DE2650869C3 - Verfahren zur Herstellung eines feuerfesten Pulvers - Google Patents
Verfahren zur Herstellung eines feuerfesten PulversInfo
- Publication number
- DE2650869C3 DE2650869C3 DE2650869A DE2650869A DE2650869C3 DE 2650869 C3 DE2650869 C3 DE 2650869C3 DE 2650869 A DE2650869 A DE 2650869A DE 2650869 A DE2650869 A DE 2650869A DE 2650869 C3 DE2650869 C3 DE 2650869C3
- Authority
- DE
- Germany
- Prior art keywords
- gas
- hydrogen
- plasma
- reactor
- flow
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired
Links
Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
- B01J12/00—Chemical processes in general for reacting gaseous media with gaseous media; Apparatus specially adapted therefor
- B01J12/002—Chemical processes in general for reacting gaseous media with gaseous media; Apparatus specially adapted therefor carried out in the plasma state
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C01—INORGANIC CHEMISTRY
- C01B—NON-METALLIC ELEMENTS; COMPOUNDS THEREOF; METALLOIDS OR COMPOUNDS THEREOF NOT COVERED BY SUBCLASS C01C
- C01B32/00—Carbon; Compounds thereof
- C01B32/90—Carbides
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
- B01J12/00—Chemical processes in general for reacting gaseous media with gaseous media; Apparatus specially adapted therefor
- B01J12/02—Chemical processes in general for reacting gaseous media with gaseous media; Apparatus specially adapted therefor for obtaining at least one reaction product which, at normal temperature, is in the solid state
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C01—INORGANIC CHEMISTRY
- C01B—NON-METALLIC ELEMENTS; COMPOUNDS THEREOF; METALLOIDS OR COMPOUNDS THEREOF NOT COVERED BY SUBCLASS C01C
- C01B21/00—Nitrogen; Compounds thereof
- C01B21/06—Binary compounds of nitrogen with metals, with silicon, or with boron, or with carbon, i.e. nitrides; Compounds of nitrogen with more than one metal, silicon or boron
- C01B21/064—Binary compounds of nitrogen with metals, with silicon, or with boron, or with carbon, i.e. nitrides; Compounds of nitrogen with more than one metal, silicon or boron with boron
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C01—INORGANIC CHEMISTRY
- C01B—NON-METALLIC ELEMENTS; COMPOUNDS THEREOF; METALLOIDS OR COMPOUNDS THEREOF NOT COVERED BY SUBCLASS C01C
- C01B21/00—Nitrogen; Compounds thereof
- C01B21/06—Binary compounds of nitrogen with metals, with silicon, or with boron, or with carbon, i.e. nitrides; Compounds of nitrogen with more than one metal, silicon or boron
- C01B21/068—Binary compounds of nitrogen with metals, with silicon, or with boron, or with carbon, i.e. nitrides; Compounds of nitrogen with more than one metal, silicon or boron with silicon
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C01—INORGANIC CHEMISTRY
- C01B—NON-METALLIC ELEMENTS; COMPOUNDS THEREOF; METALLOIDS OR COMPOUNDS THEREOF NOT COVERED BY SUBCLASS C01C
- C01B21/00—Nitrogen; Compounds thereof
- C01B21/06—Binary compounds of nitrogen with metals, with silicon, or with boron, or with carbon, i.e. nitrides; Compounds of nitrogen with more than one metal, silicon or boron
- C01B21/072—Binary compounds of nitrogen with metals, with silicon, or with boron, or with carbon, i.e. nitrides; Compounds of nitrogen with more than one metal, silicon or boron with aluminium
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C01—INORGANIC CHEMISTRY
- C01B—NON-METALLIC ELEMENTS; COMPOUNDS THEREOF; METALLOIDS OR COMPOUNDS THEREOF NOT COVERED BY SUBCLASS C01C
- C01B33/00—Silicon; Compounds thereof
- C01B33/06—Metal silicides
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C01—INORGANIC CHEMISTRY
- C01B—NON-METALLIC ELEMENTS; COMPOUNDS THEREOF; METALLOIDS OR COMPOUNDS THEREOF NOT COVERED BY SUBCLASS C01C
- C01B35/00—Boron; Compounds thereof
- C01B35/02—Boron; Borides
- C01B35/04—Metal borides
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05H—PLASMA TECHNIQUE; PRODUCTION OF ACCELERATED ELECTRICALLY-CHARGED PARTICLES OR OF NEUTRONS; PRODUCTION OR ACCELERATION OF NEUTRAL MOLECULAR OR ATOMIC BEAMS
- H05H1/00—Generating plasma; Handling plasma
- H05H1/01—Handling plasma, e.g. of subatomic particles
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05H—PLASMA TECHNIQUE; PRODUCTION OF ACCELERATED ELECTRICALLY-CHARGED PARTICLES OR OF NEUTRONS; PRODUCTION OR ACCELERATION OF NEUTRAL MOLECULAR OR ATOMIC BEAMS
- H05H1/00—Generating plasma; Handling plasma
- H05H1/24—Generating plasma
- H05H1/26—Plasma torches
- H05H1/32—Plasma torches using an arc
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05H—PLASMA TECHNIQUE; PRODUCTION OF ACCELERATED ELECTRICALLY-CHARGED PARTICLES OR OF NEUTRONS; PRODUCTION OR ACCELERATION OF NEUTRAL MOLECULAR OR ATOMIC BEAMS
- H05H1/00—Generating plasma; Handling plasma
- H05H1/24—Generating plasma
- H05H1/26—Plasma torches
- H05H1/32—Plasma torches using an arc
- H05H1/34—Details, e.g. electrodes, nozzles
- H05H1/3405—Arrangements for stabilising or constricting the arc, e.g. by an additional gas flow
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05H—PLASMA TECHNIQUE; PRODUCTION OF ACCELERATED ELECTRICALLY-CHARGED PARTICLES OR OF NEUTRONS; PRODUCTION OR ACCELERATION OF NEUTRAL MOLECULAR OR ATOMIC BEAMS
- H05H1/00—Generating plasma; Handling plasma
- H05H1/24—Generating plasma
- H05H1/26—Plasma torches
- H05H1/32—Plasma torches using an arc
- H05H1/34—Details, e.g. electrodes, nozzles
- H05H1/3468—Vortex generators
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05H—PLASMA TECHNIQUE; PRODUCTION OF ACCELERATED ELECTRICALLY-CHARGED PARTICLES OR OF NEUTRONS; PRODUCTION OR ACCELERATION OF NEUTRAL MOLECULAR OR ATOMIC BEAMS
- H05H1/00—Generating plasma; Handling plasma
- H05H1/24—Generating plasma
- H05H1/26—Plasma torches
- H05H1/32—Plasma torches using an arc
- H05H1/42—Plasma torches using an arc with provisions for introducing materials into the plasma, e.g. powder, liquid
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C01—INORGANIC CHEMISTRY
- C01P—INDEXING SCHEME RELATING TO STRUCTURAL AND PHYSICAL ASPECTS OF SOLID INORGANIC COMPOUNDS
- C01P2006/00—Physical properties of inorganic compounds
- C01P2006/12—Surface area
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05H—PLASMA TECHNIQUE; PRODUCTION OF ACCELERATED ELECTRICALLY-CHARGED PARTICLES OR OF NEUTRONS; PRODUCTION OR ACCELERATION OF NEUTRAL MOLECULAR OR ATOMIC BEAMS
- H05H1/00—Generating plasma; Handling plasma
- H05H1/24—Generating plasma
- H05H1/26—Plasma torches
- H05H1/32—Plasma torches using an arc
- H05H1/34—Details, e.g. electrodes, nozzles
- H05H1/40—Details, e.g. electrodes, nozzles using applied magnetic fields, e.g. for focusing or rotating the arc
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10S—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10S422/00—Chemical apparatus and process disinfecting, deodorizing, preserving, or sterilizing
- Y10S422/906—Plasma or ion generation means
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10S—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10S423/00—Chemistry of inorganic compounds
- Y10S423/09—Reaction techniques
- Y10S423/10—Plasma energized
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Plasma & Fusion (AREA)
- Inorganic Chemistry (AREA)
- Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Physical Or Chemical Processes And Apparatus (AREA)
- Carbon And Carbon Compounds (AREA)
- Compositions Of Oxide Ceramics (AREA)
- Silicon Compounds (AREA)
- Chemical Vapour Deposition (AREA)
- Ceramic Products (AREA)
Description
Die Herstellung von feinverteilten Pulvern, z. B. von Boriden, Carbiden, Siliciden, Nitriden oder Sulfiden von
Metallen und Halbmetallen der Gruppen III —VI des Periodensystems der Elemente ist bekannt. Man setzt
dazu ein gasförmiges Haloganid eines dieser Metalle 4J>
oder Halbmetalle und ein reaktionsfähiges Gas, das eine Quelle für das entsprechende nichtmetallische Element
enthält, um, vergleiche z. B. US-PS 32 53 886, 33 40 020, 85 586 und ferner DE-OS 24 20 621, ferner »Refractory
Hard Metals«, von Schwarzkopf and Kieff e r, The MacMillan Company, New York, N. Y. (1953).
Bei der Herstellung derartiger feinverteilter feuerfester Pulver werden das Metallhalogenid und das die Quelle
für Bor, Kohlenstoff, Silicium, Stickstoff oder Schwefel enthaltende Gas in einem Reaktor auf die erforderliche «
Reaktionstemperatur gebracht. Die gebildeten feuerfesten Pulver werden aus der Reaktionszone des Reaktors
entfernt, gekühlt oder abgeschreckt und in üblicher Weise isoliert, z. B. in Cyclonen, durch elektrostatische
Fälleinrichtungen, Staubsammler, Filter u. dgl. in der b0
bereits erwähnten DE-OS 24 20 621 kann die für die Durchführung der Umsetzung erforderliche Wärme
durch ein Plasmagas, z. B. durch einen heißen Wasserstoffstrom, geliefert werden, der durch Erwärmen von
Wasserstoff in einem bogenförmigen Plasmaerhitzer h>
hergestellt wird.
<\e\ der Herstellung von feinverteilten Pulvern der
genannten feuerfesten Verbindungen ist es üblich, die Ausgangsstoffe schnell in dem Reaktor auf die
Umsetzungstemperatur zu bringen, die am ehesten zur Bildung der gewünschten Verbindung führt. Diese
Arbeitsweise ermöglicht, daß ein wesentlicher Teil der Umsetzung unter im wesentlichen gleichförmigen
Bedingungen eintritt, wodurch die Bildung gleichförmiger Produkte gefördert wird. In der DE-OS 24 20 621
wird dies dadurch erreicht, daß die Ausgangsstoffe in einen heißen Plasma-Gasstrom eingeführt werden,
wenn das Gas aus dem Bogenerhitzer austritt Diese Arbeitsweise erfordert, daß die Ausgangsstoffe aus
einer Einrichtung für die Zuführung der Ausgangsstoffe austreten, die typischerweise benachbart oder in der
Nähe des Endes für die Gasabgabe des Bogenerhitzers liegt Da die Reaktion, die zur Bildung dieser feuerfesten
Pulver führt, im wesentlichen momentan bei den durch das heiße Plasmagas erzeugten Temperaturen eintritt,
liegt die Einrichtung für die Zuführung des Ausgangsstoffs ebenfalls eng benachbart zu der Reaktionszone.
