DE2656103A1 - Verfahren und anlage fuer chemische oberflaechenbehandlung von metallgegenstaenden in geschlossenem kreislauf mit chemikalienwiedergewinnung ohne entgiftungsanlagen - Google Patents

Verfahren und anlage fuer chemische oberflaechenbehandlung von metallgegenstaenden in geschlossenem kreislauf mit chemikalienwiedergewinnung ohne entgiftungsanlagen

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DE2656103A1
DE2656103A1 DE19762656103 DE2656103A DE2656103A1 DE 2656103 A1 DE2656103 A1 DE 2656103A1 DE 19762656103 DE19762656103 DE 19762656103 DE 2656103 A DE2656103 A DE 2656103A DE 2656103 A1 DE2656103 A1 DE 2656103A1
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    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23GCLEANING OR DE-GREASING OF METALLIC MATERIAL BY CHEMICAL METHODS OTHER THAN ELECTROLYSIS
    • C23G1/00Cleaning or pickling metallic material with solutions or molten salts
    • C23G1/36Regeneration of waste pickling liquors
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C22/00Chemical surface treatment of metallic material by reaction of the surface with a reactive liquid, leaving reaction products of surface material in the coating, e.g. conversion coatings, passivation of metals
    • C23C22/73Chemical surface treatment of metallic material by reaction of the surface with a reactive liquid, leaving reaction products of surface material in the coating, e.g. conversion coatings, passivation of metals characterised by the process

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Description

  • Verfahren und Anlage für chemische Oberflächenbehandlung von
  • Metallgegenständen in geschlossenem Kreislauf mit Chemikalienwiedergewinnung ohne Entgiftungsanlagen Die Erfindung betrifft ein Verfahren und eine Anlage für die chemische Oberflächenbehandlung von Metallgegenständen, die nach Auftragung von Chemikalienlösungen durch Eintauchen oder Bespritzung mehrstufig im Gegenstrom gespült werden.
  • Bei der chemischen.Oberflächenbehandlung wird ein Teil der Be--handlungsflüssigkeit an den zu behandeinden Gegenständen hängen bleiben und muß gespült und/oder weggespült werden, und man erhält ein verunreinigtes Wasser. Gewöhnlich wird in einer oder zwei Stufen gespült, und die erste wird schnell stark von Chemikalien verunreinigt werden, wenn nicht große Wassermengen durch das Spülsystem strömen. Die Chemikalien im Spülwasser sind für die meisten Verfahren ein reiner Verlust und bedingen einen wesentlichen Teil des Chemikalien-Verbrauchs bei der Oberflächenbehandlung. Die Anforderungen an die Reinheit des Wassers, das in den Vorfluter geleitet wird, werden immer strenger, und es sind mehrere Verfahren bekannt, diese Reinigung vorzunehmen.
  • Es sind auch einige Verfahren bekannt, die darauf ausgehen, den Verbrauch an Chemikalien bei Oberflächenbehandlung von Metallgegenständen zu verringern.
  • Die DT-PS Nr. 1 168 737 offenbart ein Beizverfahren, bei welchem man den Spülwasserverbrauch niedrig hält, indem nur reines Wasser zur letzten Spülstufe zugesetzt wird, das auch rezirkuliertem Spülwasser hiervon über ein Spülwasserreservoir zugeführt wird. Das Spülwasser der vorhergehenden Spülstufen wird auch aus diesem Reservoir genommen. Ausgeleitetes Spülwasser der letzten Stufe wird dann zur Beizwanne zwecks Verdünnung der Beizlösung geführt. Verwendete Beizlösung wird nicht in den geschlossenen Kreislauf geführt.
  • Selbst wenn dieses Verfahren etwas Spülwasser spart und vermeidet, verunreinigtes Spülwasser zunächst zu den Ablaufleitungen -zu leiten, so hat man immer noch das Problem mit der verwendeten Beizlösung und deren Entgiftung, und man muß sauberes Spülwasser vom Leitungsnetz kontinuierlich zuführen.
