DE2738204C3 - Verfahren zur Herstellung von Hochdruck-Entladungslampen - Google Patents
Verfahren zur Herstellung von Hochdruck-EntladungslampenInfo
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- DE2738204C3 DE2738204C3 DE19772738204 DE2738204A DE2738204C3 DE 2738204 C3 DE2738204 C3 DE 2738204C3 DE 19772738204 DE19772738204 DE 19772738204 DE 2738204 A DE2738204 A DE 2738204A DE 2738204 C3 DE2738204 C3 DE 2738204C3
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- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J9/00—Apparatus or processes specially adapted for the manufacture, installation, removal, maintenance of electric discharge tubes, discharge lamps, or parts thereof; Recovery of material from discharge tubes or lamps
- H01J9/38—Exhausting, degassing, filling, or cleaning vessels
- H01J9/395—Filling vessels
Description
Die Erfindung betrifft ein Verfahren zur Herstellung von Hochdruck-Entladungslampen, deren Entladungsgefäß
außer Quecksilber und Edelgas als Zusatz ein oder mehrere Metalle wenigstens zum Teil in Form von
Halogeniden enthält, wobei die zu den Halogeniden sowie zu dem gegebenenfalls vorhandenen freien
Halogen chemisch äquivalente Halogennienge in Form von Quecksilberhalogenid eingebracht wird.
Bei einem solchen bekannten Verfahren besteht die in das Entladungsgefäß vor dessen Evakuierung und
Füllung mit Edelgas eingebrachte Füllung aus Quecksilberhalogeniden, denen leicht ionisierbare Metallhalogenide
und ein oder mehrere Zusätze von Metallen beigemischt sind, beispielsweise Yttrium, Thorium,
Magnesium, Hafnium, Aluminium und Metalle der Seltenen Erden. Bei der Inbetriebnahme der Lampe
bilden sich aus dem Quecksilberhalogenid und den Metallen ein Metallhalogenid und Quecksilber. Durch
das Vorhandensein des Metallhalogcnids wird die Zündspannung der Lampe während sehr langer
Zeiträume im wesentlichen konstant gehalten (DE-OS 21 39 078).
Das bekannte Verfahren hat den Nachteil, daß die verwendeten Metalle bei Raumtemperatur und Anwesenheit
von Luft oxidieren, was zu einer unerwünschten Verunreinigung der Füllung führt. Da es sich nicht
vermeiden läßt, daß beim Einschalten der Lampe Metall der Füllung an der Wand des Entladungsgefäßes anliegt,
ist eine chemische Reaktion dieses Metalls mit der Gefäßwand nicht zu vermeiden, wodurch die optischen
und mechanischen Eigenschaften der Wand des Entladungsgefäßes beeinträchtigt werden. Außerdem
führt der Verbrauch dieses Metalls durch die Reaktion mit der Quarzwand zu einer Veränderung der
Zusammensetzung der Zusätze, die für die gewollten Reaktionen zur Verfugung stehen. Die Dosierung der in
die Füllung einzubringenden Mengen der Zusätze ist äußerst schwierig, vor allem weil das Dosieren und das
Einbringen der Füllung in das Entladungsgefäß feuchtefrei zu erfolgen hat. Schließlich hat sich noch gezeigt,
daß das Erreichen eines stabilen Belriebszustands der Lampe relativ viel Zeit in Anspruch nimmt.
Die der Erfindung zugrundeliegende Aufgabe besteht deshalb darin, das Verfahren der eingangs genannten
Art so zu gestalten, daß neben einer einfach und feuchtefrei zu erreichenden präzisen Substanzdosierung
ein einwandfreier, also belagfreier Zustand der Wände des Enlladungsgefäßes gewährleistet ist.
Diese Aufgabe wird ausgehend von dem Verfahren
der eingangs genannten ArI dadurch gelöst, daß mindestens ein Metall der im Zusatz enthaltenen
Metalle und Metallhalogenide sowie die mit dem Halogenid dieses Metal! chemisch äquivalente Menge
desselben Metalls in Form seiner Quecksilberlegierung eingebracht wird.
Das erfindungsgemäße Verfahren hat den Vorteil, daß die genaue Dosierung der äußerst geringen
κι Zusatzmengen leicht durchführbar ist, weil die verwendete
Quecksilberlegierung mit genau vorgeschriebener Zusammensetzung in größeren Mengen leich. hergestellt
werden kann. Die Streuung der Dosierung ist somit immer zum Gcwichisverhältnis aus Legierung
ii und Zusatz proportional. Wenn die Quecksilberlegierung
flüssig ist, ist die volumenmäßige Dosierung besonders einfach. Verglichen mit reinen Metallen
oxidieren die Quecksilberlegierungcn dieser Metalle gewöhnlich nicht, so daß eine Verunreinigung der
Füllung mil Sauerstoff oder Sauerstoffverbindungen verhindert wird. Während des Betriebs der Lampe
verdampft das Quecksilber aus der Legierung, wobei ein Metall in äußerst feiner Verteilung zurückbleibt. Dies
bedingt wieder eine rasche Reaktion mit den Dämpfen des verdampften Quccksilbcrhalogcnids, so daß bereits
nach sehr kurzer Zeil eine Stabilisierung der Betriebsparameter der Lampe eintritt, während keine Möglichkeit
besteht, daß die Metalle mit der Gefäßwand chemisch reagieren. Schließlich entfallen alle Opcratio-
JO nen, die stark hygroskopische Metallhalogcnidverbiridüngen
erforderlich machen.
