DE2522489C3 - - Google Patents
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- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J1/00—Details of electrodes, of magnetic control means, of screens, or of the mounting or spacing thereof, common to two or more basic types of discharge tubes or lamps
- H01J1/02—Main electrodes
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- H01J2201/34—Photoemissive electrodes
- H01J2201/342—Cathodes
- H01J2201/3421—Composition of the emitting surface
- H01J2201/3423—Semiconductors, e.g. GaAs, NEA emitters
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Description
Die Erfindung bezieht sich auf eine Fotokathode, die im Wellenlängenbereich des sichtbaren Lichts empfindlich
ist und die einen aus einer p-leitenden, ein Element der V. Gruppe des Periodischen Systems enthaltenden
ternären Verbindung bestehenden Halbleiterkörper, in dem unter Einwirkung des Lichts Elektronen angeregt
werden, sowie einen auf eine Oberfläche des Halbleiterkörpers aufgebrachten Überzug aus einem Alkalimetall
und Sauerstoff enthält, der die Elektronenaustrittsarbeit herabsetzt und die Oberfläche des Halbleiterkörpers bis
zum Zustand negativer Elektronenaffinität aktiviert.
Die Erfindung kann bei fotoelektrischen Bauelementen, z. B. Vakuumfotozellen, Fotoelektronenvervielfachern,
und bei Fernsehaufnahmeröhren verwendet werden.
In letzterer Zeit finden Fotokathoden aus p-leitenden Halbleitermaterialien weitgehend Anwendung, deren
Oberfläche durch eine daran adsorbierte Dünnschicht bis zum Zustand einer negativen Elektronenaffinität
aktiviert ist. Im Zustand der negativen Elektronenaffinität liegt das Niveau der unteren Kante des Leitungsbandes
im Volumen des Halbleiters oberhalb des Niveaus des Vakuums; dies wird durch eine effektive Absenkung
der Elektronenaustrittsarbeit bei der Adsorption der aktivierenden Dünnschicht und durch Ausbildung eines
Raumladungsgebiets negativen Vorzeichens in der oberflächennahen Schicht des Halbleiters erreicht Das
negative Vorzeichen bewi-kt eine Bandverbiegung in der oberflächennahen Halbleiterschicht, wobei das
Niveau der unteren Kante des Leitungsbandes auf der Oberfläche des Halbleiters unterhalb des Niveaus des
Vakuums liegt. Bei den Fotokathoden mit der negativen Elektronenaffinität wird ein Austritt ins Vakuum von im
Volumen des Halbleiterkörpers lichtangeregten Elektronen aus dessen Valenzband auf die untere Kante des
Leitungsbandes ermöglicht.
Bekanntlich muß der Halbleiterstoff zur Herstellung einer wirksamen Fotokathode mit negativer E'.ektrönenaffinität
eine Reihe von Anforderungen erfüllen, und zwar
1. Der Stoff muß einen durch eine Beimischung bedingten p-Leitungstyp aufweisen.
2. Der Stoff muß eine große Diffusionslänge für Minoritätsladungsträger aufweisen.
3. Die Tiefe des Elektronenatistritts darf zur vollständigeren Ausnutzung des durch den Halbleiter aufgenommenen Lichts nicht unterhalb der Eindringtiefe des Lichts in den Halbleiter sein.
1. Der Stoff muß einen durch eine Beimischung bedingten p-Leitungstyp aufweisen.
2. Der Stoff muß eine große Diffusionslänge für Minoritätsladungsträger aufweisen.
3. Die Tiefe des Elektronenatistritts darf zur vollständigeren Ausnutzung des durch den Halbleiter aufgenommenen Lichts nicht unterhalb der Eindringtiefe des Lichts in den Halbleiter sein.
