DE2532074C3 - Verfahren zur Herstellung von Siebdruckschablonen - Google Patents
Verfahren zur Herstellung von SiebdruckschablonenInfo
- Publication number
- DE2532074C3 DE2532074C3 DE19752532074 DE2532074A DE2532074C3 DE 2532074 C3 DE2532074 C3 DE 2532074C3 DE 19752532074 DE19752532074 DE 19752532074 DE 2532074 A DE2532074 A DE 2532074A DE 2532074 C3 DE2532074 C3 DE 2532074C3
- Authority
- DE
- Germany
- Prior art keywords
- fabric
- film
- screen printing
- metal
- metallization layer
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired
Links
- 238000007650 screen-printing Methods 0.000 title claims description 17
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 9
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 8
- 239000004744 fabric Substances 0.000 claims description 28
- 238000001465 metallisation Methods 0.000 claims description 23
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims description 22
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims description 22
- BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N silver Chemical compound [Ag] BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 claims description 6
- 239000004332 silver Substances 0.000 claims description 6
- 239000007921 spray Substances 0.000 claims description 6
- 229920001169 thermoplastic Polymers 0.000 claims description 6
- 239000004416 thermosoftening plastic Substances 0.000 claims description 6
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 5
- 230000002829 reduced Effects 0.000 claims description 5
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 claims description 4
- 238000000576 coating method Methods 0.000 claims description 4
- 238000004070 electrodeposition Methods 0.000 claims description 4
- 239000011888 foil Substances 0.000 claims description 4
- 238000007747 plating Methods 0.000 claims description 4
- 210000001519 tissues Anatomy 0.000 claims description 4
- 238000007654 immersion Methods 0.000 claims description 3
- 229920000728 polyester Polymers 0.000 claims description 3
- 238000007772 electroless plating Methods 0.000 claims 1
- 239000010408 film Substances 0.000 description 30
- 229920002120 photoresistant polymer Polymers 0.000 description 8
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 230000000875 corresponding Effects 0.000 description 4
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N HCl Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 3
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N ammonia Chemical compound N QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 description 3
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 3
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000011148 porous material Substances 0.000 description 3
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- 239000004698 Polyethylene (PE) Substances 0.000 description 2
- 229910000831 Steel Inorganic materials 0.000 description 2
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N Sulfuric acid Chemical compound OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000004873 anchoring Methods 0.000 description 2
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 2
- 230000001680 brushing Effects 0.000 description 2
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000002131 composite material Substances 0.000 description 2
- 238000007598 dipping method Methods 0.000 description 2
- WSFSSNUMVMOOMR-UHFFFAOYSA-N formaldehyde Chemical compound O=C WSFSSNUMVMOOMR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000005755 formation reaction Methods 0.000 description 2
- 229910002804 graphite Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010439 graphite Substances 0.000 description 2
- 238000010030 laminating Methods 0.000 description 2
- 239000004033 plastic Substances 0.000 description 2
- 229920003023 plastic Polymers 0.000 description 2
- -1 polyethylene Polymers 0.000 description 2
- 229920000573 polyethylene Polymers 0.000 description 2
- 238000007639 printing Methods 0.000 description 2
- 238000005507 spraying Methods 0.000 description 2
- 239000010959 steel Substances 0.000 description 2
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 2
- FEWJPZIEWOKRBE-XIXRPRMCSA-N Mesotartaric acid Chemical compound OC(=O)[C@@H](O)[C@@H](O)C(O)=O FEWJPZIEWOKRBE-XIXRPRMCSA-N 0.000 description 1
- 239000004809 Teflon Substances 0.000 description 1
- AXZWODMDQAVCJE-UHFFFAOYSA-L Tin(II) chloride Chemical compound [Cl-].[Cl-].[Sn+2] AXZWODMDQAVCJE-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- HPGGPRDJHPYFRM-UHFFFAOYSA-J Tin(IV) chloride Chemical compound Cl[Sn](Cl)(Cl)Cl HPGGPRDJHPYFRM-UHFFFAOYSA-J 0.000 description 1
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 1
- 239000012141 concentrate Substances 0.000 description 1
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 1
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012153 distilled water Substances 0.000 description 1
- 239000000428 dust Substances 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 description 1
- 229910000041 hydrogen chloride Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000003475 lamination Methods 0.000 description 1
- 239000011104 metalized film Substances 0.000 description 1
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 1
- 238000001259 photo etching Methods 0.000 description 1
- 229920001343 polytetrafluoroethylene Polymers 0.000 description 1
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 1
- 229910001220 stainless steel Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010935 stainless steel Substances 0.000 description 1
- 235000011150 stannous chloride Nutrition 0.000 description 1
- 239000000725 suspension Substances 0.000 description 1
- 229960001367 tartaric acid Drugs 0.000 description 1
- 235000002906 tartaric acid Nutrition 0.000 description 1
- 239000011975 tartaric acid Substances 0.000 description 1
Description
Die Erfindung betrifft ein Verfahren zur Herstellung von Siebdruckschablonen, bei welchem ein Gewebe
einseitig mit einer Folie beschichtet, auf der freien Seite des Gewebes das gewünschte Druckmuster aus
galvanisch abgeschiedenem Metal! gebildet und die Folie entfernt wird.