Ein Ausführungsbeispiel des Verfahrens nach der Erfindung wird im folgenden im Vergleich /u einem der
bekannten Verfahren beschrieben.
Γι Es werden Ilochdriick-Hntlaclungslainpcn für 220 V
und 250 W in Serien von jeweils sechs Stück nach dem bekannten Verfahren und nach dem erfindungsgemäßen
Verfahren hergestellt. Das Volumen der aus Quarz bestehenden Entladungsgefäße beträgt 2,7 cm1, der
Elektrodenabstand 25 mm. Die Enden der Entladungsgefäße «:ind zur Verringerung der Wärmevcrluste in
bekannter Weise mit einer Schicht aus ZrOj überzogen. In die Entladungsgefäße der ersten Serie von sechs
Lampen werden jeweils 11,5 mg Quecksilber, 0,32 mg
•Γι einer Dy-Ho Legierung im Gewiehlsvcrhältnis von 1 : 1,
1,15 mg HgJ;, 0,48 mg CsJ und 0,48 mg TlJ eingegeben. Anschließend werden die Entladungsgefäße mit Argon
auf einen Druck von 4000 Pa gefüllt und in bekannter Weise verschlossen. Nach einer Betriebszeit von 4
r)ii Stunden bei 220 V Netzspannung über ein Vorschaltgerät
stellt sich eine Stabilisierung der Lampenparameter ein. Die Spannungen der Lampen betragen 97, 101, 117,
121, 126,6 und 132 V. An den Innenflächen der Entladungsgefäße befinden sich bräunlich graue Flek-
rir) ken als Ergebnis einer chemischen Reaktion zwischen
der Gefäßwand und dem Dy und/oder Ho, die aufgrund des mit Cs) und/oder TIJ eingebrachten Wassers
oxidiert sind.
In die Entladungsgefäße der anderen Serie von sechs
no Lampen werden der Anteil an CsJ und TI] des Zusatzes
nach dem erfindungsgemäßen Verfahren eingebracht. Jedes Gefäß enthält dann 11,7 mg einer Quecksilberlegierung
mit 2,10 Gewichtsprozent Cs und 2,53 Gewichtsprozent TI, 0,32 g einer Dy-Ho Legierung im
bi Gewichtsverhältnis von I :l sowie 1,9 mg llgh- Die
atomaren Gesamtmengen aller Elemente entsprechen denen bei der ersten Serie verwendeten. Die in der
vorher beschriebenen Weise erhaltenen Lampen
erreichen einen stabilen Zustand bereits nach 20 Minuten, wobei sich Spannungen von 96,99,5,98,99 und
101 V einstellen. Die Wand des Entladungsgefäßes ist völlig klar. Diese Klarheit bleibt auch während der
späleren Brennzeit erhalten.
Claims (1)
- Patentanspruch:Verfahren zur Herstellung von Hochdruck-Entladungslampen, deren Entladungsgefäß außer Quecksilber und Edelgas als Zusatz ein oder mehrere Metalle wenigstens zum Teil in Form von Halogeniden enthält, wobei die zu den Halogeniden sowie zu dem gegebenenfalls vorhandenen freien Halogen chemisch äquivalente Halogenmenge in Form von Quecksilberhalogenid eingebracht wird, dadurch gekennzeichnet, daß mindestens ein Metall der im Zusatz enthaltenen Metalle und Metallhalogenide sowie die mit dem Halogenid dieses Metalls chemisch äquivalente Menge desselben Metalls in Form seiner Quecksilberlegierung eingebracht wird.
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Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
HU77EE2499A HU174715B (hu) | 1977-04-22 | 1977-04-22 | Sposob dlja izgotovlenija metallo-galogennoj lampi |
Publications (3)
Publication Number | Publication Date |
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DE2738204B2 DE2738204B2 (de) | 1979-08-09 |
DE2738204C3 true DE2738204C3 (de) | 1980-05-22 |
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ID=10995724
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DE19772738204 Expired DE2738204C3 (de) | 1977-04-22 | 1977-08-24 | Verfahren zur Herstellung von Hochdruck-Entladungslampen |
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- 1977-04-22 HU HU77EE2499A patent/HU174715B/hu unknown
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