DE2600894C3 - Bauteile für den Helium-Kühlkreislauf eines Hochtemperatur-Kernreaktors - Google Patents
Bauteile für den Helium-Kühlkreislauf eines Hochtemperatur-KernreaktorsInfo
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
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- C25D—PROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
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- C25D5/48—After-treatment of electroplated surfaces
- C25D5/50—After-treatment of electroplated surfaces by heat-treatment
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
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- G21C—NUCLEAR REACTORS
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- G21C1/06—Heterogeneous reactors, i.e. in which fuel and moderator are separated
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- G21C1/10—Heterogeneous reactors, i.e. in which fuel and moderator are separated moderator being highly pressurised, e.g. boiling water reactor, integral super-heat reactor, pressurised water reactor moderator and coolant being different or separated
- G21C1/12—Heterogeneous reactors, i.e. in which fuel and moderator are separated moderator being highly pressurised, e.g. boiling water reactor, integral super-heat reactor, pressurised water reactor moderator and coolant being different or separated moderator being solid, e.g. Magnox reactor or gas-graphite reactor
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Description
Die Erfindung betrifft gegen Hochtemperatur-Aufkohlung geschützte, aus einer Karbidbildner enthaltenden
Nickel-Basis-Legierung bestehende Bauteile für den Helium-Kühlkreislauf eines Hochtemperatur-Kernreaktors.
Das im primären Kühlkreislauf von Hochtemperatur-Kernreaktoren zirkulierende Helium enthält im allgemeinen
geringe Mengen von Verunreinigungen, beispielsweise Wasser und/oder Wasserstoff, die zunächst
mit dem Graphit des Reaktorkernes zu Kohlenmonoxid und Methan reagieren; daneben können als weitere
Verunreinigungen Spuren von Stickstoff vorhanden sein.
Die für die Bauteile dieses primären Kreislaufs üblicherweise verwendeten Nickel-Basis-Legierungen
enthalten — siehe z. B. »Proceeding of the 3th United
Nations International Conference on the Peacefal Uses of Atomic Energy, 1965, VoI 8. P/226, S. 61, Tabelle 1.10
— als Legierungszusätze Titan und Chrom, die beide, vor allem bei den in diesen Kreisläufen herrschenden
hohen Temperaturen von etwa 10000C mit dem Kohlenstoff der genannten kohlenstoffhaltigen Verunreinigungen
reagieren und durch Aufkohlung und Karbidbildung zu einer Verschlechterung der mechanischen
Eigenschaften der Nickel-Basis-Legierung führen.
Der Erfindung Hegt die Aufgabe zugrunde, durch eine auf den Bauteilen fest haftende Schutzschicht diese
Aufkohlung des Basismaterials zu verhindern. Gelöst wird diese Aufgabe dadurch, daß die aus der
Nickel-Basis-Legierung bestehenden Bauteile auf mindestens Teilen ihrer Oberflächen mit einer porenfreien
Schutzschicht aus einem der Elemente Wolfram und Molybdän versehen sind, die über eine Zwischenschicht
aus Reinnickel (Reinheit >99%) auf der Bais-Legierung verankert ist
Auf diese Weise erfolgt eine Bindung des Kohlen' Stoffs in der Schutzschicht als Wolfram- bzw. Molybdän-Karbid
(W2C bzw. Mo2C), die eine sehr stabile
Schutzschicht gegen eine weitere Aufkohlung bilden. Die Zwischenschicht aus Reinnickel hat dabei eine
zweifache Aufgabe; zum einen verbessert sie die Haftung der Schutzschicht auf der Basislegierung und
zum anderen verhindert sie deren Aufkohlung durch Reaktion des in dieser enthaltenen Kohlenstoffs mit der
Schutzschicht.
Erfindung den weiteren erheblichen Vorteil, daß gleichzeitig ein Schutz gegen einen Owdationsangriff
auf das Grundmaterial' erreicht wird, während eine
Oxidation der Schutzschicht selbst bei den maximal
vorhandenen Temperaturen nicht zu befürchten ist
Die Diffusionsglühbehandlung, die sowohl im Vakuum — von etwa 10-« mm Hg — als auch in einer
Inertgas-Atmosphäre, beispielsweise aus Argon oder Helium, durchgeführt werden kann, dient in bekannter
ίο Weise der mechanischen Verfestigung der Schutzschicht
auf der Zwischenschicht bzw. von dieser auf dem Substrat
Für die Dicke der beiden Schichten haben sich als vorteilhaft erwiesen: für die Schutzschicht 0,05 bis
is 0,20 mm und für die Zwischenschicht 0,01 bis 0,05 mm.
Weiterhin ergeben sich zusätzliche Vorteile, wenn die Reinnickel-Zwischenschicht durch ein galvanisches
Verfahren, z.B. durch Elektroplatieren, aufgebracht
worden ist, da diese Nickelschichten frei vonf" fiosphor-
oder Bor-Verunreinigungen sind, die zu unerwünschten
Reaktionen mit dem Nickel bzw. den Schutzschichtelementen führen können.
Die Aufheizung für die Wärmebehandlung erfolgt dabei auf eine Temperatur zwischen 800 und 12000C;
die Haltezeiten betragen zwischen etwa 12 Stunden für 8000C und etwa 2 Stunden für 12000C; die abschließende
Abkühlung wird langsam im Behandlungsofen ebenfalls im Vakuum oder in einer Inertgas-Atmosphäre
durchgeführt
Die Erfindung wird anhand eines Ausführungsbeispiels im folgenden näher erläutert:
In dem nachfolgenden Beispiel dient als Grundlage die bekannte Nickel-Basis-Legierung IN 713 LC; auf
diese soll eine Wolfram-Schicht aufgebracht werden.
