhnlichen
photographischen Silberhalogenidverfahren eingesetzt werden.
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Eine sechste Gruppe umfaßt lichtempfindliche organische
Silberhalogenid, wie sie beispielsweise in den japanischen Patentveröffentlichungen 4921/68 und 4924/68
beschrieben sind.
Brauchbare aromatische Diazoniumverbindungen entsprechend der allgemeinen Formel
ArN2 +X"
worin N2 eine Diazoniumgruppe (-N~"=N+), Ar einen zur Bildung
stabiler lichtempfindlicher Diazoniumverbindungen den Fachleuten geläufigen aromatischen Anteil und X ein
Anion bedeuten. Diese Verbindungen sind den Fachleuten geläufig und beispielsweise in J.Kosar, Light-Sensitive
Systems, John Wiley & Sons, Inc., New York, N.Y. (1965), S. 202 bis 214 und Glafkides, Photographic Chemistry,
Bd. II, Fountain Press, London, England (1960). S. bis 725,beschrieben.
Einige der Diazoniumsalze der allgemeinen Formel ArN2X sind nachfolgend spezifisch aufgeführt.
(1) Diazoniumsalze mit einer als N-substituierte Aminogruppe eingeführten Dialkylaminogruppe in der vorstehenden
Formel:
4-(N,N-Diäthylamino)benzoldiazoniumsalz, 4-(N,N-dimethylamino)benzoldiazoniumsalz,
2-Methyl-4-(N,N-diäthylamino)benzoldiazoniumsalz, 2-Chlor-4-(N,N-diäthylamino)benzoldiazoniumsalz.
(2) Diazoniumsalze mit einer als N-substituierte Aminogruppe eingeführten Dialkylaminogruppe der vorstehenden
Formel, wobei die beiden Alkylgruppen voneinander unterschiedlich sind: 9098?8/0622
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4-(N-Methyl-N-äthylamino)benzoldiazoniurasalz.
(3) Diazoniumsalze mit einer als N-substituierte
Aminogrüppe eingeführten Phenylamlrsogruppe der vorstehenden
Formel:
4-(N-äthyl-N-benzylamino)bensoldiazoniumsalz,
4-Anilinobenzoldiazoniumsalz.
(4) Diazoniumsalze mit einer als N-substituierte
Aminogrüppe eingeführten heterocyclischen Gruppe der vorstehenden Formel:
4-MorpholinobenzoldiazoniumsaLz,
2,5-Dibutoxy-4-morpholinoben.söldiazoniumsalz,
2,5-ISmethaxy-4-morpholinObeazoldiazoniumsalz,
2, S-Diäthoxy^-morpholinobenzoldiazoniumsalz,
3-Methyl-4-pyrrolidinylbenzoldiazoniumsaIz.
(5) Diazoniumsalze mit S—substituierten 4-Mercaptogruppen:
4-Äthylmercapto-2,5-diäthoxybenzoldiazoniumsalzi
^-Tolylmercapto^jS-diäthoxybenzoldiazoniumsalz.
Die erfindungsgemäß einsetzbaren Diazoniumsalze sind weiterhin durch ihre Strukturen klassifiziert und nachfolgend
aufgeführt.
Eine erste Gruppe umfaßt solche der allgemeinen Formel, worin Ar eine N-substitiixerte 4-Aminobenzoldiazoniumgruppe,
eine N,N-substitaierte 4-amino-substituierte Benzoldiazoniumgruppe oder eine S-substituierte
4-Mercaptobenzoldiazoniumgruppe and X ein Anion bedeuten.
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Die N-substituierten Aminogruppen umfassen beispielsweise
eine Dialkylaminogruppe, eine Dialkylaminogruppe mit zwei voneinander unterschiedlichen Alkylgruppen, wobei
Beispiele für die Alkylgruppen Methylgruppen, Äthylgruppen, Isopropylgruppen und dergleichen sind, eine
Phenylaminogruppe oder eine heterocyclische Gruppe wie
eine Morpholino-, Piperidino-, Piperazinyl- oder Pyrrolidinylgruppe.
Der Benzolring kann weiterhin durch eine Alkyl-, Alkoxy-, Phenoxy- oder Trifluormethylgruppe oder ein
Halogenatom substituiert sein. Die substituierte Mercaptogruppe kann eine Alkylthio- oder eine Arylthiogruppe umfassen,
wobei die Alkylgruppen die gleiche Bedeutung wie vorstehend bei den Alkylaminogruppen haben. Beispiele
für das Anion sind solche von Meta11halogeniden wie Zinkchlorid
oder Zinnchlorid, Borverbindungen wie Tetrafluorborat oder Tetraphenylborat, Perchlorsäure, organische
Säuren wie p-Toluolsulfonsäure, Hexafluorphosphat, Hexafluorarsenat
und Hexafluorantimonat. Sie bilden normale Salze oder Doppelsalze mit den vorstehenden Diazoniumverbindungen
und tragen zu einer Erhöhung der Löslichkeit der Diazoniumsalze in organischen Lösungsmitteln oder zur
Stabilität bei deren Lagerung bei.
Die erste Gruppe der Diazoniumsalze umfaßt auch Polymere, welche durch Polykondensation von Diazodiphenylamin
und Formaldehyd erhalten wurden. Ein spezifisches Beispiel ist ein Polymeres der folgenden Struktur:
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ORIGINAL INSPECTED
N = NX"
CIL
η > 1
Die erste Gruppe umfaßt auch ortho- oder para-Chinondiazide.
Spezifische Beispiele sind die folgenden:
Naphthalin-1,2-diazooxid-4-sulfonsäure
R,
SO2-N- R1
worin R. ein Wasserstoffatom, eine Alkylgruppe,
beispielsweise Methyl-, Äthyl-, Propyl-, Isopropylgruppe und dergleichen, oder eine Aralkylgruppe, beispielsweise
Benzyl-, Phenathylgruppe und dergleichen, und R2 eine
Arylgruppe, beispielsweise Phenyl-, ToIyI-, Äthylpheny1-,
Naphthylgruppe und dergleichen, bedeuten;
SO3R3
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worin R- eine Alkoxygruppe, beispielsweise Methoxy-, Äthoxy-, Propoxygruppe und dergleichen, Aryloxygruppe,
beispielsweise Phenoxygruppe, Tolyloxygruppe und dergleichen, Alkylaminogruppe, beispielsweise Methylamino-,
Äthylamino-, Dimethylamino-, Diäthylaminogruppe und dergleichen, Aralkylaminogruppe, beispielsweise Benzylamino-,
Dibenzylaminogruppe und dergleichen, oder Carboxyalkoxyalkylgruppe, beispielsweise eine Carboxymethoxymethy!gruppe
und dergleichen bedeuten;
SO2-N-Y-Z-SO2
worin X1 und X2 die Gruppen N2 oder 0 angeben, Y eine
Arylengruppe, beispielsweise Phenylen-, Naphthylengruppe und dergleichen oder eine Alkylengruppe, beispielsweise
Methylen-,Äthylen-,Trimethylen-, Tetramethylengruppe und
dergleichen, Z eine Gruppe 0 oder -NR-, worin R. ein Wasserstoffatom,
eine Alkylgruppe wie z.B. Methyl-, Äthyl-, Propyl-, Isopropylgruppe und dergleichen oder eine Arylgruppe,
z.B. eine Phenyl-, ToIyI-, Äthylphenyl-, Naphthylgruppe
und dergleichen darstellt, bedeuten.
Besonders brauchbare Diazoniumsalze zur Anwendung beim erfindungsgemäßen Verfahren sind solche, die relativ
hohe Löslichkeiten in organischen Lösungsmitteln besitzen und die in einer relativ hohen Konzentration bezüglich
des Binders bei der Bildung einer Lösung der lichtempfindlichen Bildausbildungsmasse in einem organischen Lösungsmittel
zusammen mit dem Binder verwendet werden können, wie nachfolgend abgehandelt.
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ti
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Üblicherweise stehen zwei Maßnahmen zur Verfügung, um diese Bedingungen zu erreichen. Die erste Maßnahme
besteht darin, das Diazoniumkation der Formel ΑγΝΛΪ·' in
der allgemeinen Formel ArNiUXvI/ oleophil oder weniger
hydrophil beispielsweise durch Einführung einer Alkoxygruppe in den aromatischen Ring zu machen. Die zweite
Maßnahme besteht darin, den anionischen Anteil X vl/ oleophil
oder weniger hydrophil zu machen, und zu diesem Zweck
werden Tetraphenylborat, Tetrafluorborat, Hexafluorphosphat, Hexafluorarsenat, p-Toluolsulfonsäure und Hexafluorantimonat
anstelle der Metallhalogenide, wie sie üblicherweise eingesetzt werden, verwendet. Diese Verbindungen
formen Doppelsalze zusammen mit den Diazoniumkationen und
erhöhen deren Löslichkeit in organischen Lösungsmitteln.
Infolgedessen kann sogar, falls ein im organischen Lösungsmittel lösliches Polymeres als Binder verwendet
wird, das Verhältnis des Diazoniumsalzes zu dem Binder auf beispielsweise 1:5 oder 1:1 erhöht werden und eine
hohe Konzentration des lichtempfindlichen Materials kann erhalten werden. Dadurch wird die leichte Bildausbildung
markant erhöht.
Die Diazoniumsalze können auch solche sein, die nach
bekannten Verfahren polymer gemacht wurden. Ein Beispiel ist das sogenannte Diazoharz, welches durch Polykondensation
von p-Dxazpdiphenylamin mit Formaldehyd erhalten wurde.
