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Verfahren zur Herstellung starrer magnetischer Aufzeichnungsträger
Die Erfindung betrifft ein Verfahren zur Herstellung starrer magnetischer Aufzeichnungsträger
durch Abscheidung einer kobalthaltigen ferromagnetischen Metalldünnschicht, gegebenenfalls
nach Abscheidung einer nicht magnetischen Metalizwischenschicht auf eine eloxierte
Aluminiumplatte als Träger Magnetische Aufzeichnungsplatten konventioneller Art
bestehen in der Regel aus einem Aluminiumsubstrat und einer darauf auf~ gebrachten
Magnetschicht, bestehend aus einer Dispersion eines Magnetpigmentes in einem härtbaren
Bindemittel0 Die Magnetschicht derart aufgebauter Magnetogrammträger ist in der
Regel zwischen 2 und 4 /um dick und eignet sich für Aufzeichnungsdichten bis 4 000
bpi Für Aufzeichnungsdichten, die darüber liegen sind Magnetschichten nötig, die
sich sowohl hinsichtlich der Schicht~ dicke als auch der Magnetwerte von den konventionellen
Eisen oxid-Dispersionsschichten unterscheiden0 Es hat nicht an Versuchen gefehlt,
die Schichtdicke unter Anhebung der Packungsdichte und der Koerzitivkraft drastisch,
do ho um eine Größenordnung, zu reduzieren. Dies gelingt ZO Bo durch Aufbringen
von ferromagnetischen Metallfilmen nach galvanischen bzw. chemischen Verfahren aus
entsprechenden Metallsalzlösungen oder durch Aufdampfen bzw, Kathodenstrahlzerstäubung
von Metallen der 8o Nebengruppe des periodischen Systems im Hochvakuum0 Ein wesentliches
Problem bei der Herstellung von Magnetogrammträgern auf Basis dünner ferromagnetischer
Filme ist die Bereitstellung geeigneter Substrate0 Da Magnetschichten dieser Art
in der Regel um eine Größenordnung in der Schichtdicke unter den entsprechenden
Werten herkömmlicher, mit Eisenoxid-Dispersionen beschichteter Magnetspeicher liegen,
werden an die Substratoberfläche bezüglich Ebenheit, Kratzer- und Lochfreiheit
sehr
hohe Anforderungen gestellt0 Im Falle von starren Trägern, wie beispielsweise bei
Magnetplatten, wird als Substrat eine Aluminiumscheibe verwendet, deren Oberfläche
durch mechanische Bearbeitungsschritte9 wie Läppen, Schleifen, Polieren oder Drehen,
auf den gewünschten Endzustand gebracht wird0 Träger aus Aluminium- oder Aluminiumlegierungen
haben u. a. den Nachteil, daß sie eine unzureichende Resistenz in den üblichen Metallisierungsbädern
aufweisen, was die Glätte gegebenenfalls abgeschiedener Metalldünnschichten stark
beeinträchtigt0 Aus der US-PS 3 721 613 ist bekannt, für die Herstellung von Magnetspeichermedien
ein anodisch anoxidiertes Aluminiumsubstrat mit einer galvanisch abgeschiedenen
Kupferschicht oder stromlos mit mehreren Nickelsohichten zu versehen und auf diese
eine Magnetschicht von Kobalt, Mangan, Eisen oder Nickel oder ihren Len gierungen
abzuscheiden, auf die dann eine Rhodium-Schutzschicht aufgebracht wird0 Zur Vermeidung
der zur Erzeugung glatter Magnetschichten erforderlichen Zwischenschichten ist aus
der DDR-PS 98 306 bekannt, die anodisch oxidierten Aluminiumträger wiederholt mit
