DE2758631A1 - Verfahren zur verbesserung der antiklebeeigenschaften von photographischem material - Google Patents
Verfahren zur verbesserung der antiklebeeigenschaften von photographischem materialInfo
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Description
PAT EiV TA N VVA L Γ E A
CR-IN&
W. STOCKMA)R
K. SCHUMANN
P. H. JAKOB
DtP!_ ING.
G. BEZOLD
DR ret N«r on.««
8 MÜNCHEN 22
29. Dezember 1977 P 12 296
FUJI PHOTO FILM CO., LTD.
No. 210, Nakanuma, Minami Ashigara-Shi,
Kanagawa, Japan
Verfahren zur Verbesserung der Antiklebeeigenschaften von
photographischem Material
Die Erfindung betrifft ein Verfahren zur Verbesserung der physikalischen
Filmeigenschaften von photographischem Material, insbesondere ein Verfahren zur Verhinderung der Adhäsion bei photographischem
Halogensilbermaterial·
Photographisches Halogensilbermaterial besitzt im allgemeinen eine
Oberflächenschicht, die ein hydrophiles Kolloid, wie Gelatine, als Bindemittel enthält. Deshalb erhöht sich die Adhäsionsneigung oder
Klebrigkeit der Oberfläche von photographischem Material bei hohen Temperaturen und hoher LuftfeuchtigkeitjSO daß die Oberfläche bei
Berührung leicht an anderen Gegenständen kleben bleibt. Dieses als Adhäsion bezeichnete Phänomen beobachtet man zwischen den photographischen
Materialien selbst oder zwischen einem photographischen Material und einem Gegenstand, der hiermit bei der Herstellung des
photographischen Materials, seiner Verarbeitung, beim Projektionsvorgang, oder während seiner Konservierung in Berührung kommt. Mit
dieser Erscheinung sind verschiedene Nachteile verbunden.
809 8 A1 /058S
telefon (οββ) aaoeea telex os-seaeo teleqramme monapat telekopieder
Hierzu ist bereits bekannt, die Adhäsionsneigung der Oberfläche dadurch herabzusetzen, daß man der Oberflächenschicht Teilchen
mit 2 bis 5 μ mittlerer Teilchengröße, z.B. Teilchen aus anorganischen
Stoffen, wie Siliciumdioxid, Magnesiumoxid, Titandioxid, oder
Calciuracarbonat, oder Teilchen aus organischen Stoffen, wie PoIymethylmethacrylat
oder Oslluloseacetatpropionat, zur Steigerung der Gberflächenrauhigkeit
einverleibt. Diese Maßnahme wird auch als Mattierung bezeichnet.
Nachfolgend findet der Ausdruck "Antiklebeeigenschaften" Verwendung,
da die Erscheinung der Verminderung des Klebens zwischen photographischen Materialien selbst oder zwischen einem photographischen
Material und einem Gegenstand, der hiermit in Berührung kommt (und das Kleben erschwert) in der einschlägigen Technik als
"Verbesserung der Antiklebeeigenschaften" bezeichnet wird.
Wenn man die vorgenannte Methode bis zu einem solchen Umfang durchführt,
daß man ausreichende Antiklebeeigenschaften erhält, treten unerwünschte Effekte insofern auf, als die Transparenz von erzeugten
Bildern beeinträchtigt wird, die Körnigkeit von Bildern zerstört wird, oder die Gleiteigenschaften beeinträchtigt werden, so
daß es leicht zu Kratzern auf dem photographischen Material kommt.
Es ist somit erwünscht, Maßnahmen zur Verbesserung der Antiklebeeigenschaften
von photographischem Material zu entwickeln, ohne daß diese sekundären nachteiligen Effekte auftreten.
Eine Aufgabe der Erfindung besteht in der Überwindung dieses Nachteils.
Es wurde gefunden, daß die Antiklebeeigenschaften von photographischem lichtempfindlichem Material verbessert werden können
durch Einverleibung einer wässrigen Lösung von kolloidalem Siliciumdioxid, erhalten durch Zugabe von Kaliumhydroxid zu einer wässrig
kolloidalen Lösung von Kieselsäureanhydrid zu einer Schutzschicht und/oder einer Rückschicht des photographischen lichtempfindlichen
Materials.
809841/058$
Gegenstand der Erfindung ist somit ein Verfahren zur Verbesserung der Antiklebeeigenschaften von lichtempfindlichem photographischem
Material, das dadurch gekennzeichnet ist, daß man kolloidales Siliciumdioxid, hergestellt durch Zugabe von Kaliumhydroxid zu
einer wässrigen Lösung von kolloidalem Siliciumdioxid, der obersten Schicht des lichtempfindlichen photographischen Materials einverleibt.
Bei dem kolloidalen Siliciumdioxid handelt es sich um eine kolloidale
Lösung, die Wasser als Hauptdispergiermedium enthält, wobei fein zerteilte Mikroteilchen aus Kieselsäureanhydrid mit 7 bis
120 πιμ mittlerer Teilchengröße in Wasser dispergiert sind, wobei
die Hauptkomponente aus Siliciumdioxid (SiO2) besteht und Aluminiumoxid
oder Natriumaluminat als untergeordnete Komponente enthalten sein können.