  • Weiter ist aus der DT-PS Nr. 1 101 900 bekannt, benutzte Beizlösung durch Eindampfung mit Hilfe von Warmgas aufzuarbeiten, und danach Eisen als Ferrosulfat auszufällen. Abgetriebener Wasserdampf wird mit reinem Wasser in Wärmeaustausch gebracht, um warmes Spülwasser zu geben. Das Verfahren erfordert einen hohen Wasserverbrauch, da all das reine Wasser zur Spülung vom Netz genommen werden muß.
  • Das Ziel der vorliegenden Erfindung ist es, ein Verfahren und eine Anlage zu schaffen, die es ermöglicht, den Verbrauch an Spülwasser und an Chemikalien zu verringern, und gleichzeitig eine Entgiftungsanlage einzusparen.
  • Die Anlage muß einfach im Betrieb sein und nicht zu große Investitionen in komplizierter Ausrüstung erfordern. t Das Verfahren nach der Erfindung betrifft also Oberflächenbehandlung von Metallgegenständen in einer Chemikalienlösung. Das Charakteristische des Verfahrens ist, daß stark verunreinigtes Spülwasser der ersten Spülstufe durch einen Abtreiber geleitet wird, von wo aus verdampfte Flüssigkeit über einen Kondensator zur letzten Spülstufe als reines Spülwasser geleitet wird, und der Uberlauf des Abtreibers, der aus aufkonzentrierter Behandlungsflüssigkeit besteht, zur Behandlungsstufe geführt wird.
  • Dem Verfahren werden nur Chemikalien und Wasser zugeführt, entsprechend dem Netto-Verbrauch an diesen.
  • Vorzugsweise wird das Spülwasser der ersten Spülstufe zur Behandlungsstufe geleitet und die Speisung des Abtreibers direkt hieraus entnommen. Der Überlauf wird dann direkt zur Behandlungsstufe zurückgeführt, wo eventuell Chemikalien und Wasser hinzugeführt werden, entsprechend dem Netto-Verbrauch an diesen.
  • Gemäß einer anderen Ausführungsweise der Erfindung wird das Spülwasser der ersten Spülstufe direkt zum Abtreiber geführt, und der Überlauf von diesem zur Behandlungsstufe über ein Reservoir geleitet.
  • Gewöhnlich kann die Chemikalienkonzentration in der Behandlungsstufe etwas variieren, ohne daß die Qualität des Produktes darunter leidet. Da der Chemikalien- und Wasserverbrauch beim Verfahren der Erfindung sehr gering ist, kann es praktisch sein, Chemikalien und Wasser diskontinuierlich zur Behandlungsstufe hinzuzusetzen.
  • Die Erfindung umfaßt auch eine Anlage zur Ausführung des Verfahrens. Die Anlage besteht aus an sich bekannten Einheiten, wie Behandlungsgefäßen, Spülwannen, Verdampfern mit Kondensator und Transportvorrichtungen, um die Metallgegenstände durch die Behandlungs- und Spülstufe zu führen.
  • Das Besondere der Anlage ist die Placierung der einzelnen Einheiten relativ einander, indem eine Mehrzahl Spülstufen, bestehend aus Spülwanne und eventuell angeknüpften Düsen für Spritzspülung, so placiert sind, daß das Spülwasser kontinuierlich fließt, ohne Pumpen'von der letzten Stufe zur ersten Stufe und von dort aus durch einen Abtreiber, von wo verdampfte Flüssigkeit über einen nachgeschalteten Kondensator zur letzten Spülstufe geleitet wird. Die Behandlungsstufe ist z. B. eine Beiz-oder Chromatierungswanne. Die Einheiten der Anlage sind so angeschlossen, daß sie einen geschlossenen Kreislauf bilden, so daß reines Spülwasser vom Kondensator zur letzten Spülstufe geleitet wird, und wiedergewonnene Chemikalien des Abtreibers werden zur Behandlungsstufe geleitet.