Ein Plasmabogenerhitzer, der typischerweise für chemische Synthesen verwendet wird, ist der Gleichstrombogenerhitzer.
Bei einem solchen Bogenerhitzer wird das Plasmagas durch den sich zwischen der Anode und Kathode
erstreckenden Bogen geführt und tritt aus einer Düse in der Anode als heißer Plasma-Gasstrom oder »Flamme«
aus. Um eine Kontinuität des Betriebes eines Bogenerhitzers sicherzustellen, ist es erforderlich, daß der sich
zwischen der Anode und Kathode erstreckende Bogen stabilisiert wird, d. h., daß der Bogen ohne Selbstverlöschung
aufrechterhalten bleibt. Dadurch wird die für chemische Synthesen erforderliche kontinuierliche
Flamme zur Verfugung gestellt. Die Stabilisierung des Bogens wird durch zwei allgemeine Arbeitsweisen
erreicht, und zwar durch Stabilisierung mit Gas oder Stabilisierung mit Flüssigkeit. Diese Kategorien sind
ferner als Wirbel-stabilisiert, Gasmantel-stabilisiert, Wand-stabilisiert, magnetisch-stabilisiert und Wasserstabilisiert
unterteilt worden.
Üblich für die Stabilisierung eines Bogens ist die Gaswirbelstabilisierung. Dies wird typischerweise erreicht,
indem das Gasplasma tangential in die zwischen der Kathode und Anode vorhandene Bogenkammer
eingeführt wird, so daß ein spiralförmiges Fließmuster des Plasmagases in dem von dem Bogen besetzten
Raum, der normalerweise innerhalb der hohlen zylindrischen Anode ist, entsteht. Die spiralförmige oder
strudeiförmige Bewegung des Plasmas verengt und komprimiert die Bogenkolonne gegen das Zentrum des
Raumes, durch den der Bogen geht, wobei durch eine derartige Begrenzung die Stromdichte, der Spannungsgradient und die Temperatur der Bogenkolonne erhöht
wird.
Beim Austritt des heißen Stromes des Plasmagases aus der Anode des Bogenerhitzers bewirken Zentrifugalkräfte,
die auf den Gasstrom einwirken, daß er ausflackert und einen divergierenden Gaskegel bildet,
wobei er die exponierten Oberflächen der Einrichtung für den Ausgangsstoff und die Reaktoroberflächen
berührt. Infolgedessen werden Teile der exponierten Oberflächen der Einrichtung für die Zuführung des
Ausgangsstoffes auf hohe Temperaturen erwärmt und solche heiße Oberflächen bilden Stellen, an denen die
Gasphasenreaktion eintreten kann. Es besteht infolgedessen eine starke Neigung der Ausgangsstoffe, an
solchen heißen strahlenden Oberflächen unter Bildung von festen feuerfesten Produkten zu reagieren, wobei
sich diese Produkte an solchen strahlenden Oberflächen
ansammeln. Außerdem kann das wirbelnde Gas pulverförmiges Produkt solchen Oberflächen zuführen,
wo es sich ablagert und ansammelt- Die Temperatur von diesen Oberflächen ist hoch genug, um das pulverförmige
Produkt zu schmelzen und zu sintern, wocurch ein für
den gedachten Zweck ungeeignetes Abfallmaterial entsteht. Diese Ablagerungen können bis zu einem
Punkt anwachsen, daß sie zum Schluß teilweise oder sogar vollständig die Eintrittsöffnungen in der Einrichtung
für die Zuführung des Ausgangsstoffes in aen Reaktor blockieren. Eine partielle Blockierung von
solchen Eintrittsöffnungen kann eine Abweichung von dem gewünschten Fließ- oder Strömungsmuster des
Ausgangsstoffs bewirken, wodurch die Mischbedingungen geändert und die Reaktionsbedingungen gestört
werden. Die partielle Blockierung dieser Einlaßöffnungen führt häufig außerdem auch noch zu einem
zusätzlichen Wachstum des abgelagerten Produkts an der Einrichtung für die Zuführung des Ausgangsstoffes.
In ähnlicher Weise erzeugt der auseinandergehende Kegel des heißen Plasmagases erhitzte und strahlende
Oberflächen an einem Teil des Reaktors. Der niedrige Druck im Zentrum des wirbelnden heißen Gases
bewirkt weiterhin den Transport von festem Produkt von anderen Stellen des Reaktors in das wirbelnde Gas
und gegen die strahlenden Oberflächen des Reaktors. Ablagerungen des Produkts an diesen Oberflächen
können ebenfalls sintern und dadurch zu einem Verlust an brauchbarem pulverförmigem Produkt führen. Wenn
Abschabeinrichtungen verwendet werden, um das pulverförmige Produkt von den Wänden des Reaktors
zu entfernen, stören derartige Ablagerungen die Bewegung der Abschabeinrichtung. Solche Ablagerungen
können auch den Betrieb von Zusatzeinrichtungen im Innern des Reaktors beeinträchtigen, z. B. von
Thermoelementen.
Die aus US-PS 32 46 883 und DE-OS 23 06 557 bekannten Möglichkeiten zum Mischen von Materialströmen
erzeugen entweder eine radial nach außen laufende Strömung oder eine schraubenförmig verlaufende
Bahn innerhalb des Reaktors und geben keine brauchbaren Anregungen, wie man die bei der
vorgesehenen Verwendung eines Plasmabrenners auftretenden Strömungscharakteristika so verändern kanr.,
daß sie bei einem Verfahren zur Herstellung von feinverteilten feuerfesten Pulvern zur Anwendung
gelangen können.
Durch Einführung des Plasmagases in die Bogenkammer in radialer, i/n Gegensatz zu tangentialer Form,
entsteht eine kollimierte Säule oder Kolonne von heißem Plasmagas, die aus dem Bogenerhitzer austritt.
Es wurde jedoch festgestellt, daß diese Betriebsweise nur für niedrige Produktionsraten geeignet ist. Versuche
zum Betreiben eines Gleichstrombogenerhitzers mit radialer Zuführung des Plasmagases bei relativ hohen
Leistungen, um die erforderliche Wärmemenge für höhere Produktionsraten zu gewinnen, führten zu einer
sehr kurzen Gebrauchsdauer der Elektroden, insbesondere der Kathode, und zu einer Unbeständigkeit des
Bogens.
Auch bei einer kollimierten Säule von heißem Plasmagas ist eine Tendenz für die Ablagerung von
Produkt in der Nähe des Kopfes des Reaktors, wo Wärme von der Reaktorwand nicht sehr wirksam
abzuführen ist, zu beobachten. Besonders treten derartige Ablagerungen auf der Unterseite des Kopfes
unter und in Nachbarschaft zu der Einlaßleitung für den Ausgangsstoff ein. Solche Ablagerungen wachsen und
fallen schließlich auf den Boden des Reaktors. Während des Wachstums können die Ablagerungen aber das
Mischen der Ausgangsstoffe beeinträchtigen. Außerdem führen auch diese Ablagerungen zu einem Verlust
an verwendbarem Produkt Diese Art von Ablagerungen oder Produktwachstum können durch Einleiten von
wasserfreiem Chlorwasserstoff in die Mischzone der Ausgangsstoffe gesteuert und häufig vollständig eliminiert
werden. Durch die Verwendung vor. Chlorwasser-
iü stoff wird jedoch das Produktwachstum an den Reaktorwänden auf Grund des divergierenden Kegels
des wirbelnden heißen Plasmagases, das heiße und strahlende Oberflächen an den exponierten Teilen des
Reaktors erzeugt, nicht verhindert In der genannten
is DE-OS 24 20 621 wird die Verwendung von wasserfreiem
Halogenwasserstoff in der Mischzone der Ausgangsstoffe beschrieben, um die Ablagerungen von
festem feuerfestem, pulverförmigem Produkt zu verhindern. Da Halogenwasserstoff, z. B. Chlorwasserstoff, als
ein Reaktionsprodukt bei der Gasphasenreaktion gebildet wird, drängt die Zugabe von zusätzlichen
Mengen an Halogenwasserstoff die erwünschte Reaktion zurück.
Aufgabe der vorliegenden Erfindung war es, die zuvor
Aufgabe der vorliegenden Erfindung war es, die zuvor
_>) geschilderten, insbesondere bei der Herstellung feinverteilter
feuerfester Pulver auftretenden Probleme im Zusammenhang mit vorzeitiger Reaktion und unerwünschten
Ablagerungen zu vermeiden und eine Verfahrensweise aufzuzeigen, die auch bei hohen
«ι Durchsätzen stabile Betriebszustände für längere Zeiten ermöglicht.
Gegenstand der Erfindung ist ein Verfahren zur Herstellung eines feuerfesten Pulvers eines Borids,
Carbids, Silicids, Nitrids oder Sulfids eines Metalles aus den Gruppen III bis VI und den Eisenmetallen der
Gruppe VIII des Periodensystems der Elemente durch Gasphasenumsetzung von (a) einem Halogenid von
einem dieser Metalle und (b) einer Quelle für Bor, Kohlenstoff, Silicium, Stickstoff oder Schwefel in
4(i Gegenwart von Wasserstoff, bei dem man die
Ausgangsstoffe mit einem Heißgasstrom mischt und in einem Reaktor umsetzt, wobei der Heißgasstrom durch
einen Gaswirbel-stabilisierten Plasmabogenerhitzer erzeugt wird.
J) Das Kennzeichnende des erfindungsgemäßen Verfahrens
besteht darin, daß man dem aus dem Bogenerhitzer mit einem Drall austretenden Gasstrom
(Plasmagasstrom) ein weiteres zum Plasmagasstrom gegensinnig drallförmig strömendes kälteres Gas so
V) zumischt, daß sich die Drehmomente beider Gasströme
gegenseitig aufheben und einen gut kollimierten Heißgasstrom ergeben, den man dem Reaktor zuführt,
die Ausgangsstoffe in den gut kollimierten Strom einführt und die gebildete feinverteilte feuerfeste
Y) Metallverbindung aus dem Reaktor entfernt.