Die Diazoniumsalze können auch zusammen mit Verbindungen,
welche zur Umsetzung mit Diazoniumsalzen unter Bildung von Farbstoffen oder zur Stabilisierung derselben
fähig sind, zugesetzt werden, wie sie für die Fachleute als Diazokuppler bekannt sind. Falls ein Diazokuppler
zusammen mit dem Diazoniumsalz vorliegt, wird es möglich,
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eine Kupplungsreaktion nach der Ausbildung des Reliefbildes auf dem Träger auszuführen und dadurch die Diaz
oniumver bindung nicht-empfindlich zu machen. Dadurch wird das Bild gegenüber Licht oder Wärme stabilisiert
und wird dauerhafter.
Derartige Diazokuppler können solche sein, die gleichzeitig eine Farbbildungsreaktion einleiten, können jedoch
auch solche sein, welche lediglich die Diazoniumverbindungen nicht-empfindlich machen, d.h. diese fixieren.
Solche mit einem hohen Molekulargewicht werden besonders zur Bildung von starken Bildern bevorzugt.
Beispiele derartiger Diazokuppler sind beispielsweise auf den Seiten 215 bis 248 der vorstehenden Literaturstelle
J.Kosar, Light-Sensitive Systems beschrieben.
Erfindungsgemäß einsetzbare aromatische Azidverbindungen sind solche der allgemeinen Formel N3-RCH=CH-R1, worin R
eine Phenylengruppe und R. eine Acylgruppe oder eine Azidarylgruppe
bedeuten. Derartige Verbindungen sind den Fachleuten beispielsweise aus J.Kosar, Light-Sensitive Systems,
John Wiley & Sons, Inc., New York (1965), S.198 bis 202 bekannt.
Zu einer anderen Gruppe gehörende brauchbare Azidverbindungen sind die auf den Seiten 93 bis 97 von Photo-Sensitive
Resins, Revised Edition von Takahiro Tsunoda, Publishing Department of the Japanese Society of Printing,
1975 beschriebenen Verbindungen. Spezifisch gehören hierzu 2,6-Dichlor-4-nitro-azidobenzol, Azidodiphenylamin, 3,3'-Dimethoxy-4,4'-diazidodiphenyl,
4·-Methoxy-4-azidodiphenylamin,
4,4'-Diazidodiphenylamin, 4,4'-Diazidodiphenylmethan,
4'-Nitrophenylazobenzol-4-azid, 1-Azidopyren, SjS'
4,4'-diazidodiphenyl, 4,4'-Diazidophenylazonaphthalin,
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- vr -
9 8 c; ?"' A Q
4 y >.·' ί. ' <j <J
p-Phenylenbisazid, p-Azidobenzophenon, 4,4'-Diazidobenzophenon,
4,4'-Diazidochalcon, 2,6-Di-(4'-azidobenzal)-cyclohexan
und 2,6-Di-(4'-azidobenzal)-4-methylcyclohexanon.
Außer Jodoform, Tetrabromkohlenstoff und Pentabromäthan sind auch Verbindungen der folgenden Formel als
Polyhalogenverbindungen wertvoll:
0 Br
worin ß- ein Wasserstoffatom oder einen oder mehrere
gleiche oder unterschiedliche Substituenten am Benzolring bedeutet. Die Substituenten können Nitrogruppen, Halogengruppen,
Alkylgruppen, beispielsweise Methyl-, Äthyl-, Isopropylgruppen und dergleichen, Halogenalkylgruppen,
Acetylgruppen, Halogenacetylgruppen oder Alkoxygruppen, beispielsweise Methoxy-, Äthoxygruppen und dergleichen
sein, während χ eine ganze Zahl von 1 bis 5 bedeutet.
Spezifische Beispiele für Verbindungen der vorstehenden allgemeinen Formel sind o-Nitro- Ot, Oi ,©t-tribromacetophenon,
2-Chlor-4-nitro-0£,oc)o£-tribromacetophenon und
2,4-Dinitro- Oi, Oi,OC-tribroma cetophenon.
Ein Bildausbildungsverfahren unter Anwendung von Silberhalogenid als lichtempfindliche Substanz ist das,
welches im höchsten Ausmaß als übliches photographisches Verfahren beendet ist und besitzt eine hohe Lichtempfindlichkeit
und ergibt Bilder mit ganz ausgezeichneter Qualität. Im Rahmen ausgedehnter Untersuchungen über den
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ψί-
Binder, das Abschalentwxcklungsblatt und die Abschälentwicklungsbedingungen,
falls ein Silberhalogenid als lichtempfindliche Substanz beim erfindungsgemäßen Verfahren
eingesetzt wird, wurde gefunden, daß sämtliche Silberhalogenide, die die folgenden Erfordernisse erfüllen,
beim erfindungsgemäßen Verfahren eingesetzt werden können.
Im allgemeinen wird in der photographischen Industrie das Silberhalogenid in einem Zustand hergestellt, wo die
feinen Kristalle des Silberhalogenides in Gelatine dispergiert sind, als sogenannte photographische Emulsion.
Falls Gelatine als Dispergiermedium dient, ist es ziemlich
schwierig, die Silberhalogenide beim erfindungsgemäßen Verfahren einzusetzen, da die erhaltene lichtempfindliche
Masse auf Gelatinebasis keine thermoplastische Eigenschaft besitzt. Jedoch können Silberhalogenide für das
erfindungsgemäße Verfahren nach einem der folgenden Verfahren eingesetzt werden.
Das erste Verfahren besteht darin, daß feine Kristalle des Silberhalogenides durch Hydrolyse oder durch Abscheidungsabtrennung
aus Gelatine in einem Zustand gewonnen werden, worin die feinen Kristalle des Silberhalogenides von
der Gelatine getrennt sindjUnd dann werden die in dieser
Weise gewonnenen feinen Silberhalogenidkristalle in einem frischen thermoplastischen Binder erneut dispergiert, welcher
für das erfindungsgemäße Verfahren geeignet ist, beispielsweise Polyvinylbutyral, worauf diese Dispersion dann
beim Verfahren eingesetzt wird.Ein Alternativverfahren besteht darin, daß die Menge der Gelatine als Dispergiermedium
für die feinen Kristalle des Silberhalogenides entsprechend gesteuert wird und ein thermoplastisches mit
Gelatine verträgliches Polymeres z.B. Polyvinylalkohol, Polyäthylenglykol, Polymethacrylsäure und dergleichen oder
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2BIiZlBB
ein Zusatz, z.B. ÄthylenglykoljGlycerin, eine Fettsäure
und dergleichen hiermit vermischt werden, um der Masse insgesamt thermoplastische Eigenschaften zu erteilen.
Die Anwendung derartiger Silberhalogenidfeinkristalle
bei dem Bildausbildungsverfahren gemäß der Erfindung hat verschiedene Vorteile. Der wichtigste Vorteil liegt in der
hohen Lichtempfindlichkeit, die das Silberhalogenid besitzt. Damit derartige Vorteile verstärkt werden, können
Massen, die einer sogenannten Wärmeentwicklung unterworfen wurden, als lichtempfindliche Masse eingesetzt
werden. Beispiele derartiger Silberhalogenidmassen vom Wärmeentwicklungstyp sind beispielsweise in den US-Patentschriften
3 041 170 und 3 649 280 angegeben. Geeignete Beispiele für bahnartige Träger für die Abschälentwicklung,
die für ein System mit Silberhalogenid als lichtempfindlicher Substanz geeignet sind, sind Fuji-Laminat-FiIm (ein
zweischichtiger Laminatfilm, der aus einem Polyesterfilm (Polyäthylenterephthalat) und einem thermoplastischen
Ionomeren (Produkt der Fuji Photo Film Co.,Ltd.) besteht), Polyesterfilme, Nylonfilme (Polyamidfilme) und
Polyimidfilme. Falls der Binder ein Polymeres mit einem
stark hydrophilen Charakter enthalt, beispielsweise Gelatine, kann ein gutes Ergebnis erhalten werden, wenn die
Oberfläche des Abschälentwicklungsblattes durch elektrische
Entladungsbehandlung oder Coronaentladungsbehandlung hydrophil gemacht wird oder eine dünne Schicht eines hydrophilen
Polymeren ausgebildet wird.
Der Mechanismus der Bildausbildüng bei Anwendung eines Bildausbildungsmaterials, welches eine lichtempfindliche
Masse mit dem Gehalt einer photographischen Silberhalogenidemulsion enthält, ist völlig unklar. Es kann jedoch
angenommen werden, daß das auf Grund der Schwärzung des Silberhalogenides freigesetzte Halogen eine gewisse
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Rolle während der Wärmebehandlung spielt.
Verschiedene filmbildende Verbindungen können als Binder zur Anwendung in der Schicht aus der lichtempfindlichen
Masse eingesetzt werden. Speziell sind Polymere mit guter Filmbildungseignung wertvoll. Wie nachfolgend
gezeigt wird, liegt ein Merkmal des erfindungsgemäßen Verfahrens darin, daß ein sehr breiter Bereich von Verbindungen
eingesetzt werden kann. Es ist jedoch notwendig, die besten Binder zur Ausbildung der Bildausbildungsmaterialien
unter Ausnützung der Verträglichkeit mit den lichtempfindlichen Verbindungen, der Stabilität
der lichtempfindlichen Schicht, der Haftung an dem Träger und anderen Eigenschaften als Kriterien auszuwählen.