Weiterhin kann das kolloidale Siliciumdioxid anorganische Salze, wie Natriumhydroxid, Lithiumhydroxid oder Ammoniumhydroxid, oder
organische Salze, wie Tetramethylenammoniumionen, als alkalische Komponenten enthalten. Diese alkalischen Komponenten dienen als
Stabilisierungsmittel für kolloidales Siliciumdioxid. Das kolloidale Siliciumdioxid ist im einzelnen in Surface and
Colloid Science, 6_, 3-100 (1973), John Wiley & Sons, Her. Egon Matijevic beschrieben.
Beispiele für kolloidale Siliciumdioxide sind nachfolgend angegeben.
(1) Kolloidales Siliciumdioxid, das Natriumhydroxid als Stabilisierungsmittel
enthält: Ludox AM (Si02/Na_O = 231), Ludox HS-30
(SiO2/Na2O = 94), Ludox HS-40 (SiO2/Na2O = 93) und Ludox LS
(SiO2/Na2O = 300), es handelt sich hierbei um Handelsbezeichnungen
der E.I. Du Pont de Nemours & Co., USA; Nalcoag 1030 (SiOj/Na-O
= 75), Nalcoag 1050 (SiO2/Na2O = 163), Nalcoag 1060 (SiC«2/Na20
= 500) und Nalcoag (SiO2/Na2O = 340), es handelt sich hierbei um
Handelsbezeichnungen der Nalco Chem. Co., USA; und Snowtex 20
(SiO2/Na2O ^ 57), Snowtex 30 (SiO2/Na2O ^ 50), Snowtex C (SiO3/
8098U /0B8S
Na2O ^ 100) und Snowtex O (SiO2/Na2O ^ 500), es handelt sich hierbei
um Handeisbezeichnungen der Nissan Chemical Industries Ltd.,
Tokyo, Japan.
Bei SiO2/Na2O handelt es sich um das Gewichtsverhältnis von Siliciumdioxid
(SiO2) zu Natriumhydroxid, wobei das Natriumhydroxid auf Na2O berechnet ist; dieser Wert wird in den Katalogen angegeben.
(2) Kolloidales Siliciumdioxid, das Ammoniak als Stabilisierungsmittel
enthält: Ludox AS (SiO2ZNH3 =65); es handelt sich hierbei
um eine Handelsbezeichnung der B.I. Du Pont de Nemours & Co.
(3) Kolloidales Siliciumdioxid, das Aluminiumoxid als Stabilisierungsmittel
enthält: Nalcoag D - 2361 (SiO2/Al2O3 = 17);
es handelt sich hierbei um eine Handelsbezeichnung der Nalco Chem.
Co.
Obwohl einige dieser kolloidalen Siliciumdioxide die Antiklebeeigenschaften
in geringem Umfang verbessern, wenn man sie der obersten Schicht von lichtempfindlichem photographischen Material
einverleibt, ist die Wirkung gering, im Vergleich zu dem kolloidalen
Siliciumdioxid der Erfindung.
Obwohl das kolloidale Siliciumdioxid der Erfindung Kaliumhydroxid als Stabilisierungsmittel enthält, ist es bisher nicht bekannt,
daß bei seiner Einverleibung in die oberste Schicht von lichtempfindlichem photographischen Material die Antiklebeeigenschaften
erheblich verbessert werden, im Vergleich zu den Fällen, wo kolloidales Siliciumdioxid mit anderen Stabilisierungsmitteln Verwendung
findet.
Bei einer bevorzugten Zusammensetzung des erfindungsgemäß verwendeten
kolloidalen Siliciumdioxid ist SiO2VNa2O * 350 bis 1200, insbesondere
500 bis 900, und der Gehalt an Kaliumhydroxid, das als Stabilisierungsmittel Verwendung findet (berechnet auf K 20) SiO2/
K-O = 50 bis 1500, insbesondere 80 bis 1000.
Erfindungsgemäß wird das kolloidale Siliciumdioxid vorzugsweise
in einer Menge von 0,05 bis 1,0, insbesondere 0,3 bis 0,5, ausgedrückt als Trockengewichtsverhältnis, bezogen auf das Bindemittel
der obersten Schicht, verwendet.
Als oberste Schicht kommt erfindungsgemäß eine Schutzschicht oder
eine Rückschicht in Frage. Die bevorzugte Dicke der Schutzschicht beträgt 0,1 bis 3 μ, insbesondere 1 bis 2 μ, und diejenige der
Rückschicht 1 bis 10 μ, insbesondere 3 bis 6 μ.
