DE2447738C3 - Verfahren zum Einbau von Oxidzusätzen als Dotiermittel in Glaskörper, welche durch Flammhydrolyse hergestellt werden - Google Patents
Verfahren zum Einbau von Oxidzusätzen als Dotiermittel in Glaskörper, welche durch Flammhydrolyse hergestellt werdenInfo
- Publication number
- DE2447738C3 DE2447738C3 DE2447738A DE2447738A DE2447738C3 DE 2447738 C3 DE2447738 C3 DE 2447738C3 DE 2447738 A DE2447738 A DE 2447738A DE 2447738 A DE2447738 A DE 2447738A DE 2447738 C3 DE2447738 C3 DE 2447738C3
- Authority
- DE
- Germany
- Prior art keywords
- preform
- oxide
- flame
- glass
- additives
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired
Links
- 239000011521 glass Substances 0.000 title claims description 22
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 19
- 239000000654 additive Substances 0.000 title claims description 16
- 230000007062 hydrolysis Effects 0.000 title claims description 8
- 238000006460 hydrolysis reaction Methods 0.000 title claims description 8
- 239000002019 doping agent Substances 0.000 title claims description 4
- 238000010348 incorporation Methods 0.000 title claims 2
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 26
- 239000011148 porous material Substances 0.000 claims description 18
- 239000002245 particle Substances 0.000 claims description 15
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims description 12
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 claims description 11
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 claims description 9
- 230000000996 additive effect Effects 0.000 claims description 8
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 claims description 8
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 7
- 239000007788 liquid Substances 0.000 claims description 5
- 238000001556 precipitation Methods 0.000 claims description 5
- 150000003377 silicon compounds Chemical class 0.000 claims description 5
- 238000007496 glass forming Methods 0.000 claims description 3
- 239000002344 surface layer Substances 0.000 claims description 2
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims 2
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M Chloride anion Chemical compound [Cl-] VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims 1
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 239000005373 porous glass Substances 0.000 claims 1
- 238000005470 impregnation Methods 0.000 description 22
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 19
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 8
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 229910004028 SiCU Inorganic materials 0.000 description 6
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 238000007596 consolidation process Methods 0.000 description 6
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 6
- VNWKTOKETHGBQD-UHFFFAOYSA-N methane Chemical compound C VNWKTOKETHGBQD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 6
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 6
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 6
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 5
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 5
- 239000000725 suspension Substances 0.000 description 5
- 229910004298 SiO 2 Inorganic materials 0.000 description 3
- 238000007792 addition Methods 0.000 description 3
- 229910000428 cobalt oxide Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000005350 fused silica glass Substances 0.000 description 3
- 238000007654 immersion Methods 0.000 description 3
- 239000003345 natural gas Substances 0.000 description 3
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 3
- MCMNRKCIXSYSNV-UHFFFAOYSA-N Zirconium dioxide Chemical compound O=[Zr]=O MCMNRKCIXSYSNV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000012159 carrier gas Substances 0.000 description 2
- 238000011161 development Methods 0.000 description 2
- 239000012153 distilled water Substances 0.000 description 2
- YBMRDBCBODYGJE-UHFFFAOYSA-N germanium dioxide Chemical compound O=[Ge]=O YBMRDBCBODYGJE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 2
- QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N mercury Chemical compound [Hg] QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052753 mercury Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000000375 suspending agent Substances 0.000 description 2
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 2
- JIAARYAFYJHUJI-UHFFFAOYSA-L zinc dichloride Chemical compound [Cl-].[Cl-].[Zn+2] JIAARYAFYJHUJI-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- VXEGSRKPIUDPQT-UHFFFAOYSA-N 4-[4-(4-methoxyphenyl)piperazin-1-yl]aniline Chemical compound C1=CC(OC)=CC=C1N1CCN(C=2C=CC(N)=CC=2)CC1 VXEGSRKPIUDPQT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 101000633429 Homo sapiens Structural maintenance of chromosomes protein 1A Proteins 0.000 description 1
- VAYOSLLFUXYJDT-RDTXWAMCSA-N Lysergic acid diethylamide Chemical compound C1=CC(C=2[C@H](N(C)C[C@@H](C=2)C(=O)N(CC)CC)C2)=C3C2=CNC3=C1 VAYOSLLFUXYJDT-RDTXWAMCSA-N 0.000 description 1
- 229910017493 Nd 2 O 3 Inorganic materials 0.000 description 1
- BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N Silane Chemical class [SiH4] BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 102100029538 Structural maintenance of chromosomes protein 1A Human genes 0.000 description 1