Beispiele für geeignete polymere Bindermaterialien umfassen thermoplastische lineare Polymere wie Polyvinylbutyral,
Polyvinylformal, Polystyrol, Polymethylmethacrylat,
Polyvinylacetat, Polyester, Polyamine, Polyurethane und Polyamide, binäre Copolymere wie Vinyliden/Acrylnitril-Copolymere,
Styrol/Acrylnitril-Copolymere, Vinylmethyläther/Maleinsäureanhydrid-Copolymere,
Vinylacetat/Maleinsäureanhydrid-Copolymere, Vinylchlorid/Vinylacetat-Copolymere
oder Vinylchlorid/Styrol-Copolymere und ternäre oder quaternäre Copolymere, die weitere dritte oder vierte
Comonomere enthalten. Teilweise vernetzte wasserlösliche Polymere wie Gelatine, Polyvinylalkohol oder Polyvinylpyrrolidon
und Verbindungen, die von sich aus nicht thermoplastisch sind wie Epoxyharze, können verwendet
werden, wenn sie durch Vermischen mit thermoplastischen Bindern oder anderen Zusätzen modifiziert werden, die
eine Wärmeerweichbarkeit an die Schicht aus der lichtempfindlichen
Masse erteilen.
Polyäthylenglykol, Kolophonium oder Naturwachse und Wachse, die eine schlechte Filmbildungseignung be-
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ORIGINAL INSPECTED '-'ΐ>>:'Ζ
is
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sitzen, können als Binder verwendet werden, jedoch sollten
sie vorzugsweise mit weiteren polymeren Bindern eingesetzt werden, um die Wärmeerweichbarkeit der Schicht
aus der lichtempfindlichen Masse zu erhöhen. Diese polymeren Substanzen können auf den Träger als Lösung oder
in wässrigen oder organischen Lösungsmitteln als Latex dispergiert aufgezogen werden. Beispiele für thermoplastische
Polymere, die besonders für den in den lichtempfindlichen Massen gemäß der Erfindung verwendeten Binder geeignet
sind, umfassen Vinylidenchlorid, Vinylidenchlorid/Acrylnitril-Copolymere,
Polyvinylbutyral und dergleichen. Wenn die Klebkraft des Binders zu dem bahnartigen
Abschälentwicklungsträger bei der angewandten Abschälentwicklungsbehandlungstemperatur
zu schwach ist,kann ein gutes Ergebnis erhalten werden,wenn weiterhin auf der
Schicht aus der lichtempfindlichen Masse ein Material ausgebildet wird, welches bei. einer relativ niedrigen Temperatur
thermoplastisch ist und Klebrigkeit oder Haftung zeigt, beispielsweise Polyvinylbutyral.
Ferner kann Polyvinylalkohol, der einen hydrophilen Binder darstellt, mit Vorteil verwendet werden, wenn die
verwendete lichtempfindliche Substanz hydrophil ist. In einem derartigen Fall kann ein hydrophobes Polymeres zum
Aufziehen in Latexform verwendet werden.
Bei Raumtemperatur flüssige oder viskose Plastifizierer
können in Mengen zugesetzt werden, die die Form der Schicht aus der lichtempfindlichen Masse nicht schädigen.
Die Abschälentwicklung gemäß der Erfindung kann auch
durch Zugabe von organischen oder anorganischen feinen Pulvern wie kolloidaler Kieselsäure, Stärke, Ruß, Glaspulvern
oder Metallpulvern bewirkt werden.
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Entsprechend dem Zweck der Anwendung der nach der Abschälentwicklung erhaltenen Reliefbilder kann die
Schicht aus der lichtempfindlichen Masse auch Pigmente oder Farbstoffe, feine Metallpulver und magnetische Materialien
oder fluoreszierende Substanzen in Form eines molekular dispergierten Zustandes oder als Kristalle oder
als feine Pulver enthalten.
Die Stärke der Schicht aus der lichtempfindlichen Masse beträgt allgemein 0,5 μαη bis 500jutm, vorzugsweise
bis 100 um.
Der zum Tragen der lichtempfindlichen Masse beim erfindungsgemäßen
Verfahren eingesetzte Träger kann aus irgendeinem flachen Material bestehen, beispielsweise aus einem
Metallblech wie Aluminium, Stahl, Zink, Eisen, rostfreiem Stahl und Messing oder aus harten nicht-flexiblen
Materialien wie Glas, Keramik, Holz oder Kunststoff und flexiblen Materialien wie Papier, Kunststoffilmen, Fasermaterialien
und vakuum-abgeschiedenen Filmen. Sämtliche derartige Träger können weiterhin an ihren Oberflächen
durch Überziehen, Vakuumabscheidung, Beschichtung, Polieren, Körnung, Elektrodenreaktion, elektrische Entladung,
Erhitzen oder andere bekannte Maßnahmen vorbehandelt sein.
Entsprechend dem Zweck der Anwendung des lichtempfindlichen Materials können diese Träger transparent, nichttransparent oder mit Farbstoffen oder Pigmenten gefärbt
sein.
Es besteht keine spezielle Beschränkung hinsichtlich der Stärke oder Gestalt des Trägers. Im Fall eines Filmes,
einer Folie oder eines Blattes liegt die Stärke im allgemeinen zwischen etwa 10 juun und einigen Zentimetern. Solche
mit Stärken außerhalb dieses Bereiches können gleichfalls
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eingesetzt werden, falls sie ein Aufziehen und eine Verbindung und eine Abschälung zum Zeitpunkt des Erhitzens
erlauben.
Die beim erfindungsgemäßen Verfahren eingesetzten
Abschälentwicklungstrager können transparent oder nichttransparent
sein, sofern sie flexibel sind und eine geeignete Haftung an der Schicht aus der lichtempfindlichen
Masse zum Zeitpunkt des Erhitzens bei der Abschälentwicklung haben. Verschiedene Arten von Abschälentwicklungsträgemkönnen
nach dem Zweck der Anwendung des erhaltenen Bildes eingesetzt werden. Materialien für derartige Träger
umfassen beispielsweise thermoplastische Filme aus Vinylpolymeren, Polyamiden, Polyestern, Cellulosen, Polyurethanen
oder Polyharnstoffen, Papier, Metallfolien und Tüchern. Schichtfilme und durch Behandlung der Oberflächen derartiger
Materialien beispielsweise durch Überziehen, Vakuumabscheidung, Verbinden, Färben, Erhitzen oder Entladen
zur Modifizierung ihrer Oberflächeneigenschaften wie Härte, Haftung und Rauhigkeit in der gewünschten Weise erhaltene
Materialien.
Das beim erfindungsgemäßen Verfahren verwendete Abschälentwicklungsträgerblatt
kann auch von Schichtstruktur sein. Beispiele für geeignete Schichtgebilde sind diejenigen.,welche
durch Aufschichten einer wärmeerweichbaren Harzschicht mit einem relativ niedrigen Glasübergangspunkt wie
Polyäthylen, Polypropylen, Saran, Polyvinylbutyral, Polybutadien, Polyäthylenoxid, Cellulosetriacetat, Polystyrol,
Polyacrylsäure, Polymethylmethacrylat oder einem in Wärmelaminatfilmen
verwendeten Ionomeren (beispielsweise Surlyn A, Bezeichnung eines Produktes der E.I. du Pont de Nemours & Co.,
USA) auf einem flexiblen filmartigen Träger wie Kunststoffilmen
aus Vinylpolymeren, Polyamiden, Polyestern, Cellulose, Polyurethan oder Polyharnstoff, Papier, Metallfolien und
Tüchern erhalten wurden. Hiervon sind Kompositionsfilme
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mit einer dünnen Schicht eines Ionomeren, z.B. Surlyn A,
oder eines thermoplastischen polymeren Materials, beispielsweise Polyäthylen, die auf einem Polyesterfilm,
beispielsweise aus Polyäthylenterephthalat, oder auf der Oberfläche von Papier, einem Polyvinylchloridfilm
oder einem Polystyrolfilm aufgeschichtet sind, bevorzugte Beispiele für geeignete Abschälentwicklungsträger. Ferner
sind Polyesterfilme beispielsweise aus Polyäthylenterephthalat, oder Celluloseacetat, beispielsweise Cellulosediacetat,
Cellulosetriacetat und dergleichen, Beispiele für geeignete Abschälentwicklungsträger, falls eine
hohe Temperatur als Erhitzungstemperatur gewählt wird. Falls weiterhin das thermoplastische Binderpolymere als
solches, welches in der lichtempfindlichen Masse enthalten ist, eine starke Klebkraft bei der angewandten Erhitzungstemperatur und eine schwache Kohäsionskraft in der Schicht
aus der lichtempfindlichen Masse besitzt, kann Papier als Abschälentwicklungsträger gemäß der Erfindung eingesetzt
werden.
Beim erfindungsgemäßen Verfahren wird der Abschälentwicklungsträger
nach der bildweisen Belichtung der lichtempfindlichen Schicht aufgebracht und infolgedessen
kann der Abschälentwicklungsträger transparent oder nichttransparent oder gefärbt oder mit einem anorganischen
oder organischen Pigment oder mit einem festen Pulver gefüllt sein. Beispielsweise ist ein durch Aufschichten
von TiO2-Pulver auf einen Polyesterfilm unter Anwendung
von Cellulosetriacetat als Binder erhaltener Aufbau ein sehr guter Träger für die Abschälentwicklung.
