DE2728360A1 - Anordnung zur verbindung mehrerer ebenen mit integrierten schaltungen miteinander - Google Patents

Anordnung zur verbindung mehrerer ebenen mit integrierten schaltungen miteinander

Info

Publication number
DE2728360A1
DE2728360A1 DE19772728360 DE2728360A DE2728360A1 DE 2728360 A1 DE2728360 A1 DE 2728360A1 DE 19772728360 DE19772728360 DE 19772728360 DE 2728360 A DE2728360 A DE 2728360A DE 2728360 A1 DE2728360 A1 DE 2728360A1
Authority
DE
Germany
Prior art keywords
substrate
signal
conductors
plane
spacers
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
DE19772728360
Other languages
English (en)
Inventor
Ven Young Doo
Frank Fu Fang
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
International Business Machines Corp
Original Assignee
International Business Machines Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by International Business Machines Corp filed Critical International Business Machines Corp
Publication of DE2728360A1 publication Critical patent/DE2728360A1/de
Pending legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L25/00Assemblies consisting of a plurality of individual semiconductor or other solid state devices ; Multistep manufacturing processes thereof
    • H01L25/50Multistep manufacturing processes of assemblies consisting of devices, each device being of a type provided for in group H01L27/00 or H01L29/00
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L23/00Details of semiconductor or other solid state devices
    • H01L23/52Arrangements for conducting electric current within the device in operation from one component to another, i.e. interconnections, e.g. wires, lead frames
    • H01L23/538Arrangements for conducting electric current within the device in operation from one component to another, i.e. interconnections, e.g. wires, lead frames the interconnection structure between a plurality of semiconductor chips being formed on, or in, insulating substrates
    • H01L23/5385Assembly of a plurality of insulating substrates
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L25/00Assemblies consisting of a plurality of individual semiconductor or other solid state devices ; Multistep manufacturing processes thereof
    • H01L25/03Assemblies consisting of a plurality of individual semiconductor or other solid state devices ; Multistep manufacturing processes thereof all the devices being of a type provided for in the same subgroup of groups H01L27/00 - H01L33/00, or in a single subclass of H10K, H10N, e.g. assemblies of rectifier diodes
    • H01L25/04Assemblies consisting of a plurality of individual semiconductor or other solid state devices ; Multistep manufacturing processes thereof all the devices being of a type provided for in the same subgroup of groups H01L27/00 - H01L33/00, or in a single subclass of H10K, H10N, e.g. assemblies of rectifier diodes the devices not having separate containers
    • H01L25/065Assemblies consisting of a plurality of individual semiconductor or other solid state devices ; Multistep manufacturing processes thereof all the devices being of a type provided for in the same subgroup of groups H01L27/00 - H01L33/00, or in a single subclass of H10K, H10N, e.g. assemblies of rectifier diodes the devices not having separate containers the devices being of a type provided for in group H01L27/00
    • H01L25/0652Assemblies consisting of a plurality of individual semiconductor or other solid state devices ; Multistep manufacturing processes thereof all the devices being of a type provided for in the same subgroup of groups H01L27/00 - H01L33/00, or in a single subclass of H10K, H10N, e.g. assemblies of rectifier diodes the devices not having separate containers the devices being of a type provided for in group H01L27/00 the devices being arranged next and on each other, i.e. mixed assemblies
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/0001Technical content checked by a classifier
    • H01L2924/0002Not covered by any one of groups H01L24/00, H01L24/00 and H01L2224/00
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/30Technical effects
    • H01L2924/301Electrical effects
    • H01L2924/3011Impedance

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Production Of Multi-Layered Print Wiring Board (AREA)
  • Coupling Device And Connection With Printed Circuit (AREA)
  • Connection Or Junction Boxes (AREA)
  • Structure Of Printed Boards (AREA)