Es ist bekannt, zum Siebdrucken Siebdruckschablonen zu verwenden, die aus einem feinmaschigen
Gewebe bestehen, das an den Stellen, an denen kein Druck erfolgen soll, undurchlässig ist. Zur Herstellung
derartiger Siebdruckschablonen wird das auf einem Rahmen gespannte Gewebe einseitig mit einem
lichtempfindlichen Kunststoff beschichtet, aus welchem dann mit Hilfe der bekannten photolithographischen
Technik das Druckmuster erzeugt wird. Die auf diese Weise hergestellten Siebdruckschablonen besitzen zwar
eine hohe Auflösung, jedoch nur eine geringe Konturenschärfe, geringe Standzeit und chemische
Beständigkeit. Außerdem sind diese bekannten Siebdruckschablonen für Strukturabmessungen
ί 350 μπι χ 350 μπι nicht geeignet, da die Verankerung
des Druckmusters im Gewebe nicht ausreichend ist.
Es ist ferner bekannt, Siebdruckschablonen aus einem feinmaschigen Drahtgewebe zu verwenden, bei welchen
das Druckmuster aus galvanisch aufgebrachtem Metall gebildet ist. Zur Herstellung dieser Schablonen wird das
Drahtgewebe einseitig mit einer Photoresist-Folie beschichtet, die anschließend ausgehärtet wird, worauf
auf der freien Seite des Drahtgewebes das gewünschte Druckmuster aus galvanisch abgeschiedenem Metall
gebildet und die Photoresist-Folie entfernt wird. Das gewünschte Druckmuster wird hierbei entweder direkt
galvanoplastisch aufgebaut oder aus einer ganzflächig galvanisch abgeschiedenen Metallschicht mit Hilfe eines
selektiven Photoätzverfahrens erzeugt Derartig hergestellte Siebdruckschablonen besitzen eine hohe Auflösung,
eine gute Konturenschärfe sowie eine hohe S mechanische und chemische Beständigkeit Durch die
gute Verankerung des galvanisch aufgebauten Druckmusters im Drahtgewebe können Strukturabmessungen
Ξ 350 μπι χ 350 μπι leicht realisiert werden. Das zur
Bildung des Druckmusters galvanisch abgeschiedene Metall ist jedoch stark mit Poren durchsetzt wodurch
die Siebdruckschablone auch an den Stellen, an denen kein Druck erfolgen soll, durchlässig sein kann. Damit
die Anzahl der durchgehenden Poren möglichst gering gehalten wird, muß das galvanisch abgeschiedene
iS Metall in einer relativ großen Stärke aufgebaut werden.
Bei den erforderlichen Stärken wird jedoch die für das Siebdrucken erforderliche Flexibilität der Siebdruckschablone
bereits erheblich verringert
Der vorliegenden Erfindung liegt somit die Aufgabe zugrunde, ein Verfahren zur Herstellung von Siebdruckschablonen anzugeben, bei wekrhem das Dnickmuster aus nicht porösem und im Gewebe gut verankertem Metall aufgebaut wird.
Diese Aufgabe wird erfindungsgemäß dadurch gelöst
Der vorliegenden Erfindung liegt somit die Aufgabe zugrunde, ein Verfahren zur Herstellung von Siebdruckschablonen anzugeben, bei wekrhem das Dnickmuster aus nicht porösem und im Gewebe gut verankertem Metall aufgebaut wird.
Diese Aufgabe wird erfindungsgemäß dadurch gelöst
2s daß bei einem Verfahren der eingangs genannten Art
eine Folie aus thermoplastischem Kunststoff verwendet wird und vor der galvanischen Metallabscheidung das
Gewebe und die dem Gewebe zugewandte Seite der Folie mit einer dünnen galvanisierbaren Metallisierungsschicht
überzogen werden.