  • Eine besonders bevorzugte Placierung des Verdampfers ist nach der Behandlungsstufe, so daß die Speisung zu dieser direkt von der Behandlungswanne genommen wird, wozu Spülwasser der ersten Spülstufe geführt wird. Es hat sich gezeigt, daß bei einer solchen Placierung der Einheiten die Regulierung der Chemikalienkonzentration der Behandlungsflüssigkeit am einfachsten ist.
  • In gewissen Fällen ist es von Vorteil, den Verdampfer zwischen der ersten Spülstufe und der Behandlungsstufe zu placieren. Dann muß jedoch ein Chemikalienreservoir zwischen dem Verdampfer und der Behandlungswanne angeordnet werden, um die Regulierung der Chemikalienkonzentration in der Behandlungswanne zu erleichtern.
  • Die Anlage und das Verfahren der Erfindung werden weiter durch die beigefügte Zeichnung erläutert.
  • Fig. 1 zeigt das Blockdiagramm des Verfahrens mit dem Verdampfer nach der Behandlungsstufe placiert Fig. 2 zeigt das Verfahren mit dem Verdampfer direkt nach der ersten Spülstufe placiert.
  • In den zwei Figuren sind entsprechende Einheiten mit Hinaseisungszahlen und Symbolen bezeichnet.
  • In Figur 1 ist die Behandlungs- und Wiedergewinnungsanlage mit Block 1 und 6 bezeichnet und die Spülstufe mit den Blöcken 2 bis 4. Der Block 7 zeigt den Kondensator für Kondensierung der Abdämpfe des Abtreibers 6. Das Kondensat wird dann zur letzten Spülstufe geleitet. Der Überlauf des benutzten Spülwassers von jeder Spülstufe wird durch die untersten Pfeile der Blöcke 2 bis 4 dargestellt, welche in der Figur nach links laufen. Die Pfeile nach rechts zwischen den Blöcken 1, 2, o und 4 zeigen den Transport der Metallgegenstände mit mitgerissener Behandlungsflüssigkeit/Spülwasser. Zusatz von Chemikalien (x) zur Behandlungsstufe als Ersatz für den Netto-Verbrauch der Chemikalien kann, falls erwünscht, diskontinuierlich erfolgen. Die Bezugszahl 5 gibt eine Zirkulationspumpe an.
  • Das Prinzip für das Verfahren geht am klarsten aus den Figuren hervor, wenn man die Flüssigkeits- und Chemikalienströme, mit Buchstaben bezeichnet, betrachtet.
  • a gibt das Flüssigkeitsvolumen in l/h an, das mit den Metallgegenständen überführt wird.
  • v gibt die Kondensatmenge in l/h an und entspricht dem Spülwasser cO gibt die Chemikalienkonzentration in g/l in der Behandlungswanne an C1-3 gibt die Chemikalienkonzentration in g/l in den Spülwannen an b gibt die Zufuhr von reinem Wasser in l/h als Ersatz des Verlustes bei Verdampfung und Ausführung der Anlage von Wasser, das an den Metallgegenständen haftet x gibt den Zusatz von Chemikalien an entsprechend dem Netto-Verbrauch an diesen.
  • Die Mengen von x und b sind beide so gering, daß x und b diskontinuierlich hinzugesetzt werden können, ohne das Verfahren zu stören.
  • Figur 2 zeigt eine ähnliche Anlage wie Figur 1, aber hier ist ein Chemikalienreservoir 8 zwischen dem Verdampfer 6 und der Behandlungswanne 1 angeordnet. Die Speisung zum Abtreiber wird also direkt aus der ersten Spülstufe 2 genommen undder Überlauf des Verdampfers 6 geht zuerst zu dem Chemikalienreservoir 8. Die Behandlungswanne 1 steht in direktem Kontakt mit dem Chemikalienreservoir 8. Die Metallgegenstände werden also zuerst in die Behandlungswanne 1 und von dort zu den Spülstufen 2 bis 4 geführt, in derselben Weise, wie in Figur 1 beschrieben ist.