Description

Böblingen, 22. Juni 1977 heb-pi
Anmelderin:
International Business Machines Corporation, Armonk, N.Y. 10504
Amtliches Aktenzeichen:
Neuanmeldung
Aktenzeichen d. Anmelderin:
YO 975 079
Vertreter:
Patentanwalt Dipl.-Ing. H. E. Böhmer 7030 Böblingen
Bezeichnung:
Anordnung zur Verbindung mehrerer Ebenen mit integrierten Schaltungen miteinander
709881/0974
Anordnung zur Verbindung mehrerer Ebenen mit integrierten Schaltungen miteinander
üie Erfindung betrifft eine neuartige Anordnung einer Verbindung mehrerer Ebenen mit integrierten Schaltungen miteinander. Die Arbeitsgeschwindigkeit hochintegrierter Schaltungen ist in großem Maße durch die Übertragungsverzögerungen oder Laufzeitverzögerungen innerhalb der Schaltung begrenzt. Das hat seinen Grund darin, daß Schaltverzögerung der aktiven Bauelemente in bezug auf die den in Verbindungsleitungen oder Ubertragungsleitungen auftretenden Laufzeitverzögerungen innerhalb der hochintegrierten Schaltung relativ unbedeutend sind. Diese Laufzeitverzögerung ist zu einem großen Teil auf die Dielektrizitätskonstante des Isoliermaterials zurückzuführen, das zwischen den verschiedenen Schichten der Packung liegt. Die Dielektrizitätskonstante des Isoliermaterials ist größer als 1 und liegt im Falle von keramischem Material in der Größenordnung von 9. Je höher die Dielektrizitätskonstante, um so geringer ist die Signalübertragungsgeschwindigkeit.
Gemäß der vorliegenden Erfindung wird als Dielektrikum zwischen den einzelnen Schaltungsebenen Luft eingesetzt, dessen Dielektrizitätskonstante 1 ist. Daher wird auch die Signalübertragungsgeschwindigkeit wesentlich erhöht.
Zusammenfassung der Erfindung
Gemäß der vorliegenden Erfindung wird eine Anordnung zur Verbindung mehrerer Ebenen in einer hochintegrierten Schaltung | angegeben. Dabei sind mindestens eine Signalebene und eine Bezugsebene, die einander gegenüberliegen, miteinander durch Abständestücke verbunden, die damit einen vorbestimmten Luftspalt zwischen den beiden Ebenen aufrechterhalten. Ein Signalleitungsmuster auf jeder Oberfläche einschließlich von Leitern an vorbestimmten Orten in dem Substrat dienen der Verbindung
709881/0974
YO 975 079
von Signalleitungen auf einer Oberfläche nit Signalleitungen auf der anderen Oberfläche oder auf einer Bezugsebene. Die eine Bezugsebene besteht dabei aus einem anderen Substrat, dessen beiden Oberflächen mit einem leitenden Material überzogen sind und eine Anzahl von sich durch das Substrat hindurch erstreckenden Leitern aufweist. Diese Leiter sind selektiv mit dem leitenden Material verbunden oder gegen das leitende Material isoliert. Die Leiter in der Bezugsebene sind ebenfalls selektiv mit Leitern in einer Signalebene verbunden.
Die Erfindung wird nunmehr anhand von Ausführungsbeispielen in Verbindung mit den beigefügten Zeichnungen im einzelnen beschrieben. Die unter Schutz zu stellenden Merkmale können den ebenfalls beigefügten Patentansprüchen im einzelnen entnommen werden·
In den Zeichnungen zeigt: Fig. 1 schematisch eine Darstellung einer Anordnung
für eine gegenseitige Verbindung von mehreren Ebenen einer hochintegrierten Schaltung gemäß der Erfindung,
Fig. 2 schematisch den Abstand zwischen dem die
Signalebene tragenden Substrat und dem die Bezugsebene tragenden Substrat einschließlich des Abstandes zwischen den einzelnen Substraten und der Abmessungen der Leitungen auf eines gegebenen Substrats,
Fig. 3 eine Darstellung, wie Maskenschichten auf jeder Oberfläche eines isolierenden Substrats angebracht werden, das nachfolgend entweder zur Herstellung einem eine Signalebene oder
709881/0974
YO 975 079
eine Bezugsebene tragenden Substrat verarbeitet wird,
Fign. 4A eine Folge von Seitenansichten eines isolieren·* bis 4F den Substrats, das zur Bildung eines eine Bezugsebene tragenden Substrats bearbeitet wird,
Fig. 5 eine Draufsicht auf ein eine Bezugsebene tragendes Substrat,
Fign. 6Ά eine Folge von Seitenansichten eines isolieren"» bis 6D den Substrats, das gemäß der Erfindung zur
Bildung eines eine Signalebene tragenden Substrats bearbeitet wird, Fig. 7 eine Draufsicht auf ein eine Signalebene
tragendes Substrat und
Fig. 8 eine schematisehe Darstellung, wie eine Anzahl
von eine Bezugsebene tragenden Substraten und eine Signalebene tragenden Substraten miteinander verbunden und verschmolzen werden zur Bildung einer aus mehreren Ebenen zusammengesetzten Anordnung gemäß der Erfindung.