Eine bevorzugte Ausführungform der Erfindung ist dadurch gekennzeichnet, daß man den gut kollimierten
Heißgasstrom und die Ausgangsstoffe vor Eintritt in den Reaktor mischt.
hi, Aus US-PS 33 65 274 ist zwar bekannt, daß man die
Ablagerungen vermeiden kann, wenn im Reaktor eine im wesentlichen laminare Strömung herrscht. Wenn
jedoch als Wärmequelle ein Heißgasstrom aus einem Gas-'irbel-stabilisiertcn Plasmabc generhitzer verwen-
•M det wird, läßt sich aus einem solchen brenner kein
laminarer Gasstrom ableiten
Völlig überraschend wurde jedoch gefunden, daß auch bei Verwendung einer iiiit '. i:iem Gaswirbel
stabilisierten Bogenheizeinrichiung die durch den spiralförmigen Gasfluß auftretenden Schwierigkeiten
auf einfache Weise beseitigt werden können, wenn man
nach dem erfindungsgemäßen Verfahren arbeitet.
Der gut kollimiene Gasstrom wird von dem
Bogenerf".:; -:cr in die Misch^one für die Aiisgangssioffe
abgegeben. Durch diese Arbeitsweise werden höhere
Produktionsraten und Ausbeuten von verwendbarem Produkt erzielt, ohne daß die Nachteile auftreten, wie
sie für das spiralförmige Flußbild in der Mischzom; und
im Reaktor geschildert wurden. Außerdem ermöglicht die Erfindung eine kontinuierlichere Betriebsweise.
Das erfindungsgemäße Verfahren wird anschließend unter Bezugnahme auf die schematische Zeichnung
erläutert, die einen Bogenerhitzer für das Plasmagas, einen Reaktor und Zusatzeinrichtungen für die Abscheidung
des Produkts (Cyclon, Gaswascheinrichtungen und Einrichtungen zur Behandlung des Abgases) zeigt.
Wie aus der Zeichnung zu ersehen ist, ist ein Plasmaerhitzer 1 auf einer Einlaßeinrichtung 60
montiert, die ihrerseits auf einen Reaktor 74 montiert ist. Obwohl hier eine vertikale Anordnung dieser Teile
gezeigt wird, sind auch andere Anordnungen möglich, z. B. auch eine horizontale Anordnung. Die Kathode 6
ist in einem Becher 5 innerhalb des Kathodengehäuses 3 montiert. Die zylindrische Hohlanode 18 ist in einem
Anodengehäuse 4 montiert, das elektrisch von dem Kathodengehäuse 3 isoliert ist. Die Kathode und die
Anode können aus üblichem Material für Elektroden in einem Plasmabrenner bestehen. Zu solchen Materialien
gehören Wolfram und Kupfer. Typischerweise besteht die Kathode aus Wolfram und hat eine Spitze, die
üblicherweise durch Zugabe von Thoroxid oder Zirconoxid oder durch Einschlüsse solcher Materialien
modifiziert ist, um die Emission von Elektronen, die bei der Kühlung der Kathode mithelfen, zu erleichtern. Die
Kathode ist üblicherweise ein fester Körper, z. B. ein Stab, und kann wie in der Zeichnung dargestellt, einen
Kopf mit einem Grat haben. Es kommen auch andere Formen in Betracht, z. B. ein flacher Kopf. Die Anode
besteht im allgemeinen aus Kupfer oder mit Wolfram beschichtetem Kupfer. Der becherförmige Kathodenhalter
5 wird in der Regel ebenfalls aus Kupfer hergestellt. Die Kathode und die Anode sind in ihren
Achsen aufeinander ausgerichtet. Die Kathode 18 besitzt in ihrem oberen Ende eine konische Form, um
eine Auskehlung 17 zu besitzen, die sich nach unten zu einem normalen Zylinder verengt. Die zylindrische
Hohlanode schafft einen Durchgang 15, der in der öffnung 16 endet.
Benachbart, aber im Abstand von der öffnung 16 der
Anode 18 ist ein Kollimator 22 vorgesehen, der ein Hohlzylinder ist, der aus Kupfer bestehen kann. Der
obere Innendurchmesser des Kollimators 22 ist geringfügig größer als der Innendurchmesser der
öffnung 16 der Anode 18, so daß das heiße Plasmagas wirksam mit Gas gegen die Wirbelbildung in der
Mischzone 27 gemischt werden kann. Wie die Zeichnung zeigt, ist der Bodendurchmesser des
Kollimators 22 geringfügig größer als der Kopfdurchmesser, daß eine konisch geformte Mischzone 27
entsteht Der untere Durchmesser des Kollimators ist gleich mit dem minimalen Durchmesser der Einlaßeinrichtung 60, die benachbart ist und axial mit dem
Kollimator 22, der Anode 18 und der Kathode 6 ausgerichtet ist Diese Einrichtungen sollten so angeordnet sein, daß wirbelnde Ströme bzw. Gegenströme
entlang der Wände des kegelförmigen Kollimators 22 '•ermirden werden.
Wie ri>es bei Plasmabrennern üblich ist, werrlep rtif
Elektroden und die Zubehörteile mit einem geeigneten
Kühlmittel gekühlt, um zu verhindern, daß sie schmelzen. In diesem Fall erfolgt die Kühlung der
Kathode durch Wasser, das in das KatiiodengehüiiEC 3
durch die Leitung 8 eingeführt wir 1 Dieses Kühlwasser strömi durch de·! Durchgang 10, der in den ringförmigen
Du;tiigang 11 führt. Der ringförmige Durchgang
führt zu dein Ausgangsende des Kathodenhalters 5, der zur Forderung der Wärmeabgabe einen Grat besitzt.
Wasser aus dem ringförmigen Durchgang 11 berührt die
Rückseite des Kathodenhalters 5 und wird dann durch den Durchgang 12 und die Leitung 13 abgeführt.
Die Anode 18 und der Kollimator 22 werden durch Wasser gekühlt, das durch die Leitung 24 in das
Anodengehäuse 3 eingeführt wird. Die Leitung 24 steht in Verbindung mit dem Durchgang 25, der seinerseits zu
einem Ringraum 26 in dem Kollimator 22 führt. Aus dem Ringraum 26 geht das Kühlmittel durch den Durchgang
28, bis es das ringförmige Aolenkblech 20 erreicht. Das Ablenkblech 20 ist im Abstand von der äußeren Wand
der Anode 18 so angeordnet, daß ein enger ringförmiger Durchgang 30 für das Strömen des Wassers mit hoher
Geschwindigkeit um die Außenseite der Anode 18 gebildet wird. Wie die Zeichnur; zeigt, fließt Wasser
nach unten auf der Außenseite des Ablenkbleches 20 und aufwärts durch den engen Durchgang 30, der durch
die Innenwand des Ablenkbleches 20 und die Außenwand 19 der Anode 18 gebildet wird. Über den
Durchgang 32 und die Leitung 33 wird das Wasser aus dem Bogenerhiizer entfernt. Statt Wasser können auch
andere geeignete Kühlmittel verwendet werden.
Um den Kollimator 22 ist die Feldspule bzw. Erregerwicklung 55 angeor Jnet, die aus vielen Umläufen
einer innerlich gekühlten Kupferwicklung 56 besteht Die Kathode 6, Anode 18 und die Erregerwicklung
55 sind mit nicht gezeigten Gleichstromquellen verbunden. Typischerweise ist der Anschluß für die
Elektroden getrennt von denjenigen für die Erregerspule. Zwischen den Kathode und der Anode sind
Gaseintrittsöffnungen 41 für die Einführung des Plasmagases in die durch die Anodenauskehlung 17 und
die Kathode 6 gebildete Kammer. Die Gaseinlaßöffnungen 41 stehen in Verbindung mit der Leitung 40. Als
Plasmagas wird Wasserstoff verwendet. Typischerweise sind vier Bohrungen 41 für das Gas vorhanden, d. h. in
jedem Quadrant eine, wobei diese Bohrungen derartig angelegt sind, daß das Plasmagas, d. h. Wasserstoff
tangential in cie Kammer zwischen der Kathode und der Anodenauskehlung eingeführt wird. Die tangentiale
Einführung des Plasmagases erzeugt eine spiralförmige oder wirbeiförmige Fließrichtung des Plasmagases beim
Durchschreiten des durch die Anode 18 gebildeter Durchgangs 15. Der entstehende Wirbel trägt dazu bei
den Bogen zu stabilisieren, so daß hierauf die Bezeichnung Wirbelstabilisierung beruht
In ähnlicher Weise sind zwischen der öffnung 16 und
der Anode 18 und dem Kopf des Kollimators 22 Bohrungen 47 für die Einführung des kälteren Gases
vorhanden. Diese Bohrungen stehen in Verbindung mil der Leitung 46. Typischerweise sind die Bohrungen 47
für das Gas ähnlich den Bohrungen 41 mit der Ausnahme, daß sie so angelegt sind, daß sie eine
spiralförmige Gasströmung in entgegengesetzter Richtung zu derjenigen, die durch die Bohrungen 41 erzeugl
wird, ergeben. Die besondere Ausführungsform dei Vorrichtung und der Einrichtungen für das Aufheben
des Drehimpulses der spirailörmigen Strömung des
Plasmagases und die hier gezeigte Zeichnung dienen üü;
zur Erläuterung des erfind .r-rseemäBen Ve Lhrens,
sind jedoch nichi erfindungswesentlich. Andere Arbeitsweisen
fur die Einführung des 7\vjJ!en G^ses mit einer
entgegenwirkenden Whbelströmuno l.önnen ebenfalls
verwendet werden, in diesem Zusammenhang wird
beispielsweise aui US-PS 31 71 010 verwiesen, wo andere Einrichtungen zur Herstellung einer Plasmaflamme
beschrieben sind, wobei diese !lamme dort als Schneidbrenner und zum Sprühen von festen Materialien
verwendet wird.
Benachbart zu dem Kollimator 22 ist die Einlaßeinrichtung 60 für die Ausgangsstoffe angeordnet. Sie
besitzt drei koaxiale in Längsrichtung in Abstand angeordnete Ringieiiungen 63, 65 und 67, die mit
Einlaßdüsen 62, 64 und 66 versehen sind. Die Ausgangsöffnungen der Ringleitungen 63, 65, 67 sind
von oben nach unten gegenüber der Achse zurückgezogen, so daß eine kegelförmige Zone 69 für die
Einführung der Ausgangsstoffe entsteht, in der die Ausgangsstoffe aufeinandertreffen und sich mii dein
kollimierten Strom des Plasmagases beginnen zu mischen, der aus dem Ausgang des Kollimators 22
hervortritt. Wie die Zeichnung zeigt, kann der Strömungsweg der Ausgangsstoffe durch die Austrittsöffnungen der Ringleitungen 63,65 und 67 senkrecht zu
dem heißen Strom des Plasmagases sein. Gewünschtenfalls kann die Richtung der Austrittsöffnungen zum
Plasmastrom auch anders als senkrecht sein, z. B. nach oben oder nach unten gerichtet, in einem Winkel von 1
bis 45° gegenüber der gezeigten Horizontalen, so daß die Strömung der gasförmigen Ausgangsstoffe unter
einem solchen Winkel in den Strom des kollimierten Plasmagases gerichtet oder damit in Berührung
gebracht wird. Das Gas der Ausgangsstoffe kann radial, tangential oder unter einem beliebigen geeigneten
Winkel in den kollimierten Strom des heißen Plasmagases gerichtet werden.