  • Die Bezugszahl 9 gibt die Regulierventile an.
  • Die vorliegende Erfindung hat ein breites Anwendungsgebiet, in dem sie bei chemischer Oberflächenbehandlung von Gegenständen, die z. B. aus Aluminium, Magnesium, Zink und Stahl bestehen, benutzt werden kann und die Behandlung kann u. a. Chromatierung, Phosphatierung und gewöhnliche Beizung sein. Voraussetzung, um das vorliegende Verfahren benutzen zu können, ist, daß die Behandlungsflüssigkeit sich für Aufkonzentrierung und Wiedergewinnung von Spülwasser in einem Abtreiber (Verdampfer) eignet.
  • Die Erfindung wird näher beschrieben in Verbindung mit der Chromatierung von Magnesiumgegenständen.
  • B - i s p i e 1' 1 Dieses Beispiel zeigt die Spüleffektivität, wenn das Verfahren der Erfindung ausgeführt wird.
  • Die Magnesiumgegenstände werden in die Chromatierungsstufe mit Hilfe eines Förderbandes hineingeleitet, und die Kontaktzeit wird durch Einstellung der Bandgeschwindigkeit reguliert. Die Behandlungszeit war 10 bis 40 Sekunden und die Badtemperatu; 20 bis 40°C. Die Badzusammensetzung, die benutzt wurde, war folgende: Natriumdichromat (Na2Cr207.2H20) 30 bis 50 g/l Salpetersäure (65 % HNO3) 30 bis 50 ml/l Natriumhydrogenfluorid (Na-HF2) 2,5 g/l Magnesiumsulfat (MgS04.7H20) 3 g/l Die Chromatierungsflüssigkeit wurde den Gegenständen via Spritzdüsen aufgetragen. Überschüssige Chromatierungsflüssigkeit floß in die Wanne 1 hinein. Die eigentliche Spülung geschah, indem das Spülwasser von den respektiven Spülwannen 2 bis 4 via Spüldüsen gegen die Gegenstände gepumpt wurde und gebrauchtes Spülwasser floß in die Spülwanne hinein und über einen Über lauf zu den folgenden Spülstufen. Der 'Jersuch wurde also in einer Anlage entsprechend Figur 1 ausgeführt. Die Spülung kann aber auch so ausgeführt werden, daß das Förderband in die Spülwanne hineingeleitet wird. Reines Wasser, d. h. Kondensat des Abtreibers, wird zur letzten Spülstufe geleitet und eine entsprechende Menge Spülwasser floß davon heraus und in die nächste Spülstufe hinein. Die Menge der Chemikalien, die in das Spülsystem hinübergeführt wurde, entsprach 183 g/l Natriumdichromat. Die Gleichgewichtskonzentrationen in den Spülwannen waren wie folgt: In der ersten 2550 mg/l in der zweiten 340 mg/l in der dritten 35 mg/l und in der vierten 3,3 mg/l Natriumdichromat.
  • Die der letzten Spülwanne zugeführte Kondensatmenge war 74,5 l/h.
  • Die ausgehenden Gegenstände waren also mit Spülwasser befeuchtet, die vernachlässigbare Mengen Chemikalien enthielten. Die Spülung gab genügend gereinigte Produkte bei Anwendung von wiedergewonnenem Spülwasser des Abtreibers. über längere Zeit wird man wenig Wasserverlust haben wegen des Wassers, das an den ausgehenden Gegenständen der letzten Spülstufe haftet.