- 229910010413 TiO 2 Inorganic materials 0.000 description 1
- HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N Zinc Chemical compound [Zn] HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 1
- 230000033228 biological regulation Effects 0.000 description 1
- 239000007844 bleaching agent Substances 0.000 description 1
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 1
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 1
- 150000001805 chlorine compounds Chemical class 0.000 description 1
- GFHNAMRJFCEERV-UHFFFAOYSA-L cobalt chloride hexahydrate Chemical compound O.O.O.O.O.O.[Cl-].[Cl-].[Co+2] GFHNAMRJFCEERV-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- GVPFVAHMJGGAJG-UHFFFAOYSA-L cobalt dichloride Chemical compound [Cl-].[Cl-].[Co+2] GVPFVAHMJGGAJG-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 239000005321 cobalt glass Substances 0.000 description 1
- IVMYJDGYRUAWML-UHFFFAOYSA-N cobalt(ii) oxide Chemical compound [Co]=O IVMYJDGYRUAWML-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 1
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 1
- 230000001419 dependent effect Effects 0.000 description 1
- 230000008021 deposition Effects 0.000 description 1
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 description 1
- 230000002349 favourable effect Effects 0.000 description 1
- 238000010304 firing Methods 0.000 description 1
- 239000006066 glass batch Substances 0.000 description 1
- 150000004820 halides Chemical class 0.000 description 1
- 229910052736 halogen Chemical class 0.000 description 1
- 150000002367 halogens Chemical class 0.000 description 1
- 239000001307 helium Substances 0.000 description 1
- 229910052734 helium Inorganic materials 0.000 description 1
- SWQJXJOGLNCZEY-UHFFFAOYSA-N helium atom Chemical compound [He] SWQJXJOGLNCZEY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SIGPWCVHTYIKME-UHFFFAOYSA-N hexamethanol Chemical compound OC.OC.OC.OC.OC.OC SIGPWCVHTYIKME-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000006698 induction Effects 0.000 description 1
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 1
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 1
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 1
- 229910044991 metal oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000004706 metal oxides Chemical class 0.000 description 1
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 1
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 1
- 230000000149 penetrating effect Effects 0.000 description 1
- 230000035515 penetration Effects 0.000 description 1
- 231100000614 poison Toxicity 0.000 description 1
- 230000007096 poisonous effect Effects 0.000 description 1
- 229910000077 silane Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 1
- 235000012239 silicon dioxide Nutrition 0.000 description 1
- -1 silicon halide Chemical class 0.000 description 1
- 239000005049 silicon tetrachloride Substances 0.000 description 1
- 238000005245 sintering Methods 0.000 description 1
- 229910052723 transition metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000003624 transition metals Chemical class 0.000 description 1
- 239000003039 volatile agent Substances 0.000 description 1
- 239000011701 zinc Substances 0.000 description 1
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 description 1
- 235000005074 zinc chloride Nutrition 0.000 description 1
- 239000011592 zinc chloride Substances 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B37/00—Manufacture or treatment of flakes, fibres, or filaments from softened glass, minerals, or slags
- C03B37/01—Manufacture of glass fibres or filaments
- C03B37/012—Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments
- C03B37/014—Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments made entirely or partially by chemical means, e.g. vapour phase deposition of bulk porous glass either by outside vapour deposition [OVD], or by outside vapour phase oxidation [OVPO] or by vapour axial deposition [VAD]
- C03B37/01413—Reactant delivery systems
- C03B37/01433—Reactant delivery systems for delivering and depositing additional reactants as liquids or solutions, e.g. for solution doping of the porous glass preform
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C23/00—Other surface treatment of glass not in the form of fibres or filaments
- C03C23/0095—Solution impregnating; Solution doping; Molecular stuffing, e.g. of porous glass
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C3/00—Glass compositions
- C03C3/04—Glass compositions containing silica
- C03C3/06—Glass compositions containing silica with more than 90% silica by weight, e.g. quartz
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B2201/00—Type of glass produced
- C03B2201/06—Doped silica-based glasses
- C03B2201/08—Doped silica-based glasses doped with boron or fluorine or other refractive index decreasing dopant
- C03B2201/10—Doped silica-based glasses doped with boron or fluorine or other refractive index decreasing dopant doped with boron
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B2201/00—Type of glass produced
- C03B2201/06—Doped silica-based glasses
- C03B2201/20—Doped silica-based glasses doped with non-metals other than boron or fluorine
- C03B2201/28—Doped silica-based glasses doped with non-metals other than boron or fluorine doped with phosphorus