einer alkalischen Beizlösung, wie einer Zinkat- oder Stannatlösung zu behandins
die Schichtträger mit Wasser zu spülen, sie anschließend zur Entfernung der als
Folge der Spülung anhaftenden Zinkhydroxidteilchen mechanisch zu reinigen und dann
kathodisch die galvanische Abscheidung der ferromagnetischen Speicherschicht vorzunehmen0
Dieses Verfahren befriedigt u, aO wegen der erforderlichen Wasserspülung und der
erfordert lochen mechanischen Entfernung des entstehenden Zinkhydroxids nicht gslnz,
Der vorliegenden Erfindung lag die Aufgabe zugrunde, ein einfaches Verfahren zur
Herstellung von Magnetplatten mit magnetischen Metalldünnschichten ausgehend von
eloxierten Aluminiumträgern zu finden, das die Aufbringung einer üblichen nicht
man netischen metallischen Zwischenschicht an sich nicht erfordert lich macht und
dennoch Magnetplatten mit sehr guten elektromag netischen und mechanischen Gebrauchseigenschaften
und guter Korrosionsfestigkeit gibt,
Es-wurde nun gefunden, daß
diese Aufgabe praktisch gelöst werden kann mit einem Verfahren zur Herstellung starrer
magnete scher Aufzeichnungsträger- durch Abscheidung einer kobalthaltigen ferromagnetischen
Metalldünnschicht gegebenenfalls nach Abscheidung einer nichtmagnetischen Metallzwischenschicht
auf eine eloxierte Aluminiumplatte als Träger und Versehen der Oberfläche der kobalthaltigen
ferromagnetischen Metalldünnschicht mit einer dünnen Schutzschicht, das dadurch
gekennzeichnet ist, daß die eloxierte Aluminiumplatte zur Aktivierung mit einer
Lösung eines Palladium(O)=Komplexes in einem organischen Losungsmittel behandelt
und der Komplex zersetzt wird und auf die so aktivierte Trägeroberfläche stromlos
und gegebenenfalls nachfolgend galvanisch die aufzubringende Metallschicht abgeschiea
den wird0 Bevorzugt ist hierbei die kobalthaltige ferromagnetische Metall .dünnschicht
direkt auf die aktivierte Trägeroberfläche abzuscheie den, Hierdurch lassen sich
die Kosten für die metallischen Zwischenschichten und damit auch der Aufbereitung
der entsprechenden Abwässer einsparen0 Auch müssen Zwischenschichten aus z. Bo Nickel
und/oder Kupfer meist nochmals mechanisch bearbeitet werden, Dennoch ist das Verfahren
auch bei der Herstellung von Magnetplatten mit nichtmagnetischen metallischen Zwischenschichten
vorteilhaft, da für diese durch den Wegfall der Erfordernis an sich auch die sonst
gegebenen Erfordernisse hinsichtlich Mindestdicke, Eigenschaften etc, wegfallen0
Als geeignete Metalle für nichtmagnetische metallische Zwischenschichten, im allgemeinen
mit Stärken von etwa 0,02 bis 10 /um, seien Kupfer, Silber, Gold und Nickel genannt,
wobei Nickel hierbei als magnetisch oder als nichtmagnetisch (z. Bo bei hohem Phosphorgehalt)
abgeschieden werden kann, Als eloxierte Aluminiumträger eignen sich die bekannten
fUr Magnetplatten geeigneten Platten und Scheiben aus Aluminium und Aluminiumlegierungen,
die durch z. Bo Drehen, Schleifen, Polieren oder Läppen auf den gewünschten Zustand
der Oberflächenglätte für Magnetplatten gebracht und dann eloxiert (anodisch oxidiert)
wurden.