  • Beispiel 2 Ein Versuch, entsprechend dem Beispiel 1, wurde vorgenommen, aber nun entsprach die überführte Chemikalienmenge 272 g/h Natriumdichromat. Kondensat der letzten Spülstufe war nun 74,5 l/h. Dies gab folgende Chemikalienkonzentration in den vier Spülwannen: In der ersten 4500 mg/l in der zweiten 800 mg/l in der dritten 150 mg/l und in der vierten 22 mg/l Die Chemikalienkonzentration in der letzten Spülstufe ist also etwas höher als im ersten Beispiel, liegt aber immer noch auf einem akzeptabel niedrigen Niveau. Es hat sich überraschend erwiesen, daß die Chemikalienkonzentration in der/den ersten Baustufe(n) so hoch liegen kann, wie es die Beispiele zeigen, ohne daß die Belag-Qualität verringert wird. Es hat sich ebenfalls gezeigt, daß in gewissen Fällen ausgehende Gegenstände mit Spülwasser befeuchtet sein können, das eine geringe Menge Behandlungschemikalien enthält, ohne daß die Belag-Qualität verringert wird.
  • Die Versuche zeigen, daß die zu behandlnden Gegenstände genügend rein gespült werden können, fast ohne Netto-Verbrauch an Wasser vom Leitungsnetz. Dies ist überraschend, da der Wasserverbrauch bei konventionellen Anlagen sehr hoch ist, um genügend reine Produkte zu erhalten.
  • Beispiel 3 Dies er Versuch zeigt den Chemikalienverbrauch bei einer Verfahrensweise gemäß der Erfindung.
  • 6060 Lautsprecherchassis aus Magnesium mit einem Totalgewicht von 758 kg wurden in einer Anlagen nach Figur 1 chromatiert.
  • Es wurden dann folgende Chemikalien verbraucht: Natriumdichromat 2592 g, HN03 (65 %) 8246 g, d. h., beziehungsweise 3,4 g/kg und 10,9 g/kg behandelter Magnesiumteil. Bei gewöhnlicher Chromatierung ohne Wiedergewinnungsanlage für Chemikalien und Spülwasser sind entsprechende Werte einer Druckgießerei zu bzw.
  • 20 bis 25 g/kg Dichromat und 25 bis 35 g/kg HN03 angegeben.
  • Beispiel 4 Dieses Beispiel zeigt eine Untersuchung, um exakter den Netto-Chemikalienverbrauch für die Chromatierung festzulegen. Es wurden Versuche unter kontrollierten Laboratoriebedingungen und durch Anwendung von Plattenproben mit bekannter Oberfläche vorgenommen.
  • Die Versuchsergebnisse mit Bezug auf Netto-Chemikalienverbrauch waren: Natriumdichromat 3,3 g/m2 Salpetersäure (65 %) 20,9 g/m2 Auf Gewichtsbasis umgerechnet erhielt man dann beziehungsweise 1,0 g/kg und 6,4 g/kg. Dieses zeigt, daß man bei Verwendung der Verfahrensweise der Erfindung, so wie aus Beispiel 3 hervorgeht, einen Netto-Chemikalienverbrauch erhält, der nahe an ideale Verhältnisse grenzt und wo die belegte Oberfläche exakt ausgerechnet werden kann.
  • Diese Versuche zeigen also, daß es bei der Verfahrensweise der Erfindung möglich ist, auf einen Chemikalienverbrauch herabzukommen, der wesentlich niedriger liegt als bei konventionellen Anlagen.
  • Die Regulierung des Abtreibers kann aus Messungen von Chemikalienkonzentrationen in der letzten Spülstufe vorgenommen werden.
  • Dadurch kann man mit minimalen Mengen Kondensat zur letzten Spülstufe fahren, indem der Verdampfer nur eingeschaltet wird, wenn die Chemikalienkonzentration in diesem über einen gewissen Wert ansteigt.
  • Selbst wenn die vorliegende Verfahrensweise mehr Energie fordert als bei Anlagen ohne Wiedergewinnungsvorrichtungen, kann viel von der Energie dem Abtreiber zugeführt, im Kondensator wiedergewonnen werden, in dem das Kühlwasser von diesem eine Temperatur hat, die es ermöglicht, das Kühlwasser zum Trocknen der fertig behandelten Gegenstände zu benutzen.