Als Träger für das lichtempfindliche photographische Material
der Erfindung kommen z.B. Folien bzw. Filme aus Cellulosenitrat, Celluloseacetat, Celluloseacetatbutyrat, Celluloseacetatpropionat,
Polystyrol, Polyäthylentherephthalat oder Polycarbonat in Frage. Weiterhin sind auch Laminate, Papier, usw. geeignet. Weitere geeignete
Träger sind beschichtete oder laminierte Papiere, hergestellt durch Beschichten oder Laminieren unter Verwendung von
Bariumoxid oder Polymerisaten von οό-Olef inen mit 2 bis 10 C-Atomen,
wie Polyäthylen, Polypropylen oder Äthylen-Butylen-Copolymerisate, und Kunststoffolien, wie in der bekanntgemachten JA-PA 19068/72
beschrieben, wobei die Oberfläche aufgerauht wird, um das Adhäsionsverhalten gegenüber anderen hochmolekularen Stoffen zu verbessern,
und um die Bedruckbarkeit zu verbessern.
In den Fällen, wo die Haftfestigkeit zwischen dem Träger und der
photographischen Emulsionsschicht unzureichend ist, versieht man den Träger mit einem Unterguß, der als HaftungsVermittler wirkt.
Zur weiteren Verbesserung der Haftungseigenschaften kann die Trägeroberfläche herkömmlichen Vorbehandlungen unterworfen werden.
Beispiele hierfür sind die Behandlung mittels Coronaentladungen, UV-Strahlung oder Flammen.
In dem lichtempfindlichen photographischen Material der Erfindung
können die oberste Schicht und andere photographische Schichten die nachfolgend angegebenen Bindemittel enthalten. Beispiele für
809841/058S
275&631
solche Bindemittel sind hydrophile Kolloide, wie Proteine, z.B.
Gelatine, kolloidales Albumin oder Casein, Celluloseverbxndungen, wie Carboxydiniethylcellulose oder Hydroxyäthylcellulose, Zuckerderivate,
wie Agar, Natriumalginat oder Stärkederivate,sowie synthetische
hydrophile Kolloide, wie Polyvinylalkohol, Poly-N-vinylpyrrolidon, Polyacrylsäure,polyacrylamid,Derivate hiervon und partielle
Hydrolyseprodukte hiervon. Gegebenenfalls wird ein Gemisch aus zwei oder mehr der vorgenannten Kolloide verwendet.
In diesen Kolloiden ist Gelatine das am meisten verwendete Bindemittel.
Unter dem Begriff Gelatine werden hier die sogenannte kalkbehandelte Gelatine, säurebehandelte Gelatine und enzymbehandelte
Gelatine verstanden. Die Gelatine kann ganz oder teilweise nicht nur durch synthetische hochmolekulare Stoffe, sondern auch
durch sogenannte Gelatinederivate ersetzt werden. Geeignete Gelatinederivate werden erhalten durch Modifizierung der im Gelatinemolekül
enthaltenen Amino-Imino-yHydroxyl- und/oder Carboxylgruppen
mit Chemikalien, die eine gegenüber diesen Gruppen reaktive Gruppe besitzen. Als Gelatinederivate sind auch Pfropfpolymerisate geeignet,
die durch Aufpfropfung hochmolekularer Stoffe erhalten werden.
Die oberste Schicht und andere hydrophile Kolloidschichten des lichtempfindlichen photographischen Materials der Erfindung
können durch verschiedene Arten organischer oder anorganischer Härter (allein oder in Kombination) gehärtet werden.
Beispiele für bevorzugte Härter sind in "The Theory of the Photographic
Process", 3. Aufl. (1966), von C.E.K.Mees und T.H. James, den US-PS 3 316 095, 3 232 764, 3 288 775, 2 732 303, 3 635 718,
3 232 763, 2 732 316, 2 586 168, 3 103 437, 3 017 280, 2 983 611,
2 725 294, 2 725 295, 3 100 704, 3 091 537, 3 321 313, 3 543 292 und
3 125 449 sowie den GB-PS 994 869 und 1 167 207 beschrieben. Beispiele
für geeignete Härter sind Aldehyde, wie Mucochlorsäure, Mucobromsäure, Mucophenoxychlorsäure, Mucophenoxybromsäure, Formaldehyd,
Dimethylolharnstoff, Trimethylolmelamin, Glyoxal, Monomethylglyoxal,
2,3-Dihydroxy-1,4-dioxan, 2,3-Dihydroxy-5-methyl-
809841/0586
1,4-dioxan, Succinaldehyd, 2,5-Dimethoxytetrahydrofuran oder
Glutaraldehyd; Reaktive Vinylverbindungen, wie Divinylsulfon, Methylenbismaleimid, 5-Acetyl-1 ,3-diacryloyl-hexahydro-s-triazin,