Als Plasmagas, das in dem Bogenerhitzer 1 erwärmt wird, wird bevorzugt Wasserstoff verwendet. Es können
jedoch auch andere Gase benutzt werden, z. B. Edelgase, wie Argon, Neon und Helium. Die Verwendung
von Wasserstoff als Plasmagas ist vorteilhaft, da dadurch die Ausbildung einer reduzierenden Atmosphäre
sichergestellt wird und da ferner dieses Gas als Halogenakzeptor, z. B. für Chlor wirkt, wobei das aus
den halogenhaltigen Ausgangsstoffen freigesetzte Halogen als Halogenwasserstoff gebunden wird. Es können
auch Mischungen von Wasserstoff mit anderen Gasen, wie z. B. mit Edelgasen, wie Argon, Neon oder Helium,
als Plasmagas verwendet werden. Wenn ein Edelgas oder ein anderes Gas allein als Plasmagas benutzt wird,
wird der für die Gasphasenumsetzung erforderliche Wasserstoff in den Reaktor durch Mischen mit den
Ausgangsstoffen oder als getrennter Strom eingeführt, z. B. als der erwähnte zweite Gasstrom oder als ein
getrennter Gasstrom, der durch die Einlaßeinrichtung
für die Ausgangsstoffe eingeführt wird. Auch Stickstoff kann als Plasmagas, insbesondere bei der Herstellung eo
von feuerfesten Metallnitriden, verwendet werden.
Bei einer typischen Betriebsweise sind der Bogenerhitzer 1, die Anode 18, die Kathode 6 und die
Erregerspule 55 mit geeigneten Gleichstromquellen verbunden. Die Energiequelle für die Erregungsspule ist
in der Regel getrennt von der Energiequelle für die Elektroden. Das durch die Erregungsspule 55 gebildete
magnetische Feld trägt dazu bei, den Bogen zu stabilisieren. In den Bogenerhitzer wird Kühlwasser
durch die Leitungen 8 und 24 und Wasserstoff als Plasmagas durch die Düsen 40 und 4t>
eingeführt. Es entsteht ein Lichtbogen zwischen der Kathode 6 und der Anode 18. Plasmagas wird tangential durch die
Bohrungen 41 und in uii; Kammer zwischen der
Kathode und Ancde eingeführt und fließt in einem spiralförmigen Weg über die Auskehlung 17 der Anode
18 und dann durch den Durchgang 15 der Anode 18, wobei es seine spiralförmige Strömung beibehält. Beim
Durchgang des Plasmagases durci. die vnode wird es
durch den Bogen auf hohe Temperaturen erwärmt. Das heiße Plasmagas, das aus der Öffnung 16 der Anode 18
austritt, wird mit einem zweiten Strom von Wasserstoffgas, das aus den Bohrungen 47 austritt, gemischt. Das
zweite Gas wird tangential in den Kopf der Miscluone
27 über die Bohrungen 47 eingeführt. Seine Einführrichtung ist entgegengesetzt zu derjenigen des Plasmagases.
Das zweite Gas wird durch die Bohrungen 47 in derartigen Mengen eingeführt, daß sich die Drehimpulse
der beiden Gasströme gegenseitig aufheben. Es enistehi ein gui koiiimierter Strom des heißen
Plasmagases, der in die Einführungszone 69 der Einlaßeinrichtung 60 eingeleitet wird.
Als zweites Gas kann ein beliebiges inertes Gas verwendet werden. Beispiele dafür sind Edelgase, wie
Argon, Neon oder Helium. Unter »inert« wird verstanden, daß das Gas die chemische Umsetzung in
der Gasphase, die im Reaktor 74 eintritt, nicht stört und auch mit dem entstandenen feuerfesten Pulver nicht
reagiert.
Das zweite Gas kann sich bei einer beliebigen geeigneten Temperatur befinden, z. B. bei Umgebungstemperatur
bis zu Temperaturen in der Nähe derjenigen des heißen Plasmagases. Aus wirtschaftlichen Gründen
ist es bevorzugt, daß das zweite Gas bei Umgebungstemperatur ist, da dadurch die Notwendigkeit einer
Erwärmung entfällt. Außerdem wird durch Einführung eines relativ kühlen Gases in die Gegend der öffnung
der Anode die Bildung eines ionisierenden Gasweges außerhalb der Anode zurückgedrängt, so daß der Bogen
innerhalb der Anode endet. Außerdem wird durch die Verwendung eines kühlen Gases die Menge der zu
entfernenden Wärme reduziert. Im allgemeinen ist die Temperatur des erwärmten Plasmagases ausreichend
hoch, so daß, wenn es mit dem kühleren Gas gemischt wird, die Temperatur des Plasmagases nicht auf ein
Niveau gesenkt wird, das für die Durchführung der chemischen Reaktion in der Gasphase nicht ausreichend
ist. Es sollte jedoch darauf geachtet werden, daß das zweite Gas nicht von einer Temperatur ist, durch die die
Temperatur des Plasmagases auf eine Temperatur erniedrigt wird, bei der die Gasphasenreaktion nicht
eingeleitet oder aufrechterhalten werden kann. In einem solchen unwahrscheinlichen Fall ergibt sich die Notwendigkeit, das Dämpfgas durch entsprechende Einrichtungen zu erwärmen.
Die Menge des Dämpfgases kann von der Konstruktion der Vorrichtung abhängen, z. B. von dem
Kollimator 22 und der Bohrung 47. Das Verhältnis von Plasmagas zu Dämpfgas kann schwanken, es schwankt
insbesondere in Abhängigkeit von dem Volumen des verwendeten Plasmagases, das seinerseits von der
Produktionsrate abhängt Im allgemeinen steigt dieses Verhältnis mit zunehmendem Volumen des Plasmagases
an, d. h. die erforderliche Menge an Dämpfgas steigt mit einer geringeren Rate als die Menge an Plasmagas.
Typischerweise liegt das volumetrische Verhältnis von
Plasmagas zu Dämpfgas zwischen etwa 3 : 1 und 1:1, bevorzugt 1,5 : 1 bis 2 : 1. Die Menge des Dämpfgases,
die erforderlich ist, um im wesentlichen die spiralförmige Strömung des Plasmagases auszulöschen bzw. zu
vernichten, wird als »auslöschende Menge« bezeichnet. Dem Fachmann bereitet die Feststellung der »auslöschenden
Menge« an Dämpfgas keine Schwierigkeiten, da er sie bei der Beobachtung des Bogenerhitzers leicht
feststellen kann. Außerdem ist diese Menge des Dämpfgases auch durch Betreiben de:>
Erhitzers m<c! Beobachtung der Produktablagerungen von Zeit zu Zei l
leicht zu erkennen.
Wie aus der beigefügten Zeichnung hervorgeht, wird das in dem Reaktor 74 gebildete feinverteilte feuerfest«
Metallpulver über die Leitung 75 entfernt, wobei es in
den gasförmigen Abfallprodukten suspendiert ist. Die Suspension wird in die Cyclone 76 und 80 eingeführt, um
das feuerfeste, pulverförmige Produkt von den gasförmigen Abfallstoffen zu trennen. Die Cyclone sind
üblicherweise gekühlt, z. B. durch äußere Kühlung, um das Produkt abzukühlen. Dazu können die Cyclone ζ. Β.
eine Rohrkühlung besitzen, durch die ein Kühimiuci, wie Wasser, zirkuliert wird. Das pulverförmige,
feuerfeste Produkt sammelt sich in den Auffangbehältern 77 und 81, wogegen die gasförmigen Nebenprodukte
den Cyclon 80 durch die Leitung 82 verlassen und in eine Gaswascheinrichtung 85 gelangen, die mit geeigneten
Fu!!körpern gefüllt ist. In die Wascheinrichtung 85 wird über die Leitung 90 die Waschlösung eingeführt
und über die Leitung 92 abgeführt. Das gewaschene Gas wird aus der Wascheinrichtung über die Leitung 88
entfernt. In der Zeichnung werden nur zwei Cyclone und zwei Auffanggefäße gezeigt, doch können selbstverständlich
auch eine höhere Anzahl solcher Einrichtungen verwendet werden. Alternativ kann aber auch mit
nur einem Cyclon und einem Auffanggefäß gearbeitet werden.
Das Verfahren nach der Erfindung läßt sich für die Herstellung in der Gasphase von pulverförmigen
Bonden, Carbiden, Siliciden, Nitriden und Sulfiden von Metallen und Halbmetallen der Gruppen III, IV, V und
VI und der Eisenmetalle der Gruppe VIII des Periodensystems der Elemente verwenden. Zu der
Gruppe III des Periodensystems der Elemente gehören auch die Metalle der Actiniden-Reihe, z. B. Thorium,
Uran, Neptun und Plutonium. Die Erfindung eignet sich besonders für die Herstellung von Boriden. Carbiden
und Nitriden von Metallen und Halbmetallen, insbesondere der Obergangsmetalle der Gruppen III —VI des
Periodensystems der Elemente. Von besonderer Bedeutung sind die Boride und Carbide der Metalle und
Halbmetalle der Gruppen IV-VI, insbesondere der Gruppen IV und "Λ und die Nitride der Metalle und
Halbmetalle der Gruppen III —V, insbesondere III und IV.
Beispiele von besonders interessierenden Metallen und Halbmetallen sind Bor, Silicium, Titan, Zirkon,
Hafnium, Tantal, Vanadin, Niob, Chrom, Molybdän, Wolfram, Eisen, Cobalt und Nickel. Der in den
Ansprüchen verwendete Ausdruck »Metall« schließt sowohl die Metalle als auch die Halbmetalle der
genannten Gruppen des Periodensystems ein. Von ganz besonderem Interesse sind die bereits genannten
Verbindungen der Metalle Aluminium, Bor, Silicium, Titan, Zirkon, Hafnium, Tantal Vanadin, Niob und
Wolfram.
Bei dem Verfahren gemäß der Erfindung werden Halogenide der genannten Metalle, die bei den
Temperaturen der in Betracht kommenden Gasphasenrcüktion
flüchtig sind, in Kombination mit nichtmetallischen Ausgangsstoffen verwendet. Die Chloride der
Metalle sind zwar bevorzugt, doch können an ihrer Stelle auch Fluoride, Bromide oder iodide benutzt
werden. Außer den üblichen Halogeniden in der bevorzugten Wertigkeit dieser Metalle können auch
Subhalogenide, z. B. Subchloride, verwendet werden. Außerdem können auch Mischungen von Halogeniden,
wie z. B. von Chloriden und Bromiden oder Halogenide und Subhalogenide benutzt werden.