Darüber hinaus hängt das Emissionsvermögen der Fotokathoden mit negativer Elektronenaffinität, besonders
im schwellennahen Bereich der Spektralempfindlichkeit, von der Art der Bandstruktur des Halbleiters
ab. Das Emissionsvermögen liegt höher bei Halbleitern mit zusammenfallenden F.xtrema der Zonen des Valenz-
und des Leitungsbandes. Die Gesamtheit dieser Anforderungen ist erfüllbar für manche Halbleiter des
Typs von AUIBV-Verbindungen, wo A"1 ein chemisches
Element der dritten Gruppe und Bv eines der fünften Gruppe der zweiten Untergruppen des Periodischen
Systems sind, beispielsweise für Einkristalle und Schichten von mit einer Zäsium- oder Zäsiumoxydschicht
bedecktem Galliumarsenid. Eine beispielsweise für Galliumphosphid erhaltene negative Elektronenaffinität
gewährleistet kein so hohes Emissionsvermögen im schwelknnahen Bereich der Spektralempfindlichkeit,
weil beim Galliumphosphid die Extrema des Valenz- und des Leitungsbandes nicht zusammenfallen.
Es ist eine Fotokathode für eine elektronische Entladungsröhre (DE-AS 12 56 808) bekannt, die als
Basis ein Halbleitermaterial und als Überzug ein Alkalimetall und Sauerstoff enthält, die die Oberfläche
des Halbleiterkörpers aktivieren. Als Halbleitermaterial vom p-Leitungstyp dient beispielsweise das zu der
Gruppe von Verbindungen des Typs A'"BV gehörende
GaAs oder eine feste Ga-As-Lösung mit einem Zusatz von GaP oder GaSb. Zur Erzeugung von gegen den
langwelligen Spektralbereich empfindlichen Kathoden darf keine der Verbindungen vom Typ AmBv außer dem
GaSb verwendet werden. Dessen Einsatz für diese Zwecke ist aber wegen des niedrigen Schmelzpunktes
von GaSb (Schmelztemperatur = 712° C) herstellungstechnisch erschwert.
Eine weitere bekannte Fotokathode (»Journal of Applied Physics«, Vol. 40, Nr. 11, Okt. 1969, S.
4384—4389), die der eingangs genannten Art entspricht, weist einen Halbleiterkörper aus Gao.75J.no.25As, also
ebenfalls des Typs AmBv, und einen Überzug aus
Zäsiumoxyd auf.
Die Verwendung fester Lösungen als Halbleiterkörper ist durch die Notwendigkeit bedingt, Kathoden zu
schaffen, die gegenüber dem langwelligen Spektralbereich empfindlich sind. Jedoch ist die Herstellung von
nach Volumen und Oberfläche homogenen festen Lösungen schwierig. Eine der Ursachen der komplizierten
Herstellung der festen Lösungen ist beispielsweise eine Nichtgleichgewichtskristallisation, die der Entwicklung
von Herstellungsverfahren zur Homogenisierung bedarf.
Die Inhomogenität der festen Lösungen wirkt sich negativ sowohl auf die räumlichen Eigenschaften des
Grundstoffes des Emitters durch Verringerung der Diffusionslänge der Minoritätsladungsträger als auch
auf die Eigenschaften der reinen Oberfläche aus, die das Emissionsvermögen des aktivierenden Überzuges bestimmen.
Zur Reinigung der Oberfläche der festen
Überzuges darauf ist eine Erhitzung des Halbleiterkörpers der Kathode auf hohe Temperaturen nahe der
Zersetzungstemperatur der festen Lösung erforderlich. Hierbei ist in der Gasphase die Erscheinung deren
flüchtigster Komponenten möglich.
Der Erfindung liegt die Aufgabe zugrunde, eine Fotokathode der eingangs genannten Art zu schaffen,
deren Halbleiterkörper einen möglichst homogenen Aufbau aufweist und gegen die bei der Herstellung der
Fotokathode,- auftretende Erhitzung bis auf Temperaturen
nahe der Zersetzungstemperatur weitgehend beständig ist.
Diese Aufgabe wird erfindungsgemäß dadurch gelöst,
daß der Halbleiterkörper aus einer Verbindung der Gruppe A"BIVC2 V besteht, worin A" Zn oder Cd, BIV Ge,
Si oder Sn und Cv P oder As ist.