Fig. 1 zeigt ganz allgemein eine aus mehreren Ebenen bestehende Anordnung 2 gemäß der Erfindung. Eine Anzahl von Signalebenen tragende Substraten 3, 5, 7, 9 wechseln sich mit eine Bezugsebene tragenden Substraten 4, 6, 8, 10 ab, wobei die Abstände zwischen den Substraten durch Abstandsstifte 11 und 12 hergestellt werden. Die eine Signalebene tragenden Substrat^ sind als X-Y-Ebene bekannt, während die eine Bezugsebene tragenden Substrate als Erdungsebenen oder spannungsführende : Bbenen bekannt sind. Die eine Signalebene enthaltenden Sub- ! strate weisen auf einer Oberfläche in X-Richtung verlaufende
709881/0974 !
YO 975 079
Leitungen und auf ihrer anderen Oberfläche senkrecht dazu in Y-Richtung verlaufende Leitungen auf, wobei die einzelnen Leitungen selektiv entweder miteinander oder mit einer benachbarten Bezugsebene über Leitungen verbunden sind, die sich durch da8 die Signalebene tragenden Substrat hindurch erstrekken und darüber hinaus ragen. Die entsprechenden, eine Bezugsebene tragenden Substrate weisen eine Anzahl sich durch sie hindurch erstreckenden Leiterstifte auf, die über die entsprechenden Oberflächen hinausragen, wobei auf jeder der Oberflächen des Substrats eine leitende Masseebene oder eine spannungsführende Ebene gebildet ist. Diese leitenden Ebenen sind dabei selektiv an den Verbindungsstiften angeschlossen oder von diesen isoliert. Die Verbindungsstifte in benachbarten, eine Bezugsebene aufweisenden Substrate und in eine Signalebene aufweisenden Substrate sind praktisch alle miteinander ausgerichtet und lassen sich durch Verschmelzen oder Verschweißen der einzelnen Leiter miteinander verbinden. Mit Hilfe von Abstandsstiften 11 und 12 sowie auch durch die Leitungs— stifte der einzelnen Ebenen, die miteinander verschmolzen sind, liegt zwischen den jeweiligen Ebenen Luft als Dielektrikum. Mit integrierten Schaltungen versehene Halbleiterplättchen oder Chips 13, 14, 15 sind an dem eine Signalebene enthaltenen Substrat 3 in bekannter Weise befestigt, während mit integrier* ten Schaltungen versehene Halbleiterplättchen 16, 17 und 18 an dem eine Signalebene enthaltenden Substrat 7 befestigt sind. Die Verbindung der einzelnen Halbleiterplättchen miteinander und mit ausgewählten, eine Signalebene tragenden Substraten und eine Bezugsebene tragenden Substraten wird nach dem erfindungsgemäßen Verfahren durchgeführt.
:Fig. 2 zeigt den Abstand zwischen einem vorgegebenen, eine i Bezugsebene tragenden Substrat und einem eine Signalebene tragenden Substrat· Das eine Signalebene tragende Substrat 19 I wird von durch Abstandsstücke 21 und 22 von einem eine Bezugs-
709881/0974
YO 975 079
ebene tragenden Substrat 20 auf Abstand gehalten. Im allgemeinen werden die Abstandsstücke auf dem die Signalebene enthaltenden Substrat und auf dem die Erdungsebene enthaltenden Substrat gebildet, wobei dann die Abstandsstücke der verschiedenen Ebenen miteinander verschmolzen oder verlötet werden. Die Signalebene weist eine Anzahl von sich in X-Richtung erstreckenden Leitungen 23 auf ihrer Oberseite auf sowie eine Anzahl von sich in Y-Richtung erstreckenden Leitungen 24 und 25 an ihrer Unterseite. Die Bezugsebene 20 weist auf ihrer Oberseite und Unterseite metallische Überzüge 26 bzw. 27 auf. Die Linienbreite einer solchen in der Signalebene liegenden Leitung ist durch die Abmessung W dargestellt, während der Luftspalt zwischen den jeweiligen Ebenen durch die Abmessung d dargestellt ist. Hierbei ist die Querverbindung von Leitungen der Signalebene und die Querverbindung von in der Signalebene liegenden Leitungen mit der Bezugsebene weggelassen, um den mit Luft als Dielektrikum ausgefüllten Spalt zwischen den einzelnen Ebenen und den Abstand zwischen den Leitern besser darstellen zu können.
i Die geometrische Anordnung der Verbindungsleitungen innerhalb ' der gesamten Packung wird aus dem Wellenwiderstand bestimmt. Wenn das Randfeld vernachlässigt wird, läßt sich der Wellenwiderstand einer streifenförmigen Leitung oder Bandleitung angenähert bestimmen aus:
(1) Zo % /ψΓζ (d/W) I
ί wobei
u - die magnetische Permeabilität ε «= die Dielektrizitätskonstente d - der Luftspalt zwischen den Leitungen und W ■ die Breite der Leitung ist.
709881/0974
YO 975079
Berücksichtigt man außerdem das Randfeld, dann ergibt sich der Wellenwiderstand einer streifenförmigen Leitung zu:
(2, zo. ^r
ε ■ die relative Dielektrizitätskonstante d = der Luftspalt zwischen den Leitungen W ■ die Breite der Leitung und t » die Dicke der Leitung ist.
Da das Dielektrikum in dem Spalt aus Luft besteht, hängt die effektive Dielektrizitätskonstante (er eff) von der Dielektrizitätskonstante (er sub) des Substratmaterials und dem Abstand zwischen einer Signalleitung und einer Bezugsebene ab.
(3) er sub > er eff > 1
Als Beispiel sei für ein keramisches Substratmaterial angegeben:
(4) Cx sub % 9,0
(5) er eff fc 3,8
Die Signallaufzeitverzögerung ist dabei: /T~ eff
(6) td » s mit C gleich der Lichtgeschwindigkeit.
Damit wird aber τ * 121 Picosekunden/cm, wenn die Signallei tungen in einem aus Tonerde bestehenden keramischen Material vergraben liegen, während χβ = 65 Picosekunden/cm wird, wenn
709881/0974 YO 975 Ο79
die Signalleitungen über einen Luftspalt mit einer Bezugsebene gekoppelt sind, selbst dann, wenn die entsprechenden Substrate aus einem aus Tonerde bestehenden keramischen Material aufgebaut sind.
Für eine Halbleiterschaltung liegt Zo im allgemeinen in der Größenordnung von 50 Ohm, so daß für eine Leitung mit einem Querschnitt von angenähert 0,08 χ 0,03 mm und einem Abstand von d = 0,08 mm dieser Wert von 50 Ohm durch die erfindungsgemäße Anordnung leicht erreicht werden kann.
Damit über Randfelder der Übertragungsleitungen kein übersprechen stattfinden kann, ist im allgemeinen ein Abstand zwischen den einzelnen Leitungen in der Größenordnung von 2d-5d, abhängig von der geometrischen Anordnung und dem besonderen Anwendungsgebiet der integrierten Schaltung erforderlich. Durch ein einzelnes, in Zeilenrichtung sich erstreckendes Segment je Kanal in einem Gitter mit 0,5 mm Gitterabstand oder einer Doppelzeile je Kanal in einem Gitter mit 1,27 mm Gitterabstand bleibt die gegenseitige kapazitive und induktive Kopplung zwischen den Leitungen der gleichen Ebene bei etwa 10 %. Daher kann das durch übersprechen verursachte Rauschen als vernachlässigbar angesehen werden. Eine signalführende Ebene und eine Bezugsebene werden jeweils auf einem isolierendem Substrat gebildet, auf dem auf einem ausgewählten Teil der Oberfläche eine Maskenschicht unter Druck in der Weise angebracht wird, daß die Oberfläche der Maskenschicht praktisch innerhalb der Oberfläche des Substrats liegt. Wenn dann die Maskenschicht entfernt wird, so ergibt sich eine entsprechende Vertiefung in der Oberfläche des Substrats. Diese Vertiefung dient als ein Teil des Luftspaltes zwischen einer Signalebene und einer Bezugsebene, wenn diese gemäß der Erfindung miteinander verbunden werden.
709381/0974
YO 975 079
Fig. 3 zeigt ein Verfahren zur Aufbringung der Maskenschichten auf ausgewählten Bereichen der jeweiligen Oberflächen eines Isoliermaterials.
Auf einem isolierenden Substrat 28, das beispielsweise aus einem ungebrannten oder grünem keramischen Material bestehen kann, werden Folien eines Maskenmaterials 29 und 30 auf ausgewählten Bereichen der Vorderseite und Rückseite aufgebracht, wobei das Substrat und die Maskenfolien in eine Plattenpresse mit den Platten 31 und 32 eingelegt werden. Der Druck wird dann in Richtung der Pfeile 33 bzw. 34 aufgebracht, so daß die Maskenfolien 29 und 30 in die Oberflächen des isolierenden Substrats 28 eingedrückt werden, so daß die Oberfläche der Maskenschichten nicht über die entsprechenden Oberflächen des isolierenden Substrats hinausragen. Wenn dann anschließend die Maskenschichten von dem isolierenden Substrat abgezogen werden, so erhält man entsprechende Vertiefungen, deren Tiefe der Dicke der entsprechenden Maskenschichten entspricht. Die Maskenschichten können beispielsweise aus einem Kunststoff wie z.B. Mylar bestehen und etwa 0,003 mm dick sein.
Fig. 4A bis 4F zeigt dann beispielsweise ein Verfahren zur Herstellung eines Substrats für eine Bezugsebene gemäß der Er findung. Dabei zeigt Fig. 4A ein isolierendes Substrat 35, in dessen Oberflächen Maskenschichten 36 und 37 eingepreßt sind. Wie bereits erwähnt, kann das Substrat 35 aus ungebranntem keramischen Material bestehen, während die Schichten 36 und 37 aus einer Kunststoffolie bestehen kann. Selbstverständlich können auch andere isolierende Substrate und Maskenschichten bei der Durchführung der vorliegenden Erfindung eingesetzt werden und andere Techniken zum Aufbringen der Maekenschichten auf dem Substrat eingesetzt werden. Durch be kannte Verfahren wird anschließend eine Anzahl von durchge- jhenden Bohrungen in dem Substrat hergestellt. Fig. 4B zeigt
709881/0974
YO 975 079
-M-
beispielsweise eine Anzahl durchgehender Bohrungen 38 bis 43, die in dem Substrat mit Hilfe eines Elektronenstrahls erzeugt worden sind. Andere Verfahren können ebenfalls zur Herstellung dieser durchgehenden Bohrungen eingesetzt werden.
Wie Fig. 4C zeigt, werden die durchgehenden Bohrungen 39 bis 42 mit einem leitenden Material ausgefüllt, so daß Leitungen 44 bis 47 entstehen. An sich kann jedes beliebige leitende Material hierzu benutzt werden, und ein solches Metall ist beispielsweise eine Kupferpaste. Die durchgehenden Bohrungen 38 und 43 bleiben leer und werden als Ausrichtbohrungen für die Ausrichtung eines eine Bezugsebene tragenden Substrats mit einem eine Signalebene tragenden Substrat verwendet, wenn die entsprechenden Substrate in mehreren Ebenen übereinander gestapelt und miteinander verbunden werden.