Ganz besonders geeignet sind gedrehte eloxierte Aluminiumplatten, Das Eloxieren
kann nach bekannten Verfahren durch führt werden, Bewährt hat sich ein Arbeiten
in schwefelsaurer Lösung mit Gleichstrom von Stromdichten von 1 bis 2 A/dm2 und
insbesondere etwa 1,4 bis 1,6 A/dm². Da allgemein die Ruhig keit der eloxierten
Oberflächen mit dem Eloxiergrad (= Eloxiert zeit) zunimmt, soll die Eloxierzeit
so sein, daß keine für die elektromagnetischen Eigenschaften der Platte nachteilige
Rauhigkeit der Oberflächen auftritt0 Im allgemeinen wird eine Eloxierzeit von 10
Minuten nicht überschritten, bevorzugt beträgt sie etwa 2 bis 8 Minuten, Die eloxierten
Aluminiumplatten lassen sich erfindungsgemäß durch recht einfaches Behandeln mit
einer Lösung eines Palladium(O)-Komplexes in einem organischen Lösungsmittel und
bzw. unter Zersetzen des Komplexes aktivieren0 Als Palladium(O)-Komplexe haben sich
dabei als sehr geeignet solche gezeigt, die als Liganden Ao ungesättigte Ketone
der Formel
worin Ri, R3, R4 und R6 für Wasserstoff oder einen Alkylrest mit 1 bis 5 C-Atomen,
R2 und R5 für einen Alkylrest mit 1 bis 5 C-Atomen oder einen Aryl- oder Cycloalkylrest
mit 6 bis 11 C-Atomen stehen oder als Liganden, die in der Lage sind, die Liganden
A ln dem System Palladium(O)-Ligand A zumindest teilweise zu verdrängen, Bo Phosphite
der Formel P(OR)3 mit R = Alkyl oder Aryl als n-Donatoren sowie
CO
olefinisch oder acetylenisch ungesättigte organische Verbindungen mit 3 bis 16 C-Atomen
als ~fL-Akzeptoren enthalten.
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Bevorzugt wird das Verfahren mit Lösungen der Komplexe in Benzol oder
insbesondere einem alkylsubstituierten Benzol, wie Athylbenzol, Xylol oder bevorzugt
Toluol ausgeführt.
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Als bevorzugte Palladium(O)=Komplexe mit ungesättigten Ketonen der
Formel A selen die Komplexe bzw, Systeme des Palladium(O) mit Dibenzalaceton
genannt, die nicht nur eine gute aktivierende Wirkung, sondern auch eine besonders
hohe Stabilität als Lösungen in den vorstehend genannten Lösungsmitteln aufweisen0
Obwohl die Palladium(O)-Komplexe, wie der Palladium(O)-dibenzalaceton=Komplex, oft
vereinfacht als Pd(dba)2 dargestellt wer#n,enthalten die Komplexe Je nach den Synthesebedingungen
ein oder mehrere Palladiumatome im Metall und sollten daher besser als Palladium(O)-Liganden-Systeme
bezeichnet werden.
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Als Phosphite als Liganden B sind neben den Trialkylphosphiten mit
Jeweils etwa 1 bis 5 C-Atomen als bevorzugt die Triarylphosphite mit Jeweils etwa
6 bis 10 C-Atomen und insbesondere Triphenylphosphit genannt0 Als Liganden C sind
von den olefinisch ungesättigten Verbindungen als e°Akzeptoren besonders die Ester
und vor allem die Alkylester der Malein- oder Fumarsäure sowie bevorzugt Maleinsäureanhydrid
als Ligand geeignet. Sehr geeignete Ester der genannten Art sind Maleinsäuredimethylester,
ferner Fumarsåuredimethylester. Auch Acrylnitril sowie olefinisch ungesättigte Monomere
mit e-Werten von über 1,2 (vgl. 11Polymer Handbook#, Interscience
Publ.,
New York, 1766, So II-341) sind geeignet.
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Als Beispiele geeigneter acetylenisch ungesattigter organischer Verbindungen
mit 6 bis 16 C-Atomen als ;#-Akzeptoren und Ligan den in den Palladium(O)-Komplexen
neben den genannten Phosphit Liganden seien die Kohlenwasserstoffe und solche, bei
denen die aciden Gruppen durch Gruppen R, wie COO-Alkyl oder CO-Alkyl, ausgetauscht
sind, genannt, insbesondere Butindiol=1,4 sowie die Butindiol-1 ~4-dialkyläther,
wie der Butindiol-1 ~4-dimethyläther.