Als Beispiele von geeigneten Halogeniden seien folgende Chloride genannt, wobei zu berücksichtigen ist,
daß jedoch auch andere Halogenide dieser Metalle benutzt werden können: Aluminiumchlorid, Bortrichlorid,
Silieiumtetrachlorid, Titantetrachlorid, Zirkontetrachlorid,
Hafniumtetrachlorid, Tantalpentachlorid, Vanadinpentachlorid, Niobpentachlorid, Chromchlorid,
Molybdänchlorid, Wolframhexachlorid, Eisen-III-chlorid,
Cobalt-Ill-chlorid, Nickel>.hlorid, Uranhexachlorid
und Thortetrachlorid.
Für den nichtmetallischen Anteil der herzustellenden Verbindungen wird eine Quelle für Bor, Kohlenstoff,
Silicium, Stickstoff oder Schwefel in die Reaktionszone eingeführt. Als Kohlenstoffquelle können die bereits
genannten Kohlenwasserstoffe und haiogenierten Kohlenwasserstoffe oder Mischungen davon verwendet
werden. Der hier ve· wendete Ausdruck »halogenierter Kohlenwasserstoff«, z. B »chlorierter Kohlenwasserstoff«,
umfaßt sowohl Verbindungen aus Kohlenstoff, Halogen und Wasserstoff, als auch Verbindungen nur
aus Kohlenstoff und Halogen, z. B. Kohlenstofftetrachlorid.
Typische Kohlenwasserstoffe, die als Kohlenstoffquelle verwendet werden können, sind normalerweise gasförmige oder flüssige aber relativ leicht flüchtige Kohlenwasserstoffe.
Typische Kohlenwasserstoffe, die als Kohlenstoffquelle verwendet werden können, sind normalerweise gasförmige oder flüssige aber relativ leicht flüchtige Kohlenwasserstoffe.
Bevorzugt sind gesättigte und ungesättigte Ci-C12
Kohlenwasserstoffe, wie Methan, Äthan, Propan, Butane, Pentane, Decane, Dodecane, Äthylen, Propylen,
Butylene und Amylene, symmetrisches Dimethyläthyien und ähnliche Alkene; cycloaliphatische und aromatische
Kohlenwasserstoffe, wie Cyclopentan, Cyclohexen, Cyclohexan, Toluol, Benzol und dergleichen; Acetylenverbindungen,
wie Acetylen, Äthylacetylen und Dimethylacetylen. Aus wirtschaftlichen Gründen sind
Methan oder Propan besonders bevorzugt Nur in seltenen Fällen werden Kohlenwasserstoffe mit mehr
als 12 Kohlenstoffatomen im Molekül verwendet
so Beispiele von haiogenierten Kohlenwasserstoffen, die als Kohlenstoffquelle verwendet werden können,
schließen gesättigte und ungesättigte halogenhaltige Verbindungen mit 1 bis 12, bevorzugt 1 bis 8
Kohlenstoffatomen ein. Spezifische Verbindungen die-
ser Art sind Methylchlorid, Chloroform, Äthylchlorid, Kohlenstofftetrachlorid, Dichlordifluormethan, n-Propylchlorid, Amylchlorid, Vinylchlorid, 1,1-Dichloräthylen, eis- und trans-1,2-Dichlorethylen, 1,1-DichIoräthan,
1,2-Dichloräthan, Äthylendibromid, Trichloräthylen,
Perchloräthylen, Propylendichlorid, 1,1,2-Trichloräthan,
1,1,1-Trichloräthan, 1,1,U- und 1,1A2-Tetrachloräthan,
Hexachloräthan und ähnliche aliphatische Chloride, Fluoride, Bromide oder Jodide mit bis zu etwa 12
Kohlenstoffatomen, besonders bevorzugt bis zu etwa 6
Kohlenstoffatomen im Molekül. Es können auch
halogenierte aromatische Verbindungen verwendet werden, z. B. chlorierte aromatische Verbindungen.
Solche Verbindungen sind beispielsweise Ce-C9 halo-
genierte aromatische Verbindungen, wie Monochlorbenzol, orthu-Dichlorbenzol, para-Dichlorbetvv und
dergleichen Auch cycloaliphatische I ialogenide, wie C3-C6 cycloaliphatische Halogenide, sind brauchbar,
z. B. chloriertes Cyclopentadien, Cydohexylchiorid und
dergleichen. Bevorzugt ist das Halogen des halogenierten
Kohlenwasserstoffs da:>
gleiche wie das Halogenid des als Ausgangsstoff verwendeten Meiallhalogenids
und das Halogen des Halogenwasserstoffs, der in die Mischzone eingeführt wird.
Typischerweise sollten die vorhin genannter: K<
>Me:i wassersto'Tv: und halogeiiierten Kohlenwubatfrstofie
leicht und ohne Bildung von Teer verdampfbar sein, da sonst Schwierigkeiter, auftreten können, die mit dem
Verfahren selbst nichts zu iun haben, wie ei:;e
Verstopfung der Leitungen durch Zersetzungs- und/ oder Kondensationsprodukte, die auf die Verdampfung
dieser Ausgangsmaterialien zurückzuführen ist.
Als Quelle für Stickstoff kann Stickstoff selbst, ferner
Ammoniak und Wasserstoffnitride, ζ. B. N2H4 und
N2H4 · NH3 verwendet werden. Bevorzugt werden
Stickstoff oder Ammoniak oder Mischungen davon benutzt. Als geeignete Borquellen seien Bortribromid,
BortrijoJid, Bortrichlorid, Bortrifluorid und Hydroboride (Borane), z. B. B2H6, B5H9, Bi0Hm und B6H2 genannt.
Bevorzugt ist Bortrichlorid.
Als Schwefelquelle kommt beispielsweise dampfförmiger Schwefel, Schwefelwasserstoff, Schwefelhalogenide,
wie S2CI2, SCI2 und SjBo in Betracht. Bevorzugt ist
Schwefelwasserstoff.
Als Siliciumquelle sind beispielsweise Siliciumtetrachlorid,
-tetrabromid und -tetrajodid. Silane, z. B. SiHi,
Si2H6, Si3H8, halogenierte Silane, z. B. SiH3Cl, SiH2Cl2
und SiHCI3 geeignet. Bevorzugt ist Siliciumtetrachlorid.
Die Quelle für Silicium, Kohlenstoff, Stickstoff, Bor oder Schwefel sollte mit dem als Ausgangsstoff
verwendeten Metallhalogenid mindestens in stöchiometrischer Menge umgesetzt werden, so daß die
theoretisch erforderliche Menge für die spezielle Reaktion zur Verfügung steht. Es kann jedoch auch mit
geringeren Mengen als der stöchiometrischen Menge der Quelle an Silicium, Bor, Stickstoff, Kohlenstoff oder
Schwefel gearbeitet werden. Normalerweise wird eine überschüssige Menge des flüchtigen Ausgangsstoffs
verwendet, um den weniger flüchtigen Ausgangsstoff im wesentlichen vollständig umzusetzen. Die relative
Menge der Ausgangsstoffe ist für die Erfindung nicht wesentlich.
Zusätzlich zu dem Metallhalogenid und der Quelle für Silicium, Kohlenstoff, Stickstoff, Bor oder Schwefel wird
üblicherweise Wasserstoff verwendet, um die Bildung von Halogenwasserstoff als Nebenprodukt zu begünstigen.
Die Menge des verwendeten Wasserstoffs sollte mindestens ausreichend sein, um der stöchiometrisch
erforderlichen Menge für die besondere Reaktion zu entsprechen. Die theoretisch erforderliche Menge an
Wasserstoff ist die Menge, die notwendig ist, um das gesamte in dem Reaktor durch die Ausgangsstoffe und
die Zusatzstoffe eingeführte Halogen als Halogenwasserstoff zu binden, wobei der Wasserstoff, der aus
anderen Quellen im Reaktor zur Verfügung steht, berücksichtigt wird. Typischerweise liegt die verwendete Wasserstoffmenge höher als die theoretische
Wasserstoffmenge. Häufig ist die tatsächlich benutzte Wasserstoffmenge zwei- bis zehnmal so hoch oder noch
höher als die theoretisch erforderliche Wasserstoffmenge. Typischerweise liegt das Molverhältnis von Wasserstoff zu dem als Ausgangsstoff verwendeten Metallhalo
genid üii bereich von ei va 20 bis 40, bevorzugt etwa 25
Mn! Wasserstoff pro Mol Metallhalogenid. Der Wasserstoff kaiin als Plasmagas. Dämpl'gas, als Trägergas
für die Ausgangsstoffe und d. gleichen zugeführt
v. .,.den.
Es könncü oeliebige Ameitsweisen Tt die Zusam
menführung der Ausgangsstoffe bei den Rpaktionstemperaturen
benutzt werden. Wie aus der Zeichnung !. rvorgeht, können die Ausgangsstoffe einzeln in den
Reaktor 74 durch die Einlaßeinrichtung 60 eingeführt wcrüen. So kann z. R. Titantcirachlcrid bei der
Herstellung von Titandiborid durch Jie Düse 64 und die
Ringleitung 65 und das Borlrichlr.rici durch die Düse 66
und durch die Ringleitung 67 eingeführt weraen. Die Ausgangsstoffe vereinigen sich mit dem kollimierten
heißen Plasmagas in Zone 69 und werden zusammen in den Reaktor 74 weitergeleitet. Es kann auch ein
Stickstoffplasma oder eine andere Quelle von Stickstoff
benutzt werden, um die angegebenen Metallnitride zu erhalten.
Die Reaktionstempc! aturen schwanken in Abhängigkeit
von den Ausgangsstoffen und den herzustellenden Produkten. Im allgemeinen liegen sie aber für diese
Gasphasenreaktion bei etwa 300 bis etwa 4000° C. Die Temperaturen, bei denen Abscheidung aus der Gasphase
auftritt, für die Herstellung von verschiedenen Carbiden, Nitriden, Bonden und Siliciden aus verschiedenen
Ausgangsstoffen sind gut bekannt und entsprechende Angaben befinden sich in dem bereits genannten
Werk »Refractory Hard Metals« auf den S. 61, 226, 275 und 322. Die Temperaturen für die Herstellung von
Metallcarbiden der Gruppen IV und V des Periodensystems liegen zwischen 1300 und 24000C. Für Siliciumcarbid
liegen diese Temperaturen zwischen 1300 und 20000C. Die Temperaturen für die in Betracht
kommenden Metallboride liegen zwischen 900 und 2700° C und für den speziellen Fall von Titandiborid
liegen die Bildungstemperaturen bei 1000 bis 13000C.