Die Stärke des Trägers muß ausreichend sein, um die erforderliche Festigkeit zum Abschälen des belichteten
oder unbelichteten Bereiches der Schicht aus der lichtempfindlichen
Masse ohne Bruch zum Zeitpunkt der Abschäl-
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entwicklung zu ergeben. Die einzelne Schicht oder ein beschichteter Kunststoffilm oder ein derartiges Papier
hat allgemein eine Stärke von 1OyUm bis 2 mm, vorzugsweise
von 15^Am bis 0,5 mm.
Beim Wärmebeschichtungsarbeitsgang des erfindungsgemäßen Verfahrens variiert die erforderliche Temperatur
entsprechend dem Aufbau der Schicht aus der lichtempfindlichen Masse und des Abschalentwxcklungsblattes, der Wärmeerweichungstemperatur,
der Kombination der Schicht aus lichtempfindlicher Masse und Entwicklungsblatt und dergleichen.
Wenn die Temperatur zu niedrig ist, haftet die lichtempfindliche Schicht nicht an dem Entwicklungsblatt
an. Selbst wenn sie mit Walzen und dergleichen preßverbunden werden, kann die zur wirksamen Abschälung erforderliche
Haftungsfestigkeit nicht erhalten werden. Falls die Temperatur zu hoch ist, werden die lichtempfindliche
Schicht und das Abschälentwicklungsblatt markant wärmeerweicht und können schließlich Fließfähigkeit annehmen.
Somit können brauchbare Abschälbilder nicht erhalten werden und die Bilder besitzen eine sehr verringerte
Qualität.
Wie sich klar aus der vorstehenden Beschreibung ergibt, sind zur Bildausbildung durch Abschälen die Materialien
und der Aufbau von Träger, lichtempfindlicher Schicht und Abschälentwicklungsblatt und die Kombination
hiervon sehr wichtig und die Entwicklungsbedingungen lassen sich nicht ohne weiteres angeben. Jedoch kann der
Fachmann die optimale Temperatur ohne übermäßige Versuchsarbeit ohne weiteres ermitteln. Im allgemeinen beträgt
jedoch die Wärmebeschichtungstemperafur 50 bis 3000C,
vorzugsweise 80 bis 200°C.
9 0 S π ;/ R / 0 fi 2 2
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Das Abschälentwicklungsblatt und das in dieser Weise wärmebeschichtete lichtempfindliche Bildausbildungsmaterial
werden durch einen Abschälarbeitsgang voneinander getrennt. Die Temperatur zum Zeitpunkt der
Abschälung ist gleichfalls sehr wichtig. Allgemein liegt die Temperatur zum Zeitpunkt der Abschälung unterhalb
derjenigen Temperatur, die 50 C oder höher beträgt, bei der das lichtempfindliche Bildausbildungsmaterial und
das Abschälentwicklungsbild innig aneinander haften und erhitzt werden.
Allgemein tritt,falls die Erweichungstemperatur der Schicht aus der lichtempfindlichen Masse niedrig ist und
die Abschältemperatur höher als die Erweichungstemperatur ist, eine Kohäsionszerstörung der Schicht aus der lichtempfindlichen
Masse auf, wodurch ein Teil des Bereiches der lichtempfindlichen Schicht, der bei der Abschälentwicklung
abzutrennen ist, an dem Träger anhaftet und ein Teil des Bereiches, der am Träger angehaftet verbleiben
soll, an dem Abschälentwicklungsblatt anhaftet. Dadurch wird das Reliefbild unvollständig. Falls die Abschältemperatur
höher als die Erweichungstemperatur der klebenden Oberfläche des Abschälentwicklungsträgerblattes ist,
reißt das Abschälentwicklungsträgerblatt (oder eine Haftschicht, falls eine wärmeerweichbare Schicht auf
einen anderen Träger als Haftungsschicht aufgeschichtet ist) oder erleidet eine Kohäsionszerstörung. Reliefbilder
von guter Qualität können somit nicht erhalten werden.
Selbstverständlich beeinflußt die Haftungsfestigkeit zwischen der Schicht aus der lichtempfindlichen Masse und
dem Träger die Ausbildung der Reliefbilder bei der Abschälung.
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ORldJ NAL "INSPECTED
ORldJ NAL "INSPECTED
(M '
;2852739
Die optimale Abschältemperatur für das erfindungsgemäße Verfahren variiert auch in weitem Umfang entsprechend
der Kombination des tragenden Trägers, der Schicht aus der lichtempfindlichen Masse und dem Abschälentwicklungsblatt.
Allgemein liegt die Abschältemperatur zwischen Raumtemperatur und 2000C, vorzugsweise
zwischen Raumtemperatur und 1500C.
Ausbildungsformen des Aufbaus des erfindungsgemäß eingesetzten lichtempfindlichen Bildausbildungsmaterials
und des Verfahrens zur Bildausbildung gemäß der Erfindung
werden nachfolgend unter Bezugnahme auf die beiliegende Zeichnung erläutert, worin die Fig. 1 bis 3 eine Ausführungsform
des Verfahrens zur Bildausbildung gemäß der Erfindung zeigen und die Fig. 4 und 5 eine weitere Ausbildungsform
des erfindungsgemäßen Verfahrens angeben.
Die Fig* 1 zeigt die Belichtung eines lichtempfindlichen Bildausbildungsmaterials gemäß der Erfindung durch
ein Dia. Das lichtempfindliche Bildausbildungsmaterial aus einem Träger 1 und einer darauf ausgebildeten lichtempfindlichen
Schicht 2 wird bildweise durch das Dia 3 belichtet. In Fig. 2 ist das belichtete Bildausbildungsmaterial
in innigem Kontakt mit dem Abschälentwicklungsträger
unter Erhitzen gezeigt. In Fig. 3 ist die Abtrennung des
Abschälentwicklungsträgers vom Bildausbildungsmaterial gezeigt.
Der belichtete Bereich 21 der lichtempfindlichen
Schicht ist übertragen und haftet an dem Abschälentwicklungsträgerblatt
an und der unbelichtete Bereich 2 verbleibt auf dem Träger, wobei Reliefbilder in beiden Stellungen
gebildet werden.
Die Fig. 4 und 5 zeigen eine weitere Ausführungsform
des erfindungsgemäßen Verfahrens. Das aus der Schicht 2 aus
der lichtempfindlichen Masse und dem Träger 1 bestehende
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HZ
lichtempfindliche Bildausbildungsmaterial wird bildvreise
belichtet und in innigem Kontakt mit dem Abschälentwicklungsträger mit einer wärmeerweichbaren Schicht 4'
unter Erwärmen gebracht (Fig. 4). Anschließend werden sie voneinander getrennt, wodurch der belichtete Bereich 21
der lichtempfindlichen Schicht übertragen wird und an dem Abschalentwxcklungstrager anhaftet und der nicht-belichtete
Bereich 2 auf dem Träger verbleibt, wobei jeweils Reliefbilder in beiden Stellungen gebildet werden
(Fig. 5).
Die folgenden Beispiele erläutern die Erfindung im einzelnen. Es ist jedoch selbstverständlich, daß die Erfindung
in keiner Weise durch diese Beispiele beschränkt ist.
0,2 g 2,5-Dibutoxy-4-N,N-dimethylaminobenzoldiazonium-Zinkchlorid-Doppelsalz
und 2 g eines Novolakharzes (PR 50904, Produkt der Arakawa Rinsan Co., Ltd.) wurden in einem Mischlösungsmittel aus 20 ml N,N-Dimethylformamid
und 20 ml Tetrahydrofuran gelöst und bildeten eine lichtempfindliche Lösung. Die lichtempfindliche Lösung
wurde einheitlich auf ein Aluminiumsubstrat unter Anwendung eines AufStreichers zur Bildung einer Schicht
aus der lichtempfindlichen Masse mit einer Trockenfilmstärke von etwa 4 Mikrometer aufgezogen.Das erhaltene
lichtempfindliche Bildausbildungsmaterial wurde während 10 Sekunden an Licht von einer Hochdruckquecksilberlampe
(100 W) in einem Abstand von 20 cm durch ein positives Dia, woran es innig anhaftete, ausgesetzt. Dann wurde
der Wärmelaminatfilm (Fuji-Laminat-Film, Produkt der Fuji Photo Film Co.,Ltd.) auf das belichtete Bildaus-
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ORIGfNAlI
ORIGfNAlI
♦3
^2852733
bildungsmaterial gelegt und die Anordnung zwischen Heizwalzen,
die bei einer Walzentemperatur von 1300C gehalten wurden, zur Wärmebeschichtung geführt. Unmittelbar
anschließend wurde der Laminatfilm von dem Bildausbildungsmaterial abgetrennt.
Ein positives Reliefbild von guter Qualität, das aus dem unbelichteten Bereich der Schicht aus der lichtempfindlichen
Masse bestand, wurde auf dem Aluminiumsubstrat erhalten. Andererseits wurde ein negatives Reliefbild,
das aus dem belichteten Bereich der Schicht aus der lichtempfindlichen Masse bestand, auf dem Entwicklungsträgerblatt
erhalten.