Wie aus Fig. 4D zu ersehen, werden nach dem Trocknen der Metal lpaste die Maskenschichten von dem Substrat unter Verwendung an sich bekannter Verfahren abgezogen, wodurch sich die Vertiefungen 48 und 49 in den jeweiligen Oberflächen des Sub- ι strats bilden. Die Tiefe dieser Vertiefungen beträgt dabei etwa 0,003 mm, was der Dicke der Maskenschicht entspricht. Durch Bildung dieser Vertiefungen in den Oberflächen des Substrats stehen die Enden der entsprechenden Leitungen von den vertieften Oberflächen des Substrats über. Wie bereits erwähnt, i bilden diese Vertiefungen einen Teil des Luftspaltes zwischen den übereinander gestapelten Substraten, wenn diese zu einer ' Mehrebenenanordnung miteinander verbunden sind. Die BiI- | dung der Vertiefungen ergibt auch Flansche oder Abstands- j stücke 50 und 51 an den nicht für die Maskierungen ausge- \ wählten Enden des Substrats. Diese Abstandsstücke werden zum Teil für eine Verbindung zwischen den einzelnen Substraten untereinander und zur Aufrechterhaltung eines Luftspaltes zwischen den einzelnen Ebenen verwendet. Dieses mit Metal-
709881/0974
YO 975 079
-Xi-
lisierungen versehene keramische Material wird dann bei einer, entsprechend der Zusammensetzung des keramischen Materials gewählten Temperatur gebrannt.
Anschließend werden gemäß Fig. 4E dünne leitende Schichten 52 und 53 auf der Vorder- bzw. Rückseite des Substrats angebracht. Diese leitenden Schichten können beispielsweise aus Kupfer bestehen.
Anschließend wird ein Fotolack auf die entsprechenden Oberflächen des Substrats aufgebracht und selektiv belichtet, wobei die leitende Schicht von bestimmten Bereichen rund um die Leiter, wie bei 54 gezeigt, abgezogen wird, während die leitende Schicht, wie bei 55 gezeigt, mit anderen Leitern in Kontakt bleibt. Dies wird selektiv durchgeführt, um entweder die leitenden Schichten mit den entsprechenden Leitern zu verbinden oder sie gegeneinander zu isolieren.
Anschließend wird gemäß Fig. 4F ein schmelzbares Material, wie z.B. eine Lötlegierung 56, auf der Oberfläche jedes Leiters und auf der Oberfläche jedes Flansches aufgebracht. Dann wird ein dünner Film 57 aus Gold oder Silber auf der Oberseite der Lötlegierung aufgebracht, um damit die Oxidbildung auf den Leitern und Abstandsstücken möglichst klein zu halten.
Das sich daraus ergebende, eine Bezugsebene enthaltende Substrat ist in Draufsicht in Fig. 5 gezeigt, in der in einem isolierenden Substrat 58 eine Anzahl von Leitern 59 abgebildet ist, die um einen vorbestimmten Abstand über die vertiefte Oberfläche des Substrats hinausragen und die nach einem vorbestimmten Muster in der Weise angeordnet sind, daß sie mit entsprechenden Leitern auf einem eine Signalebene enthaltenen Substrat ausgerichtet und verbunden werden können.
Fign. 6A bis 6D zeigen beispielsweise ein Verfahren zur Her-
709881/0974
YO 975 079
-zustellung von eine Signalebene enthaltenden Substraten. Ein Isolierendes Substrat mit auf der Vorder- und Rückseite in ausgewählten Bereichen eingepreßten, etwa 0,003 mm dicken Maskenschichten 61 und 62 wird, genauso wie im Zusammenhang mit Fig. 3 beschrieben, hergestellt. Das isolierende Substrat und die Maskenschicht können wiederum aus grünem keramischen Material bzw. aus einer Kunststoffolie bestehen. Wie in Fig. 6B gezeigt, werden mit Elektronenstrahl- oder einem mechanischen Bohrverfahren durchgehende Bohrungen 63 bis 66 hergestellt. Signalleitungsmuster 67, 68 und 69 werden auf der Vorder- und Rückseite des Substrats eingefräst. Ferner werden Muster für Anschlüsse zur Verbindung der einzelnen Ebenen miteinander, wie bei 70, 71 und 72 gezeigt, auf Vorderseite und Rückseite des Substrats unter Verwendung des gleichen Verfahrens hergestellt.
Wie in Fig. 6C gezeigt, wird anschließend ein leitendes Material, wie z.B. eine Kupferpaste, in die durchgehenden Bohrungen 64 und 65 zur Bildung von Leitern 73 bzw. 74 eingebracht. Dasselbe Verfahren wird für das Leitungsmuster 67 für die X-Leitung und die Leitungsmuster 68 und 69 für die Y-Leitung zur Darstellung der X-Leitung 75 und der Y-Leitungen 76 bzw. 77 und außerdem in den Anschlüssen 70, 71 und 72 für die Darstellung der Anschlußkontakte 78, 79 bzw. 80 verwendet. Die durchgehenden Bohrungen 63 und 66 bleiben leer und dienen als Ausrichtbohrungen zum Ausrichten eines eine Signalebene tragenden Substrats i.iit einem eine Bezugsebene tragenden Substrat, wenn die entsprechenden Substrate zur Darstellung einer aus mehreren Ebenen bestehenden Anordnung übereinander gestapelt und miteinander verbunden werden.
