DE1471956A1

DE1471956A1 - Verfahren und Vorrichtung zur Glasherstellung

Info

Publication number: DE1471956A1
Application number: DE19631471956
Authority: DE
Inventors: Penberthy Harvey Larry
Original assignee: Individual
Current assignee: Individual
Priority date: 1962-12-11
Filing date: 1963-12-05
Publication date: 1970-09-10
Also published as: AT251216B; NL128084C; US3325268A; DE1471956C3; GB1062668A; DE1471956B2; JPS4816327B1; CH422236A; BE640996A; NL301644A

Description

P 14 71 956.3 (P 33 138)
Harvey L. Penberthv

20. AU6. 1968

Verfahren und Vorrichtung zur Glasherstellung

Die Erfindung betrifft ein Verfahren und eine Vorrichtung zur Glasherstellung und insbesondere ein verbessertes Verfahren und eine verbesserte Vorrichtung zur Verminderung oder Beseitigung von durch das Einschließen von nicht umgesetztem Siliziumdioxyd hervorgebrachten Inhomogenitäten im fertigen Glaserzeugnis.

Bei herkömmlichen, kontinuierlich arbeitenden Fließbehälter-Glasschmelzöfen wird eine ungeschmolzene Charge des gewünschten Gemisches in ein Ende des Ofens eingebracht, in dessen Schmelzzone geschmolzen, durch eine Schaumzone und eine Lauterzone hindurchgeführt und schließlich zur Bearbeitungszone überführt, an welcher das Glas je nach dem herzustellenden Endprodukt nach einem beliebigen von mehreren an sioh möglichen, bekannten Verfahren abgezogen wird. Die Alkalibestandteile der Charge gehen i* Behälter bzw. Schmelzofen fast sofort in geschmolzenen Zustand über. Babei tritt eine Eeaktion alt dem Siliziumdioxyd

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Neue Unterlagen (Art 7 g l Ats. 2 Nr . 1 Sau 3 do» Ändeiunosges. ν. 4. 9.

auf und die Alkali-Silikate bilden eine eutektische Lösung. Kalk oder andere basische Stoffe beginnen, sich mit der entsprechenden Menge an Siliziumdioxyd umzusetzen und gehen in eine Lösung mit den Alkali-Silikaten ein. Anschließend beginnt sich der Siliziumdioxydüberschuß aufzulösen, sobald die Schmelze heißer wird und sich ihre Viskosität verringert. Wenn die vollständige Verschmelzung und Lösung der Stoffe theoretisch bewirkt worden ist, verbleibt noch der LauterungsVorgang, um die Schmelze von Blasen zu befreien.

Bei der !Durchführung dieses Verfahrens in herkömmlichen, kontinuierlich arbeitenden Schmelzofen ist in der Schmelz- und in der Laut er zone eine Oberflächen-Inhomogenität vorhanden, die darauf zurückzuführen ist, daß sich die Zusammensetzung der Glaamassenoberfläche von der ungeschmolzenen Charge am Beschickungsende des Ofens bis zu den theoretisch vollständig aufgelösten und umgesetzten Bestandteilen an dem Punkt ändert, an welchem das Glas in die Bearbeitungszone bzw. -kammer eintritt. Biese Oberflächen-Inhomogenität führt zu einer Gradation der Stoff-Zusammensetzung an der Oberfläche der Glasmasse vom Beschickungepunkt bie zum Eintritt in die Bearbeitungszone. Genauer gesagt, sind die Bestandteile am Besohickungspurürt in den gewünschten Prozentsätzen, aber in Form einer

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ungeschmolzenen Charge vorhanden. Während der Bewegung der Charge vom Beschickungsende in Richtung auf den Einlauf zur Bearbeitungszone fließen die Flußmittel und das Natrium schneller weiter als das Siliziumdioxyd schmilzt und sich umsetzt, wobei an der Oberfläche der Glasmasse ein Materialanteil mit hohem Siliziumdioxydgehalt zurückgelassen wird. Daneben kommt es häufig vor, daß die Charge unzureichend durchgemischt wurde, so daß dies die Oberflächen- bzw. Chargen-Inhomogenität noch weiter erhöht. Als Ergebnis der Konstruktion und der Art und Weise der Hitzeanlegung bei herkömmlichen Glasschmelzöfen tritt häufig der Pail ein, daß ein Schmelzanteil mit hohem Siliziumdioxydgehalt in die Bearbeitungszone hineingelangt und Inhomogenitäten des erhaltenen ölasprodukts hervorruft. Bei Schmelzofen mit oberseitiger Beschickung und bodenseitigem Austrag tritt aufgrund der Ausbildung einer Glasschicht mit hohem Siliziumdioxydgehalt oberhalb der geschmolzenen Charge eine im wesentlichen ähnliche Schwierigkeit auf.