1,3,5-Triacryloyl-hexahydro-s-triazin, 1,3,5-Trivinylsulfonylhexahydro-s-triazin,
Bis-(vinylsulfonylmethyl)-äther, 1,3-Bis-(vinylsulfonyl)-2-propanol
oder 1,3-Bis-(vinylsulfonylacetylamid)-propan; reaktive Halogenverbindungen wie 2,4-Dichlor-6-hydroxy~striazin-Natrium,
2,4-Dichlor-6-methoxy-s-triazin, 2,4-Dichlor-6-(4-sulfoanilino)-s-triazin-Natrium,
2,4-Dichlor-6-(2-sulfoäthylaraino)-s-triazin
oder Ν,Ν'-Bis-(2-chloräthylcarbamoyl)-piperazin;
Epoxyverbindungen, wie Bis-(2,3- epoxypropyl)-methylpropylammonium-p-toluolsulfonat,
1,4-Bis-(2',3'-epoxypropyloxy)-butan, 1,3,5-Triglycidylisocyanurat oder 1,3-Diglycidyl-5-(Jf'-acetoxy-ß-oxypropyl)-isocyanurat;
Äthylenimine, wie 2,4,6-Triäthylenimino-s-triazin,
1,6-Hexamethylen-N,Nl-bisäthylenharnstoff
oder Bis-ß-äthyleniminoäthylthioäther; Methansulfonsäureester,
wie 1,2-Di-(raethansul&noxy)-äthan, 1,4-Di-(methansulfonoxy)-butan
oder 1,5-Di-(methansulfonoxy)-pentan; Carbodiimide, wie Dicyclohexylcarbodiimid, i-Cyclohexyl-3-(3-trimethylaminopropyl)-carbodiimid-p-toluolsulfonat
oder i-Äthyl-3-(3-dimethylaminopropyl)-carbodiimid-hydrochlorid;
Isoxazole, wie 2,5-Dimethylisoxazolperchbrat,
2-Äthyl-5-phenylisoxazol-3'-sulfonat oder 5,5 * -(p-Phenylen)-bisisoxazol;
sowie anorganische Verbindungen, wie Chromalaun oder Chromacetat.
Die oberste Schicht und andere photographische Schichten können eine oder mehrere grenzflächenaktive Stoffe (Tenside) enthalten.
Obwohl sie als Beschichtungshilfsmittel Verwendung finden, dienen sie manchmal auch anderen Zwecken, z.B. der Emulgierung, Sensibilisierung,
der Verbesserung anderer photographischer Eigenschaften oder zur Verhinderung elektrostatischer Aufladungen.
Diese Tenside werden eingeteilt in natürliche Tenside, wie Saponin,
nicht-ionogene Tenside, wie Tenside vom Alkylenoxid-, Glycerin- oder Glycidoltyp, kationaktive Tenside, wie höhere Alkylamine,
quartäre Ammoniumsalze, Pyridin und andere heterocyclische Verbindungen, Phosphonium- oder Sulfoniumverbindungen, usw., anion-
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aktive Tenside mit sauren Gruppen, wie Carboxyl-, Sulfonsäure-,
Phosphorsäure-, Schwefelsäureester- oder Phösphorsäureestergruppen,
usw.,und ampholytische Tenside wie Aminosäuren, Aminosulfonsäuren
oder Schwefelsäureester oder Phosphorsäureester von Aminoalkoholen, usw.
Darüber hinaus kann erfindungsgemäß die oberste Schicht ein Gleitmittel, z.B. Silikone, wie in den OS-PS 3 079 837, 3 080 317,
3 545 970 und 3 294 537 beschrieben, oder modifizierte Silikone der allgemeinen Formel
(CH3)3- Si - O I Si -O
Si - Ο
•Si - 0 I
Ji - (CH3)
(OCH2CH2) R·
in der 1 eine ganze Zahl von 0 bis 100, m eine ganze Zahl von
0 bis 100, 1+ra+n eine ganze Zahl von 15 bis 1000 und ρ eine ganze
Zahl von 1 bis 100 bedeuten, R eine C- -« Alkylgruppe oder eine
Aralkylgruppe (z.B. eine Benzy!gruppe oder eine alkylsuostituierte
Aralkylgruppe) ist, und R1 ein Wasserstoff atom oder eine C., ^
Alkylgruppe darstellt, enthalten.
In dem lichtempfindlichen photographischen Material der Erfindung kann die oberste Schicht oder andere photographische Schichten
Aufheller, wie Stilbene, Triazine, Oxazole oder Cumarine, UV-Absorber, wie Benzotriazole oder Thiazoline sowie andere, die
physikalischen Eigenschaften verbessernde Stoffe enthalten.
Die oberste Schicht des lichtempfindlichen photographischen Materials der Erfindung kann ein Mattierungsmittel in solcher
Menge enthalten, daß die Transparenz und Körnigkeit der Bilder im wesentlichen nicht beeinträchtigt wird. Als Mattierungsmittel
sind z.B. anorganische Mattierungsmittel mit 0,5 bis 1Ou mittlerer Teilchengröße, wie Siliciumdioxid oder Natriumcarbonat,oder organische
Mattierungsmittel wie Polymethylmethacrylat, geeignet.