Vorzugsweise besteht der Halbleiterkörper aus ZnGeP2, ZnSiAs2 oder CdSnP2.
Die Erfindung setzt also chemische Verbindungen vom Typ A"BIVC2 V für den Halbleiterkörper der
Fotokathode ein, die homogener als die bekannten festen Lösungen des AmBv-Typs sind und eine erhöhte
Beständigkeit gegen die Einwirkung hoher Temperaturen aufweisen. Dies führt zu einer Vereinfachung des
Herstellungsverfahrens der Fotokathode und steigert die Ausbeute brauchbarer Elektrovakuumgeräte
Diese Verbindungen vom Typ A"B1VC2 V sind zwar als
lichtempfindliche Halbleiterstoffe bekannt (DT-05 20 49 022), doch wurden sie nur als Ladungsspeicherschirme
in Bildaufnahmeröhren, die mit einem Abta_.telektronenstrahl arbeiten, verwendet, so daß ihre
Eign mg für Fotokathoden nicht bekannt war.
Di« Erfindung wird nachstehend durch die Zeichnung und anhand von Ausführungsbeispielen näher erläutert.
Die Zeichnung zeigt eine Fotokathode im Längsschnitt
Die Fotokathode enthält einen Halbleiterkörper 1 aus p-leitendem Halbleitermaterial der Gruppe der chemischen
A"BIVC2V-Verbindungen, beispielsweise aus
ZnGeAs2, und einen aktivierenden Überzug 2 aus Zäsium und Sauerstoff.
Der Halbleiterkörper 1 aus chemischen Verbindungen vom Typ A"BIVC2V wird nach einem der bekannten
Verfahren (»A2B4C5-Halbleiter«, Leiter N. A. Gorunova,
]. A. Valov, Moskau, Sovetskoje Radio, 1974)
hergestellt.
Zur Herstellung einer wirksamen Fotokathode mit negativer Elektronenaffinität wird der Halbleiterkörper
im Ultrahochvakuum auf Temperaturen unterhalb der Zersetzungstemperatur der Verbindung erhitzt. Die
Reinheit und die Qualität der Oberfläche des Halbleiterkörpers 1 nach der Erhitzung werden nach bekannten
Verfahren einer Diffraktion langsamer Elektronen und der Auger-Elektronenspektroskopie geprüft. Die reine
Oberfläche des Halbleiterkörpers 1 wird mit einem Überzug 2 aus Alkalimetall, beispielsweise aus Zäsium,
und Sauerstoff bis zur Schaffung einei negativen Elektronenaffinität aktiviert. Dies wird durch Messungen
der Spektralempfindlichkeit der Kathode bei einer Wellenlänge nahe der Breite des verbotenen Bandes des
Halbleiterkörpers 1 und der Elektronenaustrittsarbeit überwacht.
Ein ZnGeP2-Kristall vom p-Leitungstyp mit einer
Akzeptorkonzentration von ca. 5 · 1018 l/cm3, der als
Halbleiterkörper 1 der Fotokathode dient, wird in einer
Vakuum-Entladungsröhre bei einem Druck unterhalb von 6,67 ■ 10-6Pa angeordnet, auf eine Temperatur von
ca. 6000C erhitzt und nach einer Abkühlung auf 2O0C
durch auf der Oberfläche des Halbleiterkörpers 1 adsorbiertes Zäsium unter Überwachung der Spektralempfindlichkeit
der Fotokathode bei einer Wellenlänge von 550 μπι aktiviert Die auf diese Weise erzeugte
Fotokathode stellt eine Kathode mit negativer Elektronenaffinität dar und ist durch eine Spektralempfindlichkeit
bei einer Wellenlänge von 580 μπι gekennzeichnet,
die 1% des im 400^m-Bereich liegenden Maximums beträgt Der steile Anstieg der Spektralempfindlichkeit
liegt hauptsächlich im Bereich von 590 bis 540 μπι.