Erfindungsgemäß hat es sich dagegen als möglich erwiesen, diese Inhomogenität des Enderzeugnisses durch Anwendung eines vorzugsweise vollständig elektrisch betriebenen, kontinuierlich arbeitenden Glasschmelzofens praktisch zu beseitigen, der ein einzigartiges Glasfließschema verwen-

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det, welches ein Eindringen des Schmelzenanteils mit hohem Siliziumdioxydgehalt in die Bearbeitungszone der Anlage verhindert.

Genauer gesagt, sieht die Erfindung die Verwendung eines vollständig elektrisch betriebenen Glasschmelzofens vor, der im Betrieb praktisoh vollständig mit einer Chargenschicht bedeckt ist, wobei das Glasschmelzen-Fließschema

α in die Bearbeitungszone unterhalb der Oberfläche anders ist als das Oberflächen-Fließschema der Chargenschicht. Erfindungsgemäß wird der Fluß der Oberflächen-Chargenschicht derart gerichtet, daß die endgültige Bestimmungsstelle des. an der Oberfläche der Glascharge befindlichen Materialanteils mit hohem Siliziumdioxydgehalt sich nicht in der Nähe der Austragstelle des Ofens in die Bearbeitungszone befindet. Mit dieser Vorrichtung und Anordnung hat es sich als möglich erwiesen, den Einschluß von Bestandteilen mit hohem Siliziumdioxydgehalt, welche sich

P an den Endbereichen der Chargenschicht bzw. -decke befinden, im Glas der Bearbeitungszone praktisch auszuschalten.

Demzufolge betrifft die Erfindung in erster Linie die Schaffung eines verbesserten Verfahrens und einer verbesserten Vorrichtung zur Herstellung von Glas hoher Homogenität, das praktisch überhaupt keine Einschlüsse enthält.

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Zu diesem Zweck beschäftigt sich die Erfindung mit der Ausgestaltung eines verbesserten Verfahrens und einer verbesserten Vorrichtung zur Herstellung von homogenem Glas unter Verwendung eines vollständig elektrisch betriebenen Glasschmelzofens, in welchem das Gesamt-Durchflußschema der unterhalb der Oberfläche befindlichen Glasschmelze anders ist als das Fließschema der Chargenschicht bzw. -decke. Besondere Merkmale dieses Verfahrens und dieser Vorrichtung bestehen darin, daß die Oberfläche der ^ Glasschmelze praktisch vollständig mit einer Chargenschicht abgedeckt ist, die in einem bestimmten Bereich eine progressive Inhomogenität und einen hohen Siliziumdioxydgehalt besitzt, und daß die Glasschmelze zwecke Austrage zur Bearbeitungszone an einem von dem den hohen Siliziumdioxydgehalt aufweisenden Bereich der Chargenschicht entfernten Punkt aus dem Schmelzofen abgezogen wird. Dabei wird gemäß einer speziellen Ausführungsform der Erfindung das Glas an mehreren Stellen, einschließlich der Behälterunterseite, abgezogen. f

Diese und weitere Ziele und Vorteile der Erfindung ergeben sich noch deutlicher aus der folgenden Beschreibung anhand der Zeichnungen. Ea zeigen:

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Fig. 1 einen lotrechten Teilquerschnitt durch einen herkömmlichen brennstoffbeheizten, kontinuierlichen Behälter-Glasschmelzofen, welcher die Schmelz- und Läuterbereiche des Ofens erkennen läßt,

Fig. 2 einen waagerechten Schnitt durch einen gemäß einer Ausführungsform der Erfindung konstruierten Glasschmelzofen,

Fig. 3 einen lotrechten Schnitt praktisch längs der Linie 3-3 in Fig. 2 durch den in dieser Figur dargestellten Glasschmelzofen,

Fig. 4 einen waagerechten Schnitt durch eine andere Ausführungsform des erfindungsgemäßen Glasschmelzofens und

Fig. 5 einen waagerechten Schnitt durch eine weitere Ausführungsform des Glasschmelzofens mit den Merkmalen der Erfindung.