•09841/05*5
Weiterhin können die oberste Schicht und andere photographische Schichten des lichtempfindlichen photographischen Materials der
Erfindung einen Polymerlatex, wie in den US-PS 3 411 911, 3 411 912 und 3 525 620 beschrieben, enthalten. Die in dem lichtempfindlichen
photographischen Material der Erfindung verwendeten Halogensilbereiaulsionen werden im allgemeinen hergestellt durch
Vermischen einer Lösung wasserlöslicher Silbersalze (z.B. Silbernitrat) mit einer Lösung wasserlöslicher Halogensalze (z.B. Kaliumbromid)
in Gegenwart einer Lösung eines wasserlöslichen hochmolekularen Stoffes wie Gelatine.
Als Silberhalogenid sind z.B. Silberchlorid, Silberbromid, Silberbromchlorid,
Silberjodbromid und Silberjodbromchlorid geeignet, wobei die Kristallform der Teilchen oder die Verteilung der Teilchengröße
keiner Beschränkung unterliegen.
Als Sensibilisierungsmittel kann man Goldverbindungen oder Rhodium- oder Iridiumverbindungen einverleiben.
Selbstverständlich können auch andere Hilfsstoffe Verwendung finden.
Beispiele für solche Hilfsstoffe sind chemische Sensibilisatoren, Antischleiermittel, Stabilisatoren, Härter, Spektralsensibilisatoren.
Farbstoffe und Farbkuppler, die in Halogensilberemulsionsschichten oder anderen photographischen Schichten Verwendung
finden. Eine geeignete Methode zur Entwicklung des lichtempfindlichen photographischen Materials ist z.B. in "Product
Licensing Index", Bd. 92, 107 - 110 (Dez. 1971) beschrieben.
Die Beispiele erläutern die Erfindung.
Beispiel 1
Beispiel 1
Auf eine Seite eines Polyäthylenterephthalatfilms (Dicke 100 μ) ,
der mit Untergüssen ausgerüstet ist, wird eine Halogensilber-Emulsionsschicht der folgenden Rezeptur (1) mit einer Trockendicke
von 6,0μ und 5,0 g/m2 Silbergehalt aufgebracht. Auf die erhaltene
&09841/0505
AA
Halogensilber-Emulsionsschicht wird eine Schutzschicht der folgenden
Rezeptur (2) aufgebracht. Auf die Rückseite wird eine Gelatinerückschicht der folgenden Rezeptur (3) mit einer Trockendicke von 5μ aufgebracht. Hierbei erhält man die Prüfmuster (1)
bis (4).
Rezeptur (1)
Gelatine: S ilberj odbr omchlorid:
Chlorgold-(III)-säure : Sensibilisatorfarbstoff:
Antischleiermittel: PoIyoxyäthylenverbindung:
Tensid: Härter für die Gelatine:
Zusammensetzung der Halogensilber-Emulsionsschicht. 5g/m2
(Cl: 80 Molprozent, Br: 19,5 Molprozent und J: 0,5 Molprozent)
0,1 mg/m2
3-Allyl-5-(2-(1-äthyl)-4-methyl-2-tetrazolin-5-yliden-äthyliden)-rhodanin
6mg/m2
4-Hydroxy-6-methyl-1,3,3a,7-tetrazainden 30rag/m2
°9H19 "Ο ° - (OH2CH2O)5O8 \ 12ng/m.
Natrium-p-dodecylbenzolsulfonat 40mg/m2
2-Hydroxy-4,6-dichlor-s-triazin-Natrium 60mg/m2
Rezeptur (2) Gelatine: Mattierungsmittel:
Tensid: Härter für die Gelatine:
Zusammensetzung der Schutzschicht 1g/ma
Siliciumdioxidteilchen mit 4μ mittlerer Teilchengröße
0,05 g/m* Natrium-p-dodecylbenzolsulfonat 0,03g/m2
2-Hydroxy-4,6-dichlor-s-triazin-Natrium 0,01g/m2
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Rezeptur (3) Gelatine: Mattierungsmittel:
Polymerlatex:
Kolloidales Siliciumdioxid:
Tensid: Härter für die Gelatine:
Farbstoff: Zusammensetzung für die Rückschicht 5g/m2
Polymethylmethacrylat mit 3,0 bis 4,0μ mittlerer Teilchengröße
Prüfmuster (1) Kontrolle: 0,8g/100g Gelatine
Prüfmuster (2) bis (4): 0,2g/100g Gelatine
Polyäthylacrylatlatex mit einem Molekulargewichtsmittel von 300 000 und 50πιμ
mittlerer Teilchengröße,50g/100g Gelatine
Prüfmuster (1)
Prüfmuster (2)
Prüfmuster (3)
Prüfmuster (4)
Kontrolle: Abwesenheit Snowtex-20 50g/100g Gelatine
Snowtex-C 50g/100g Gelatine
Kolloidales Siliciumdioxid mit SiO2/K2O =
935, hergestellt durch Zugabe von Kaliumhydroxid zu einer Lösung von kolloidalem
Siliciumdioxid mit SiO2/Na2O = 500.
50g/100g Gelatine, berechnet auf Trockengewicht.
Natrium-p-dodecylbenzolsulfonat 40mg/m2
2-Hydroxy-4,6-dichlor-s-triazin-Natrium
60 mg/m2
1:1:1-Gemisch aus den Farbstoffen (I),
(II) und (III) 0,3g/m2
809841/0585
Farbstoff (I)
J a ι ti μ -
Kx ,C, ^ K
K O HO K'
SO3K
SO3K ··.