  • Die wesentlichsten Vorteile der vorliegenden Erfindung sind, daß man einen niedrigen Wasser- und Chemikalienverbrauch erhält, gleichzeitig wie man vermeidet, in Reinigungsanlagen zu investieren. Man erhält also einen geschlossenen Kreislauf, in dem das Spülwasser regeneriert wird und Chemikalien im Spülwasser wiedergewonnen werden. Der Betrieb der Anlage ist einfacher und erfordert nicht so hohe technisch qualifizierte Operateure, wie es in einer Reinigungsanlage der Zufall ist. Der Platzbedarf einer Reinigungsanlage ist nochdazu größer als bei einer Wiedergewinnungsanlage, die bei der Erfindung benutzt wird.
  • Leerseite

Claims (6)

  1. P a t e n t a n s p r ü c h e 1. Verfahren zur chemischen Oberflächenbehandlung von Me-< allgegenständen, bei dem in einer Behandlungsstufe Chemikalienlösung durch Anspritzen oder Eintauchen aufgetragen wird, worauf die Metallgegenstände in mehreren Stufen gespült werden, indem das Spülwasser im Gegenstrom zu den Metallgegenständen geführt wird, dadurch gekennzeichnet, daß das Spülwasser der ersten Spülstufe durch einen Abtreiber hindurchgeleitet wird, von wo die Abdämpfe über einen Kondensator zur letzten Spülstufe als reines Spülwasser geführt werden und der überlauf des Abtreibers zur Behandlungsstufe geführt wird und daß dem Prozeß nur Chemikalten und Wasser, entsprechend-dem Netto-Verbrauch an diesen, kontinuierlich oder diskontinuierlich zugeführt werden.
  2. 2. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß das Spülwasser der ersten Spülstufe direkt zur Behandlungsstufe geführt wird und daß die Speisung des Abtreibers daraus entnommen wird und der Uberlauf direkt zur Behandlungsstufe zurückgeführt wird.
  3. 3. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß das Spülwasser der ersten Spülstufe direkt zum Abtreiber und der Ueberlauf von diesem zu einem Reservoir für Chemikalienlösung und weiter zur Behandlungsstufe geführt wird, wo auch Chemikalien und Wasser hinzugesetzt werden, entsprechend dem Verbrauch an diesen.
  4. 4. Anlage zur Durchführung des Verfahrens nach Anspruch 1 bis 3, umfassend Behandlungsvorrichtungen und mehrere Spülstufen, die nacheinander angeschlossen sind und Transportvorrichtungen, um die Metallgegenstände durch die Behandlungsstufe und die Spülstufen zu führen, dadurch gekennzeichnet, daß im Anschluß an die Behandlungsvorrichtungen eine Wiedergewinnungsanlage angeordnet ist, bestehend aus einem Verdampfer mit Kondensator, und daß die Einheiten der Anlage so angeschlossen sind, daß sie einen geschlossenen Kreislauf -bilden,- in dem reines Spülwasser vom Kondensator zur letzten Spülstufe geleitet wird und wiedergewonnene Chemikalien zu den Behandlungsvorrichtungen.
  5. 5. Anlage nach Anspruch 4, dadurch gekennzeichnet, daß der Verdampfer nach der Behandlungsstufe placiert ist, so daß die Speisung zu diesem direkt von der Behandlungswanne genommen wird, wo Spülwasser von der ersten Spülstufe hinzugeführt und wohin auch der Uberlauf des Verdampfers zurückgeführt wird.
  6. 6. Anlage nach Anspruch 4, dadurch gekennzeichnet, daß der Verdampfer zwischen der ersten Spülstufe und der Behandlungsstufe placiert ist und daß zwischen dem Verdampfer und der Behandlungswanne ein Chemikalienreservoir angeordnet ist, dem der Überlauf des Verdampfers zugeleitet wird und von dort aus weiter zur Behandlungswanne.
DE19762656103 1975-12-23 1976-12-10 Verfahren und anlage fuer chemische oberflaechenbehandlung von metallgegenstaenden in geschlossenem kreislauf mit chemikalienwiedergewinnung ohne entgiftungsanlagen Withdrawn DE2656103A1 (de)

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