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Die bevorzugten Palladium(O)-Komplexe sind die Komplexe, die Ma leinsäureanhydrid
sowie Triphenylphosphit, Maleinsäuredimethylester sowie Triphenylphosphit als Liganden
enthalten sowie insbesondere die Palladium(O)-dibenzalaceton-Komplexe, die sich
besonders bewährt haben, Die Herstellung der Palladium(O)-Komplexe mit den ungesättigten
Ketonen A kann in der in Versuch 1 angegebenen Art erfolgen.
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Die Herstellung der gemischten Palladium(O)-phosphit#Komplexe, die
olefinisch bzw, acetylenisch ungesättigte Verbindungen als Liganden C enthalten,
erfolgt bevorzugt durch Zugabe von Phosphit (Liganden B) zum Palladium(O)-dibenzalaceton-Komplex
und anschließende Zugabe der olefinisch bzw, acetylenisch ungesättigten Verbindung
(Liganden C)s z. Bo von Maleinsäureanhydrid oder Butindiol-1,4-dimethyläther, oder
durch Zugabe der Liganden C zum Palladium(O)-dibenzalaceton-Komplex und anschließende
Zugabe der Liganden Bo Die Stabilität der Lösungen der genannten Palladium(O)-Komplexe
kann durch die Verwendung von Benzol und insbesondere alkylier ten Benzolen, wie
Toluol als Lösungsmittel noch gesteigert werden. Die Konzentrationen der Komplexe
in den Lösungen betragen Je nach Art des Komplexes und Lösungsmittels etwa 15 mg/l
bis zur Sättigungskonzentration bei Raumtemperatur und bevorzugt etwa 50 mg/l bis
zu 2 g/lo Weniger geeignete Lösungsmittel sind Halogenkohlenwasserstoffe sowie z.
Bo Acetonitril, Tetrahydrofuran oder Dimethylformamid, da in ihnen eine leichte
Zersetzung der Metallkomplexe zum Metall erfolgen kann, Dieser zero
setzende
Effekt z. Bo der chlorierten Kohlenwasserstoffe kann sogar zur Substrataktivierung
verwendet werden. In Lösungsmit teln, wie Athanol, Methanol oder Cyclohexan, zeigen
die bevorzugt verwendeten Komplexe nur eine geringe Löslichkeit.
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In der bevorzugten Ausführungsform der Aktivierung werden die Substrate
in einem auf etwa 100 bis 3000C und insbesondere 130 bis 250°C erhitzten Zustand
in die Palladium(0)-Komplex-Lösungen eingetaucht. Es war überraschend, daß sich
z. Bo die Palladium(O)-dibenzalaceton-Komplex-Lösungen nicht nur durch gute Beständigkeit
an der Luft auszeichneten, sondern, obwohl sie selbst thermisch zersetzbar sind,
als Lösungen in Toluol auch nach zweimonatigem fast täglichen Gebrauch stabil waren
und keine merkliche Komplexzersetzung zeigten, obwohl die Substrate mit Temperaturen
von Jeweils etwa 200 bis 2500C in die Lösungen bei Raumtemperatur eingetaucht worden
waren. Fast gleich stabil er wies sich das System
in Toluol. Bevorzugt erfolgt das Eintauchen der erhitzten Substrate in die Palladium(O)-Komplex-Lösun#fl(die
bei etwa Raumtemperatur gehalten werden) unter einer Inertgasatmosphäre, wie unter
Stickstoff, Kohlendioxid oder Edelgasen. Obwohl die Behandlung durch einmaliges
Eintauchen der heißen Substrate in die Palladium(0)-Komplex-Lösungen manchmal hinreichend
ist, wird dieses bevorzugt mehrfach, wie 2 bis 4 mal, durchgeführt. Die Zahl der
Tauchungen (Aktivierungen) wird dabei vor allem von der angewandten Temperatur,
der Wärmekapazität des Substrats, von der Art und Konzentration des Komplexes, vom
Lösungsmittel und der Art der Zusätze zur Lösung bestimmt.