Farbstoff (II)
E2K
SO3KH^
C
fin+- SO3IiH-
CH
Farbstoff (III)
3 - C - C = CH - CH=CH - CH=CH - C - C - CH '·
Il I 1! Il .3 !
SO3K
SO3E
Die Prüfmuster (1) bis (4) werden wie nachfolgend angegeben untersucht.
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Adhäsionstest:
Jedes Prüfmuster wird auf 4 χ 4 cm geschnitten, so daß man eine
aus zwei Lagen bestehende Anordnung erhält. Nachdem man 24 Stunden bei 35°C und 75% relativer Luftfeuchte klimatisiert hat, wird die
Rückschicht in Berührung mit der Schutzschicht des Prüfmusters in der gleichen Anordnung gebracht. Dann läßt man die Anordnung bei
350C und 75% relativer Luftfeuchte 24 Stunden unter 1 kg Belastung
stehen. Nach Entfernung des Gewichtes zieht man die Rückschicht von der Schutzschicht ab, worauf der Adhäsionsbereich (der Teil der
Schutzschicht, der durch den von der Rückschicht übertragenen Farbstoff gefärbt ist) gemessen wird.
Die Bewertung der Antiklebeeigenschaften erfolgt gemäß folgendem
Standard:
Bewertung Fläche des Adhäsionsbereiches in %
A 0-25
B 26-50
C 51-75
D über 76 bzw. kein Abziehen we
gen der großen Haftung möglich.
Tabelle I. Ergebnis der Antiklebeeigenschaften - Prüfung
Prüf mus ter
JL JL J. ±
Kontrolle Vergleich Vergleich Erfindung
Antiklebeeigenschaf- D B-C B-C A ten
Tabelle I zeigt, daß bei der Rückschicht, die kolloidales Siliciumdioxid
mit SiO2/K2O = 935 und SiO2/Na2O = 500 enthält, die Antiklebeeigenschaf
ten erheblich verbessert sind.
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Es werden die Prüfmuster (11) bis (15) mit gleicher Rezeptur
wie in Beispiel 1 hergestellt, wobei jedoch die Rückschicht gemäß Rezeptur (4) hergestellt wird.
Rezeptur (4) Zusammensetzung der Rückschicht
Die Gelatine, der Polymerlatex, das Tensid, der Härter für die Gelatine und der Farbstoff sind
jeweils die gleichen wie in Rezeptur (3) von Beispiel 1.
Mattierungsmittel: Polymethylmethacrylat mit 3,0 bis 4,0μ mittlerer
Mattierungsmittel: Polymethylmethacrylat mit 3,0 bis 4,0μ mittlerer
Teilchengröße.
Prüfmuster (11) Kontrolle: 0,8g/100g Gelatine
Prüfmuster (12) - (15) : 0,2g/10Og Gelatine
Kolloidales
Siliciumdioxid: Prüfmuster (11) Kontrolle: Abwesenheit
Siliciumdioxid: Prüfmuster (11) Kontrolle: Abwesenheit
Prüfmuster (12): Ludox AM 40g/100g Gelatine Prüfmuster (13): Ludox HS-30 40g/100g Gelatine
Prüfmuster (14): Nalcoag 1030 40g/100g Gelatine Prüfmuster (15): Kolloidales Siliciumdioxid mit
SiO2/K2O = 130, hergestellt durch
Zugabe von Kaliumhydroxid zu einer Lösung von kolloidalem Siliciumdioxid mit SiO2/Na2O = 770.
40g/100g Gelatine
Die Ergebnisse des gemäß Beispiel 1 durchgeführten Adhäsionstests sind in Tabelle II zusammengestellt.
809841/0585
Tabelle II. Ergebnisse der Antiklebeeigenschaften - Prüfung
Prüfmuster
11 12 1_3 U 15
Kontrolle Vergleich Vergleich Vergleich Erfindung
Antiklebeeigenschaf- D B-C B-C B-C A ten
Tabelle II zeigt, daß die Rückschicht, die kolloidales Siliciumdioxid'
mit SiO2/K2O =130 und SiO2/Na2O =
eigenschaften erheblich verbessert sind.
dioxid'mit SiO2/K2O =130 und SiO2/Na2O = 770, enthält, die Antiklebe-
Auf eine Seite einer mit Polyäthylen laminierten Papierschicht werden eine blauempfindliche Schicht, eine Zwischenschicht, eine
grünempfindliche Schicht, eine UV-absorbierende Schicht, eine rotempfindliche Schicht und eine Schutzschicht in der angegebenen
Reihenfolge aufgebracht, wobei die Prüfmuster (21) bis (25) mit der angegebenen Rezeptur (5) entstehen.