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B2201/00—Type of glass produced
- C03B2201/06—Doped silica-based glasses
- C03B2201/30—Doped silica-based glasses doped with metals, e.g. Ga, Sn, Sb, Pb or Bi
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B2201/00—Type of glass produced
- C03B2201/06—Doped silica-based glasses
- C03B2201/30—Doped silica-based glasses doped with metals, e.g. Ga, Sn, Sb, Pb or Bi
- C03B2201/31—Doped silica-based glasses doped with metals, e.g. Ga, Sn, Sb, Pb or Bi doped with germanium
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B2201/00—Type of glass produced
- C03B2201/06—Doped silica-based glasses
- C03B2201/30—Doped silica-based glasses doped with metals, e.g. Ga, Sn, Sb, Pb or Bi
- C03B2201/34—Doped silica-based glasses doped with metals, e.g. Ga, Sn, Sb, Pb or Bi doped with rare earth metals, i.e. with Sc, Y or lanthanides, e.g. for laser-amplifiers
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B2201/00—Type of glass produced
- C03B2201/06—Doped silica-based glasses
- C03B2201/30—Doped silica-based glasses doped with metals, e.g. Ga, Sn, Sb, Pb or Bi
- C03B2201/34—Doped silica-based glasses doped with metals, e.g. Ga, Sn, Sb, Pb or Bi doped with rare earth metals, i.e. with Sc, Y or lanthanides, e.g. for laser-amplifiers
- C03B2201/36—Doped silica-based glasses doped with metals, e.g. Ga, Sn, Sb, Pb or Bi doped with rare earth metals, i.e. with Sc, Y or lanthanides, e.g. for laser-amplifiers doped with rare earth metals and aluminium, e.g. Er-Al co-doped
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B2201/00—Type of glass produced
- C03B2201/06—Doped silica-based glasses
- C03B2201/30—Doped silica-based glasses doped with metals, e.g. Ga, Sn, Sb, Pb or Bi
- C03B2201/40—Doped silica-based glasses doped with metals, e.g. Ga, Sn, Sb, Pb or Bi doped with transition metals other than rare earth metals, e.g. Zr, Nb, Ta or Zn
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B2201/00—Type of glass produced
- C03B2201/06—Doped silica-based glasses
- C03B2201/30—Doped silica-based glasses doped with metals, e.g. Ga, Sn, Sb, Pb or Bi
- C03B2201/40—Doped silica-based glasses doped with metals, e.g. Ga, Sn, Sb, Pb or Bi doped with transition metals other than rare earth metals, e.g. Zr, Nb, Ta or Zn
- C03B2201/42—Doped silica-based glasses doped with metals, e.g. Ga, Sn, Sb, Pb or Bi doped with transition metals other than rare earth metals, e.g. Zr, Nb, Ta or Zn doped with titanium
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C2201/00—Glass compositions
- C03C2201/06—Doped silica-based glasses
- C03C2201/30—Doped silica-based glasses containing metals
- C03C2201/34—Doped silica-based glasses containing metals containing rare earth metals
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C2201/00—Glass compositions
- C03C2201/06—Doped silica-based glasses
- C03C2201/30—Doped silica-based glasses containing metals
- C03C2201/40—Doped silica-based glasses containing metals containing transition metals other than rare earth metals, e.g. Zr, Nb, Ta or Zn
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C2201/00—Glass compositions
- C03C2201/06—Doped silica-based glasses
- C03C2201/30—Doped silica-based glasses containing metals
- C03C2201/40—Doped silica-based glasses containing metals containing transition metals other than rare earth metals, e.g. Zr, Nb, Ta or Zn
- C03C2201/42—Doped silica-based glasses containing metals containing transition metals other than rare earth metals, e.g. Zr, Nb, Ta or Zn containing titanium
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C2203/00—Production processes
- C03C2203/40—Gas-phase processes
- C03C2203/42—Gas-phase processes using silicon halides as starting materials
- C03C2203/44—Gas-phase processes using silicon halides as starting materials chlorine containing
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C2203/00—Production processes
- C03C2203/50—After-treatment
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- General Chemical & Material Sciences (AREA)
- Geochemistry & Mineralogy (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- General Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Glass Compositions (AREA)
- Glass Melting And Manufacturing (AREA)
- Manufacture, Treatment Of Glass Fibers (AREA)
Description
Die Erfindung betrifft ein Verfahren zum Einbau von Oxidzusätzen als Dotiermittel in Glaskörper, die durch
Flammhydrolyse hergestellt werden, indem eine oder mehrere flüchtige Verbindungen in eine Flamme geleitet
und die durch Hydrolyse entstehenden glasbildenden Oxidpartikeln auf einem Träger als eine integrale, mit
Poren durchsetzte Vorform niedergeschlagen werden, die anschließend durch Wärmebehandlung zu einem un-Dorösen
Glasköroer konsolidiert wird.
Seit dem in der US-PS 22 72 342 beschriebenen Verfahren ist es bekannt, Kieselsäureglas (im wesentlichen
aus SiO2 bestehendes Glas) durch Flamrnhydrolyse herzustellen. Ein Gasstrom, der eine hydrolisierbare
Siliziumverbindung in Dampfform enthält, wird in eine
Flamme geleitet Die entstehende amorphe Kieselsäure wird in Partikelform gesammelt oder als Vorform auf
einem Träger niedergeschlagen und dabei oder anschließend durch gesonderte Wärmebehandlung
ίο konsolidiert. Durch Einmischen entsprechender flüchtiger
Verbindungen in den Gasstrom können auch Gläser mit Oxidzusätzen hergestellt werden, US-PS 22 39 551
und 23 26 059.
