DE2510587B2 - Vorrichtung zur herstellung von polykristallinen kompakten inp- und gap-ingots - Google Patents

Vorrichtung zur herstellung von polykristallinen kompakten inp- und gap-ingots

Info

Publication number
DE2510587B2
DE2510587B2 DE19752510587 DE2510587A DE2510587B2 DE 2510587 B2 DE2510587 B2 DE 2510587B2 DE 19752510587 DE19752510587 DE 19752510587 DE 2510587 A DE2510587 A DE 2510587A DE 2510587 B2 DE2510587 B2 DE 2510587B2
Authority
DE
Germany
Prior art keywords
gap
melting
inp
ingots
single crystal
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
DE19752510587
Other languages
English (en)
Other versions
DE2510587A1 (de
DE2510587C3 (de
Inventor
Klaus 8501 Eckental Zeuch
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Siemens AG
Original Assignee
Siemens AG
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Siemens AG filed Critical Siemens AG
Priority to DE19752510587 priority Critical patent/DE2510587C3/de
Priority claimed from DE19752510587 external-priority patent/DE2510587C3/de
Priority to CH159376A priority patent/CH619673A5/de
Priority to GB9632/76A priority patent/GB1534797A/en
Priority to US05/665,879 priority patent/US4049373A/en
Publication of DE2510587A1 publication Critical patent/DE2510587A1/de
Publication of DE2510587B2 publication Critical patent/DE2510587B2/de
Application granted granted Critical
Publication of DE2510587C3 publication Critical patent/DE2510587C3/de
Expired legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C01INORGANIC CHEMISTRY
    • C01BNON-METALLIC ELEMENTS; COMPOUNDS THEREOF; METALLOIDS OR COMPOUNDS THEREOF NOT COVERED BY SUBCLASS C01C
    • C01B25/00Phosphorus; Compounds thereof
    • C01B25/06Hydrogen phosphides

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Inorganic Chemistry (AREA)
  • Crystals, And After-Treatments Of Crystals (AREA)
  • Liquid Deposition Of Substances Of Which Semiconductor Devices Are Composed (AREA)