Rezeptur (5):
Rezeptur 5-1 Zusammensetzung der Schutzschicht:
Gelatine: 1,5g/m2
Tensid: Bernsteinsäure-bis-(2-äthylhexyl)-ester-2-sutonat,
Natriumsalz 1,4g/100g Gelatine Härter für die
Gelatine: 2-Hydroxy-4,6-dichloro-s-triazin—Natrium
Gelatine: 2-Hydroxy-4,6-dichloro-s-triazin—Natrium
1,5g/100g Gelatine
Kolloidales Siliciumdioxid: Prüfmuster (21) Kontrolle: Abwesenheit
Kolloidales Siliciumdioxid: Prüfmuster (21) Kontrolle: Abwesenheit
Prüfmuster (22): Kolloidales Siliciumdioxid mit
SiO2/K2O = 160 und SiO2/Na2O =
809841 /0
750 15g/100g Gelatine
I 5 8 δ
Prüfmuster (23): Kolloidales Siliciumdioxid mit
SiO2/K2O = 160 und SiO2/Na2O = 750
30g/100g Gelatine Prüfmuster (24): Kolloidales Siliciumdioxid mit SiO /
K2O■■ 160 und SiO2/Na2O = 750
45g/100g Gelatine Prüfmuster (25): Kolloidales Siliciumdioxid mit Si
K2O = 160 und SiO2/Na2O = 750
6Og/100g Gelatine
Rezeptur 5-2 Zusammensetzung der rotempfindlichen Schicht
Gelatine: 1,5g/ma + Cellulosesulfat mit einem Molekulargewichtsmittel
von 100 000: 0,15 g/m2 Silberhalogenid: AgBr: 50 Molprozent + AgCl: 50 Molprozent 0,5g/m2
Kuppler: 2-^c- (2,4-Di-tert. -amylphenoxy) -bu ty r amidol-4 , 6-
dichlor-5-methylphenol 100g/100g Silberhalogenid
Sensibilisator farbstoff :Anhydro-3,3'-di-fc^-sulfobutyl)-5,5'-6,6·-tetramethyl-
thiacarbocyanin-hydroxid 0,3g/100g Silberhalogenid Antischleiermittel:
4-Hydroxy-6-methyl-1,3,3a,7-tetrazainden 0,9g/100g
Silberhalogenid
Härter für
Härter für
die Gelatine:Bis-(vinylsulfonyläthyD-äther 3,5g/100g Gelatine
Tensid: Natriumdodecylbenzolsulfonat 1g/100g Gelatine
Rezeptur 5-3 Zusammensetzung der üV-absorbierenden Schicht Gelatine: 1g/ma + Cellulosesulfat mit einem Molekulargewichts-
mittel von 100 000: 0,1g/m*
UV-Absorber: Tinuvin 1g/m
Härter für
die Gelatine: 2-Hydroxy-4,6-dichlor-s-triazin Natrium: 1,5g/100g
Härter für
die Gelatine: 2-Hydroxy-4,6-dichlor-s-triazin Natrium: 1,5g/100g
Gelatine
Tensid: Natriumdodecylbenzolsulfonat 1g/100g Gelatine
Tensid: Natriumdodecylbenzolsulfonat 1g/100g Gelatine
809841/0585
Rezeptur 5-4 Zusammensetzung der grünempfindlichen Schicht:
Gelatine: 1,5g/m2 + Cellulosesulfat mit einem Molekulargewichtsmittel
von 100 000: 0,15g/m2 Silberhalogenid: AgBr:50 Molprozent AgCl: 50 Molprozent 0,7g/m2
Kuppler: 1-(2,4,6-Trichlorphenyl)-3-(2-chlor-5-tetradecanamido)-anilino-2-pyrazolino-5-on
57g/100g Silberhalogenid
Sensibilisa-
torfarbstoff: Anhydro-3,3'-di-^-sulfopropyl)-5-5'-diphenyl-9-äthylcarbocyanin-hydroxid-Natrium
0,3g/100g Silberhalogenid Antischleiermittel: 4-Hydroxy-6-methyl-1,3,3a,7-tetrazainden
0,6g/100g Silberhalogenid Härter für
die Gelatine: Bis-(vinylsulfonyläthyl)-äther 3g/100g Gelatine
Tensid: Natriumdodecylbenzolsulfonat 0,8g/100g Gelatine
Rezeptur 5-5 Zusammensetzung der Zwischenschicht
Gelatine: 1,5g/m2 + Cellulosesulfat mit einem Molekulargewichtsmittel von 100 000: 0,15g/m2
Härter für
die Gelatine: 2-Hydroxy-4,6-dichlor-s-triazin-Natrium
1,5g/100g Gelatine
Tensid: Natriumdodecylbenzolsulfonat 0,6g/100g Gelatine
Rezeptur 5-6 Zusammensetzung der blauempfindlichen Schicht Gelatine: 1,5g/m2 + Cellulosesulfat mit einem Molekulargewichtsmittel
von 100 000 0,15g/ m2 Silberhalogenid: AgBr: 80Molprozent AgCl: 20 Molprozent
0,7g/m2
Kuppler: oC-Pivaloyl-=*-- (2 , 4-dioxo-5 , 5 ' -dimethyloxazolidin-3-yl)-
-2-chlor-5-^5c- (2 , 4-di-tert.-amylphenoxy) -butyramidoj1
-acetanilid 0,7g/100g Silberhalogenid
809841/0585
Antischleiermittel : 4-Hydroxy-6-methyl-1,3,3ä,7-tetrazainden
O,4g/10Og Silberhalogenid
Härter für die
Gelatine: Bis-(vinylsulfönyläthyl)-äther 2,8g/!00g Gelatine
Tensid: Natriumdodecylbenzolsulfonat 0f3g/100g Gelatine
Hierauf werden die Prüfmuster (21) bis (25) dem nachfolgend beschriebenen
Entwicklungsverfahren für Farbmaterial unterworfen, worauf der Adhäsionstest durchgeführt wird.