Nachteilig ist die Beschränkung auf flüchtige Verbin-
Nachteilig ist die Beschränkung auf flüchtige Verbin-
düngen und die Schwierigkeit einer genauen Einstellung
der Anteile dieser Zusätze im Gasstrom; besonders schwierig sind Gläser ,-nit örtlich beschränkten Zusatzzonen
herzustellen.
Die Erfindung hat die Behebung dieser Schwierigkeiten zur Aufgabe und erreicht dies dadurch, daß wenigstens
ein Teil der Poren der Vorform vor der Wärmebehandlung mit einem sich mit den die Vorform bildenden
Oxiden nicht umsetzendem. Zusätze an Oxiden oder eine zu diesen zersetzbare Verbindung enthaltendem
Material imprägniert wird.
Die Erfindung beruht auf der überraschenden Feststellung, daß Oxidpartikeln durch Flammhydrolyse
als poröse Vorform derart niedergeschlagen werden können, daß die einzelnen Partikeln einerseits fest
zusammenhängen, andererseits aber immer noch ein Netz durchgehender offener Poren bilden. Dieses
poröse Netz kann mit dem gewünschten Oxid oder der zu dieser zusatzbaren Verbindung in flüssiger Form, als
Lösung, Suspension oder Salzschmelze, imprägniert werden.
Die weitere Beschreibung erfolgt am Beispiel der Herstellung von Kieselsäuregläsern; das Verfahren ist
aber auch zur Herstellung von Gläsern aus anderen glasbildenden Oxiden geeignet, wie z. B. GeO2-Gläsern
durch Flammhydrolyse von GeCU oder Gläsern aus B2O3, P2O5, SeO2, TeO2. Auch können aus mehrfachen
Komponenten, z. B. TiO2, Al2Os-ZrO2-SiO2, bestehende
Vorformen hergestellt und mit den geeigneten Zusätzen dotiert werden.
Nach der Erfindung wird vom Verfahren der genannten Literatur ausgegangen. Hiernach wird eine
geeignete, flüchtige Siliziumverbindung, z. B. ein Siliziumhalid, Silan oder Halogenderivat, besonders z. B.
SiCU, z. B. durch Erhitzen in einem Wasserbad verflüchtigt und von einem Trägergas aufgenommen
und in eine Brennerflamme geleitet, deren Temperatur niedrig gehalten wird, so daß feinteilige Kieselsäurepartikeln
von etwa 0,1 μπι im Durchmesser entstehen, die
fest aneinander gebunden werden und eine Vorform mit einem durchgehenden Netzwerk offener Poren bilden.
Zur Herstellung einer Vorform aus mehreren Komponenten wird eine Mischung flüchtiger Verbindungen
als Gasstrom in die Brennerflamme geleitet. Die Mischung kann nach der obigen Patentschrift oder nach
f» dem Verfahren der US-PS 38 01 294 hergestellt werden.
Die Niederschlagung der Kieselsäure oder sonstigen
Oxidpartikeln aus der Brennerflamme ist für das Verfahren der Erfindung kritisch. Die Partikeln müssen
eine hinreichende Kohärenz besitzen und eine Vorform
'"* bilden, die beim Kontakt mit Flüssigkeit nicht
auseinanderfällt. Gleichzeitig ist für die Imprägnierung ein Netzwerk kontinuierlicher Poren erforderlich. Es
muß daher eine die Poren schließende beginnende
Konsolidierung des Vorformkörpers vermieden werden.
Die Entwicklung der Vorform wird durch eine Reihe von Faktoren beeinflußt, insbesondere z. B. die Flammentemperatur,
die Lage des Dorns oder Trägers zur Flamme, und eine Regelung und gleichmäßige Geschwindigkeit
der üblichen Rotation und Hin- und Herbewegung des Dorns oder Trägers bei der Auftragung der Oxidpartikeln. Eine beginnende Konsolidierung
kann z. B. bei einer zu heißen Brennerflamme oder einer zu langsamen oder ungleichmäßigen
Bewegung des Dorns oder Trägers eintreten. Sind andererseits die Partikeln zu locker gebunden, so kann
die Vorform beim Kontakt mit der Imprägnierlösung auseinanderfalten oder -reißen. Eine zu lose Packung
der Partikeln kann die Folge einer zu kühlen Brennerflamme, eines zu großen Abstandes der
Vorform von der Flamme, oder einer zu raschen Bewegung des Trägers mit der entstehenden Vorform
sein.