2 g 4-Morpholinobenzoldiazonium-Bortetrafluorid-Doppelsalz
und 2 g eines Copolymeren aus Vinylidenchlorid und Acrylnitril (Saran F-220, Produkt der Asahi-Dow Co.,
Ltd.) wurden in 20 ml N,N-Dimethylformamid zur Bildung
einer lichtempfindlichen Lösung gelöst. Die lichtempfindliche Lösung wurde auf ein Aluminiumsubstrat, das gekörnt
und anodisiert worden war, zur Bildung eines lichtempfindlichen Bildausbildungsmaterials aufgezogen. Das Bildausbildungsmaterial
wurde während 100 Sekunden durch ein positives photographisches Dia, das unmittelbar hieran anhaftete,
an Licht von einer Ilochdrucksquecksilberlampe mit 100 W im Abstand von 20 cm ausgesetzt. Der gleiche
Wärmelaminatfilm wie in Beispiel 1 wurde auf das belichtete Bildausbildungsmaterial aufgelegt und die Anordnung
zwischen Ileizwalzen hindurchgeführt, die bei einer Walzentemperatur
von 1500C gehalten wurden. Die Durchführungszeit betrug etwa 7 Sekunden. Unmittelbar nach dem Durchgang
zwischen den Walzen wurde das Bildausbildungsmaterial von
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ty
28::;:.
dem Entwicklungsträgerblatt abgetrennt. Ein positives Reliefbild von guter Qualität wurde auf dem Aluminiumsubstrat
und ein negatives Reliefbild wurde auf dem Laminatfilm ausgebildet.
Polyvinylbutyral (Denka Butyral 4002, Produkt der Denki Kagaku Kabushiki Kaisha) wurde als Binder anstelle
des in Beispiel 2 eingesetzten Sarans verwendet. Das Verfahren von Beispiel 2 wurde wiederholt und ein positives
Bild von guter Qualität auf dem Aluminiumsubstrat erhalten.
Das Verfahren von Beispiel 2 wurde wiederholt, wobei jedoch ein Styrol/Acrylnitril-Copolymeres als Binder
anstelle von Saran in Beispiel 2 verwendet wurde. Ein positives Bild von guter Qualität wurde auf dem Aluminiumsubstrat
erhalten.
Das Verfahren nach Beispiel 2 wurde wiederholt, wobei jedoch 4-N,N-Dimethylaminobenzoldiazonium-Bortetrafluorid-Doppelsalz
anstelle des in Beispiel 2 eingesetzten Diazoniumsalzes verwendet wurde. Ein negatives
Bild von guter Qualität wurde auf dem Aluminiumsubstrat erhalten.
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ORIGINAL INSPECTED
ORIGINAL INSPECTED
"" 2 8 u:: / 3 9
Ein lichtempfindliches Bildausbildungsmaterial entsprechend Beispiel 5 wurde hergestellt und das Beispiel
5 wurde wiederholt, wobei jedoch nach der Wärmeverbindung die Anordnung eine Zeit lang stehengelassen
wurde, bis sie auf Raumtemparatur abgekühlt war,und wurde dann abgetrennt. Ein positives Bild von guter
Qualität wurde auf dem Aluminiumsubstrat und das entsprechende Negativbild wurde auf dem Abschälblatt gebildet.
Das Verfahren nach Beispiel 2 wurde wiederholt, wobei
jedoch 2 g des Äthyläthers von 2-Diazo-l-naphthol-5-sulfonsäure als lichtempfindlicher Bestandteil gegenüber
dem in Beispiel 2 verwendeten eingesetzt wurde. Ein positives Bild von guter Qualität wurde auf dem Aluminium
substrat erhalten.
Das Verfahren nach Beispiel 2 wurde wiederholt, wobei
jedoch das ^-NjN-Diäthylaminobenzoldiazonium-Bortetrafluorid-Doppelsalz
als lichtempfindlicher Bestandteil anstelle des in Beispiel 2 eingesetzten verwendet wurde.
Ein negatives Bild von guter Qualität wurde auf dem Aluminiumsubstrat
erhalten.
9 O 9 S 7 ο / O ß 2 2
ORIGINAL INSPECTED
ORIGINAL INSPECTED
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2 8 Ξ.":: 3 3
Das Verfahren nach Beispiel 2 wurde wiederholt, wobei jedoch eine nicht-anodisierte glatte Aluminiumplatte als Träger verwendet wurde. Ein positives Reliefbild
von guter Qualität wurde auf dem Aluminiumsubstrat erhalten.
Das Verfahren nach Beispiel 2 wurde wiederholt, wobei jedoch ein Polyathylenterephthalatfilm mit einer
etwa 1000 A dicken, durch Vakuumabscheidung ausgebildeten Aluminiumschicht als Träger anstelle des in Beispiel 2
eingesetzten Trägers verwendet wurde. Ein positives Reliefbild von guter Qualität wurde auf dem abgeschiedenen
Aluminiumfilm erhalten.
Das Verfahren nach Beispiel 2 wurde wiederholt, wobei jedoch ein Polyathylenterephthalatfilm mit einer
Grundierschicht aus Gelatine als Träger anstelle der in
Beispiel 2 eingesetzten Aluminiumplatte verwendet wurde. Ein positives Reliefbild von guter Qualität wurde auf
dem Träger erhalten.
Das Verfahren nach Beispiel 2 wurde wiederholt, wobei jedoch ein Aluminiumsubstrat mit einer aufgezogenen
Schicht aus Polyvinylalkohol mit einer Stärke von 1 Mikrometer als Träger anstelle der in Beispiel 2 eingesetzten
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1 ORIGINAL INSPECTED
1 ORIGINAL INSPECTED
'2852/59
Aluminiumplatte verwendet wurde. Ein positives Reliefbild von guter Qualität wurde auf dem Träger erhalten.
Das Verfahren nach Beispiel 2 wurde wiederholt, wobei jedoch ein photographisches Barytpapier mit einer
Gelatineschicht anstelle der in Beispiel 2 eingesetzten Aluminiumplatte verwendet wurde. Ein positives Bild von
guter Qualität wurde auf dem Barytpapier erhalten.
Das Verfahren nach Beispiel 2 wurde wiederholt, wobei jedoch ein Polyvinylchloridfilm als Abschälblatt
anstelle des in Beispiel 2 eingesetzten Wärmelaminatfilmes verwendet wurde. Ein negatives Bild von guter
Qualität wurde auf dem Aluminiumsubstrat erhalten.
Das Verfahren von Beispiel 2 wurde wiederholt, wobei jedoch ein Polyäthylenterephthalatfilm als Abschälentwicklungsblatt
anstelle des in Beispiel 2 eingesetzten Wärmelaminatfilmes verwendet wurde. Ein positives Bild
von güter Qualität wurde auf dem Aluminiumsubstrat erhalten.
Das Verfahren von Beispiel 2 wurde wiederholt, wobei
jedoch ein Papier mit einem hierauf aufgeschichteten
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ORIGINAL IMSJ?EC,T£D
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Polyäthylenfilm als Abschälblatt anstelle des in Beispiel 2 eingesetzten Wärmelaminatfilmes verwendet
wurde. Ein positives Bild von guter Qualität wurde auf dem Aluminiumsubstrat erhalten.
1 g 4-N,N-Dimethylaminobenzoldiazonium-Bortetrafluorid-Doppelsalz und 3 g eines Vinylidenchlorid/Acrylnitril-Copolymeren
(Saran F-220, Produkt der Asahi Chemical Industry Co., Ltd.) wurden in 45 ml N5N-Dimethylformamid
zur Bildung einer lichtempfindlichen Lösung gelöst. Ein Aluminiumsubstrat mit einer Breite
von 23 cm und einer Länge von 46 cm, welches gekörnt und anodisiert worden war, wurde auf einem AufStreicher befestigt
und mit einer Drehgeschwindigkeit von 100 Umdrehungen/Minute wurden 50 ml der erhaltenen lichtempfindlichen
Lösung auf das Aluminiumsubstrat gegossen. Dann wurde der Überzug mit Heißluft getrocknet und während
100 Sekunden in einem Behälter von konstanter Temperatur bei 100°C wärmegetrocknet, so daß das lichtempfindliche
Druckmaterial erhalten wurde. Die Filmstärke der lichtempfindlichen Schicht dieses lichtempfindlichen Druckmaterials
betrug etwa 4juun. Das Druckmaterial wurde in
engen Kontakt mit einem positiven Testkartenoriginal, das verschiedene Halbtonkeile enthielt, unter Vakuum
kontaktiert und während 20 Sekunden an Licht aus einer 2 kV-Ultrahochdruckquecksilberlampe (Jet Light, Bezeichnung
eines Produktes der Ore Manufacturing Co., Ltd.) in einem Abstand von 50 cm ausgesetzt.
Dann wurde das belichtete Material in innigem Kontakt mit der Beschichtungsseite des Wärmelaminatfilmes
909 828/062
2852/83
gehalten, welcher durch Aufschichten eines thermoplastischen
Ionomeren auf einem Polyäthylenterephthalatfilm (Fuji-Laminat-Film, Produkt der Fuji Photo
Film Co., Ltd.) erhalten worden war, und die Anordnung wurde durch einen kleinen Wärmebeschichter (Fuji
Laminater D-13, Produkt der Fuji Photo Film Co., Ltd.) geführt, der bei einer Walzentemperatur von 1500C
gehalten wurde, um.das lichtempfindliche Material und
den Laminatfilm auf dem Beschichter wärmezuverbinden. Unmittelbar nach dem Durchgang des Materials durch den
Beschichter wurde der Laminatfilm von dem lichtempfindlichen Material abgeschält.
Auf dem Aluminiumsubstrat verblieb lediglich der unbelichtete Bereich der Schicht aus der lichtempfindlichen
Masse und bildete ein positives Reliefbild von guter Qualität. Andererseits war der gesamte belichtete
Bereich der lichtempfindlichen Schicht auf den Laminatfilm übertragen und bildete ein negatives Reliefbild
von guter Qualität.