Verarbeitung:
Verarbeitungsstufe Temperatur, 0C
Farbentwicklung | 31 |
Stoppfixieren | 31 |
Bleichfixieren | 31 |
Wässern | 31 |
Stabilisieren | 31 |
Spülen | 31 |
Zusammensetzung der Farbentwicklerlösung:
Benzylalkohol | 15 | ml |
Natriumsulfit | 5 | g |
Kaliumbromid | 0, | 5g |
Hydroxylaminsulfat | 2 | g |
Natriumcarbonat | 3 | g |
Natriumnitrilotriacetat | 2 | g |
4-Amino-3-methyl-N-äthyl-N-^- | ||
(methansulfonamid)-äthylanilin | 5 | g |
Wasser, ergänzt zu | 1000 | ml |
Zeit, | min | 5 |
3, | 5 | |
0, | 5 | |
1, | ||
1 | ||
1 | 2 see |
809841
Zusammensetzung der Stoppfixierlösung:
Natriumthiosulfat 30 g
Natriumsulfit 2 g
Natriumacetat 25 g
Weinsäure 4,3 g
Natriumcarbonat-monohydrat 1,9 g
Wasser, ergänzt zu 1000 ml.
Zusammensetzung der Bleichfixierlösung:
Ammoniumthiosulfat, 70 %ige Lösung 150 ml
Eisenäthylendiamintetraacetat 36,6 g
Dinatriumäthylendiamintetraacetat 3,4 g
Natriumsulfit 2 g
Natriumcarbonat-monohydrat 5,5 g
Wasser, ergänzt zu 1000 ml
Zusammensetzung der Stabilisierungslösung:
Natriumbenzoat 0,5 g
Ci*tronensäuremonohydrat 6,7 g
Diäthanolamin 2,2 g
Wasser, ergänzt zu 1000 ml
Adhäsionstest:
Nachdem man die Prüfmuster dem oben beschriebenen Entwicklungsverfahren
unterworfen hat, werden sie getrocknet und auf Größe (4x8 cm) geschnitten, so daß man eine aus zwei Lagen bestehende
•Anordnung erhält. Nachdem man 24 Stunden bei 35 0C und 90%
relativer Luftfeuchte klimatisiert hat, wird die Schutzschicht in Berührung mit der Schutzschicht des gleichen Prüfmusters in der
gleichen Anordnung gebracht. Hierauf läßt man die Anordnung bei 350C und 90% relativer Luftfeuchte 24 Stunden unter 1 kg BeIasturg
stehen. Nachdem man das Gewicht entfernt hat, werden die
8098 U/0585
COPY
Schutzschichten jeweils abgezogen, worauf der Adhäsionsbereich (unterschiedlicher Glanz) gemessen wird. Die Bewertung der
Antiklebeeigenschaften erfolgt nach folgendem Standard:
Bewertung Adhäsionsfläche in %
A 0-40
B 41-80
C über 81 bzw. Emulsionsschicht
oder Träger teilweise abgezogen wegen zu großer Haftfestigkeit
Tabelle III. Ergebnisse der Antiklebeeigenschaften - Prüfung
Prüfmuster
2J 22 23 24 25 Kontrolle Erfindung Erfindung Erfindung Erfindung
Antiklebeeigenschaf ten CBAA A
Tabelle III zeigt, daß die Antiklebeeigenschaften erfindungsgemäß
erheblich verbessert sind.
809841/0585
COPY
Claims (1)
- PATENTANWÄLTE A. GRÜNECKERH. KHSiKELDEY W. STOCKMATRΡ». Η. JAKOBβ. BEZOLO8 MÜNCHEN 2229. Dezember 1977 P 12 296P at en tan s pruchVerfahren zur Verbesserung der Antiklebeeigenschaften von lichtempfindlichem photographischera Material, dadurch
gekennz e i chnet f daß man der obersten Schicht des lichtempfindlichen photographischen Materials kolloidales Siliciumdioxid, hergestellt durch Zugabe von Kaliumhydroxid zu einer wässrigen Lösung von kolloidalem Siliciumdioxid, einverleibt.809841/0585(οββ) aaaasa tslbx oe-a*s»o τΒΧκβηΛΜΜ« monvat tclekofherer0RK3INAL ISSPPCTED
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