Bei der Verwendung einer Folie aus thermoplastischem Kunststoff kann das aufwendige Aushärten nach
dem Beschichten entfallen. Außerdem können Folien aus thermoplastischen Kunststoffen nach der Herstellung
des Druckmusters sehr leicht wieder entfernt werden. Durch die Metallisierung der Folie wird das
galvanisch abgeschiedene Metall praktisch porenfrei aufgebaut. Dies ist darauf zurückzuführen, daß der
Metallaufbau nicht nur wie bisher von den Gewebefäden, sondern auch von der metallisierten Folie ausgeht
Überraschenderweise wird hierdurch auch gleichzeitig die mechanische Verankerung des galvanisch abgeschiedenen
Metalls im Gewebe wesentlich erhöht Ein weiterer Vorteil der Metallisierungsschicht ist daß für
die Siebdruckschablonen neben Geweben aus Metall auch wesentlich billigere Gewebe aus Kunststoff
ausgewählt werden können.
Vorzugsweise wird die einseitige Begichtung des Gewebes mit der Folie unter Anwendung von Druck
und Wärme vorgenommen. Die Folie wird hierbei geringfügig in das Gewebe gepreßt, so daß das zur
Bildung des Druckmusters galvanisch abgeschiedene Metall auf dieser der Rakelseite entsprechenden
Gewebeseite mit Sicherheit nicht übersteht
Vorteilhaft wird für die Folie ein thermoplastischer Kunststoff aus der Gruppe der Polyester verwendet Bei
der Verwendung derartiger Folien, die beispielsweise aus Polyterephthalsäureester bestehen, bereitet das
Auflaminieren einer Photoresistfolie auf die andere Gewebeseite keine Schwierigkeiten. Bei der für das
Auflaminieren einer Photoresistfolie erforderlichen Temperatur wird der Bereich, bei welchem die Polyester
fließfähig werden, mit Sicherheit nicht erreicht Die Verwendung von Verbundfolien, beispielsweise einer
Polyterephthalsäureester-Folie, die einseitig mit Polyäthylen beschichtet ist, ist ebenfalls möglich.
Für das Aufbringen der Metallisierungsschicht stehen
eine Reihe von Metallisierungsverfahren wie das
Aufdampfen im Vakuum, die Kathodenzerstäubung, das Bepinseln mit Leitsilber oder Graphitstaub oder das
Besprühen mit Graphitsuspensionen zur Verfugung. Bevorzugt wird die Metallisierungsschicht jedoch durch
Eintauchen in ein stromloses Metallisierun^sbad aufge- S bracht Diese als chemische reduktive oder stromlose
Metallabscheidung bezeichnete Metallisierung ist besonders wirtschaftlich und wird insbesondere bei der
Herstellung gedruckter Schaltungen häufig angewandt. Als besonders geeignet hat es sich auch erwiesen, die
Metallisienirgsschicht durch reduktive Sprühversilberung
aufzubringen. Diese einfache und wirksame Methode zur oberflächlichen Metallisierung wird
beispielsweise bei der Schallplattenherstellung häufig eingesetzt ' S
Im folgenden werden Ausführungsbeispiele der Erfindung an Hand der Figuren erläutert
In F i g. 1 ist das einseitige Beschichten eines Gewebes mit einer Folie 2 dargestellt Die Maschenweite
des aus Edelstahl bestehenden Gewebts 1 beträgt beispielsweise 50μΐη. Die Folie 2 besteht aus einer
12 μπι dicken Polyterephthalsäureester-Folie.die einseitig
mit einer 30 μπι dicken Poiyäthylensicht bedeckt ist.
Derartige handelsübliche Verbundfolien werden z. B. für technische Kaschierungen von Papier verwendet.
Das Gewebe 1 und die Folie 2 werden unter Zwischenlage von Teflonfolien 3 und 4 zwischen
Stahlplatten S und 6 gelegt, die auf eine Tempera tür von etwa 1700C aufgeheizt und mit einem Druck von ca.
0,2 bar zusammengepreßt werden. Hierbei erweicht der Folienwerkstoff, d. h, die Folie 2 wird geringfügig in das
Gewebe 1 gepreßt, wie es in F i g. 2 dargestellt ist.
Gemäß Fig.3 werden anschließend die freien Bereiche des Gewebes 1 und die dem Gewebe 1
zugewandte Seite der Folie 2 mit einer ca. 0,5 bis 1,5 μπι
starken galvanisierbaren Metallisierungsschicht 7 überzogen. Das Aufbringen der Metallisierungsschicht 7
kann beispielsweise durch reduktive Sprühversilberung vorgenommen werden. Hierbei werden das Gewebe 1
und die Oberseite der Folie 2 zunächst gereinigt und dann mit einer Zinndichlorid-Lösung sensibilisiert.