Die in dieser Weise erhaltene Druckplatte wurde mit einer Gummilösung (Fuji PS Plat Gum Solution GU,
Produkt der Fuji Photo Film Co., Ltd.) gummiert und ein
Versuchsdruck auf einer Offset-Druckpresse (Hamada
Star 600 CD) ausgeführt. Sehr gute Kopien wurden vom
Beginn des Druckes bis zu dem Zeitpunkt, wo die 5000-ste Kopie erhalten worden war, erreicht. Bei Anwendung einer
Halbtonmeßvorrichtung (Veuvac, Produkt der Toyo Ink Mfg. Co. Ltd.) wurde die Reproduzxerbarkext der Halbtöne untersucht.
Es wurde festgestellt, daß ein Original mit 175 Linien/2,5 cm auf der Druckplatte und auf den gedruckten
Kopien über einen Halbtonbereich von 5 % bis
95 Yo wiedergegeben wurde.
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SP
-μ-
I ο j -
>■ ύ
' Eine Tonwiedergabegraphik, welche durch Auftragen des Halbtonprozentsatzes der gedruckten Kopie gegen
den Halbtonprozentsatz auf dem Original erhalten worden war, ergab praktisch die gleiche Art der Kurve wie bei
einem Kontrolltestdruckarbeitsgang, der unter den gleichen Bedingungen wie vorstehend unter Anwendung einer
Druckplatte mit Lösungsentwicklung einer handelsüblichen Diazo-PS-Platte (PS-Platte GAP, Produkt der Fuji Photo
Film Co.Ltd.) in der vorgeschriebenen Weise ausgeführt worden war.
1 g p-Anilinobenzoldiazoniumhexafluorphosphat,
2 g Polyurethan und 0,1 g 06-Naphthol wurden in 30 ml
Ν,Ν-Dimethylformamid zur Bildung einer lichtempfindlichen
Lösung gelöst. In der gleichen Weise wie in Beispiel 1 wurde die lichtempfindliche Lösung auf ein gekörntes Aluminiumsubstrat
aufgezogen und getrocknet. Das erhaltene lichtempfindliche Bildausbildungsmaterial wurde durch
ein positives Dia in der gleichen Weise wie in Beispiel 1 belichtet und dann unter Anwendung des Wärmelaminatfilmes
(Fuji Laminat Film, Produkt der Fuji Photo Film Co., Ltd.) entwickelt, wobei ein positives Reliefbild
auf dem Aluminiumsubstrat gebildet wurde. Das Aluminiumsubstrat wurde während 1 Minute mit mit einer Ammoniaklösung
mit 10,5 % behandelt. Das das Reliefbild auf dem
Substrat bildende unzersetzte Diazoniumsalz wurde mit
06 -Naphthol gekuppelt und bildet ein rotbraunes Bild. Das erhaltene Bild wurde fixiert und hatte somit keine
Lichtempfindlichkeit. Es war stabil gegenüber Licht und die physikalische Festigkeit des Reliefbildes selbst war
ebenfalls erhöht.
9Θ982Β/0Β22 ORIGINAL INSPECTED
rf
852739
10 g Jodoform, 10 g Phloroglucin und 20 g eines Novolakharzes vom m-Cresol-Typ wurden in 20 ml Methyläthylketon
zur Bildung der lichtempfindlichen Lösung gelöst. Die lichtempfindliche Lösung wurde mittels eines
AufStreichers auf eine Aluminiumplatte aufgezogen, die
gekörnt und anodisiert worden war, und dann mit Heißluft während 5 Minuten bei 60°C zur Bildung des lichtempfindlichen
Bildausbildungsmaterials getrocknet. Die Stärke der lichtempfindlichen Masse betrug etwa 3jLfcm.
Das Bildausbildungsmaterial wurde während 15 Sekunden an eine im Abstand von 50 cm angebrachte 2 kW-Ultrahochdruckquecksilberlampe
durch einen positiven lithographischen Film, welcher unter Anwendung von Halbtonpunkten
mit 150 Linien/2,5 cm hergestellt worden war und der innig
mit dem lichtempfindlichen Bildausbildungsmaterial kontaktiert war, ausgesetzt. Ein dunkelgrünes Ausdruckbild
von guter Qualität wurde auf dem belichteten Bereich erhalten. Dann wurde die lichtempfindliche Bildausbildungsschicht
des Materials auf die Laminatschicht des Wärmelaminatfilmes aufgelegt, welcher durch Aufschichten eines
thermisch schmelzbaren Ionomeren auf einem Polyäthylenterephthalatfilm mit einer Stärke von 8OjUm (Fuji Laminat
Film, Produkt der Fuji Photo Film Co., Ltd.) erhalten worden war, aufgelegt und die Anordnung durch einen Wärmebeschichter,
der bei einer Walzentemperatur von 1200C gehalten wurde (Laminater D-13, Produkt der Fuji Photo
Film Co., Ltd), so daß der Laminatfilm mit dem Material wärmeverbunden wurde. Unmittelbar nachdem das Material
zwischen den Beschichterwalzen hindurchgegangen war, wurde
der Laminatfilm von dem Material abgeschält. Ein positives Bild von guter Qualität wurde auf dem Aluminiumsubstrat
gebildet und gleichzeitig wurde das entsprechende negative Bild auf dem Laminatfilm erhalten.
9 Θ 9 8 2 8 / 0 B 2 2
28S: S3
Die erhaltene Druckplatte wurde mit einer Gummilösung GU für PS-Platten (Produkt der Fuji Photo Film
Co., Ltd,) gummiert und dann wurde ein Testdruck auf einer Offset-Druckpresse (Hamada Star 600 CD) ausgeführt.
Gute Druckkopien wurden von Beginn des Druckes bis zu dem Zeitpunkt, wo die 500-ste Kopie erhalten wurde,
erreicht. Die Halbtonpunkte im Original wurden zu einem
Prozentsatz von 10 % bis 90 % gut wiedergegeben.
1 g Jodoform, 1 g Phloroglucin und 2 g eines Novolakharzes vom m-Cresol-Typ wurden in 20 ml Methyläthylketon
zur Bildung einer lichtempfindlichen Lösung gelöst. Die Lösung wurde auf eine anodisierte Aluminiumplatte aufgezogen,
die mit einer Geschwindigkeit von etwa 120 Umdrehungen je Minute gedreht wurde und während 20 Minuten mit
Heißluft von 600C zur Bildung eines lichtempfindlichen Bildausbildungsmaterials getrocknet. Die lichtempfindliche
Schicht dieses Materials war etwa 2JULm stark. Das lichtempfindliche
Lichtausbildungsmaterial wurde während 100 Sekunden an Licht aus einer 100 W-Hochdruckquecksilberlampe
im Abstand von 20 cm durch ein positives bildtragendes Dia ausgesetzt, welches in innigem Kontakt mit dem lichtempfindlichen
Material gehalten wurde. Ein Bild von rosa Farbe wurde auf dem belichteten Bereich ausgebildet.
Dann wurde eine Fuji-Laminatschicht über die lichtempfindliche Schicht des Bildausbildungsmaterials gelegt
und die Anordnung zwischen Heizwalzen hindurchgeführt,
die bei einer Walzentemperatur von 120°C gehalten wurden. Unmittelbar nach dem Durchgang zwischen den Walzen wurde
der Laminatfilm von dem Material abgeschält. Ein positives Bild von guter Qualität wurde auf dem Aluminiumsubstrat
und ein negatives Bild wurde auf dem Laminatfilm gebildet.
9 098?3/OR 22
L" INSPECTED
2852,33
Das Verfahren nach Beispiel 19 wurde wiederholt, wobei jedoch ein mit Polyäthylen oberflächenbehandeltes
Papier anstelle des in Beispiel 19 eingesetzten Wärmelaminatfilmes
verwendet wurde. Ein positives Bild von guter Qualität wurde auf dem Aluminiumsubstrat erhalten.
Das Verfahren nach Beispiel 19 wurde wiederholt, wobei jedoch ein Cellulosetriacetatfilm als Abschälblatt
anstelle des in Beispiel 19 eingesetzten Warmelaminatfilmes verwendet wurde. Ein positives Bild von guter Qualität
wurde auf dem Aluminiumsubstrat erhalten.
Das Verfahren nach Beispiel 19 wurde wiederholt, wobei jedoch Pentabromäthan anstelle des in Beispiel
eingesetzten Jodoforms verwendet wurde. Ein positives Bild von guter Qualität wurde auf dem Aluminiumsubstrat
erhalten.
Das Verfahren nach Beispiel 19 wurde wiederholt, wobei jedoch Tetrabromkohlenstoff anstelle des in Beispiel
19 eingesetzten Jodoforms verwendet wurde. Ein positives Bild von guter Qualität wurde auf dem Aluminiumsubstrat
erhalten.
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9t
-ββ -
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1 g Jodoform, 1 g Phloroglucin, 2 g eines Novolakharzes vom m-Cresol-Typ und 0,5 g Polyäthylenglykol
mit einem Polymerisationsgrad von etwa 2000 wurden in 20 ml Äthylenglykolmonomethyläther gelöst. Die Lösung
wurde auf eine anodisierte Aluminiumplatte aufgezogen und getrocknet. Die Stärke der Schicht aus der lichtempfindlichen
Masse betrug etwa 5 yu.m. Das erhaltene lichtempfindliche
Bildausbildungsmaterial wurde in der gleichen Weise wie in Beispiel 19 behandelt. Ein positives
Bild wurde auf dem Aluminiumsubstrat und ein negatives Bild auf dem Laminatfilm erhalten.