Wie aus Fig. 6D zu erkennen, wird die Maskenschicht unter Einsatz bekannter Verfahren von jeder Oberfläche des Substrats abgezogen, wodurch Vertiefungen 81 bzw. 82 mit einer Tiefe von etwa 0,003 mm entstehen, die der Dicke der Maskenschichten
709881/0974 !
YO 975 079
entspricht, wobei gleichzeitig auch Flansche 83 und 84 in den nicht für die Maskierung ausgewählten Bereichen hergestellt werden. Das mit der Metallisierung versehene grüne keramische Material wird entsprechend seiner Zusammensetzung bei der dafür geeigneten Temperatur gebrannt, wodurch die ungebrannte Keramik in ein hartes dichtes keramisches Substrat umgewandelt wird. Anschließend wird ein schmelzbares Material, wie z.B. eine Lötlegierung 85, auf der Oberfläche jedes Flansches, der Leiter und der Anschlußkontakte aufgebracht, worauf dann ein dünner Film aus Gold oder Silber über der Lötlegierung angebracht wird, um die Bildung eines Oberflächenoxids weitgehend zu vermeiden.
Fig. 7 zeigt eine Draufsicht eines eine Signalebene enthaltenen Substrats 87 mit einer Anzahl von sich durch das Substrat hindurch erstreckenden Leitern, die ein vorbestimmtes Muster bilden, so daß sie mit den entsprechenden Leitern des eine Bezugsebene tragenden Substrats ausgerichtet und selektiv verbunden werden können. Eine Anzahl von Y-Leitungen 89, 90 und 91 auf der Oberfläche ist selektiv mit Leitern 88 verbunden. Ebenso sind gestrichelte Y-Leitungen 92 und 93 auf der Unterseite des Substrats angedeutet, wobei die Leitung 92 zwischen den Leitungen 89 und 91 eine Verbindung herstellt und die Leitung 93 an der Leitung 90 angeschlossen ist. Die Y-Leitungen und X-Leitungen verlaufen zueinander senkrecht.
Fig. 8 zeigt beispielsweise ein Verfahren zum Verbinden oder verlöten der einzelnen, eine Signalebene enthaltenden Substrate mit einzelnen eine Bezugsebene enthaltenden Substraten. Eine Grundplatte 94 weist nach oben sich erstreckende Ausrichtstifte 95 und 96 auf. Eine Anzahl von eine Signalebene enthaltenden Substraten 97, 98 und 99 werden abwechselnd mit eine Bezugsebene enthaltenden Substraten 100 und 101 in der Weise übereinander gestapelt, daß die einzelnen Substrate mit ihren , Ausrichtbohrungen auf die Aufrichtstifte 95 bzw. 96 aufge-
709881/0974
YO 975 079
/Ib
setzt werden. Eine Deckplatte 103 wird dann auf die übereinander gestapelten Substrate aufgesetzt, wobei das Gewicht der Deckplatte die Substrate zusammenpreßt. Die sich daraus ergebende Anordnung wird in einer reduzierenden Atmosphäre erhitzt, so daß ein Rückfließen der Lötlegierung stattfindet, wodurch die einzelnen Substrate, wie an den Flanschen 104, 105, 106 und 107 angedeutet und auch die miteinander ausgerichteten Leiter und die Anschlußkontakte der verschiedenen Ebenen miteinander verschmelzen. Während dieses Aufheizvorganges bewirkt das Rückfließen der Lötlegierung und der Druck durch die Deckplatte, daß die Flansche und ausgewählte Leiter miteinander verschmelzen. Der Luftspalt zwischen den jeweiligen eine Signalebene enthaltenden Substrate und eine Bezugsebene enthaltenden Substrate wird dabei durch die Höhe der jeweiligen Flansche bestimmt, deren Höhe wiederum durch die Dicke der jeweiligen Maskenschichten bestimmt ist. Die beiden nachfolgend dargestellten Tabellen geben selbstfließende Legierungen und Legierungen auf Goldgrundlage an, die als Lötlegierungen bei der Verbindung und dem Verschmelzen eingesetzt werden können.
Tabelle I
Ag 72 5-90,5 Cu 27,5 Legierungszusammensetzung ,4 Li 0,5 Cn 15 Li 0,5-1,0
Ag 50 Cu 14-14 (Gewichtsprozent) Zn 17
Ag 71 Cu 28 P 1
Selbstfließende Legierungen Cu 86, Zn 1-3 Sn 2,5-3,5
Hartlöttemperatur (0C) Cu 82 Ni 13 P5
800
850
800
730-750
650
709881/0974
YO 975 079
Tabelle II
Au 75 Ag 9 Cu Leglerungszusammensetzung
(Gewichtsprozent)
2 Cd 10 Zn 3
Au 75 Cu 15 Cd 6 5 Zn 1,8
Legierungen auf Goldgrundlage Au 75 Ag 7,5 Cu 8, Cd 7 Zn 2
Hartlöttemperatur (0C) Au 75 Ag 9 Cu 7, ,2 Zn 10
850 Au 75 Ag 2,8 Cu 6 ,7 Cd 9
830 Au 33, Ag 35 Cu 11 Cd 10
810 21
790
770
750
r3
Das oben beschriebene Verfahren gibt ein Beispiel für die Herstellung einer aus mehreren miteinander verbundenen Substrate bestehenden, hochintegrierten Schaltung, bei welcher Anordnung die Signalübertragungslaufzeit dadurch wesentlich herabgesetzt wird, das Luft als Dielektrikum zwischen den miteinander abwechselnden eine Bezugsebene tragenden Substra ten und den eine Signalebene tragenden Substraten verwendet wird.
709881/0974
YO 975 079