Description

InP- und GaP-EinkristaUe werden aus aufgeschmolzenem polykristallinem Material stöchiometrischer Zusammensetzung in einer senkrechten Ziehanlage gezogen. Das hierfür einzusetzende Material ist erst in eine geeignete Form zu bringen bzw. zu zerkleinern.
Galliumphosphideinkristalie, wie sie beispielsweise zur Fertigung von Lumineszenzdioden benötigt werden, können nach dem bekannten Schutzschmelzeverfahren aus einer Galliumphosphidschmelze gezogen werden. Das für die Schmelze notwendige polykristalline Galliumphosphid kann direkt aus den Elementen (DT-OS 23 17 797.1-41) hergestellt werden. Gemäß diesem Verfahren kristallisiert in einem trogförmigen Boot durch einseitiges gerichtetes Erstarrenlassen der Schmelze ein Galliumphosphidbarren aus.
Die bei der Synthese des polykristallinen Materials erhaltenen Barren haben im Gegensatz zu den Schmelztiegeln in der Einkristallziehanlage keinen kreisförmigen Querschnitt Die Barren sind daher zum Beschicken der Schmelztiegel in Stücke zu zerschlagen, die dann im Tiegel mit kreisförmigem Querschnitt unter einer B2O3-Tablette aufgeschmolzen werden. Hierbei läßt es sich nicht vermeiden, daß die B2O3-Schmelze zwischen die GaP-Stücke läuft. Die Folge ist, daß nach dem ersten Aufschmelzen eine trübe undurchsichtige BjOj-Schutzschmelze resultiert. Deshalb muß man vor dem eigentlichen Kristallziehen in einem getrennten Arbeitsgang, dem sogenannten »Regulusschmelzen«. einen kompakten Ingot des Halbleitermaterials herstellen, der genau die Form des Schmelztiegels hat. Erst nach dem zweiten Schmelzvorgang unter einer B2O3-Tablette, bei dem nun der kompakte GaP-Ingot eingesetzt wird, erhält man erst die für die Einkristall-Zucht notwendige klare B2O3-Schmelze als Deckschicht auf der Galliumphosphidschmelze.
Der Erfindung liegt die Aufgabe zugrunde, ein geeignetes kompaktes InP- und GaP-Material herzustellen, das in einer Einkristallziehanlage unter hohem Stickstoffdruck ohne den bisherigen zusätzlichen Verfahrensschritt, dem Regulusschmelzen unter einer B2O3-Tablette in einem Quarztiegel beim erstmaligen Aufschmelzen eine auf der InP- bzw. GaP-Schmelze schwimmende für die Einkristallzucht notwendige durchsichtige B2O3-Schmelze ergibt.
Diese Aufgabe wird erfindungsgemäß mit einer Vorrichtung gelöst, mit welcher die polykristallinen kompakten GaP- und InP-lngots schon bei der Herstellung in genau der geometrischen Form gewonnen werden, die der Schmelztiegel in der Einkristallziehanlage hat. Erfindungsgemäß wird dies dadurch erreicht, daß das bei der Synthese des polykristallinen Materials verwendete Reaktionsboot 1 Schmelzsefäße 2 hat, die bereits die Form des Einkristallschmelztiegels bei der Einkristallzucht haben. Gemäß einer besonderen Ausführungsform der Vorrichtung sind in einem Reaktionsboot 1 Schmelzgefäße 2 untereinander durcn mindestens einen Verbindungskanal 3 verbunden, so daß bei der Synthese gleichzeitig mehrere Ingots mit den gleichen Abmessungen wie der Schmelztiegel aus der
ίο Einkristallzuchtanlage in einem Arbeitsgang hergestellt werden. Aus einer beispielsweise galliumreichen Galliumphosphidschmelze kristallisieren hierbei mit fortlaufender Umsetzung in sämtlichen Schmelzgefäßen kompakte GaP-Ingots stöchiometrischer Zusammen-
setzung aus. Das freie nichtumgesetzte Gallium wandert mit der heißen Reaktionszone jeweils wie bei einer Dränage durch den Verbindungskanal. Das sich im letzten Schmelzgefäß ansammelnde Gallium kann bei der nächsten Synthese im ersten Schmelzgefäß wieder eingesetzt werden. Auf mehrere Ansätze bezogen wird eine nahezu 100%ige Ausbeute erreicht.
Mit der erfindungsgemäßen Vorrichtung fallen bereits bei der Synthese des polykristallinen Materials kompakte Ingots von vorzugsweise kreisförmigem Querschnitt an, mit welchen es gelingt, die Einkristallzucht sofort nach dem ersten Aufschmelzen vorzunehmen, d. h. bei der Einkristallzucht ist der Verfahrensschritt des Regulus- und Ingotschmelzens nicht mehr notwendig. Besonders zu beachten ist auch die höhere Reinheit der Ingots, da das Material nur einmal aufzuschmelzen ist und die mechanische Zerkleinerung des polykristallinen Materials entfällt. Ferner wird bei optimaler Beschickung des Tiegels die Einsatzmenge bei der Einkristallzucht vergrößert und pro Einkristall sowohl die B2O3-Menge als auch die Anzahl der Quarztiegel auf die Hälfte reduziert. Mit der erfindungsgemäßen Vorrichtung ist es auch möglich, bereits bei der Herstellung von GaP bzw. InP stöchiometrischer Zusammensetzung ohne mechanische Bearbeitung kompakte Formkörper mit definierten geometrischen Abmessungen herzustellen.