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In einer bewährten Anordnung ist der Behälter des Aktivierungsbades
so gestaltet, daß er nur eine schlitzförmige oeffnung (ähnlich einer Sparbüchse)
aufweist, durch die die erhitzten Substrate mit Hilfe einer Schienenführung kurz
in die Palladium(O)-Komplex-Lösung in dem Behälter eingebracht werden. Gegebenenfalls
kann bei rasch folgenden Eintauchfolgen der Behälter mit einer Kühlung ausgerüstet
sein, die es ermöglicht, die Lösung bei etwa Raumtemperatur oder einer Temperatur
unter etwa 50°C zu halten.
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Zur Vermeidung von Ablaufs puren der Komplex-Lösungen, die nach der
Metallisierung sichtbar sein können, hat es sich als günstig erwiesen, die Substrate
nach der Behandlung mit einem Lösung mittel, bevorzugt dem in der Komplex-Lösung
verwandten, nachzuspülen.
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Es ist natürlich auch möglich, die Aktivierung so vorzunehmen, daß
die Substrate bei etwa Raumtemperatur ein oder mehrmals in die Palladium(O)-Komplex-Lösungen
(bei etwa Raumtemperatur) eine getaucht werden und zwischen bzw, nach den Tauchungen
die behandelten Substrate erhitzt werden, Es ist selbstverständlich zweckmäßig,
die Substrate in gereinigtem Zustand zu verwenden, z. Bo sie mit dem Lösungsmittel
vorzuspülen, das in der Palladlum(O)-Komplex-Lösung verwandt wird.
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Zur anschließenden stromlosen und gegebenenfalls nachfolgend galvanischen
Abscheidung der ferromagnetischen kobalthaltigen Metalldünnschicht können die üblichen
Methoden und bekannten einschlägigen Metallisierungsbäder angewandt werden, wie
sie z. B. in der Monographie von WO Goldie, Metallic Coating of Plastics, Vol. I,
Electrochemical Publications Ltd., Hatch End, Middlesex, England, 1968, insbesondere
in Kapitel 9, in der Monographie von F. Ao Loewenheim, Metal Coating of Plastics,
Noyes Data Cord0, Park Ridge, N.J,, 1970 und insbesondere von A. Brenner und Go
Eo Riddell in JO Res. Natl. Bur. Std. 37 (1), 31 (1946), Prod. Armer. Eledroplaters
Society 34 (1947), 156 sowie in den US-
PS 2 532 283, 2 532 284,
3 423 214, 3 360 397 oder der DOS 2 236 670 angegeben sind, Geeignete kobalthaltige
ferromagnetische Metalldünnschichten sind vor allem aus Kobalt-Phosphor-, Kobalt-Nickel-Phosphor
und ähnlichen ferromagnetischen Legierungen zusammengesetzt, wobei die magnetischen
Eigenschaften stark vom Co/Ni-Verhältnis beeinflußt werden, Die abgeschiedenen Magnetfilme
haben hierbei Schichtstärken von etwa 0,05 bis 1 /um und insbesondere von ob 08
bis 0,5 /um und im allgemeinen eine Koerzitivkraft Hc von etwa 25 bis 85 kA/m (gemessen
bei 160 kA/m)O Durch ein anschließendes Tempern der Schicht bei einer Temperatur
von etwa 150 bis 3000C unter Inertgas läßt sich die Koerzitivkraft der Magnet schicht
erhöhen.