In Fig. 1 ist ein herkömmlicher brennstoffbeheizter Behälterschmelzofen 10 mit einem Boden 12, einem Wölbungsdeckel und einer Rückwand 16 dargestellt. Der Ofen weist die gewöhnlich vorgesehene Chargen-Einbringöffnung 18 und eine

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beliebige herkömmliche Chargen-Fördereinrichtung auf. Eine Uberbrückungswand 20 erstreckt sich quer über den Ofen und trennt die Lauterzone von der Arbeitszone des Ofens und gewährleistet eine in die Schmelze eingetauchte Verengung 22, durch welche hindurch theoretisch geschmolzenes und geläutertes Glas in die Bearbeitungszone 24 eintritt.

Der Schmelzofen 10 enthält eine Glasschmelze 26, die am Beschickungsende durch eine Chargenlage 28 abgedeckt ist. M Wie dem Fachmann ersichtlich ist, wird die Charge durch die Öffnung 18 eingebracht und "bewegt sich bzw. wird durch das Einbringen der weiteren Charge in Richtung auf die Uberbrückungswand 20 gedrängt, so daß im wesentlichen ein Gesamtfluß der Charge und des geschmolzenen Glases in diese Richtung auftritt. Während der fortlaufenden Weiterbewegung in Richtung auf die Uberbrückungewand 20 schmilzt die Charge fortlaufend unter Querschnittsverringerung ab, bis am Punkt 30 nur noch ein Schaum bzw. Abstrich auf der Glasoberfläche zurückbleibt. Dieser Schaum bzw. Abstrich " bewegt sich weiter in Richtung auf die überbrückungs- bzw. Querwand 20 und trachtet sich an dieser Stelle anzusammeln.

An der Eintrittsstelle der Charge in den Schmelzofen enthält diese ihre einzelnen Bestandteile in den gewünschten Relatiwerhältnissen, wobei dieser Zustand durch den größ-

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ten Teil der in fester Form vorliegenden Chargenlage 28 vorherrscht. Während sich die Chargenlage verdünnt und den mit Schaum bzw. Abstrich bedeckten Bereich des Ofens erreicht, beispielsweise am Punkt 30, sind die eutektischen Lösungen jedoch zum größten Teil abgeflossen, so daß die ungeschmolzenen Bestandteile an diesem Punkt einen hohen Siliziumdioxydgehalt besitzen. Dieses siliziumdioxydhaltige. Material trachtet danach, sich bei 32 an der Uberbrückungswand anzustauen und durch die Verengung bzw. Drosselstelle hindurch in die Bearbeitungszone hineingetragen zu werden, wie dies bei 34 angedeutet ist. Durch das Eintreten dieses Stoffs mit hohem Siliziumdioxydgehalt ergeben sich Inhomogenitäten im fertigen Glaserzeugnis.

In den Fig. 2 und 3 ist eine Ausführvngsform eines erfindungsgemäß konstruierten und zur Durchführung des erfindungsgemäßen Verfahrens vorgesehenen Glasschmelzofens dargestellt. Die dargestellte Ausführungsform dieses vollständig elektrisch betriebenen Schmelzofens 36 weist einen Boden 38, eine Deckenwand 40 sowie Seitenwände 42, 44 _t 46 und 48 auf. In der Wand 48 ist ein Anbau 50 vorgesehen, der zwei praktisch unter einem rechten Winkel zueinander angeordnete und mittels einer Stirnwand 56 miteinander verbundene Seitenwände 52 und 54 aufweist. In den Wänden 52 und 54 sind zwei Chargen-Einbringöffnungen 58 und 60 ausgebildet,

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so daß die Charge abwechselnd in zwei unter einem Winkel von 90° auseinanderlaufenden Richtungen eingebracht werden kann.