Diese einzelnen Faktoren sind derart voneinander abhängig und beeinflussen einander so, daß feste
Grenzwerte der einzelnen Faktoren nicht aufzeigbar sind. Die Einstellung der Faktoren kann aber im
Einzelfall nach einer Messung der Gesamtporosität der Vorform eingestellt werden. Es wurde gefunden, daß
diese (durch Quecksilbereindringung) gemessene Gesamtporosität optimal etwa um 75% liegt. In der Regel
ist der Bereich von 60 — 90% brauchbar. Die durchschnittliche
Porengröße (Porendurchmesser) nimmt mit intensiverer Wärmebehandlung ab und wird bei
Konsolidation des Körpers Null. Als allgemeine Regel läßt sich ein einzuhaltender Porendurchmesser von
10 — 0,001 μηι fordern. Durch Änderung der Porengröße
und des Prozentsatzes kann in verschiedenen Teilen des Körpers eine unterschiedliche Zusatzkonzentration
erzeugt werden. Wird z. B. eine Außenschicht der Vorform unter intensiveren Wärmebedingungen aufgebracht,
so erhält sie eine kleinere Porengröße und nimmt weniger Imprägnierlösung auf, hat dann also eine
niedrigere Zusatzkonzentration. Diese Zusatzunterschiede in verschiedenen Teilen des Körpers können
scharf abgestuft sein, oder ein Gefälle aufweisen. Möglich ist z. B. auch die nachträgliche Entfernung von
Imprägniermittel aus einer Oberflächenschicht.
Das erfindungsgemäße Verfahren ist für alle Oxide verwendbar, welche in einen Glasansatz entweder als
Oxid oder als eine zu diesem zersetzbare oder oxidierbare Verbindung eingeführt werden können.
Einzige Bedingung für das Oxid wie auch das Lösungsoder Suspensionsmittel ist eine ausreichende chemische
Trägheit gegenüber der Vorform, d. h., es darf keine chemische Umsetzung erfolgen, die die Vorform und
ihren Zusammenhalt zerstört.
Am zweckmäßigsten wird das Imprägniermaterial als Lösung verwendet. Flüchtige organische Löser trocknen
rasch, können aber giftig oder feuergefährlich sein. Wässerige Lösungen trocknen langsamer, können aber
zur Kostenersparnis günstig sein. Gelegentlich können auch Suspensionen oder kolloide Lösungen Anwendung
finden, jedoch muß die Gefahr der ungleichmäßigen Dispersion oder Absetzung von Suspensionen beachtet
werden.
Möglich ist auch die Imprägnierung mit einer Salzschmelze mit nicht zu hohem Schmelzpunkt. Die
folgende Beschreibung verwendet als Beispiel und Regelfall die Imprägnierung mit Lösungen.
Die Erfindung ermöglicht erstmalig die Imprägnierung mit vielen Metalloxiden, die mit den bekannten
Verfahren nicht in die herzustellenden Glaskörper eingebracht werden konnten, wie z. B. die Halide der
Erdalkalien, die seltenen Erden und einige Übergangsmetalle mit sehr niedrigem Dampfdruck, selbst bei
hoher Temperatur. Während diese Verbindungen mit einer flüchtigen Siliziumverbindung wie SiCU nur
schwer aufnehmbar sind, werden sie in üblichen Lösern, Wasser oder organischen Flüssigkeiten, leicht gelöst
ίο und können in Schmelzkieselsäuregläsern mit gutem
Erfolg eingebaut werden. Die Imprägnierlösung kann eine Lösung des gewünschten Oxids oder der Oxide,
oder auch eines Salzes oder einer sonstigen, in die Oxide umwandelbaren Verbindung, sein.
■ 5 Die Menge des dotierenden Oxids oder Salzes, die in
dis poröse Vorform eingebracht werden kann, hängt von einer Reihe von Umständen ab. Besonders wichtig
ist die Zusatzkonzentration im Imprägniermaterial. In der Regel steht die einbringbare Zusatzmenge in
direktem Verhältnis zur Konzentration. Die Zusatzmenge hängt auch von der Kontaktdauer der Vorform mit
dem Imprägnierbad, z. B. der Eintauchdauer, ab. Die Imprägniergeschwindigkeit oder -rate richtet sich auch
nach der Porosität der Vorform und deren Porengröße.
Wenn eine poröse Vorform ganz imprägniert werden soll, wird sie zweckmäßig für eine ausreichende
Zeitdauer in das Imprägnierbad eingetaucht. Möglich ist aber auch die Einführung des Zusatzes in nur einen Teil
der Vorform, die hierzu entweder teilweise eingetaucht, oder örtlich besprüht oder bepinselt wird. Nur die
Oberfläche der Vorform kann durch Imprägnierung nur der Oberfläche und rasche Trocknung dotiert werden.
Möglich ist auch die Maskierung oder Abdeckung der nicht zu imprägnierenden Stellen, worauf die Vorform
ganz untergetaucht werden kann.
Der Zusatz kann aus mehreren Oxiden oder Salzen, z. B. einer Mischung von Zink- und Bleichchloriden,
bestehen, oder der Körper kann zunächst mit einer Zusatzlösung imprägniert, getrocknet, und dann mit
dem weiteren Zusatz erneut imprägniert werden. Möglich ist auch die Imprägnierung nur eines Teils der
Vorform und anschließende Imprägnierung des übrigen Teils mit einem anderen Zusatz.