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In an sich bekannter Weise können die abgeschiedenen Magnetfilme mit
einem im allgemeinen weniger als 0,1 /um und insbesondere weniger als 0,05 /um starken
Schutzfilm versehen werden, z, Bo mit einem Kobaltoxid-Film gemäß DAS 1 279 427S
einem Überzug aus Rhodium oder Wolframcarbid, mit einem Siliconfilm, einem Wachsfilm,
einem Polymerfilm oder einer Kombination von solchen Stoffein. Am besten bewährt
hat sich ein Behandeln der Oberfläche der ferromagnetischen kobalthaltigen Metalldünnschicht
gemäß dem in der DOS 2 220 694 beschriebenen Verfahren0 Hiernach wird auf die kobalthaltige
ferromagnetische Metalldünnschicht eine Lösung eines filmbildenden organischen Lackbindemittels
in einem flücho tigen Lösungsmittel in einer Schichtstärke, die im getrockneten,
uneingebrannten Zustand nicht mehr als 0,3 /um und insbesondere nicht mehr als 0,05
/um beträgt, aufgetragen und die Schicht getrocknet und in einer sauerstoffhaltigen
Atmosphäre bei etwa 200 bis 300°C etwa 1 bis 15 Stunden eingebrannt. Hierbei ist
die aufgebrachte Schicht nach dem Einbrennen bevorzugt nicht mehr als gesonderte
Schicht feststellbar0 Das erfindungsgemäße Verfahren als auch das Verfahrensprodukt
weisen eine Reihe von Vorteilen auf. Die Eloxalschicht gibt dem Träger eine gute
Resistenz gegen chemische Angriffe, z. Bo
in den alkalischen Kobaltierungsbädern
Zudem wird eine Korrosionsfestigkeit und gute Haftfestigkeit der Magnetfilme erzielt0
Die aufwendigen nicht magnetischen metallischen Zwischenschichten können, aber müssen
nicht, entfallen. Es war dabei überraschend, daß das angewandte Aktivierungsverfahren
zu einem Oberflächen~ ausgleich (Glättung) der resultierenden metallisierten Oberflächen
beiträgt0 Wie die gut zu beurteilenden Hüllkurven der Platten zeigen, bewirkt die
gute Aktivierung auch eine gute Dickenkonstanz der Magnetschicht über den Plattendurchmessero
Die erfindungsgemäß hergestellte mit der bevorzugten Schutzschicht versehenen Magnetplatten
weisen gute mechanische Eigenschaften wie eine hohe Pratze und Verschleißfestigkeit
auf, Auch ein öfteres Laden und Entladen der Platten führten zu keiner Beschädigung
durch den Magnetkopf.
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Zudem besitzen sie eine gute Korrosionsfestigkeit und weisen auch
nach 8tägigem Test mit einem Temperaturzyklus von -40 bis +7O0C und relativen Luftfeuchtigkeiten
bis zu 80 ffi keine korrosiven Einwirkungen auf 0 Die in den nachstehenden Versuchen
und Beispielen genannten Teile und Prozente beziehen sich, soweit nicht anders angegeben,
auf das Gewicht, Volumenteile verhalten sich zu Teilen wie Liter zu Kilogramm.
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Versuch 1 Herstellung eines Palladium( O)-Dibenzaiaceton-Komplexes
In einer Lösung von 10,7 Teilen Natriumchlorid in 65 Volumen teilen Wasser werden
15 Teile PdCl2 (59,75 ffi Pd) unter gutem Rühren zum Sieden erhitzt, bis alles PdCl2
in Lösung gegangen ist. Danach wird das Wasser abdestilliert. Den Rückstand nimmt
man in 200 Volumenteilen Methanol auf. Man erhitzt die Lösung auf 600C und setzt
ihr 6195 Teile Dibenzalaceton, 42,8 Teile CH3COONa.3H2O und 175 Teile Methanol zu
und hält sie danach noch 5 Minuten bei 60°Co Danach läßt man den Ansatz abkühlen.
Es bildet sich ein Niederschlags der unter Argon abgenutscht, dreimal
mit
je etwa 100 Volumenteilen Wasser und zweimal mit je 50 Volumenteilen Methanol gewaschen
und dann bei Raumtemperatur im Vakuum getrocknet wird0 Die rotvioletten Kristalle
sind in aromatischen Kohlenwasserstoffen, wie Benzol und Toluol, gut löslich Der
Stoff wird nachstehend als Pd-dba-Komplex gezeichnet.