In der Seitenwand 46 ist eine Überbrückungswand 60 angeordnet, die zusammen mit dem Boden 38 eine mit einem Schacht 64 in Verbindung stehende Verengung 62 festlegt. Der Schacht 64 mündet in zwei Vorherde 66 und 68 ein. Eine Reihe von stangenförmigen Elektroden A, B, C und D aus "Λ

feuerfestem Material, wie Molybdän, durchsetzen die Ofenwände in waagerechter Lage. Die Elektroden A und B sind miteinander und mit einer Klemme eines Einphasen-Transformators verbunden, während die Elektroden C und D ihrerseits zusammengeschlossen sind und an der anderen Klemme des Transformators liegen. Die spezielle Anordnung der Elektroden ist nicht ausschlaggebend; vielmehr ist es lediglich erwünscht, Joulesche Wärme auf im wesentlichen gleichmäßige Art und Weise in die Schmelze einzuleiten.

Im Betrieb des erfindungsgemäßen Schmelzofens wird die Charge abwechselnd durch die beiden öffnungen des Anbaus eingebracht, und zwar beispielsweise zuerst durch die Öffnung 58 und dann durch die Öffnung 60, bis die Glasschmelze 70 vollständig mit einer Chargenschicht bzw. -lage 72 bedeckt ist. Diese Chargenlage weist dieselbe

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Oberflächen-Inhomogenität auf wie vorher im Zusammenhang mit dem herkömmlichen Ofen gemäß Pig. 1 beschrieben, da die an der dem Beschickungsende des Ofens gegenüberliegendenWand 44 befindlichen Bestandteile einen hohen Siliziumdioxydgehalt besitzen und dieser Bereich mit hohem Siliziumdioxydgehalt mehr oder weniger symmetrisch auf die von der strichpunktierten Linie 74 abgewandte Seite verteilt ist. Die abwechselnd erfolgende Beschickung durch die unter einem Winkel von 90° zueinander angeordneten Öffnungen 58 und 60 unterstützt die Aufrechterhaltung der symmetrischen Verteilung der Chargenschicht und ermöglicht, daß der Bereich mit hohem Siliziumdioxydgehalt im Behälter in dem durch die Linie 74 begrenzten allgemeinen Bereich gehalten werden kann.

Bei dem auf diese Weise betriebenen Glasschmelzofen werden die Bestandteile mit hohem Siliziumdioxydgehalt in einem von der Verengung des Ofens entfernten Bereich festgehalten, so daß sie keine Möglichkeit haben, durch die Verengung hindurch in die Vorherdzonen einzutreten. Etwa durch die Verengung 62 hindurchgetragene Oberflächen-Schmelz ent eile besitzen keinen hohen Siliziumdioxydgehalt, sondern vielmehr die richtigen Prozentsätze an verschiedenen Bestandteilen, wie sie an der Beschickungsstelle in den Ofen eingebracht wurden. Diese Stoffe setzen sich

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im allgemeinen um und schmelzen, bevor sie von den Vorherden abgezogen werden, so daß der Einschluß von Material mit hohem Siliziumdioxydgehalt im fertigen Glaserzeugnis vermieden wird.

Obgleich der in den Pig. 2 und 3 dargestellte Glasschmelzofen als mit einer vollständigen Chargenschicht betrieben beschrieben wurde, ist es ebenso möglich, den Ofen mit einer ihn unvollständig abdeckenden Chargenschicht zu be- (0 treiben, solange der Lagenbereich des einen hohen Siliziumdioxydgehalt besitzenden Schmelzenanteils nur daran gehindert wird, die Verengungsstelle zu überlagern. An der dem Beschickungsende abgewandten Wand 44 kann daher ein aus klarem Glas oder aus Schaum bestehender Bereich vorhanden sein, ohne daß dies zur unerwünschten Inhomogenität des Glases führt, solange die Bestandteile mit hohem SiIiziumdioxydgehalt nicht über der Verengung 62 liegen. Der Betrieb des Schmelzofens mit einer den Ofen praktisch vollständig bedeckenden Chargenschicht ist jedoch die bevorzugte Arbeitsweise.