1 g Phenanthrachinon und 4 g Polyvinylbutyral wurden in 50 ml Dimethylformamid zur Bildung einer lichtempfindlichen
Lösung gelöst. Ein gekörntes und anodisiertes Aluminiumsubstrat
mit einer Stärke von 0,24 mm wurde auf eine Drehscheibe gesetzt und mit einer Geschwindigkeit von
100 Umdrehungen/Minute gedreht. In diesem Zustand wurde die lichtempfindliche Lösung auf das Aluminiumsubstrat
gegossen und während 5 Minuten mit Heißluft von 60°C getrocknet, so daß das lichtempfindliche Bildausbildungsmaterial
erhalten wurde. Das Material wurde während 100 Sekunden an Licht aus einer 100 W-Hochdruckquecksilberlampe
im Abstand von 20 cm durch ein fest an dem Material anhaftendes positives Dia ausgesetzt. Nach der
Belichtung wurde der gleiche Fuji-Laminat-Film wie in Beispiel 17 verwendet, über das belichtete Material gelegt
und die Anordnung wurde zwischen Heißwalzen hindurchgeführt,
die bei einer Walzentemperatur von 1500C gehalten wurden,
und dann wurde die Abschälfolie von dem Material abgeschält.
909828/0622
ORfGINAt JN
ORfGINAt JN
SS
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Ein positives Reliefbild von guter Qualität wurde auf
dem Aluminiumsubstrat und das entsprechende negative Reliefbild auf dem Laminatfilm ausgebildet.
Das folgende Verfahren wurde unter rotem Sicherheitslicht
für die photographische Verarbeitung bis zum Ende der Abschälentwicklung ausgeführt.
20 g einer unsensibilisierten Silberchloridemulsion
(Gehalt 15 % Silber, Teilchengröße 0,3 m, Kristallartwürfel mit abgerundeten Ecken), die für ein photographisches Schwarz-Weiß-Papier verwendet wird, wurden
durch Erhitzen auf 50 C gelöst und dann mit 0,1 ml
einer 1 %-igen Lösung von l-Phenyl-5-mercaptotetrazol
in Alkohol, 2 ml einer 10 %-igen Lösung von l-Phenyl-3-pyrazolidon
in Alkohol, 2 ml einer 10 %-igen wässrigen
Lösung von Harnstoff, 4 g Saccharose und 0,1 g kolloidaler Kieselsäure vermischt, so daß eine lichtempfindliche Lösung
erhalten wurde.
Ein glattes Aluminiumsubstrat mit einer Stärke von 0,24 mm wurde auf eine Drehscheibe gebracht und mit
einer Geschwindigkeit von 200 Umdrehungen/Minute gedreht und in diesem Zustand wurde die lichtempfindliche Lösung
aufgegossen und während 5 Minuten mit Heißluft bei 100 C getrocknet. Nach der Trocknung betrug die Stärke der
Schicht aus der lichtempfindlichen Masse etwa 6u,m. Das
erhaltene Bildausbildungsmaterial wurde während 5 Sekunden an Licht aus einer 1 kW-Halogenlampe im Abstand von
10 cm durch ein innig hieran anhaftendes positives Dia und durch ein ND-FiIter (OD 2) ausgesetzt.
90982ΒΛ0622
Sb
Ein Polyathylenterephthalatfilm mit einer darauf ausgebildeten photographischen Grundierschicht wurde
über das belichtete Bildausbildungsmaterial gelegt und die Anordnung wurde zwischen Heißwalzen hindurchgeführt,
die bei einer Walzentemperatur von 1700C gehalten waren.
Sie wurde einige Zeit stehengelassen und, nachdem die Temperatur des Substrates etwa 1000C erreicht hatte,
wurde das Abschälblatt von dem Bildausbildungsmaterial abgeschält.
Ein aus dem unbelichteten Bereich der Silberchlorid eraulsionsschicht aufgebautes negatives Reliefbild wurde
auf dem Aluminiumsubstrat und ein aus dem entsprechenden belichteten Bereich aufgebautes positives Reliefbild
wurde auf dem Abschälblatt ausgebildet.
50 g der gleichen Silberchloridemulsion wie in Beispiel 27 wurden in 450 ml Wasser bei 50°C dispergiert.
Dann wurden 0,1 g Protease zugesetzt und das Ge-«·
misch während 3 Stunden behandelt. Das Gemisch wurde während 30 Minuten bei 2000 XG zur Abtrennung und Gewinnung
der Silberchloridkörner zentrifugiert. Die erneute Dispersion in Waschwasser und Zentrifugierung wurde
wiederholt, um den Überschuß an Gelatine zu entfernen. Die gesamten ausgewaschenen Silberchloridkörner wurden
in 40 g einer Äthylalkohollösung mit einem Gehalt von 10 % Polyvinylalkohol dispergiert und 2 ml einer 10 %-igen
Äthanollösung des Hydrochinons wurden zur Bildung einer lichtempfindlichen Lösung zugefügt.
9098 2 3/0622 ORIGINAL
5?
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Ein gekörntes und anodisiertes Aluminiumsubstrat mit einer Stärke von 0,24 mm wurde auf eine Drehscheibe
gesetzt und mit einer Geschwindigkeit von 200 Umdrehungen/Minute rotiert. In diesem Zustand wurde die lichtempfindliche
Lösung auf das Aluminiumsubstrat gegossen und während 5 Minuten mit Heißluft von 800C zur Ausbildung
des lichtempfindlichen Bildausbildungsmaterials getrocknet. Die Stärke der Schicht aus der lichtempfindlichen
Masse betrug etwa 7juLm. Das Bildausbildungsmaterial
wurde während 1 Sekunde an Licht aus einer 1 kW-Xenonlampe im Abstand von 60 cm durch ein innig an dem
Material anhaftendes positives Dia ausgesetzt.
Nach der Belichtung wurde der gleiche Fuji-Laminat-Film wie in Beispiel 26 über das belichtete Material gelegt
und die Anordnung wurde zwischen Heißwalzen hindurchgeführt, die bei einer Walzentemperatur von 150 C gehalten
worden waren, um das Abschälblatt wärmezuschichten. Unmittelbar anschließend wurde das Blatt von dem lichtempfindlichen
Bildausbildungsmaterial abgeschält. Die lichtempfindliche Schicht am belichteten Bereich wurde
vollständig auf die Oberfläche des Abschälblattes zur Bildung eines negativen Reliefbildes, das aus geschwärztem
Silber aufgebaut war, übertragen. Andererseits wurde ein aus der lichtempfindlichen Schicht am unbelichteten Bereich
aufgebautes positives Reliefbild auf dem Aluminiumsubstrat erhalten. Wenn es unter natürlichem Licht stehengelassen
wurde, druckte sich das Silberchlorid allmählich aus, bis ein rein schwarzes positives Bild erhalten worden
war. Da der belichtete Bereich der lichtempfindlichen Schicht praktisch vollständig auf die Oberfläche des Abschälblattes
übertragen war, war kaum irgendein Schleier auf den Bildern auf dem Aluminiumsubstrat.
9§93?B/0622
ORIGI
ORIGI
st
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Eine lichtempfindliche Lösung wurde nach dem folgenden Verfahren hergestellt.
34 g Behensäure wurden mit 500 ml Wasser vermischt. Das Gemisch wurde auf 85°C zum Schmelzen der Behensäure
erhitzt. Während das Gemisch aus Wasser und Behensäure bei 85°C schmolz, wurde es mit einer Geschwindigkeit von
1800 Umdrehungen/Minute gerührt und eine wässrige Lösung von Natriumhydroxid (2,0 g Natriumhydroxid + 50 ml Wasser)
von 250C wurde im Verlauf von 3 Minuten zur Bildung eines
Gemisches aus Natriumbehenat und Behensäure zugefügt. Dann wurde unter Rühren bei 1800 Umdrehungen/Minute die
Temperatur von 85°C auf 30°C erniedrigt.
Unter fortgesetztem Rühren wurde dann eine wässrige Lösung von Silbernitrat (8,5 g Silbernitrat + 50 ml
Wasser) von 250C im Verlauf von 3 Minuten zugesetzt und
das Gemisch weiterhin 90 Minuten gerührt. Dann wurden 200 ml Isoamylacetat zugefügt und die erhaltenen Silberbehenatteilchen
wurden gewonnen. Diese Silberbehenatteilchen
wurden dann in einer Isopropylalkohollosung von Polyvinylbutyral (25 g Polyvinylbutyral + 200 ml
Isopropylalkohol) mittels eines Homogenisators (bei 250C und 3000 Umdrehungen/Minute während 30 Minuten) dispergiert
und eine Polymerdispersion von Silberbehenat erhalten.
Dann wurde die Polymerdispersion des Silberbehenates
bei 500C gehalten und unter Rühren mit 500 Umsrehungen/Minute
wurde eine Acetonlösung von N-Bromsuccinimid (0,7 g N-Bromsuccinimid + 50 ml Aceton) von 25°C im Verlauf
von 90 Minuten zugegeben. Das Gemisch wurde weiterhin 60 Minuten gerührt, so daß eine Polymerdispersion von
Silberbromid und Silberbehenat gebildet wurde.
9 8-9 328/0622
ORIGINAL; i
ORIGINAL; i
2852.39
Ein Zwölftel der erhaltenen Polymerdispersion (1/240 Mol) aus Silberbromid und Silberbehenat wurden gesammelt
und bei 30°C gehalten. Unter Rühren mit 200 Umdrehungen/Minute wurden die folgenden Bestandteile (1) bis
(6) in Abständen von 5 Minuten zur Bildung der lichtempfindlichen Lösung zugegeben.