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Versuch 2 Herstellung des Bis(triphenylphosphit)-Maleinsäureanhydrid-Palladium(
0)-Komplexes Eine Lösung von 2,9 Teilen des Pd-dba-Komplexes gemäß Versuch 1 in
50 Volumenteilen Aceton wird unter Argonatmosphäre unter gutem Rühren mit 3,6 Teilen
Triphenylphosphit versetzt, worauf die Farbe der Lösung während etwa 1/2 Stunde
nach der Zugabe von Rotbraun nach einem dunklen Gelbgrün wechselt. Man setzt dann
0,5 Teile Maleinsäureanhydrid zu und rührt weitere 2 Stunden bei Raumtemperatur0
Den Ansatz filtriert man zur Entfernung von Spuren eines schwarzen Niederschlages
und engt das Filtrat im Vakuum ein, bis sich graugrüne Kristalle abscheiden, die
durch Lösen in Äther und Ausfällen mit Petroläther gereinigt werden,
hellgelbe Kristalle, Schmelzpunkt 135 bis 1370C Analyse: (C40H32 O9P2.Pd) ber. 58,2
% C 4,0 % H 7,5 % P 12,9 % Pd gef. 58,4 % #C 399 H 7,5 # P 12,8 # Pd Beispiel 1
a) Aktivierung und Metallisierung Eine polierte und in schwefelsaurer Lösung etwa
4 Minuten bei einer Stromdichte von 1,5 A/dcm2 eloxierte Aluminiumscheibe
wird
zur Reinigung kurz mit Toluol abgespült, dann auf 240 C erwärmt und dann rasch in
eine Toluol Lösung des gemäß Versuch 1 hergestellten Pd(O)-dba-Komplexes (Konzentration
1 g/Liter) getaucht. Nach wenigen Sekunden wird das Substrat aus der Lösung herausgenommen
und an der Luft getrocknet, Der Erwårm und Eintauchvorgang wird insgesamt viermal
durchgeführt. Dann wird der trockene behandelte Tråger mit Äthanol abgespritzt und
auf ihm in einem üblichen, ein Kobaltsalz, einen üblichen Komplexbildner, Natriumhypo
phosphit sowie eine Ammoniumverbindung enthaltenden Kobaltierungsbad bei etwa 75°C
und einem pH-Wert von etwa 8,2 während etwa 10 Minuten eine ferromagnetische Co-P-Metalldünnschicht
abgeschieden, Es entstand ein geschlossener glänzendes Co-P-Film von ca. 0,1 /um
Dicke, der nachstehende magnetische Meßwerte zeigte (gemessen bei 160 kA/m)o Hc
= 52 kA/m tm/b = 96 nWb/m #r/b = 65 nWb/m {r/tm = 0,68 b) Herstellung einer Schutzschicht
3,5 Teile eines handelsüblichen Phenoxyharzes aus Bisphenol A und Epichlorhydrin
und 1,5 Teile eines handelsüblichen wär mereaktiven Kondensates aus tert.-Butylphenol
und Formaldehyd (hergestellt durch alkalische Kondensation mit 0,5 bis 2fach molarem
Formaldehyd-Uberschuß, gelöst in n-Butanol 6#ig) werden in 995 Teilen Äthylglykolacetat
gelöst, Die Lösung wird unter Staubausschluß auf die Metalldünnschicht aufgebracht
und durch Rotation eine dünne überzugsschicht erzeugt und diese getrocknet0 Die
Stärke der Schicht beträgt etwa 0,05 /um, Der so überzogene Aufzeichnungsträger
wird dann 4 Stunden bei etwa 2800C an der Luft eingebrannt, Danach ist eine Uberzugsschicht
in meßbarer Schichtstärke nicht mehr erkennbar, c) Eigenschaften Die elektromagnetischen
Eigenschaften der resultierenden Magnetplatte werden mit einem Magnetkopf vom Autolift-Typ
gemessen, der in Kontakt mit der Plattenoberfläche gestartet
wird
und bei genügend hoher Umdrehungszahl der Platte abhebt, Die Platte dreht mit 3
000 U/min.
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Die Flughöhe liegt knapp unter 1 um Die höchste Aufzeichnungsdichte
(2F) ist 5650 fci.
