DE2828400C2 - Vorrichtung zum Herstellen von versetzungsfreien einkristallinen Siliciumstäben durch Zonenschmelzen - Google Patents
Vorrichtung zum Herstellen von versetzungsfreien einkristallinen Siliciumstäben durch ZonenschmelzenInfo
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- DE2828400C2 DE2828400C2 DE19782828400 DE2828400A DE2828400C2 DE 2828400 C2 DE2828400 C2 DE 2828400C2 DE 19782828400 DE19782828400 DE 19782828400 DE 2828400 A DE2828400 A DE 2828400A DE 2828400 C2 DE2828400 C2 DE 2828400C2
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-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C30—CRYSTAL GROWTH
- C30B—SINGLE-CRYSTAL GROWTH; UNIDIRECTIONAL SOLIDIFICATION OF EUTECTIC MATERIAL OR UNIDIRECTIONAL DEMIXING OF EUTECTOID MATERIAL; REFINING BY ZONE-MELTING OF MATERIAL; PRODUCTION OF A HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; SINGLE CRYSTALS OR HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; AFTER-TREATMENT OF SINGLE CRYSTALS OR A HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; APPARATUS THEREFOR
- C30B13/00—Single-crystal growth by zone-melting; Refining by zone-melting
- C30B13/32—Mechanisms for moving either the charge or the heater
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Description
Die Erfindung betrifft eine Vorrichtung zum Herstellen von versetzungsfreien, einkristallinen Siliciumstäben
durch Zonenschmelzen, mit einer Kammer und relativ zueinander und zu einer ringförmigen Heizeinrichtung
bewegbaren Halterungen für den Stab, von denen wenigstens die mit dem Imprkristalinalter versehene um
ihre lotrechte Achse drehbar ist und mit einem, von einer Spindel angetriebenen, eine Parallelverschiebung
ausführenden Metallschlitten versehen ist
Eine solche Vorrichtung ist beispielsweise in der deutschen Patentschrift 12 72 886 beschrieben worden. Diese
bekannte Vorrichtung weist einen außerhalb der Schmelzkammer seitlich verschiebbaren Schlitten auf,
durch die die Antriebswelle hindurchgeht. Mit einer solchen Vorrichtung ist es möglich, Siliciumstäbe herzustellen,
deren Dicke größer als die lichte Weite der Heizeinrichtung ist.
Bei der bekannten Vorrichtung müssen Rotationsund Translationsbewegungen der Stabteile durchgeführt
werden, wobei die Schmelzkammer vakuumdicht abgedichtet sein muß. Diese Abdichtung ist relativ
schwierig, wenn, wie bei der bekannten Vorrichtung, der seitlich verschiebbare Metallschlitten außerhalb der
Kammer angeordnet ist.
Der Erfindung liegt das Problem zugrunde, eine Vorrichtung der genannten Art so weiterzubilden, daß die
Abdichtung einfacher möglich wird.
Dieses Problem wird dadurch gelöst, daß der Metallschlitten auf dem oberen Ende eines von unten in die
Kammer ragenden Podestes angeordnet und von außerhalb der Kammer antreibbar ist.
Weiterbildungen der Erfindung sind Gegenstand der Unteransprüche.
Die Erfindung wird anhand eines Ausführungsbeispiels in Verbindung mit der Figur näher erläutert:
In der Zonenschrnelzkammer ist in an sich bekannter Weise eine mit Hf gespeiste, in vertikaler Richtung verschiebbare,
das zonenweise Aufschmelzen des SiIiciumstabes 2 vornehmende ein- oder mehrwindige
Heizspule 3 angeordnet. Der auszuschmelzende SiIiciumstab 2 ist mittels Befestigung 4 mit der in vertikaler
Richtung verschiebbaren Halterung 5 verbunden. In die Zonenschmelzkammer ragt ein Podest 6 hinein, das auf
seinem oberen Ende den über eine Spindel 7 in horizontaler Richtung verschiebbaren, z. B. aus Stahl bestehenden
Schütten 8 angeordnet hat Die Spindel selbst wird durch einen außerhalb der Kammer befindlichen Motor
9 angetrieben. Der Schlitten 8 trägt den ebenfalls aus Metall, z. B. Stahl bestehenden Impfkristallkalter 11 mit
dem Siliciumkeimkristali 10. Der in Rotation zu versetzende
Impfkristall bzw. Impfkristallhalter wird gemäß vorliegendem Ausführungsbeispiel unmittelbar von einer
auch seitliche Bewegungen zulassenden Welle 12 durch einen in der Zeichnung nicht dargestellten Motor
angetrieben.