Auch die Abscheidungstemperaturen für die Herstellung von Metallsulfiden sind bekannt. Für Titansulfid,
das in einem heißen Rohr durch Umsetzung von Tätantetrachlorid und Schwefelwasserstoff hergestellt
wird, liegt diese Temperatur bei etwa 60O0C. Wolframdisulfid
kann durch Umsetzung von Wolframhexachlorid und Schwefelwasserstoff bei etwa 375 bis 55O0C
hergestellt werden. Die berechneten Umsetzungstemperaturen für die Herstellung der vorhin genannten
Produkte in einem Wasserstoffplasma liegen im Bereich von 2500 bis 3500° C.
Die durch das Verfahren gemäß der Erfindung hergestellten pulverförmigen Metallverbindungen sind
sehr fein. In der Regel haben mindestens 90% der Teilchen eine Teilchengröße zwischen 0,05 und 1,0
Mikron, d. h. der nominelle Querschnittsdurchmesser der Teilchen liegt innerhalb dieses Bereiches. Der
nominelle Querschnittsdurchmesser ist der Durchmesser eines Teilchens, betrachtet unter hoher Vergrößerung, d. h. bei einer 25000fachen Vergrößerung.
Zu den Carbiden, die man gemäß dem Verfahren der vorliegenden Erfindung herstellen kann, gehören
Titancarbid, Zirkoncarbid, Hafniumcarbid, Vanadincarbid, Niobcarbid, Tantaicarbide (Ta2C, TaC), alpha- und
beta-Siliciumcarbid, Borcarbid (B4C), Chromcarbid,
Molybdäncarbid, Wolframcarbide (W2C, WC), Thorcar bide (ThC, ThC2) und Urancarbide (UC, U2C3 und UC2),
wobei das erfindungsgemäße Verfahren zur Herstellung von Siliciumcarbiden als feuerfeste Metallverbindung
bevorzugt geeignet ist
Zu den Nitriden, die man gemäß dem Verfahren der
vorliegenden Erfindung herstellen kann, gehören Titannitrid, Siliciumnitrid, Zirconnitrid, Hafniumnitrid,
Vanadinnitride (VN, V3N), Niobnitrid, Tantalnitrid,
Bornitrid, die Chromnitride (CrjN, CrN), Molybdännitrid,
beta-, gamma- und alpha-Wolframnitrid, die Molybdännitride (M02N, MoN), Thornitrid, die Urannitride
(U2N3, UN2), Neptunnitrid und Plutoniumnitrid.
Zu den Bonden, die mit Hilfe des Verfahrens nach der Erfindung hergestellt werden können, gehören Titanboride
(TiB, TiB2), Siliciumboride (SiB3, SiB6), Zirkonboride
(ZrB2, ZrB12), Hafniumborid, Vanadinboride (VB, VB2),
Niobboride (NbB, NbB2), Tantaiboride (TaB, TaB2),
Chromboride (CrB, CrB2), Molybdänboride (Mo2B,
MoB); alpha- und beta-MoB2 und -Mo2Bs, Wolframborid,
Thorborid und Uranborid. Für die Herstellung von Titanboriden ist das erfindungsgemäße Verfahren
bevorzugt geeignet
Zu den Siliciden, die nach dem Verfahren der Erfindung hergestellt werden können, gehören Titansilicide,
Zirkonsilicid, Vanadiumsilicide (V3Si2), Niobsilicid,
Tantalsilicid, Chromsilicide (Cr3Si, CrSi, CrSi2), Molybdänsilicide
(Mo3Si, MoSi2), Wolframsilicid, Thorsilicid,
Uransilicide (USi, alpha-USi:, beta-USi2), Neptunsilicid
und Plutoniumsilicid.
Zu den gemäß der Erfindung hergestellten Sulfiden gehören Titandisulfid, Zirkonsulfid, Wolframdisulfid,
Molybdänsulfide, Vanadinsulfide, Thoriumsulfid, Tantalsulfid, Siliciumsulfide, und Cobaltsulfide.
Bei der praktischen Durchführung des Verfahrens so nach der Erfindung wird ein gut kollimierter Strom des
heißen Plasmagases durch eine kegelförmige Zone für die Einführung der Ausgangsstoffe geführt. Wie bereits
dargelegt wurde, neigt das heiße Plasmagas bei einer wirbeiförmigen Strömung zum Ausflackern oder Ausweiten
und zum Erzeugen von strahlenden bzw. überhitzten Oberflächen in der Einlaßeinrichtung 60,
z. B. an den Lippen 68, 70, 71 und 72 der Einlaßeinrichtung, die dem heißen Plasmagas ausgesetzt sind. Solche
Oberflächen können auch auf der Unterseite der Oberfläche 73 am Kopf der Reaktorwand entstehen, wo
die Kühlung der Reaktoroberfläche nicht wirksam ist und an der Seitenwand 79 des Reaktors.
Auch mit einem kollimierten Strom von heißem Plasmagas besteht eine Neigung zur Bildung von
überhitzten Oberflächen auf der Unterseite 73 des Kopfes der Reaktorwand und an den exponierten
Oberflächen der Einlaßeinrichtung 60 auf Grund der nicht zu vermeidenden Schwankungen in den Strömungsgeschwindigkeiten
der verschiedenen Ausgangjstoffe und des inerten Gasstromes, wobei Abweichungen
der Gasströme von ihrem vorgesehenen Fließweg eintreten. Ablagerungen von feuerfestem pulverförmigem
Produkt auf solchen Oberflächen, insbesondere auf der Unterseite 73 des Reaktors kann unter solchen
Umständen im wesentlichen durch Einleiten von kleinen Mengen wasserfreiem Halogenwasserstoff in die Zone
69 eliminiert werden.
Wie in der DT-OS 24 20 621 ausgeführt wird, kann der im wesentlichen wasserfreie Halogenwasserstoff t>o
Chlorwasserstoff, Bromwasserstoff, Fluorwasserstoff oder Chlorwasserstoff sein. Aus wn\schaftlichen Gründen
wird Chlorwasserstoff bevorzugt. Der Halogenanteil des Halogenwasserstoffs stimmt im allgemeinen
überein mit dem Halogenanteil des als Ausgangsstoff to
verwendeten Metallhalogenide. Die Menge an wasserfreiem Halogenwasserstoff kann zwischen etwa 10 und
100 Mol-%, bevorzugt zwischen 20 und 60 Mol-%, bezogen auf das als Ausgangsstoff verwendete Metallhalogenid
schwanken. Der wasserfreie Halogenwasserstoff kann in die Zone 69 in beliebiger geeigneter Weise
eingebracht werden, z. B. mit den Ausgangsstoffen, als
getrennter Strom und dergleichen.
Die Erfindung wird in den folgenden Beispielen noch näher erläutert Die Gasvolumina sind in mVStunde bei
Standardbedingungen, 038 bar Druck und 21,11 °C,
angegeben. Es wurde eine Vorrichtung verwendet die der in der Zeichnung dargestellten gleicht Der
Bogenerhitzer ist ein Gleichstrom-Plasmabrenner, der mit einem Wirkungsgrad von etwa 50 bis 75% arbeitet
Die Feldspule bestand aus 23 Windungen von innen gekühlten Kupferrohren. Der Innendurchmesser der
Spule betrug 5 cm und die Kohle wurde mit 50 bis 75 Ampere beaufschlagt.
Es wurde heißes Wasserstoff-Plasmagas mit einer Geschwindigkeit von 6372 m3/h in den Plasmabrenner,
der eine Wolframkathode mit einer Thoroxid-versehenen Spitze und eine Kupferanode besaß, eingeführt und
dort erhitzt. Die dem Gas zugeführte Energie wurde mi 23,8 kW berechne Das Plasmagas wurde in den Raum
zwischen der Kathode und der Anode aus den Einlaßschlitzen eingeführt, wobei diese Schlitze so
konstruiert waren, daß sie eine tangentiale Strömung des Wasserstoffgases ergaben. In den Kollimator des
Bogenerhitzers wurde als Dämpfgas Wasserstoff von Raumtemperatur in einer Menge von 4.248 mVh
eingeführt. Der dämpfende Wasserstoff wurde durch Einlaßschlitze eingeführt, die eine Strömung ergaben,
die derjenigen des Wasserstoff-Plasmagases entgegen gesetzt war. Durch den oberen Schlitz der Einlaßein
richtung wurden 0,51 mVh wasserfreier Chlorwasser stoff, 2.549 nvVh Wasserstoff und 1,26 g pro Minute
1,1,2-Trichloräthan eingeführt. Durch den mittleren
Schlitz vvurden 0,021 mVh Chlorwasserstoff, 1.416 m3/h Wasserstoff und 61,9 g pro Minute Titantetrachlorid
eingeführt. Über den unteren Schlitz der Einlaßemrich lung wurden 0.34 mVh Argon und 84,1 g Bortrichlorid
pro Minute eingeführt. Das gebildete Titandiborid wurde in den Auffangbehältern von drei Cyclonen
gesammelt, wobei bereits eine partielle Klassifizierung eintrat. Das Produkt aus den Auffanggefäßen hatte eine
Oberfläche, die zwischen etwa 4 bis etwa 7 m2/g schwankte. Die Oberfläche wurde nach der Methode
von Brunauer, Emmett und Teller, J. Am Chem. Soc, 60,309 (1938) berechnet.
Bei diesen Bedingungen wurde der Plasmabrenner im wesentlichen ohne Produktwachstum an der Einlaßeinrichtung
für die Ausgangsstoffe und an den Reaktor wänden 5 Tage betrieben. Es waren keine Betriebsun
terbrechungen wegen Produktwachstums notwendig Die Umwandlung von Titantetrachlorid zu Titandiborid
erfolgte zu 90,3%, berechnet auf Titantetrachlorid. Wie zu erwarten war, wurde eine geringfügige Schwankung
der Betriebsbedingungen während der fünftägiger Betriebsdauer beobachtet. Die vorstehend angegebener
Bedingungen wurden zur Mittagszeit des 5. Betriebstages festgestellt.