Obgleich die Erfindung im Zusammenhang mit den Pig. 2 und anhand eiries speziellen Glasschmelzofens beschrieben wurde, können ersichtlicherweise unterschiedliche Formen, Konstruktionen und Größenverhältnisse des Ofens angewandt

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werden, solange der Ofen nur die Durchführung der Schritte des erfindungsgemäßen Verfahrens ermöglicht. In Pig. 4 ist beispielsweise ein anders geformter Schmelzofen 76 veranschaulicht, der sich ebenfalls zur Durchführung des erfindungsgemäßen Verfahrens eignet. Der Ofen 76 besitzt im wesentlichen Achteckform mit Wänden 78, 80, 82, 84 und 86. Diese Wände sind durch im wesentlichen rechtwinkelig zueinander angeordnete Wände 88 und 90 miteinander verbunden, wobei in der Wand 90 neben der Ecke des Ofens eine Chargen-Einbringöffnung 92 vorgesehen ist. In der Wand 78 ist eine Uberbrückungswand 94 vorgesehen, die eine Verengung festlegt, welche ihrerseits zwecks Speisung eines Vorherds 98 in einen Schacht 96 einmündet.

Die aus den gewünschten Bestandteilen zusammengesetzte Charge wird durch die Öffnung 92 hindurch eingebracht, und, wie durch die Pfeile 100 angedeutet, im wesentlichen spiralförmig im Ofen herumgedrängt. Infolge dieser Anordnung sammeln sich Oberflächen-Schmelzenbestandteile mit hohem Siliziumdioxydgehalt in der Mitte des Ofens an einer von der Verengung hinter der Uberbrückungswand 94 entfernten Stelle an, so daß der Eintritt dieser Schmelzenbestandteile in den Vorherd 98 und von da in das Endprodukt wiederum verhindert wird. Obgleich eine vollständig geschlossene Chargenschicht dargestellt ist und tatsächlich

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auch bevorzugt wird, ist es ebenfalls möglich, einen Schmelzofen dieser Art mit einem schaumbedeckten oder einem freien Bereich in seiner Mitte zu betreiben. Obwohl die Verengung gemäß Fig. 4 in der Wand 78 angeordnet ist, kann sie ersichtlicherweise auch in anderen Ofenwänden, wie den Wänden 80, 82 oder 84, vorgesehen sein.

Im Fall des Ofens gemäß Fig. 4 kann Joulesche Wärme mit Hilfe einer beliebigen Elektrodenanordnung in die Glas- ^ masse eingeleitet werden. Beispielsweise können zwei Sätze von Elektroden A1, B1, C1 bzw. A2, B2, 02 jeweils an die drei Klemmen von zwei Dreiphasen-Transformatoren angeschlossen sein.

In Fig. 5 ist noch eine andere Ausführungsform der Erfindung dargestellt, welche im allgemeinen derjenigen gemäß den Fig. 2 und 3 ähnelt, bei welcher jedoch das Verfahren der Einbringung der Charge abgewandelt wurde. Gemäß Fig. 5 weist ein aus einem Behälter bestehender "

Glasschmelzofen 102 Seitenwände I04, 106, 108 und 110 auf, wobei längs der Wand 110 eine Überbrückungswand 112 angeordnet ist, die eine unterhalb der Schmelzenoberfläche liegende Verengung 114 festlegt. Ähnlich wie beim Ofen gemäß den Fig. 2 und 3 mündet die unter der Schmelzenoberfläche liegende bzw. Tauch-Verengung 114 in einen in einem

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- 14 Vorherd 118 auslaufenden Schacht 116 ein.

In den Wänden 106 und 110 des Ofens sind mehrere Joulesche Wärme erzeugende Elektroden A, B₁ C, D vorgesehen, von denen die Elektroden A und B gemeinsam an die eine und die Elektroden C und ]> gemeinsam an die andere Klemme eines Einphasen-Transformators angeschlossen sein können. Die speziellen Elektrodenanordnungen und Transformatoranschlü3se sind jedoch nicht ausschlaggebend und jede Joulesche Wärme erzeugende Erhitzungsanordnung, die mehr oder weniger gleichmäßige Wärme in der geschmolzenen Glasmasse hervorzubringen vermag, ist für diesen Zweck zufriedenstellend.

Bei der Ausführungsform der Erfindung gemäß Fig. 5 wird die Charge mit Hilfe von Schrauben- oder Schneckenförderern in den Ofen eingebracht. Zu diesem Zweck ist die Wand 108 mit mehreren Öffnungen 120, 122, 124 und 126 versehen, in denen eine Reihe von zylindrischen Zufuhrrohren 128 - 154 angeordnet iat. In die Rohre 128 - 134 sind mit einer nicht dargestellten Antriebseinrichtung verbundene Förderschnecken 136 - 142 eingebaut.