Gemäß der Erfindung können Reaktionsboote mit beliebigen von der Zylinderform abweichenden Schmelzgefäßen eingesetzt werden. Reaktionsboote mit kreisförmigem Querschnitt und zylinderförmigen Schmelzgefäßen in Form von leicht konischen Bohrungen haben sich aber als besonders vorteilhaft erwit sen.
Zur weiteren Erläuterung der Erfindung wird auf die Zeichnung Bezug genommen. In den F i g. 1 und 2 sind Vorrichtungen nach der Erfindung in der Draufsicht und in F i g. 3 im Querschnitt dargestellt.
In einer Vorrichtung gemäß Fig. 1 ist ein Raktionsboot 1 aus Graphit verwendet, in dem hintereinander mehrere kreisrunde, nach unten etwas enger werdende Bohrungen 2, die sogenannten Schmelzgefäße, gefräst sind. Diese Bohrungen 2 in der F i g. 1 von A bis G bezeichnet haben die Abmessungen des Schmelztiegels aus der Einkristallziehanlage. Sie können aber auch in der Form und Größe untereinander verschieden sein, wie dies beispielsweise Fig.2 veranschaulicht. Die Bohrungen 2 sind über einen Verbindungskanal 3 so miteinander verbunden, daß durch den Kanal das freie nicht umgesetzte Gallium mit der heißen Reaktionszone bis in das letzte Schmelzgefäß G wandern kann. Das heißt, der Verbindungskanal ist die Voraussetzung dafür, daß in den einzelnen Schmelzgefäßen A-F kreisrunde, einphasige GaP-Ingots auskristallisieren, obwohl im schmelzflüssigen Zustand die tiegelförmigen
Schmelzgefäße mit einer galliumreichen GaP-Schmelze gefüllt sind
Beispiel 1
In einem Graphilrundstab (Länge 300 mm. Durchmesser 50mm) werden 7 Stück Bohrungen 2 (Fig.3) mit einem oberen Durchmesser d\ = 36 mm, einem unteren Durchmesser cfe = 34 mm so und einer Höhe H = 30 mm eingefräst, daß, wie in F i g. 1 dargestellt, die 7 nach unten konisch verlaufenden Schmelzgefäße A-Gm einer Ebene liegen. Untereinander sind die Schmelzgefäßt mit einem 3 mm breiten Verbindungskanal 3 verbunden, der wie eine Dränage zum Abziehen des freien Galliums dient. Eingefüllt werden insgesamt 630 g Gallium, die sich im schmelzflüssigen Zustand auf die 7 Schmelzgefäße A-G gleichmäßig verteilen.
Zuerst wird bei der GaP-Synthese d"S Graphitboot 1 im Bereich der Schmelzgefäße A und B mit einer Induktionsheizung auf eine Temperatur von 125O0C erhitzt, bei der sich das darin befindliche Gallium mit Phosphor aus dem über dem Boot unter 10 atm ( = 10 bar) stehenden Phosphordampf absättigt. Beim anschließenden kontinuierlichen Verschieben der heißen Reaktionszone aus dem Bereich der Schmelzgefäße A und B in den Bereich der Schmelzgefäße B und C kristallisiert im Schmelzgefäß A aus einer galliumreichen GaP-Schmelze ein zylindrischer kompakter GaP-Ingot mil stöchiometnscher Zusammensetzung aus, denn das freie nicht umgesetzte Gallium ist mit der heißen Reaktionszone wie bei einer Dränage durch den Verbindungskanal 3 aus dem Schmelzgefäß A in das Schmelzgefäß B gewandert Mit fortlaufender Umsetzung erhält man so in den Schmelzgefäßen A-F 6 Stück kompakte, stöchiometrische GaP-Ingots. Der · Ingot aus dem Schmelzgefäß G, wo sich das freie Gallium quantitativ angesammelt hat, kann bei der nächsten Synthese im Schmelzgefäß A wieder eingesetzt werden, und man erreicht dadurch eine auf mehrere Ansätze bezogene nahezu lOO°/oige Ausbeute.
Nach dem Abschlagen oder Abschleifen der Verbindungsstege zwischen den einzelnen Ingots können diese mit einem Eigengewicht von 120—130 g polykristallinem GaP bei der Einkristallzucht im senkrechten Schmelztiegel unter B2O3 aufgeschmolzen werden. Die auf der GaP-Schmelze befindliche B2O3-Schmelze ist klar und durchsichtig und die Einkristallzucht mit einem eingetauchten Keim kann bereits nach dem ersten Aufschmelzen erfolgen.
Beispiel 2
Im selben Graphitboot, wie es im Beispiel 1 beschrieben wurde, werden 840 g Indium eingewogen, die bei der InP-Synthese bei einer auf 980DC induktiv erhitzten Reaktionszone und einem Phosphordampfdruck von ebenfalls 10atm( = 10 bar) 6 Stück kompakte InP-lngots mit stöchiometrischer Zusammensetzung und einem Gewicht von 140—150 g ergeben.
Hierzu 1 Blatt Zeichnungen