Als Beschichtungsverfahren wird die bekannte chemische Gasphasen-Abscheidung (CVD-Verfahren) angewendet,
da mit diesem Verfahren ohne Schwierigkeiten dichte und zumindest weitgehend porenfreie Beschichtungen
erreicht werden können. Als Ausgangssubstanz für das CVD-Verfahren dient Wolframhexafluorid
(WF6). Vor seiner Beschichtung mit Wolfram wird der
zu beschichtende Bauteil zunächst gereinigt und entfettet und als Kathode in ein Nickelsalzbad — eine
Mischung Von NiSO4, NiCL2, H3BO3 und Netzmittel gebracht
Auf Grund des durch das Bad fließenden Stromes, dessen Stromdichte gewöhnlich im Bereich
zwischen 0,4-4,0 A/dm2 liegt, wird Nickel galvanisch auf dem Teil so lange abgeschieden, bis eine
Reinnickelschicht von etwa 0,02 mm darauf niedergeschlagen ist Die Reinheit dieser Nickelschicht beträgt
mindestens 99%, wobei als Verunreinigungen vor allem Schwefel vorhanden ist
Die bei dem Ausführungsbeispiel benutzte Stromdichte beträgt 1,0 A/dm2; bei dieser Stromdichte ist die
Das auf die geschilderte Weise mit der Nickelschutzschicht
versehene Substrat wird nunmehr in eine CVD-Anläge bekannter Bauart gebracht und auf etwa
6500C aufgeheizt, wobei die Aufheizung mit Argon von
Atmosphärendruck bei einem Ar-Strom von 0,5 l/min erfolgt
Das bei Umgebungstemperatur bereits gasförmige
WFe wird anschließend in einem Mengenstrom von 105 ml/min in die Anlage eingespeist, mit einem
Wasserstoff-Strom von 450 ml/min als Trägergas vermischt, in den Reaktionsraum geführt und auf die
Oberfläche des Bauteils gefördert, auf der es sich zersetzt, wobei das Wolfram auf der Oberfläche
abgeschieden wird, wahrend der Fluoranteil gasförmig
au» dem Reaktionsraum weggefahrt wird.
Der Abseheidungsprozeß wird etwa 30 min fortgesetzt,
wobei in dem Reaktionsraum Gesamtdruck von etwa 150 mm Hg gehalten wird, Bei den geschilderten
Bedingungen ergibt die etwa 30minütige Behandlung eine abgeschiedene Wolframschicht von etwa 0,06 mm.
Nach Abschluß des Abscheidungsprozesses läßt man
den Bauteil im Vakuum von etwa 10-* mm Hg im
Reaktionsraum langsam auf Raumtemperatur abkühlen.
Im vorliegenden Fall erfolgt die anschließende Diffusionsbehandlung ebenfalls im Vakuum von
10—· mm Hg. Innerhalb von einer Stunde wird dabei —
ausgehend von Raumtemperatur — 6500C erreicht,
während die weitere Temperaturerhöhung auf die Endtemperatur von 950" C, die etwa dem im Reaktorkreislauf
herrschenden Temperaturniveau entspricht, 31/? Stunden erfordert. Die genannte Endtemperatur
s wird etwa 2 Stunden gehalten, während anschließend innerhalb von etwa 9 Stunden die endgültige Abköhlung
auf Raumtemperatur im Ofen selbst erfolgt.
Das Aufbringen einer Schutzschicht wird auf die gleiche Weise mit im wesentlichen den gleichen
jo Betriebsdaten durchgeführt, wobei lediglich WFe d!,:rch
das entsprechende Molybdän-Fluorid MoF6 ersetzt ist,
dessen Verdampfung etwas höhere Temperaturen erfordert
Claims (2)
- Patentansprüche;1, Gegen Hochtemperatur-Aufkoblung geschützte, aus einer Karbidbildner enthaltenden Nickel-Basis-Legierung bestehende Bauteile for den Helium-Kühlkreislauf eines Hochtemperatur-Kernreaktors, dadurch gekennzeichnet, daß die aus der Nickel-Basis-Legierung bestehenden Bauteile auf mindestens Teilen ihrer Oberflächen mit einer porenfreien Schutzschicht aus einem der Elemente Wolfram und Molybdän versehen sind, die über eine Zwischenschicht aus Reinnickel (Reinheit >99%) auf der Basis-Legierung verankert ist
- 2. Bauteile nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die Dicke der Schutzschicht 0,05 bis 0,2 mm und diejenige der Zwischenschicht 0,01 bis 0,05 mm betragen.
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CH242075A CH611448A5 (en) | 1975-02-26 | 1975-02-26 | Process for producing components, protected against high-temperature carburisation, for the helium coolant circulation of a high-temperature nuclear reactor |
Publications (3)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE2600894A1 DE2600894A1 (de) | 1976-09-09 |
DE2600894B2 DE2600894B2 (de) | 1977-08-18 |
DE2600894C3 true DE2600894C3 (de) | 1978-04-13 |
Family
ID=4233387
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE2600894A Expired DE2600894C3 (de) | 1975-02-26 | 1976-01-12 | Bauteile für den Helium-Kühlkreislauf eines Hochtemperatur-Kernreaktors |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
CH (1) | CH611448A5 (de) |
DE (1) | DE2600894C3 (de) |
-
1975
- 1975-02-26 CH CH242075A patent/CH611448A5/xx not_active IP Right Cessation
-
1976
- 1976-01-12 DE DE2600894A patent/DE2600894C3/de not_active Expired
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
DE2600894B2 (de) | 1977-08-18 |
DE2600894A1 (de) | 1976-09-09 |
CH611448A5 (en) | 1979-05-31 |
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