Claims (4)

  1. PATENTANSPRÜCHE
    Anordnung zum Verbinden von mindestens einem eine Signalebene mit integrierten Schaltungen tragenden Substrat mit mindestens einem gegenüberliegenden eine Bezugsebene tragenden Substrat und Abstandsstücken zur Darstellung eines Luftspaltes zwischen benachbarten Ebenen dadurch gekennzeichnet, daß das eine Signalebene aufweisende Substrat (19, 28) auf jeder Seite ein Signalleitungsmuster (23, 24, 25) und das Substrat durchsetzende Leiter (44 - 47) aufweist, die an vorbestiirenten Punkten einer Verbindung zwischen den beiden Leitungsmustern (23, 24, 25) bzw. mit einer Bezugsebene dienen, daß das die bezugsebene aufweisende Substrat (20, 35) auf beiden Oberflächen mit einer leitenden Schicht (26, 27) überzogen ist und ebenfalls das Substrat durchsetzende Leiter (73, 74) aufweist, die selektiv entweder mit den leitenden Schichten verbunden oder von diesen isoliert sind und daß auf mindestens einer der Signalebenen und/oder einer der Bezugsebenen Abstandsstücke (21, 22; 50, 51; 83, 84) gebildet sind.
  2. 2. Anordnung nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die Signalleitungsmuster auf den Oberflächen des Substrats zueinander orthogonal verlaufen.
  3. 3. Anordnung nach Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet, daß die die einzelnen Substrate durchsetzenden Leiter (44 bis 47;, 73, 74) mindestens jeweils auf einer Oberfläche über das Substrat und seine Metallisierung hinausragen und daß die auf den Substraten gebildeten Abstandsstücke (21, 22; 50, 51; 83, 84) isolierend sind.
    700881/0974
    YO 975 079
    ORIGINAL INSPECTED
  4. 4. Anordnung nach den Ansprüchen 1 bis 3f dadurch gekennzeichnet, daß sowohl die isolierenden Abstandsstücke als auch die über die Substratoberflächen und ihre Metallisierungen hinausragenden Leiter an ihren der gegenseitigen Verbindung dienenden Endflächen einen Überzug (56, 85) aus einem lötbaren oder hartlötbaren Material tragen, das durch einen weiteren überzug (57, 86) aus Edelmetall gegen Oxidbildung geschützt ist, so daß die einzelnen Ebenen unter Beibehaltung eines Luftspaltes zwischen den einzelnen Ebenen an den Abstandsstücken und den herausragenden Leitern miteinander verlötLar sind.
    70 fj 881/0974
    YO 975 079
DE19772728360 1976-06-30 1977-06-23 Anordnung zur verbindung mehrerer ebenen mit integrierten schaltungen miteinander Pending DE2728360A1 (de)