Claims (2)

Patentansprüche:
1. Vorrichtung zur Herstellung von polykristallinen kompakten InP- und GaP-Ingots definierter geometrischer Form nach dem horizontalen Bridgman-Verfahren, dadurch gekennzeichnet, daß das bei der Synthese verwendete Reaktionsboot (1) Schmelzgefäße (2) hat, die bereits die Form des Einkristallschmelztiegels haben.
2. Vorrichtung nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die Schmelzgefäße (2) im Reaktionsboot (1) untereinander durch mindestens einen Verbindungskanal (3) verbunden sind.
DE19752510587 1975-03-11 1975-03-11 Vorrichtung zur Herstellung von polykristallinen kompakten InP- und GaP-Ingots Expired DE2510587C3 (de)

Priority Applications (4)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE19752510587 DE2510587C3 (de) 1975-03-11 Vorrichtung zur Herstellung von polykristallinen kompakten InP- und GaP-Ingots
CH159376A CH619673A5 (de) 1975-03-11 1976-02-10
GB9632/76A GB1534797A (en) 1975-03-11 1976-03-10 Melting vessel
US05/665,879 US4049373A (en) 1975-03-11 1976-03-11 Apparatus for producing compact polycrystalline InP and GaP ingots

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE19752510587 DE2510587C3 (de) 1975-03-11 Vorrichtung zur Herstellung von polykristallinen kompakten InP- und GaP-Ingots

Publications (3)

Publication Number Publication Date
DE2510587A1 DE2510587A1 (de) 1976-09-16
DE2510587B2 true DE2510587B2 (de) 1977-02-17
DE2510587C3 DE2510587C3 (de) 1977-10-06

Family

ID=

Also Published As

Publication number Publication date
GB1534797A (en) 1978-12-06
DE2510587A1 (de) 1976-09-16
CH619673A5 (de) 1980-10-15
US4049373A (en) 1977-09-20

Similar Documents

Publication Publication Date Title
DE2508803C3 (de) Verfahren zur Herstellung plattenförmiger Siliciumkristalle mit Kolumnarstruktur
EP2028292B1 (de) Verfahren zur Herstellung von monokristallinen Metall- oder Halbmetallkörpern
EP0021385B1 (de) Verfahren zur Herstellung von Siliciumstäben
DE2543340C2 (de)
DE1254131B (de) Verfahren zur Regelung der Dicke flacher, dendritischer Kristalle aus Silicium, Germanium oder Halbleiterverbindungen beim kontinuierlichen Ziehen aus einer Schmelze
DE1769481A1 (de) Verfahren zur Herstellung von ausgedehnten Faeden aus anorganischen temperaturbestaendigen Stoffen aus der Schmelze
DE102010029741A1 (de) Verfahren zum Herstellen von Silizium-Wafern und Silizium-Solarzelle
EP0072565A2 (de) Verfahren zur Herstellung grob- bis einkristalliner Folien aus Halbleitermaterial
DE68907184T2 (de) Verfahren zur zuechtung von kristallen und tiegel dafuer.
DE1533475B1 (de) Verfahren zur Herstellung parallel zueinander ausgerichteter Stengelkristalle
DE102012100147A1 (de) Verfahren zur Herstellung von mono-, quasimono- oder multikristallinen Metall- oder Halbmetallkörpern
EP0160294B1 (de) Verfahren zum Abtrennen von festen Reaktionsprodukten aus im Lichtbogenofen erzeugtem Silizium
EP0142666A2 (de) Verfahren zur Herstellung von versetzungsfreien Einkristallstäben aus Silicium
DE69726594T2 (de) Verfahren zur Reinigung von Benzoesäure
DE2510587B2 (de) Vorrichtung zur herstellung von polykristallinen kompakten inp- und gap-ingots
DE2510587C3 (de) Vorrichtung zur Herstellung von polykristallinen kompakten InP- und GaP-Ingots
DE102011087759B4 (de) Verfahren zur Herstellung von Silizium-Ingots und Silizium-Ingot
DE102007035756A1 (de) Verfahren zur Herstellung von Nichteisenmetall-Blöcken
DE2635373C2 (de) Verfahren und Vorrichtung zur kontinuierlichen Züchtung von Einkristallen bestimmter Form
EP0095707A1 (de) Verfahren zum Herstellen polykristalliner, für nachfolgendes Zonenschmelzen geeigneter Siliciumstäbe
DE2604351A1 (de) Verfahren zur herstellung von halbleiteranordnungen, bei dem eine halbleitermaterialschicht auf einem substrat angebracht wird, vorrichtung zum durchfuehren dieses verfahrens und durch dieses verfahren hergestellte halbleiteranordnungen
DE68912686T2 (de) Verfahren zur Herstellung eines Einkristalls aus einer Halbleiter-Verbindung.
DE3210827C2 (de) Verfahren zum Züchten eines III/V-Verbindungs-Einkristalls
DE3611950A1 (de) Verfahren zum abtrennen von festen raktionsprodukten, wie kohlenstoff, aus carbothermisch erzeugtem silizium
DE1218412B (de) Verfahren zum Herstellen von einkristallinem Halbleitermaterial

Legal Events

Date Code Title Description
C3 Grant after two publication steps (3rd publication)
E77 Valid patent as to the heymanns-index 1977
8339 Ceased/non-payment of the annual fee