Wasserstoffplasma wurde mit einer Geschwindigkei von 6,372 mVh in dem Plasmabrenner von Beispiel 1
erwärmt. Die Energie in dem Wasserstoff wurde mit 21 KW berechnet. Die sprudeiförmige Komponente de;
erwärmten Wasserstoffgases wurde durch Einführung
von 4.248 mVh Wasserstoff-Dämpf gas von Umgebungstemperatur in den Kollimator des Bogenerhitzers
gelöscht Die Zufuhr der Ausgangsstoffe in die Einlaßeinrichtung war wie folgt:
Gas
Menge
Oberer Schlitz
Chlorwasserstoff
Wasserstoff
1,1,2-Tnchloräthan
Mittlerer Schlitz
Chlorwasserstoff
Wasserstoff
TiCU
Unterer Schlitz
Argon
BCl3
034 mVh
1.699 m3'h
1,26 g/min
034 mVh
0566 m3/h
61,9 g/min
0.17 m Vh
84,1 g/min
Nach einer Betriebsdauer von etwa 85 Minuten wurde das Verhältnis von Wasserstoff-Plasmagas zu
Wasserstoff-Dämpf gas von 1,5 :1 geändert zu 1,25 :1,
indem die Strömungsgeschwindigkeit des Wasserstoff-Plasmagases auf 5.89 mVh gesenkt wurde und die
Strömungsgeschwindigkeit des Dämpfgases auf 4,729 m3/h erhöht wurde. Nach etwa 2 weiteren Betriebsstunden wurde das Verhältnis von Wasserstoff-Plasmagas
zu Dämpfgas auf 2 :1 geändert, indem die Strömungsgeschwindigkeit von Wasserstoff-Plasmagas auf 7,08
m3/h erhöht und die Strömungsgeschwindigkeit des Dämpfgases auf 3,54 mVh gesenkt wurde. Die
Vorrichtung wurde nach etwa 2 Stunden und 45 Minuten Betriebsdauer unter diesen Bedingungen
abgestellt. Eine Kontrolle auf das Wachstum von Titandiborid an der Einlaßeinrichtung zeigte, daß keine
Abscheidungen vorhanden waren. Die B.E.T.-Oberfläche von Proben, die der Leitung vor den Auffanggefäßen der Cyclone entnommen wurden, zeigte während
dieser Betriebsperiode Werte zwischen 8,6 bis 10,9 m2/g.
Wasserstoff-Plasmagas wurde mit einer Geschwindigkeit von 5,891 mVh durch den Plasmabrenner von
Beispiel 1 erwärmt. Die Energie in dem Wasserstoff wurde mit 24 KW berechnet. Die Wirbelkomponente
des erwärmten Wasserstoffgases wurde durch Einleiten von 4,248 mVh Wasserstoff-Dämpf gas von Umgebungstemperatur in den Kollimator des Bogenerhitzers
gelöscht. Das Verhältnis von Wasserstoff-Plasmagas zum Dämpfgas lag infolgedessen bei 1,38:1. Die
Zuführung der Ausgangsstoffe zu der Einlaßeinrichtung war die gleiche wie in Beispiel 2 mit der Ausnahme, daß
die Geschwindigkeit des im unteren Schlitz zugeführten Argons 0,14 mVh betrug.
Nach etwa 2'/2 Betriebsstunden wurde das Verhältnis
des Wasserstoff-Plasmagases zu dem Dämpfgas geändert in 1,5 :1, indem die Strömungsgeschwindigkeit des
Wasserstoff-Plasmagases auf 637 mVh erhöht wurde. Nach etwa 2 Stunden und 45 Minuten bei diesen
Betriebsbedingungen wurde die Strömungsgeschwindigkeit des Wasserstoff-Plasmagases auf 5,89 m3/h
gesenkt und die Fließgeschwindigkeit des Wasserstoff-Dämpfgases auf 4,729 m3/h erhöht, was ein Verhältnis
von 1,25 :1 ergab. Nach etwa 2 Betriebsstunden bei
diesen Bedingungen wurden die Strömungsgeschwin
digkeiten auf 7,08 m3/h Wasserstoff-Plasmagas und 3,45
m3/h Wasserstoff-Dämpfgas geändert, entsprechend
einem Verhältnis von 2:1. Unter diesen Bedingungen wurde der Betrieb für etwa 2 Stunden und 15 Minuten
fortgesetzt
Während der Betriebsdauer von 9 Stunden und 30 Minuten, bei der das Verhältnis von Wasserstoff-Plasmagas zu Dämpfgas geändert wurde, traten keine
Schwierigkeiten als Folge einer Produktabscheidung an der Einlaßeinrichtung oder der Wand des Reaktors auf.
Die B.ET.-Oberfläche von Titandiboridpulver, das aus
der Leitung vor den Cyclonen und ihren Abscheidern während dieses Zeitraums entnommen wurde, schwankte zwischen 63 und 9,5 mVg.
Am Ende dieser Betriebsperiode wurde die Energie
des Bogenerhitzers erhöht so daß die Energie in dem
Wasserstoff-Plasma etwa 27 KW betrug. Die Strömungsgeschwindigkeiten des Wasserstoff-Plasmagases
und des Wasserstoff-Dämpfgases wurden auf 637 mVh bzw. 4,248 m3/h geändert und die Menge der
Ausgangsstoffe wurde auf etwa 1,7 g/min für 1,1,2-Trichloräthan, etwa 82 g/min für Titantetrachlorid und
etwa 112 g/min für Bortrichlorid geändert Der Rest des durch die Einlaßeinrichtung strömenden Gases blieb
unverändert.
Die Ergebnisse der Beispiele 1 bis 3 zeigen, daß der wirbelartige Fluß bzw. die wirbelartige Strömung eines
wirbelstabilisierten Wasserstoffplasmas gelöscht bzw. vernichtet werden kann, so daß ein gut kollimierter
Gasstrom entsteht der dazu verwendet werden kann,
um feinverteilte feuerfeste Pulver herzustellen, z. B.
Titandiborid, wobei kein störendes Produktwachstum an der Einlaßeinrichtung für die Ausgangsstoffe oder an
der Reaktorwand zu beobachten ist. Darüber hinaus zeigen die Ergebnisse der Beispiele 2 und 3, daß das
Verhältnis von Wasserstoff-Plasmagas zu Dämpfgas innerhalb eines weiten Bereichs von beständigen
Betriebsbedingungen variiert werden kann. Das Verfahren gemäß der Erfindung kann für lange Zeiträume
durchgeführt werden, ohne daß eine störende Menge an
so Produktabscheidungen beobachtet wird. Es können zwar geringe Mengen an Produktabscheidungen auftreten, doch sind diese für lange Betriebszeiträume unter
konstanten Bedingungen nicht zu beanstanden. Es wird angenommen, daß diese geringfügigen Produktabschei-
düngen auf Änderungen in der Gasgeschwindigkeit beruhen, die z. B. auf ein Ansteigen des Druckes an
verschiedenen Stellen des Systems zurückzuführen sind.
Hierzu 1 Blatt Zeichnungen
Claims (4)
1. Verfahren zur Herstellung eines feuerfesten Pulvers eines Borids, Carbids, Silicids, Nitrids oder
Sulfid eines Metalles aus den Gruppen III bis VI und den Eisenmetallen der Gruppe VIII des Periodensystems
der Elemente durch Gasphasenumsetzung von (a) einem Halogenid von einem dieser Metalle
und (b) einer Quelle für Bor, Kohlenstoff, Silicium, Stickstoff oder Schwefel in Gegenwart von Wasserstoff,
bei dem man die Ausgangsstoffe mit einem Heißgasstrom mischt und in einem Reaktor umsetzt,
wobei der Heißgasstrom durch einen gaswirbelstabilisierten Plasmabogenerhitzer erzeugt wird, da- '5
durch gekennzeichnet, daß man dem aus dem Bogenerhitzer mit einem Drall austretenden
Gasstrom (Plasmagasstrom) ein weiteres zum Plasmagasstrom gegensinnig drallförmig strömendes
kälteres Gas so zumischt, daß sich die Drehmomente beider Gasströme gegenseitig aufheben
und einen gut kollimierten Heißgasstrom ergeben, den man dem Reaktor zuführt, die
Ausgangsstoffe in den gut kollimierten Stro:m einführt und die gebildete feinverteilte feuerfesr.e
Metallverbindung aus dem Reaktor entfernt.
2. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die Volumina des Plasmagases zum
kälteren Gas im Bereich von 3:1 bis 1 :1 liegen.
3. Verfahren nach Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet, daß das Plasmagas und das kältere
Gas stofflich gleich sind.
4. Ausführungsform des Verfahrens nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß man den gut
kollimierten Heißgasstrom und die Ausgangsstoffe vor Eintritt in den Reaktor miteinander mischt.