Man verwendet hierbei ein Gemisch aus
Zinnchlorid, SnCI2 · 3 H2O
Salzsäure, HCl (ehem. rein)
Salzsäure, HCl (ehem. rein)
5 g/l
1 ml/1
1 ml/1
45
Dieser Vorgang kann durch Tauchen, Gießen oder Sprühen erfolgen. Nach dem Abbrausen mit destilliertem
Wasser erfolgt dann die eigentliche Reduktionsversilberung. Hierzu wird eine 3teilige Sprühpistole,
verwendet, aus der gleichzeitig ammoniakalische AgNCh-Lösung, Reduktionslösung und Veredelungslösung
getrennt auf die zu metallisierende Oberfläche gesprüht werden. Die ammoniakalische AgNG?-Lösung
ist etwa l%ig mit entsprechenden Ammoniakzusatz, während im Reduktionskonzentrat Weinsäure, Schwefelsäure
und Formaldehyd enthalten sind. Die Veredelungslösung enthält Pd(NO3J2 mit NaOH und NH4OH.
Der Sprühdruck liegt bei 3 bis 6 bar. Für das Aufbringen einer Ιμΐη starken Silberschicht beträgt die
Sprühzeit ca. 2 Minuten.
Wird die Metallisierungsschicht 7 durch Eintauchen in ein stromloses Metallisierungsbad aufgebracht, so wird
auch die Rückseite der Folie 2 metallisiert Vor der nachfolgenden galvanischen Metallabscheidung wird
diese rückseitige Metallisierung, beispielsweise durch Bürsten, wieder entfernt
Nach dem Aufbringen der Metallisierungsschicht 7 wird gemäß F i g. 4 eine handelsübliche Photoresist-Folie
8 auf die freie Seite des Gewebes I aufgebracht. Hierzu kann die in F i g. 1 dargestellte Anordnung
verwendet werden, wobei die Stahlplatten 5 und 6 auf eine Temperatur von 1200C aufgeheizt und mit einem
Druck von 0.2 bar zusammengepreßt werden. Anschließend werden in der üblichen photographischen Technik
in der Photoresistfotie 8 die den undurchlässigen Bereichen der Siebdruckschablone entsprechenden
Öffnungen 81 erzeugt. Die Bildung des gewünschten Druckmusters erfolgt dann durch die Belegung der
Öffnungen 81 mit galvanisch abgeschiedenem Metall. F i g. 5 zeigt das Gewebe I mit einer galvanisch
abgeschiedenen Nickelschicht 9 nach dem Entfernen der Photoresist-Folie 8 und der Folie 2. Die Nickelschicht
9 ist beispielsweise 30μΐη stark und weist
allenfalls Mikroporen, aber keine durchgehenden Poren
auf. Die nicht von der Nickelschicht 9 umschlossene Metallisierungsschicht 7 kann durch kurzes Eintauchen
der Siebdruckschablone in eine entsprechende Ätzlösung entfernt werden.
Bei einem zweiten Ausführungsbeispiel wird bis zu dem in F i g. 3 dargestellten Aufbringen der Metallisierungsschicht
7 wie bei dem vorstehend beschriebenen Ausführungsbeispiel vorgegangen.
Gemäß Fig.6 wird dann auf der freien Seite des
Gewebes 1 ganzflächig eine Metallschicht 10 galvanisch abgeschieden. Beispielsweise wird die Metallschicht 10
aus Kupfer in einer Stärke von 30 μπι aufgebaut. Anschließend wird eine Photoresist-Folie U auf die
Metallschicht 10 aufgebracht und in der üblichen photographischen Technik die den durchlässigen
Bereichen der Siebdruckschablone entsprechende Öffnungen 111 erzeugt. Die Bildung des gewünschten
Druckmusters erfolgt dann durch selektives Ätzen, wobei die freien Bereiche der Metallschicht 10
weggeätzt werden.
Fig. 7 zeigt das Gewebe 1 mit den aus der Metallschicht 10 verbliebenen undurchlässigen Bereichen
101. Die nicht von den undurchlässigen Bereichen 101 umschlossene Metallisierungsschicht 7 wurde beim
Ätzen des Druckmusters mit abgeätzt.