(1) 2 ml eines Merocyaninfarbstoffes (Sensibilisierfarbstoff)
der folgenden Formel als Lösung mit 0,025 Gew.-% in Methylcellosolve
N-N-C2H5
L CH- : —: CH=I N-V^ y
C2H5
— CH 0
CH2COOH
(2) 2 ml Natriumbenzolthiosulfonat als Methanollösung
mit 0,01 Gew.-%..'■
(3) 2 ml m-Nitrobenzoesäure als Äthanollösung mit 0,5 Gew.-%.
(4) 5 ml Phthalazinon als MethylcellosolvelÖsung mit 4,5 Gew.-%.
(5) 10 ml Phthalimid als MethylcellosolvelÖsung mit
4 Gew.-97O.
(6) 10 ml o-Bisphenol (reduzierendes Mittel) der folgenden Formel als Acetonlösung mit 10 Gew.-%
CH.
C(CH3)5
9Θ98?8/0Β22
Go
Ein gekörntes und anodisiertes Aluminiumsubstrat mit einer Stärke von 0,24 mm wurde auf einer Drehscheibe
befestigt und mit einer Geschwindigkeit von 100 Umdrehungen/Minute gedreht. In diesem Zustand wurde die
erhaltene lichtempfindliche Lösung aufgegossen und während 5 Minuten mit Heißluft von 60°C zur Bildung
eines lichtempfindlichen Bildausbildungsmaterials getrocknet. Die Stärke der Schicht aus der lichtempfindlichen
Masse betrug etwa 5jum. Das erhaltene lichtempfindliche
Bildmaterial wurde während 5 Sekunden an Licht aus einer 1 kW-Halogenlampe im Abstand von 10 cm durch ein
innig hieran anhaftendes positives Dia und durch ein ND-Filter (OD 2) ausgesetzt. Nach der Belichtung wurde der
Polypropylenfilm in innigen Kontakt mit dem belichteten Bildausbildungsmaterial gebracht und die Anordnung wurde
zwischen Heißwalzen, die bei einer Walzentemperatur von
130 C gehalten wurden, hindurchgeführt. Unmittelbar anschließend wurde der Polypropylenfilm von dem Bildausbildungsmaterial
abgeschält.
Ein positives Reliefbild wurde auf dem Aluminiumsubstrat und ein negatives Reliefbild, das aus geschwärztem
Silber aufgebaut war, auf dem Abschälblatt ausgebildet.
Das Verfahren nach Beispiel 28 wurde wiederholt, wobei jedoch ein Polyäthylenterephthalatfilm mit einer
Grundierschicht aus Polyvinylalkohol als Träger anstelle des in Beispiel 28 eingesetzten Aluminiumsubstrates verwendet
wurde.
Ein positives Reliefbild wurde auf dem Träger und das entsprechende negative Reliefbild wurde auf dem Ab-
909S2°I0 622
ORIGINAL INSPECTED
2.852/89
schälblatt erhalten.
Die Erfindung wurde vorstehend anhand bevorzugter Ausführungsformen beschrieben, ohne daß sie hierauf
begrenzt ist.
909828/0622 ORIGINAL INSPECTED,
Claims (18)
1) Verfahren zur Ausbildung eines Bildes, dadurch
gekennzeichnet, daß bildweise ein lichtempfindliches Bildausbildungsmaterial, welches aus einem Träger und einer
Schicht einer thermoplastischen lichtempfindlichen Masse, die bei gewöhnlichen Temperaturen nicht-klebend
ist, aufgebaut ist, belichtet wird, das belichtete lichtempfindliche
Material in innigem Kontakt mit einem Abschälentwicklungsträgerblatt,
wovon mindestens eine Oberfläche aus einem thermoplastischen, bei gewöhnlicher
Temperatur bis zu einer Temperatur oberhalb der Erweichungstemperatur
mindestens eines der Materialien aus Schicht aus lichtempfindlicher Masse und Abschälentwicklungsträgerblatt
nicht-klebenden thermoplastischen Material aufgebaut ist, erhitzt wird und dann das Entwicklungsträgerblatt von dem lichtempfindlichen Bildausbildungsmaterial
etwa bei der Erhitzungstemperatur abgeschält wird und der belichtete oder unbelichtete Bereich
der Schicht aus der lichtempfindlichen Masse auf
dem Abschälentwicklungsträgerblatt und der entsprechende unbelichtete oder belichtete Bereich auf dem Träger jeweils
als getrenntes Bild ausgebildet wird, wobei die lichtempfindliche Masse eine lichtempfindliche Polyhalogenverbindung,
ein lichtempfindliches Chinon, ein lichtempfindliches Polymeres, ein Silberhalogenid oder ein
organisches Silbersalz enthält.
2) Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß eine lichtempfindliche Masse verwendet
wird, die eine Polyhalogenverbindung in Kombination mit einem Diphenylamin, einem Naphthol oder einem Phenol
enthält.
3) Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß eine lichtempfindliche Masse verwendet
wird, die ein Phenanthrachinon, ein Napththochinon^oder ein Benzochinon und ein Metallkomplexsalz enthält.
4) Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß eine lichtempfindliche Masse verwendet
wird, die ein in einem Binder, der ein thermoplastisches Polymeres enthält, dispergiertes Silberhalogenid enthält.
5) Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß eine xichtempfindliche Masse verwendet wird,
die ein in einem Binder, der ein thermoplastisches Polymeres enthält, dispergiertes organisches Silbersalz enthält.
6) Verfahren nach Anspruch 4 oder 5, dadurch gekennzeichnet, daß ein Binder verwendet wird, welcher Polyvinylalkohol,
Polyäthylenglykol oder Polymethacrylsaure enthält.
7) Verfahren nach Anspruch 4 oder 5, dadurch gekennzeichnet, daß ein Binder verwendet wird,welcher Athylenglykol,
Glycerin oder eine Fettsäure zur Erzielung von thermoplastischen Eigenschaften enthält.
8) Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß eine thermoplastische lichtempfindliche Masse verwendet
wird, die als thermoplastischen Binder Vinylidenchlorid, Vinylidenchlorid/Acrylnitril-Copolymere und/oder
Polyvinylbutyral enthält.
9) Verfahren nach Anspruch 1 bis 8, dadurch gekennzeichnet, daß als Abschalentwicklungstragerblatt ein Schicht-
009 828/0622
2852733
gebilde aus einem Ionoraeren oder einem thermoplastischen
Polymeren auf einem Polyesterträger verwendet wird.
10) Verfahren nach Anspruch 1 bis 8, dadurch gekennzeichnet,
daß als Abschälentwicklungsträgerblatt ein Polyvinylchloridfilm,ein Polystyrolfilm, ein Polyesterfilm
oder ein Celluloseacetatfilm verwendet wird.
11) Verfahren nach Anspruch 1 bis 10, dadurch gekennzeichnet,
daß das Erhitzen bei einer ausreichend hohen Temperatur um eine ausreichende Haftung zwischen der lichtempfindlichen
Masse und dem Abschälentwicklungsträgerblatt, so daß die Bilder von dem Träger abgeschält werden können,
jedoch bei einer ausreichend niedrigen Temperatur, so daß die lichtempfindliche Masse und das Abschälentwicklungsträgerblatt
nicht so erweicht werden, daß Bilder guter Qualität nicht erhalten werden, ausgeführt wird.
12) Verfahren nach Anspruch 1 bis 11, dadurch gekennzeichnet, daß das Erhitzen bei einer Temperatur von
50 bis 300°C durchgeführt wird.
13) Verfahren nach Anspruch 1 bis 12, dadurch gekennzeichnet, daß das Abschälen bei einer Temperatur
unterhalb der Erhitzungstemperatur durchgeführt wird.
14) Verfahren nach Anspruch 1 bis 13, dadurch gekennzeichnet, daß eine Abschältemperatur unterhalb des
^•weichungspunktes der lichtempfindlichen Masse und des
Abschälentwicklungsträgerblattes angewandt wird.
15) Verfahren nach Anspruch 1 bis 14, dadurch gekennzeichnet,
daß eine Abschältemperatur von Raumtemperatur bis 2000C angewandt wird.
9 0 9 ß; η / η R 2 2
2852V29
16) Verfahren nach Anspruch 1 bis 15, dadurch gekennzeichnet,
daß eine lichtempfindliche Masse mit einem Erweichungspunkt um mindestens 10 C höher als
Raumtemperatur angewandt wird.
17) Verfahren nach Anspruch 1 bis 16, dadurch gekennzeichnet, daß eine Schicht aus der lichtempfindlichen
Masse und ein Abschalentwxcklungstragerblatt mit einem
Erweichungspunkt gleich oder höher als 50 C angewandt werden.
18) Verfahren nach Anspruch 1 bis 17, dadurch gekennzeichnet, daß der innige Kontakt zwischen der Schicht
aus der lichtempfindlichen Masse und dem Abschalentwxcklungstragerblatt
erreicht wird, indem das Bildausbildungsmaterial und das Trägerblatt in übereinanderliegender Stellung zwischen
einer Mehrzahl von erhitzten Walzen unter Druck hindurchgeführt werden.
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| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| 8128 | New person/name/address of the agent |
Representative=s name: KOHLER, M., DIPL.-CHEM. DR.RER.NAT., PAT.-ANW., 80 |
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| 8139 | Disposal/non-payment of the annual fee |