Ein ZnSiAs2-Kristall vom p-Leitungstyp mit einer
Akzeptorkonzentration oberhalb von 1018 l/cm3, der als
Halbleiterkörper 1 der Fotokathode dient, wird in einer Vakuum-Entladungsröhre bei einem Druck unterhalb
von 6,67 ■ 10-6 Pa angeordnet, auf eine Temperatur von ca. 600° C erhitzt und nach einer Abkühlung auf 200C
durch auf der Oberfläche des Halbleiierkörpers 1 adsorbiertes Zäsium unter Überwachung der Spektralempfindlichkeit
der Fotokathode bei einer Wellenlänge von 550 μπι aktiviert. Die auf diese Weise erzeugte
Fotokathode stellt eine Kathode mit negativer Elektronenaffinität dar und ist durch eine Spektralempfindlichkeit
bei einer Wellenlänge von 560 μίτι gekennzeichnet,
die 1% des im 400^m-Bereich liegenden Maximums beträgt. Der steile Anstieg der Spektralempfindlichkeit
liegt hauptsächlich im Bereich von 580 bis 530 μπι.
Ein CdSnP2-Kristall vom p-Leitungstyp mit einer
Akzeptorkonzentration von ca. 1019 l/cm3, der als
Halbleiterkörper 1 der Fotokathode dient, wird in einer Vakuum-Entladungsröhre bei einem Druck unterhalb
von 1,33 ■ 10 ~b Pa angeordnet, auf eine Temperatur von
ca. 6000C erhitzt und nach einer Abkühlung auf 200C
durch auf der Oberfläche des Halbleiterkörpers 1 adsorbiertes Zäsium sowie durch Sauerstoff unier
Überwachung der Spektralempfindlichkeit der Fotokathode bei einer Wellenlänge von 750 μπι aktiviert. Die
auf diese Weise erzeugte Fotokathode stellt eine Kathode mit negativer Elektronenaffinität dar und ist
durch eine Spektralempfindlichkeit bei einer Wellenlänge gleich 830 μιτι gekennzeichnet, die 1 % des im
550^m-Bereich liegenden Maximums beträgt. Der steile Anstieg der Spektralempfindlichkeil liegt hauptsächlich
im Bereich von 830 bis 770 μΐη.
Bei den angeführten Beispielen wird der steile Hauptanstieg der Spektralempfindlichkeit in einem
verhältnismäßig schmalen Wellenbereich durch die Homogenität der Volumen- und Oberflächeneigenschaften
des aus einer chemischen Verbindung vom Typ A"BIVC2 V hergestellten Halbleiterkörpers gewährleistet.
Die vorliegende, im optischen Wellenbereich der Lichtstrahlung empfindliche Fotokathode weist einen
wärmebeständigen, nach den Eigenschaften homogenen Halbleiterkörper 1 und eine erhöhte Fotoempfindlichkeit
in deren schwellennahen Bereich auf, die durch eine negative Elektronenaffinität ermöglicht wird.
1"1ICIiU A IJjaU
Claims (4)
1. Fotokathode, die im Wellenlängenbereich des sichtbaren Lichts empfindlich ist und die einen aus
einer p-leitenden, ein Element der V. Gruppe des Periodischen Systems enthaltenden ternären Verbindung
bestehenden Halbleiterkörper, in dem unter Einwirkung des Lichts Elektronen angeregt werden,
sowie einen auf eine Oberfläche des Hslbleiterkörpers aufgebrachten Oberzug aus einem Alkalimetall
und Sauerstoff enthält, der die Elektronenaustrittsarbeit herabsetzt und die Oberfläche des Halbleiterkörpers
bis zum Zustand negativer Elektronenaffinität aktiviert, dadurch gekennzeichnet, daß
der Halbleiterkörper aus einer Verbindung der Gruppe A"BIVC2 V besteht, worin A" Zn oder Cd, B'v
Ge, Si oder Sn und Cv P oder As ist.