Abgesehen von den leicht zu beherrschenden Durchführungen für die Stabhalterung 5 und die Spindel 7
ergeben sich bei der Anordnung gemäß vorliegender Erfindung nur zwei kritische und damit, im überschaubaren
Rahmen zu haltende und gut zu beherrschende Dichtungsprobleme. Sie liegen zwischen dem Podest 6
und dem Schlitten 8 für eine reine Translation und zwischen
dem Schlitten 8 und dem Keimkristallhalter 11 für eine reine Rotation.
Der Vorteil der Anordung gemäß vorliegender Erfindung besteht vor allem darin, daß die mechanische Anordnung
gegenüber den bekannten Ausführungen wesentlich einfacher ist Daraus folgt, daß auch weniger
Antriebselemente in den Reaktorraum vakuumdicht geführt werden müssen, was wiederum zur Folge hat, daß
dadurch zu größerer Exzentrik bei besserer, d. h. feinerer
Einstellbarkeit übergegangen werden kann. Größere Exzentrik bedeutet auch bessere Durchmischung der
Schmelze, also eine gleichmäßigere und somit homogene Dotierstoffverteilung in dem erzeugten Siliciumstab.
Mit der Anordnung gemäß vorliegender Erfindung können also dickere Stäbe, z. B. von 5" und mehr, versetzungsfrei
in einfacher Weise hergestellt werden.
Hierzu 1 Blatt Zeichnungen
Claims (4)
1. Vorrichtung zum Herstellen von versetzungsfreien,
einkristallinen Siliciumstäben durch Zonenschmelzen, mit einer Kammer und relativ zueinander
und zu einer ringförmigen Heizeinrichtung bewegbaren Halterungen für den Stab, von denen wenigstens
die mit dem Impfkristallhalter versehene um ihre lotrechte Achse drehbar ist und mit einem,
von einer Spindel angetriebenen, eine Parallelverschiebung ausführenden Metallschlitten versehen
ist, dadurch gekennzeichnet, daß der Metallschlitten auf dem oberen Ende eines von unten in
die Kammer ragenden Podestes angeordnet und von außerhalb der Kammer antreibbar ist
2. Vorrichtung nach Anspruch I, dadurch gekennzeichnet,
daß der Schlitten aus Stahl ist
3. Vorrichtung nach den Ansprüchen 1 und 2, dadurch gekennzeichnet, daß der Impfkristallhalter aus
Stahl ist
4. Vorrichtung nach den Ansprüchen 1 bis 3, dadurch
gekennzeichnet, daß der Impfkristallhalter direkt mit einer Welle verbunden ist
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Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE19782828400 DE2828400C2 (de) | 1978-06-28 | 1978-06-28 | Vorrichtung zum Herstellen von versetzungsfreien einkristallinen Siliciumstäben durch Zonenschmelzen |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE19782828400 DE2828400C2 (de) | 1978-06-28 | 1978-06-28 | Vorrichtung zum Herstellen von versetzungsfreien einkristallinen Siliciumstäben durch Zonenschmelzen |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE2828400A1 DE2828400A1 (de) | 1980-01-10 |
DE2828400C2 true DE2828400C2 (de) | 1986-10-30 |
Family
ID=6043026
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE19782828400 Expired DE2828400C2 (de) | 1978-06-28 | 1978-06-28 | Vorrichtung zum Herstellen von versetzungsfreien einkristallinen Siliciumstäben durch Zonenschmelzen |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
DE (1) | DE2828400C2 (de) |
-
1978
- 1978-06-28 DE DE19782828400 patent/DE2828400C2/de not_active Expired
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
DE2828400A1 (de) | 1980-01-10 |
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