Bei ausreichender Flüchtigkeit des Lösers kann die imprägnierte Vorform an der Luft getrocknet werden.
Die Trocknung kann durch einen Luftstrom beschleunigt werden. Eine raschere Trocknung weniger flüchtiger
Löser kann im Trockenofen vorgenommen werden, wobei aber eine zu rasche Dampfentwicklung vermieden
werden muß, damit der Körper nicht reißt.
Nach vollständiger Trocknung der Vorform wird sie durch Brennen konsolidiert. Hierbei wird das Oxid oder
Salz beim Verschwinden der Poren in die Glasmasse eingebracht
Die Ausführungsbeispiele der Zeichnungen und deren folgende Beschreibung dienen der weiteren Erläuterung
der Erfindung.
Die F i g. 1 zeigt schematisch die Herstellung der porösen Vorform, die F i g. 2 schematisch die Imprä-
(10 gnierung, die Fig.3 gleichfalls schematisch die Trocknung
und die F i g. 4 ebenfalls schematisch die Sinterung und Konsolidierung des Glaskörpers.
Ein im Beispielfall aus Sauerstoff bestehendes Tragergas wird durch eine flüchtige Siliziumverbindung,
('ü SiCU, geleitet, deren Dämpfe mitgerissen werden. Die
Mischung fließt durch eine Rohrleitung in einen Brenner. Dort werden die Dämpfe der flüchtigen
Verbindung hydrolisiert, und es entstehen in der
Brennerflamme Partikeln aus SiO2.
Ein Träger, Dorn od. dgl., wird rotiert und waagerecht
verschoben, vorzugsweise mit gesteuerter Geschwindigkeit, so daß eine gleichmäßige Kieselsäureschicht auf
dem Träger und der sich aufbauenden Vorform niedergeschlagen wird.
In der bevorzugten Ausbildung der Imprägnierung nach der F i g. 2 wird die Vorform ganz in eine Lösung
des Dotier- oder Zusatzmaterials eingetaucht und dabei in aufrechter Lage gehalten. Die Eintauchzeit richtet
sich nach der in die Kapillarien der Vorform einzuführenden Materialmenge. Der Imprägnierungsgrad wird auch durch die Konzentration der Lösung, die
Porisität der Vorform und die Imprägnierungsdauer, beeinflußt. Hiernach kann die im Einzelfall optimale
Behandlung ermittelt werden.
Nach der Imprägnierung wird die Vorform aus der Lösung genommen und an der Luft getrocknet. Bei hinreichender
Flüchtigkeit des Lösers geht die Trocknung rasch vonstatten, kann aber erforderlichenfalls mit
einem warmen Luftstrom od. dgl. beschleunigt werden, jedoch soll die Trocknung nicht zu rasch und ungleichmäßig
sein.
Die getrocknete Vorform wird dann in eine Heizkammer gegeben, um dort unter Einschluß des Oxidzusatzes
konsolidiert zu werden. Für Kieselsäurekörper wird meist eine Temperatur von 14500C gewählt. Die
Vorform kann sofort und ganz in die Heizkammer eingeführt werden und konsolidiert gleichmäßig. Allerdings
können Gasblasen oder Schlieren im Glaskörper entstehen. Vorzugsweise wird die Vorform daher
progressiv in der in der F i g. 4 gezeigten Weise in die Heizkammer eingeführt und konsolidiert dann entsprechend
der Einführung fortschreitend. Die Vorform kann dabei vom Träger; Dorn und dergleichen, abgenommen
werden, doch dürfte die Belassung auf dem Träger eine leichtere Handhabung ermöglichen.