Dem Fachmann ist es ersichtlich, daß bei einer Drehbewegung der Schnecken 136 - 142 Chargen aus über den Schnecken angeordneten Zufuhrtrichtern in den Glasschmelzofen einge-

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bracht werden. Bei einer derartigen Anordnung ist es möglich, die Charge im wesentlichen symmetrisch zu verteilen, so daß sich die Bestandteile mit hohem Siliziumdioxydgehalt im wesentlichen an der vom Beschickungsende abgewandten Seite der strichpunktierten Linie 144 befinden, während die Arbeitsweise dieser Ausführungsform der Erfindung in jeder anderen Hinsicht der im Zusammenhang mit den Fig. 2 und 3 beschriebenen entspricht.

Aus der vorangehenden Beschreibung ist es ersichtlich, daß e3 durch die Anwendung der Vorrichtung und des Verfahrens gemäß der Erfindung möglich wird, auf wirksame Weise äußerst homogenes Glas in verschiedenartigen kontinuierlich arbeitenden Glasschmelzöfen herzustellen. Obgleich während des Betriebs des Ofens Oberflächen-Schmelzenbestandteile mit hohem Silisiumdioxydgehalt erzeugt werden und tatsächlich kein aufwendiger Versuch unternommen wird, die Entstehung dieser Bestandteile vollkommen auszuschalten, wird durch das erfindiuicscemäße Verfahrer, und die erfindungsgemäße ™

Vorrichtung praktisch die Möglichkeit ausgeschaltet, daß diese Schneizenbestandteile in die aus dem Glasaustrag des Ofens hergestellten Erzeugnisse gelangen.

Ersichtlicherweise kann die Erfindung auch auf andere Weise verwirklicht werden, ohne daß von ihrem Grundgedanken

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oder von ihren wesentlichen Eigenschaften abgewichen wird. Aus diesem Grund sollen die dargestellten und beschriebenen Ausführungsformen der Erfindung in jeder Hinsicht
lediglich als erläuternd und nicht als die Erfindung einschränkend angesehen werden} vielmehr soll die Erfindung
alle innerhalb des erweiterten Schutzumfangs liegenden
Änderungen und Abwandlungen mit einschließen.

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Claims

Pat entansprüche

1. Verfahren zur Herstellung von Glas, bei welchem zunächst mittels Wärme eine Glasschmelze erzeugt wird, die eine Chargenechicht trägt, und der Glasschmelze in einer die Chargenschicht von der Beschickungszone weg auf einem kontinuierlichen Weg zu einem Auffang- ^j bereich wegschiebenden Weise eine ungeschmolzene Charge zugeführt wird, wobei sich der Siliciumdioxydgehalt der Charge auf diesem Weg erhöht, und bei welchem das geschmolzene Glas von einem unter der Oberfläche liegenden Bereich der Schmelze abgezogen wird, so daß das unter der Oberfläche befindliche geschmolzene Glas längs einer bestimmten gleichförmigen Strecke fließt, dadurch gekennzeichnet, daß das geschmolzene Glas in einem vom Auffangbereich entfernt liegenden Bereich abgezogen wird und eine andere Flußrichtung als die Charge hat und daß das geschmolzene Glas unterhalb eines Bereichs der Chargenschicht abgezogen wird, in welchem der Siliciumdioxydgehalt geringer ist als der Siliciumgehalt im Auffangbereich.

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2. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die Wärme Joulesche Wärme ist.

3. Verfahren nach Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet, daß sich die Charge waagerecht von der Beschickungszone zum Auffangbereich bewegt und daß auch die Flußrichtung des geschmolzenen Glases waagerecht liegt.

4. Verfahren nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß es in einem Ofen durchgeführt und die Chargenschicht im Ofen zurückgehalten wird.

5. Verfahren nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß die Chargenschichtjsich etwa längs einer Geraden von der Beschickungszone zum Auffangbereich und sich das abgezogene geschmolzene Glas etwa senkrecht hierzu bewegt.

6. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 4» dadurch gekennzeichnet, daß sich die Chargenschicht etwa längs einer Spirale bewegt, deren Mittelpunkt etwa der Auffangbereich iüt, und daß das geschmolzene Glas längs eines radial zur Spirale liegenden Wegs abgezogen wird.

OWGlNAL INSPECTED

Le e rs e i t e