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
US70144176A 1976-06-30 1976-06-30

Publications (1)

Publication Number Publication Date
DE2728360A1 true DE2728360A1 (de) 1978-01-05

Family

ID=24817392

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
DE19772728360 Pending DE2728360A1 (de) 1976-06-30 1977-06-23 Anordnung zur verbindung mehrerer ebenen mit integrierten schaltungen miteinander

Country Status (5)

Country Link
JP (1) JPS5325864A (de)
CA (1) CA1073557A (de)
DE (1) DE2728360A1 (de)
FR (1) FR2357072A1 (de)
IT (1) IT1115527B (de)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE3210826A1 (de) * 1982-03-24 1983-10-06 Siemens Ag Mehrlagenleiterplatte
US4692843A (en) * 1985-11-19 1987-09-08 Fujitsu Limited Multilayer printed wiring board

Families Citing this family (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4210885A (en) * 1978-06-30 1980-07-01 International Business Machines Corporation Thin film lossy line for preventing reflections in microcircuit chip package interconnections
JPS5811117B2 (ja) * 1979-03-12 1983-03-01 富士通株式会社 多層印刷配線板の製造方法
JPS55123195A (en) * 1979-03-15 1980-09-22 Fujitsu Ltd Hollow coaxial structure multilayer printed board
JPS55153397A (en) * 1979-05-18 1980-11-29 Fujitsu Ltd Method of fabricating hollow multilayer printed board
JPS55156395A (en) * 1979-05-24 1980-12-05 Fujitsu Ltd Method of fabricating hollow multilayer printed board
FR2479520A1 (fr) * 1980-03-26 1981-10-02 Thomson Csf Transducteur composite a adressage electrique
EP0127377B1 (de) * 1983-05-31 1990-01-03 Trw Inc. Verbindungseinrichtung mit Knöpfen für einen Chip und eine Schaltungsplatte
US5495397A (en) * 1993-04-27 1996-02-27 International Business Machines Corporation Three dimensional package and architecture for high performance computer

Family Cites Families (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
GB1136753A (en) * 1965-10-26 1968-12-18 English Electric Computers Ltd Improvements relating to electrical connecting arrangements

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE3210826A1 (de) * 1982-03-24 1983-10-06 Siemens Ag Mehrlagenleiterplatte
US4692843A (en) * 1985-11-19 1987-09-08 Fujitsu Limited Multilayer printed wiring board

Also Published As

Publication number Publication date
FR2357072A1 (fr) 1978-01-27
JPS5325864A (en) 1978-03-10
CA1073557A (en) 1980-03-11
IT1115527B (it) 1986-02-03
FR2357072B1 (de) 1978-11-03

Similar Documents

Publication Publication Date Title
DE2459532C2 (de) Anordnung mit mehreren, parallel angeordneten mikroelektronischen Bauelementen scheibenförmiger Gestalt und Verfahren zur Herstellung der Kontaktbereiche einer solchen Anordnung
DE69902599T2 (de) Widerstand und sein Herstellungsverfahren
DE112006002516B4 (de) Chip-Widertand und Befestigungsstruktur für einen Chip-Widerstand
EP0035093B1 (de) Anordnung zum Packen mehrerer schnellschaltender Halbleiterchips
DE19927046B4 (de) Keramik-Metall-Substrat als Mehrfachsubstrat
DE69420917T2 (de) Verfahren, um gestapelte Halbleiterchips zusammenzuschalten und Bauelement
DE69526971T2 (de) Verbesserungen an keramischen chip-sicherungen
DE2810054C2 (de) Elektronische Schaltungsanordnung und Verfahren zu deren Herstellung
DE69028765T2 (de) Direktionelle Streifenleitungsstruktur und Herstellung einer derartigen Struktur
DE69508835T2 (de) Dreidimensionale Verbindung von Gehäusen elektronischer Bausteine wobei gedruckte Schaltungen angewendet werden
DE2813968C2 (de) Halbleiteranordnung
DE2554398C3 (de) Kontaktierung einer Lumineszenzdiode
DE4325668A1 (de) Mehrebenen-Verdrahtungssubstrat und dieses verwendende Halbleiteranordnung
DE69233232T2 (de) Elektrischer Verbindungskörper und Herstellungsverfahren dafür
DE2247902A1 (de) Gedruckte schaltungsplatte und verfahren zu deren herstellung
DE2355471A1 (de) Aus mehreren ebenen bestehende packung fuer halbleiterschaltungen
DE1933547A1 (de) Anschlussvorrichtung fuer Halbleiterelemente
DE6606541U (de) Halbleiteranordnung
DE3603039A1 (de) Duennfilm-magnetkopf und verfahren zu dessen herstellung
DE2510757A1 (de) Verfahren zum herstellen von traegersubstraten fuer hochintegrierte halbleiter-schaltungsplaettchen und durch dieses verfahren hergestellte substrate
DE4134172A1 (de) Mehrschichtverbindungsvorrichtung und verfahren zu ihrer herstellung
DE2728360A1 (de) Anordnung zur verbindung mehrerer ebenen mit integrierten schaltungen miteinander
DE3445690C2 (de) Verfahren zur Herstellung einer Trägerplatte für eine gedruckte Schaltung
DE3544539A1 (de) Halbleiteranordnung mit metallisierungsbahnen verschiedener staerke sowie verfahren zu deren herstellung
DE2252833A1 (de) Zusammengesetzte halbleitervorrichtung und verfahren zur herstellung derselben

Legal Events

Date Code Title Description
OHJ Non-payment of the annual fee