In dem folgenden Beispiel wurde ein Schmelzkieselsäurekörper
mit Cobaltoxid (CoO) dotiert Ein größerer Behälter mit flüssigem Siliziumtetrachlorid (SiCU)
wurde auf einer Temperatur von 25° gehalten und mit einem Durchsalz von 37OOcrn3/min mit Sauerstoff
durchperlt. Die entstehende Mischung aus Sauerstoff und SiCU-Dämpfen wurde in einen mit einer Mischung
aus Naturgas und Sauerstoff betriebenen Brenner (je 11 328 cmVmin) geleitet. Dort wurden die SiCU-Dämpfe
zu amorpher Kieselsäure in Form feinteiliger Partikeln hydrolisiert. Diese wurden auf einem Dorn aus
Schmelzquarz niedergeschlagen. Der Dorn bestand aus einem 22,9 cm langen Rohr mit einem Außendurchmesser
von 5 mm und war an einem Tragstab mit einem Handgriff mit dem äußeren Durchmesser von 1,9 cm
befestigt. Der Dorn wurde in einem Abstand von ca. 18 cm vom Brenner angebracht und rotiert und hin- und
herbewegt, und zwar mit 200 U.p.M. bzw. 40 cm/min Hierbei wurde der Dorn gleichmäßig mit den feinteiligen
Partikeln überzogen, während gleichzeitig die für die nachfolgende Imprägnierung erforderliche Porosität
erzielt wurde. Eine Vorform mit einer Länge von 22,8 cm und 3,8 cm im Durchmesser wurde in etwa 3
Stunden Niederschlagszeit hergestellt. Die poröse Vorform wurde gekühlt und dann langsam in einen
größeren, 1000 ml Lösung aus absolutem Methylalkohol
mit 25,5 g Cobaltchlorid - Hexahydrat, CoCI2 ■ 6 H2O
äquivalent 1% CoO, enthaltenden größeren Becher langsam eingetaucht. Die Vorform wurde in der Lösung,
wie in F i g. 2 gezeigt, eine Stunde gehalten, wobei die Lösung in die poröse Kappillarstruktur der Vorform
eindrang. Dann wurde die imprägnierte Vorform langsam aus der Lösung herausgenommen und bei
Zimmertemperatur, wie in der F i g. 3 gezeigt, in einem gut durchlüfteten Raum aufgehängt Nach 24 Stunden
Trocknen war der gesamte Methylalkohol abgedampft Die in den Poren Cobaltchlorid enthaltende Vorform
wurde dann über einem Induktionsofen mit Heliumatmosphäre und einer heißen Zone einer Temperatur von
annähernd 1450°C befestigt. Die noch vom Dorn mit Handgriff getragene Vorform wurde hierbei so angebracht,
daß sie langsam in die heiße Zone des Ofens mit einem Vorschub von 0,6 cm/min eingeführt werden
konnte. Hierbei wurde sie fortschreitend zu einer porenfreien Glasmasse mit einem Durchmesser von
1,9 cm konsolidiert Der so erzeugte klare Glasstab war durchsichtig, von königsblauer Farbe und im wesentlichen
frei von Schlieren und Gaseinschlüssen. Die chemische Analyse ergab einen CoO-Gehalt von 0,13%.
Die weiteren Beispiele der Tabelle wurden in der gleichen Weise durchgeführt. DieTabelle verzeichnet der
jeweiligen Oxidzusatz, den Träger (Löser oder Suspensionsmittel),
den Anteil in der Lösung oder Suspension der zum Oxid umgewandelt wurde, in Gew.-Vo, das in
dem erzeugten Glas gebildete Oxid und den Oxidantei! im Kieselsäureglas in Gew.-°/o.
Zusatz
Löser
Gew.-*
in Losung
(als Oxid)
Oxid
Gew.-%
im Glas
NiCb ■ 6 H2O
MnCb - 4 H2O
LaCh · 7 H2O
SmCb
TbCk · 6 H2O
NdCb - 6 H2O
CoCb - 6 H2O
Z1O2
Methanol
Methanol
Methanol
Methanol
Methanol
Methanol
dest Wasser
(Suspension in dest Wasser) 0,1 0,1 2,0 0,1 0,1 3,0
Methanol
Methanol
Methanol
Methanol
Methanol
dest Wasser
(Suspension in dest Wasser) 0,1 0,1 2,0 0,1 0,1 3,0
0,1
2,0
NiO | 0,04 |
MnO | 0,012 |
LaiO3 | 1,23 |
S1112O3 | 0,05 |
Ή32Ο3 | 0,08 |
Nd2O3 | 2,68 |
CoO | 0,024 |
ZrO2 | 0,89 |
An den dotierten Gläsern wurden eine Reihe von Eigenschaften beobachtet bzw. gemessen. Das NiO-hatte
ein rauchgraues, das MnO-Glas ein rosa Aussehen. Die SiTi2Oj- und TT^OvGläser waren im wesentlichen
farblos, doch zeigte das erstere bei Bestrahlung mit der Wellenlänge 2537 Ä eine orange-rosa, das zweite eine
weiße Fluoreszenz. Das Cobaltglas war blau wie im ersten Beispiel. Das LajCh-Glas hatte einen Brechungsindex
von 1,462 und bei Bestrahlung mit 2537 Ä eine gelblich-grüne Fluoreszenz.
In einem weiteren Beispiel wurde die Kieselsäurevorform wie in Beispiel 1 hergestellt und nach der
Imprägnierung konsolidiert. Jedoch wurde die Imprägnierung durch Eintauchen während 3 min in ein
Schmelzbad aus Zinkchlorid, ZnCl2. bei 265°C, in einem
96%-Kieselsäurebehälter vorgenommen. Nach Abkühlung und Konsolidierung hatte das Glas einen
Brechungsindex von 1,462 und einen ZnO-Gehalt von 2,46%. Zum Vergleich ist der Brechnungsindex von
reiner Kieselsäure 1,458.