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US05/631,241 US4022872A (en) | 1975-11-12 | 1975-11-12 | Process for preparing finely-divided refractory powders |
Publications (3)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE2650869A1 DE2650869A1 (de) | 1977-05-26 |
DE2650869B1 DE2650869B1 (de) | 1978-11-09 |
DE2650869C3 true DE2650869C3 (de) | 1979-08-16 |
Family
ID=24530359
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE2650869A Expired DE2650869C3 (de) | 1975-11-12 | 1976-11-06 | Verfahren zur Herstellung eines feuerfesten Pulvers |
Country Status (12)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US4022872A (de) |
JP (1) | JPS5261194A (de) |
BE (1) | BE848199A (de) |
CA (1) | CA1065576A (de) |
CH (1) | CH616347A5 (de) |
DE (1) | DE2650869C3 (de) |
FR (1) | FR2331409A1 (de) |
GB (1) | GB1560740A (de) |
IT (1) | IT1070203B (de) |
NL (1) | NL167293C (de) |
NO (1) | NO144628C (de) |
SE (1) | SE419333B (de) |
Families Citing this family (44)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4353885A (en) * | 1979-02-12 | 1982-10-12 | Ppg Industries, Inc. | Titanium diboride article and method for preparing same |
US4235857A (en) * | 1979-07-02 | 1980-11-25 | Ford Motor Company | Method of nitriding silicon |
US4515763A (en) * | 1981-07-15 | 1985-05-07 | Board Of Trustees Of Leland Stanford Jr. Univeristy | High specific surface area carbides and nitrides |
AT382595B (de) * | 1982-12-22 | 1987-03-10 | Sueddeutsche Kalkstickstoff | Anlage zur erzeugung von calciumcarbid |
US4559439A (en) * | 1983-01-21 | 1985-12-17 | Plasma Energy Corporation | Field convertible plasma generator and its method of operation |
US4558017A (en) * | 1984-05-14 | 1985-12-10 | Allied Corporation | Light induced production of ultrafine powders comprising metal silicide powder and silicon |
US4689129A (en) * | 1985-07-16 | 1987-08-25 | The Dow Chemical Company | Process for the preparation of submicron-sized titanium diboride |
US4687560A (en) * | 1985-08-16 | 1987-08-18 | The United States Of America As Represented By The United States Department Of Energy | Method of synthesizing a plurality of reactants and producing thin films of electro-optically active transition metal oxides |
US4895765A (en) * | 1985-09-30 | 1990-01-23 | Union Carbide Corporation | Titanium nitride and zirconium nitride coating compositions, coated articles and methods of manufacture |
US4654076A (en) * | 1986-01-30 | 1987-03-31 | Plasma Energy Corporation | Apparatus and method for treating metallic fines |
JPS62168896U (de) * | 1986-04-16 | 1987-10-26 | ||
US4851262A (en) * | 1987-05-27 | 1989-07-25 | Carnegie-Mellon University | Method of making carbide, nitride and boride powders |
JPH0643248B2 (ja) * | 1987-09-18 | 1994-06-08 | 科学技術庁金属材料技術研究所長 | 遷移金属ほう化物繊維の製造法 |
GB8809651D0 (en) * | 1988-04-23 | 1988-05-25 | Tioxide Group Plc | Nitrogen compounds |
DE3840316C1 (de) * | 1988-11-30 | 1990-04-19 | Kernforschungszentrum Karlsruhe Gmbh, 7500 Karlsruhe, De | |
GB8913106D0 (en) * | 1989-06-07 | 1989-07-26 | Tioxide Group Plc | Production of nitrogen compounds |
US5302366A (en) * | 1991-03-28 | 1994-04-12 | Phillips Petroleum Company | Production of silicon product containing both carbon and nitrogen |
GB9306802D0 (en) * | 1993-04-01 | 1993-05-26 | Tioxide Specialties Ltd | Process for the production of silicon nitride |
JPH08170174A (ja) * | 1994-12-14 | 1996-07-02 | Nec Corp | TiN膜の形成方法 |
US7576296B2 (en) * | 1995-03-14 | 2009-08-18 | Battelle Energy Alliance, Llc | Thermal synthesis apparatus |
US5749937A (en) * | 1995-03-14 | 1998-05-12 | Lockheed Idaho Technologies Company | Fast quench reactor and method |
US6821500B2 (en) | 1995-03-14 | 2004-11-23 | Bechtel Bwxt Idaho, Llc | Thermal synthesis apparatus and process |
US5626786A (en) * | 1995-04-17 | 1997-05-06 | Huntington; John H. | Labile bromine fire suppressants |
US5691258A (en) * | 1996-06-24 | 1997-11-25 | The United States Of America As Represented By The Secretary Of The Navy | Two phase HfB2 -SiB4 material |
EP0946414B1 (de) * | 1996-11-04 | 2005-06-29 | Materials Modification, Inc. | Mikrowellenplasma chemischen synthese von ultrafeinen pulvern |
US5935705A (en) * | 1997-10-15 | 1999-08-10 | National Science Council Of Republic Of China | Crystalline Six Cy Nz with a direct optical band gap of 3.8 eV |
US6107152A (en) * | 1998-02-20 | 2000-08-22 | Micron Technology, Inc. | Method of forming tungsten nitride comprising layers using NF3 as a nitrogen source gas |
BR9901512A (pt) * | 1999-05-27 | 2001-01-09 | Lupatech S A | Processo de extração por plasma de ligantes |
WO2001046067A1 (en) * | 1999-12-21 | 2001-06-28 | Bechtel Bwxt Idaho, Llc | Hydrogen and elemental carbon production from natural gas and other hydrocarbons |
JP4095272B2 (ja) * | 2001-09-25 | 2008-06-04 | 株式会社東芝 | 微粒子製造方法および微粒子製造装置 |
US6627556B1 (en) * | 2002-04-24 | 2003-09-30 | Lsi Logic Corporation | Method of chemically altering a silicon surface and associated electrical devices |
US7264849B2 (en) * | 2003-07-11 | 2007-09-04 | Optisolar, Inc. | Roll-vortex plasma chemical vapor deposition method |
US20070048456A1 (en) * | 2004-09-14 | 2007-03-01 | Keshner Marvin S | Plasma enhanced chemical vapor deposition apparatus and method |
US7354561B2 (en) * | 2004-11-17 | 2008-04-08 | Battelle Energy Alliance, Llc | Chemical reactor and method for chemically converting a first material into a second material |
EP1861174A4 (de) * | 2005-01-12 | 2010-12-22 | Eclipse Aerospace Inc | Feuerunterdrückungssysteme |
US20080139003A1 (en) * | 2006-10-26 | 2008-06-12 | Shahid Pirzada | Barrier coating deposition for thin film devices using plasma enhanced chemical vapor deposition process |
US9630162B1 (en) * | 2007-10-09 | 2017-04-25 | University Of Louisville Research Foundation, Inc. | Reactor and method for production of nanostructures |
US8591821B2 (en) * | 2009-04-23 | 2013-11-26 | Battelle Energy Alliance, Llc | Combustion flame-plasma hybrid reactor systems, and chemical reactant sources |
KR20150027124A (ko) | 2012-06-28 | 2015-03-11 | 닛신 엔지니어링 가부시키가이샤 | 탄화티탄 미립자의 제조방법 |
US9574453B2 (en) | 2014-01-02 | 2017-02-21 | General Electric Company | Steam turbine and methods of assembling the same |
CA2992303C (en) * | 2015-07-17 | 2018-08-21 | Ap&C Advanced Powders And Coatings Inc. | Plasma atomization metal powder manufacturing processes and systems therefor |
CA3020720C (en) | 2016-04-11 | 2020-12-01 | Ap&C Advanced Powders & Coatings Inc. | Reactive metal powders in-flight heat treatment processes |
RU2638471C2 (ru) * | 2016-04-18 | 2017-12-13 | Федеральное государственное бюджетное учреждение науки Институт металлургии и материаловедения им. А.А. Байкова Российской академии наук (ИМЕТ РАН) | Способ получения порошка карбонитрида титана |
WO2023200609A1 (en) * | 2022-04-14 | 2023-10-19 | The Texas A&M University System | Conductive liquid hydrocarbon gas plasma for material and chemical synthesis and transformation |
Family Cites Families (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US3253886A (en) * | 1961-05-09 | 1966-05-31 | Union Carbide Corp | Process for producing ultrafine powders of refractory materials |
DE1250796B (de) * | 1963-08-13 | 1967-09-28 | Ciba Aktiengesellschaft, Basel (Schweiz) | Verfahren zur Herstellung von feinteiligen, nicht pyrophoren Carbiden von Metallen oder Metalloiden der III., IV., V. oder VI. Gruppe des Periodischen Systems |
CH525705A (de) * | 1968-12-24 | 1972-07-31 | Lonza Ag | Verwendung von vortex-stabilisierten Plasmabrennern zur Durchführung von chemischen Reaktionen |
SE347765B (de) * | 1970-05-27 | 1972-08-14 | Nordstjernan Rederi Ab | |
SE372553B (de) * | 1972-10-13 | 1974-12-23 | Aga Ab |
-
1975
- 1975-11-12 US US05/631,241 patent/US4022872A/en not_active Expired - Lifetime
-
1976
- 1976-08-27 CA CA260,028A patent/CA1065576A/en not_active Expired
- 1976-09-21 NO NO763230A patent/NO144628C/no unknown
- 1976-10-05 SE SE7611043A patent/SE419333B/xx unknown
- 1976-10-07 IT IT69414/76A patent/IT1070203B/it active
- 1976-10-07 NL NL7611081.A patent/NL167293C/xx not_active IP Right Cessation
- 1976-10-15 CH CH1309676A patent/CH616347A5/fr not_active IP Right Cessation
- 1976-11-06 DE DE2650869A patent/DE2650869C3/de not_active Expired
- 1976-11-10 BE BE172244A patent/BE848199A/xx unknown
- 1976-11-10 JP JP51135132A patent/JPS5261194A/ja active Granted
- 1976-11-10 FR FR7634028A patent/FR2331409A1/fr active Granted
- 1976-11-12 GB GB47120/76A patent/GB1560740A/en not_active Expired
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
NO763230L (de) | 1977-05-13 |
BE848199A (fr) | 1977-05-10 |
DE2650869B1 (de) | 1978-11-09 |
NO144628B (no) | 1981-06-29 |
NO144628C (no) | 1981-10-07 |
NL167293C (nl) | 1981-11-16 |
CH616347A5 (de) | 1980-03-31 |
NL7611081A (nl) | 1977-05-16 |
CA1065576A (en) | 1979-11-06 |
FR2331409B1 (de) | 1978-12-22 |
JPS5261194A (en) | 1977-05-20 |
IT1070203B (it) | 1985-03-29 |
NL167293B (nl) | 1981-06-16 |
AU1732876A (en) | 1978-03-09 |
US4022872A (en) | 1977-05-10 |
GB1560740A (en) | 1980-02-06 |
JPS5612249B2 (de) | 1981-03-19 |
SE7611043L (sv) | 1977-05-13 |
SE419333B (sv) | 1981-07-27 |
FR2331409A1 (fr) | 1977-06-10 |
DE2650869A1 (de) | 1977-05-26 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
DE2650869C3 (de) | Verfahren zur Herstellung eines feuerfesten Pulvers | |
US3211548A (en) | Process for the production of tantalum or niobium in a hydrogen plasma jet | |
DE1250796B (de) | Verfahren zur Herstellung von feinteiligen, nicht pyrophoren Carbiden von Metallen oder Metalloiden der III., IV., V. oder VI. Gruppe des Periodischen Systems | |
GB1099957A (en) | Composite carbide flame spray wire or powder | |
GB1578875A (en) | Process and apparatus for conducting endothermic reactions | |
DE1961339A1 (de) | Verfahren zur Durchfuehrung chemischer Reaktionen | |
EP2041030A2 (de) | Verfahren zur herstellung von suspensionen nanopartikulärer feststoffe | |
US3532462A (en) | Method of effecting gas-phase reactions | |
DE1667044B2 (de) | Verfahren zur Herstellung feinteiliger Oxide aus Halogeniden | |
US3625846A (en) | Chemical process and apparatus utilizing a plasma | |
DE1542365A1 (de) | Verfahren zur Herstellung eines fein verteilten Metalloxydpigments durch Dampfphasenoxydation | |
DE1592445C3 (de) | Verfahren und Vorrichtung zur Herstellung von Titandioxyd durch Dampfphasenoxydation von Titantetrachlorid | |
DE1589562C3 (de) | Verfahren zur Erzeugung eines Plasmastroms hoher Temperatur | |
DE1183482B (de) | Verfahren zum Zufuehren von Waerme bei der UEberfuehrung von Metallhalogeniden in ihre Oxyde durch Umsetzen mit Sauerstoff bzw. Wasserdampf | |
DE1948435A1 (de) | Verfahren zur Herstellung von Titancarbid | |
EP0568861A1 (de) | Feinteilige Nichtoxid-Keramikpulver | |
DE1249226B (de) | Verfahren zum Überführen von Metallhalogeniden in ihre Oxide | |
DE2010357A1 (de) | Verfahren zur Herstellung von aluminoxidhaltigen Mischoxiden | |
US4233277A (en) | Preparing refractory metal boride powder | |
DE1941011C3 (de) | Verfahren zur Herstellung von feinteiligen hochschmelzenden anorganischen Produkten | |
DE2025897A1 (de) | Elektrodenmaterial für elektrische Lichtbogen | |
DE934764C (de) | Verfahren zur Herstellung von thermisch instabilen Hydriden | |
DE2420621A1 (de) | Verfahren zur herstellung von feinverteilten feuerfesten pulvern | |
DE2446813C3 (de) | Verfahren zur Herstellung von Wolframcarbid | |
CH472337A (de) | Verfahren zur Herstellung von reinem B-Siliciumcarbid in feinteiliger Form |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
C3 | Grant after two publication steps (3rd publication) | ||
8339 | Ceased/non-payment of the annual fee |