2. Fotokathode nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß der Halbleiterkörper (1) aus
ZnGeP2 besteht
3. Fotokathode nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß der Halbleiterkörper (1) aus
ZnSiAs2 besieht.
4. Fotokathode nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß der Halbleiterkörper (1) aus
CdSnP2bestehL
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
SU7402025744A SU519042A1 (ru) | 1974-05-21 | 1974-05-21 | Фотоэлектрический эмиттер |
Publications (3)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE2522489A1 DE2522489A1 (de) | 1975-12-18 |
DE2522489B2 DE2522489B2 (de) | 1978-06-08 |
DE2522489C3 true DE2522489C3 (de) | 1979-02-08 |
Family
ID=20585027
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE2522489A Granted DE2522489B2 (de) | 1974-05-21 | 1975-05-21 | Fotokathode |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US4107564A (de) |
JP (1) | JPS51141588A (de) |
DE (1) | DE2522489B2 (de) |
FR (1) | FR2272492B1 (de) |
SU (1) | SU519042A1 (de) |
Families Citing this family (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4602352A (en) * | 1984-04-17 | 1986-07-22 | University Of Pittsburgh | Apparatus and method for detection of infrared radiation |
US4603401A (en) * | 1984-04-17 | 1986-07-29 | University Of Pittsburgh | Apparatus and method for infrared imaging |
JPS63291337A (ja) * | 1987-05-22 | 1988-11-29 | Sharp Corp | フオトカソ−ド |
US5259917A (en) * | 1992-07-28 | 1993-11-09 | The United States Of America As Represented By The Secretary Of The Air Force | Transparent semiconductor crystals |
US5973259A (en) * | 1997-05-12 | 1999-10-26 | Borealis Tech Ltd | Method and apparatus for photoelectric generation of electricity |
US6888175B1 (en) | 1998-05-29 | 2005-05-03 | Massachusetts Institute Of Technology | Compound semiconductor structure with lattice and polarity matched heteroepitaxial layers |
JP5380258B2 (ja) * | 2009-11-27 | 2014-01-08 | 学校法人光産業創成大学院大学 | フォトカソードの製造方法 |
RU2624831C2 (ru) * | 2015-11-27 | 2017-07-07 | федеральное государственное бюджетное учреждение высшего образования и науки "Санкт-Петербургский национальный исследовательский Академический университет Российской академии наук" | Фотоэлектрический преобразователь на основе полупроводниковых соединений a2b4c5 2, сформированных на кремниевой подложке |
Family Cites Families (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
NL280217A (de) * | 1958-11-28 | |||
US3259582A (en) * | 1959-11-30 | 1966-07-05 | Siemens Ag | Mix-crystal semiconductor devices |
US3631303A (en) * | 1970-01-19 | 1971-12-28 | Varian Associates | Iii-v cathodes having a built-in gradient of potential energy for increasing the emission efficiency |
US3687743A (en) * | 1970-07-13 | 1972-08-29 | Philips Corp | Method of manufacturing a semiconductor device consisting of a ternary compound of znsias on a gaas substrate |
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-
1974
- 1974-05-21 SU SU7402025744A patent/SU519042A1/ru active
-
1975
- 1975-05-20 US US05/579,227 patent/US4107564A/en not_active Expired - Lifetime
- 1975-05-21 JP JP6085275A patent/JPS51141588A/ja active Granted
- 1975-05-21 FR FR7515838A patent/FR2272492B1/fr not_active Expired
- 1975-05-21 DE DE2522489A patent/DE2522489B2/de active Granted
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
FR2272492A1 (de) | 1975-12-19 |
JPS51141588A (en) | 1976-12-06 |
DE2522489B2 (de) | 1978-06-08 |
JPS5233476B2 (de) | 1977-08-29 |
FR2272492B1 (de) | 1977-04-15 |
SU519042A1 (ru) | 1978-07-25 |
DE2522489A1 (de) | 1975-12-18 |
US4107564A (en) | 1978-08-15 |
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