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Die Magnetplatte zeigt eine gute Hüllkurve, was auf eine gleichmäßige
Metallisierung und eine konstante Schichtdicke des magnetischen Co/P-Films zurückzuführen
ist, Verglichen mit einer handelsüblichen #-Fe2O3-Dispersionsmagnetplatte als Referenzplatte
liegt die Halbpulsbreite etwa 20 # besser, der Pegel liegt trotz vielfach kleinerer
Schichtdicke um 80 ffi höher. Der Sättigungswert zeigt keinen Unterschied zwischen
1 F und 2 F und die Platte zeigt bei 1 F und 2 F einen parallelen Verlauf der Schreibstromkurven.
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Die Prüfung der Haftung der Magnetschichten bei einer Abreißspannung
von 287 N/cm² ergab keinen Abriß, do h. bewies eine ausgezeichnete Haftfestigkeit
der Schicht0 Die mechanische Prüfung der Platten bewies eine gute Verschleiß- und
Kratzfestigkeit der Schicht oberfläche.
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Beispiel 2 a) Aktivierung und Metallisierung Eine gedrehte und wie
in Beispiel 1a angegeben eloxierte 14 Zoll-Aluminiumplatte wird analog den Angaben
in Beispiel la aktiviert, Jedoch wird die auf 2400C erhitzte Trägerplatte rasch
in eine Lösung des gemäß Versuch 2 hergestellten Pd(O)-Komplexes in einem Xylolisomerengemisch
(Siedebereich 138,4 bis 1440C) (Konzentration 0,8 g/Liter) wenige Sekunden eingetaucht
und an der Luft getrocknet. Die Behandlung wird dreimal durchgeführt. Die Metallisierung
erfolgte wie in Beispiel 1b angegeben während 14 Minuten bei 60°C und pH = 8,45.
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Die Koerzitivkraft Hc des glänzenden, geschlossenen Co/P-
Films
mit einer Schichtdicke von 0,15 /um wurde mit dem Kerr-Magnetometer zu etwa 63 kA/m
bestimmt, der remanente Fluß fir/b betrug 92 nWb/m.
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b) Herstellung einer Schutzschicht 10 Teile eines handelsüblichen
hydroxylgruppenhaltigen niedw rigmolekularen Polyesters aus o-Phthalsäure und einem
aliphatischen Polyol mit einem Hydroxylgruppengehalt von etwa 8,5 # und 16 Teile
einer eigen Lösung eines handelsüblichen Reaktionsproduktes aus 1 Mol 1,1,1-Trimethylolpropan
und 3 Mol Toluylendiisocyanat mit einem NCO-Gruppengehalt von etwa 13 # in Athylacetat
werden in 974 Teilen Äthylglykolacetat gelöst, Mit dieser Lösung wird wie in Beispiel
1 angegeben die Magnetplatte beschichtet und die Schicht an der Luft bei 2600C während
5 Stunden eingebrannt. Es resultiert nach dem Einbrennen eine ganz besonders kratz-
und verschleiß^ feste Oberfläche der Platte mit sehr guter Härte und Gleit; fähigkeit,
obwohl an der Oberfläche eine eingebrannte Lackschicht üblicher Art nicht mehr nachweisbar
ist.
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c) Eigenschaften Die resultierende Magnetplatte zeigte den der Magnetplatte
von Beispiel 1 vergleichbare gute elektromagnetische und mechanische Eigenschaften.
Die Flugprüfung zeigte gute relative Flugzahlen, bezogen auf eine handelsübliche
#-Fe2O3-Dispersionsmagnetplatte als Referenzplatte.