Hierzu 2 Blatt Zeichnungen
Claims (5)
1. Verfahren zur Herstellung von Siebdruckschablonen,
bei welchem ein Gewebe einseitig mit einer Folie beschichtet, auf der freien Seite des Gewebes
das gewünschte Druckmuster aus galvanisch abgeschiedenem Metall gebildet und die Folie entfernt
wird, dadurch gekennzeichnet, daß eine Folie aus thermoplastischem Kunststoff verwendet
wird und daß vor der galvanischen Metallabscheidung das Gewebe und die dem Gewebe zugewandte
Seite der Folie mit einer dünnen galvanisierbaren Metallisierungsschicht überzogen werden.
2. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die einseitige Beschichtung des
Gewebes mit der Folie unter Anwendung von Druck und Wärme vorgenommen wird.
3. Verfahren nach Anspruch 1 und 2, dadurch gekennzeichnet, daß für die Folie ein thermoplastischer
Kunststoff aus der Grupfte der Polyester
verwendet wird.
4. Verfahren nach Anspruch 1, 2 oder 3, dadurch gekennzeichnet, daß die Metallisierungsschicht
durch Eintauchen in ein stromloses Metallisierungsbad aufgebracht wird.
5. Verfahren nach Anspruch 1, 2 oder 3, dadurch gekennzeichnet, daß die Metallisierungsschicht
durch reduktive Sprühversilberung aufgebracht wird.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE19752532074 DE2532074C3 (de) | 1975-07-17 | Verfahren zur Herstellung von Siebdruckschablonen |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE19752532074 DE2532074C3 (de) | 1975-07-17 | Verfahren zur Herstellung von Siebdruckschablonen |
Publications (3)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE2532074A1 DE2532074A1 (de) | 1977-01-20 |
DE2532074B2 DE2532074B2 (de) | 1977-05-12 |
DE2532074C3 true DE2532074C3 (de) | 1978-01-26 |
Family
ID=
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
DE3249736C2 (de) | ||
DE2166971C3 (de) | Verfahren zur Herstellung von gedruckten Leiterplatten | |
DE2810523C2 (de) | Verfahren zur Herstellung eines Basismaterials für gedruckte Schaltkreise | |
DE3020477C2 (de) | ||
DE3538652A1 (de) | Verfahren zum herstellen eines mit einem aus metall bestehenden muster versehenen traegers aus isolierstoff | |
DE2064861A1 (de) | Verfahren zur Herstellung von Kunst stoffteilen mit haftende Überzüge aufneh menden Flachen | |
DE2739494A1 (de) | Verfahren zum herstellen von elektrischen leiterplatten und basismaterial fuer solche | |
DE3012889C2 (de) | Basismaterial für die Herstellung gedruckter Schaltungen | |
DE2320099A1 (de) | Verfahren zur herstellung eines kunststoffsubstrates mit aufgerauhter oberflaeche | |
DE2640268B1 (de) | Verfahren zum herstellen einer mit einem perforationsmuster versehenen metallfolie | |
DE1960723A1 (de) | Siebdruckschablonen und Verfahren zu ihrer Herstellung | |
DE3134502A1 (de) | Verfahren zum herstellen einer gedruckten schaltungsplatte | |
DE2532074C3 (de) | Verfahren zur Herstellung von Siebdruckschablonen | |
DE3217983A1 (de) | Verfahren und vorrichtung zum herstellen von leiterplatten | |
DE1665314C2 (de) | Basismaterial zur Herstellung gedruckter Schaltungen | |
DE2050285B2 (de) | Verfahren zum herstellen von siebdruckschablonen aus metall | |
DE2337032A1 (de) | Verfahren zum herstellen von beschichteten basismaterialien | |
DE2532074A1 (de) | Verfahren zur herstellung von siebdruckschablonen | |
DE3538937A1 (de) | Verfahren zum herstellen von metallkaschiertem thermoplastischem traegermaterial und daraus hergestellte gedruckte schaltungen | |
DE2161829A1 (de) | Verfahren zur Herstellung einer gedruckten Schaltungsplatte | |
DE19716356A1 (de) | Verfahren zur Herstellung von monolithischen elektronischen Teilen | |
DE2936693A1 (de) | Rotations-filmdruck-walze und herstellungsverfahren dafuer | |
DE1947351C3 (de) | Verfahren zur Herstellung von Siebdruckschablonen | |
DE2333308C3 (de) | Verfahren zur Herstellung einer Harzplatte | |
CH659428A5 (de) | Verfahren zum entspannen und/oder stabilisieren gegen das ausbilden von spannungsrissen von einem mindestens teilweise aus einem polymer bestehenden gegenstand. |