Zur Erläuterung der für die Erfindung wesentlichen Porosität wurden drei Kieselsäurevorformen durch
Sammeln von feinteiligen Kieselsäurepartikeln wie im Beispiel 1 hergestellt.dieBrennereinstellungenund-lagen
aber verändert, um unterschiedliche Niederschlagsbedingungen zu ergeben. Diese Bedingungen sind in der
folgenden Tabelle als Durchsätze in Kubikfuß von Naturgas und Sauerstoff verzeichnet. Ferner ist der
Abstand in inch der Brennerdüse vom Sammelpunkt auf dem Dorn angegeben.
Tabelle Il | Sauerstoff | Abstand |
Naturgas | 0,4 0,5 0,3 |
7 4,5 8 |
0,4 0,5 0,3 |
||
Die erste Einstellung war für die Durchführung det Erfindung optimal. Die zweite Einstellung ergab ir
kurzem Abstand eine heiße Flamme, während die dritte Einstellung über einen längeren Bereich eine kühlere
Flamme ergab. Die mit der zweiten Einstellung hergestellte Vorform war für die Imprägnierung mi
Lösung hinreichend porös, hatte aber sichtbare hart« Knoten auf der Oberfläche, die auf eine für du
Imprägnierung an sich ungünstige beginnende Konsoli dierung hinweisen. Die mit der dritten Einstellung
hergestellte Vorform hatte flockiges Aussehen unc neigte zum Auseinanderfallen.
Die Prüfung mit dem Quecksilberimprägnierungspo rosimeter ergab für die erste Vorform eine Porositä
von 75%, für die zweite Vorform 63,6% und für di< dritte Vorform den einen beginnenden Zerfall anzeigen
den Porositätsprozentsatz von fast 100. Diese Prüfunj und die Erfahrung lehrt als günstig daher eine Porositä
der Vorformen von 60 — 90%, vorzugsweise 70 - 80%.
Hierzu 1 Blatt Zeichnungen
Claims (10)
1. Verfahren zum Einbau von Oxidzusätzen als Dotiermittel in Glaskörper, die durch Flammhydrolyse
hergestellt werden, indem eine oder mehrere flüchtige Verbindungen in eine Flamme geleitet
und die durch Hydrolyse entstehenden glasbildenden Oxidpartikeln auf einem Träger ais eine integrale, mit
Poren durchsetzte Vorform niedergeschlagen werden, die anschließend durch Wärmebehandlung zu
einem unporösen Glaskörper konsolidiert wird, dadurchgekennzeichnet, daß wenigstens
einTeilderPorenderVorformvorder Wärmebehandlung mit einem sich mit den die Vorform bildenden
Oxiden nicht umsetzendem, Zusätze an Oxiden oder eine zu diesen zersetzbare Verbindung enthaltendem
Material imprägniert wird.
2. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet,
daß die in die Flamme geleitete Verbindung eine flüchtige Siliziumverbindung ist und die
Vorform aus Kieselsäure besteht.
3. Verfahren nach Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet, daß die Kieselsäurevorform mit einer
Alkohollösung eines Metallsalzes imprägniert wird.
4. Verfahren nach Anspruch 3, dadurch gekennzeichnet, daß als Metallsalz ein Chlorid verwendet
wird.
5. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die Oxidpartikeln als Vorform mit
einer Porosität von 60 — 90% der Gesamtmasse niedergeschlagen werden.
6. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß das Dotiermittel in einem Träger
suspendiert und dieser vor der Wärmebehandlung abgedampft wird.
7. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß der Oxidzusatz durch Eintauchen der
Vorform in ein den Oxidzusatz oder ein diesen ergebendes Material enthaltendes flüssiges Bad
zugesetzt wird.
8. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß durch Änderung der Niederschlagungsbedingungen
der Oxidpartikeln in verschiedenen Teilen der Vorform eine unterschiedliche Porengröße erzeugt wird.
9. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet,
daß durch Änderung der Niederschlagsbedingungen der Oxidpartikeln in verschiedenen
Teilen der Vorform eine unterschiedliche Porengröße mit abgestuftem oder kontinuierlichem Gefälle
der Porengrößen erzeugt wird.
10. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß nur eine Oberflächenschicht der
Vorform mit Oxidzusatz oder -zusätzen gefüllt wird.
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US407918A US3859073A (en) | 1973-10-19 | 1973-10-19 | Method of producing glass by flame hydrolysis |
Publications (3)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE2447738A1 DE2447738A1 (de) | 1975-04-24 |
DE2447738B2 DE2447738B2 (de) | 1977-10-20 |
DE2447738C3 true DE2447738C3 (de) | 1981-05-21 |
Family
ID=23614088
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE2447738A Expired DE2447738C3 (de) | 1973-10-19 | 1974-10-07 | Verfahren zum Einbau von Oxidzusätzen als Dotiermittel in Glaskörper, welche durch Flammhydrolyse hergestellt werden |
Country Status (7)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US3859073A (de) |
JP (1) | JPS583980B2 (de) |
CA (1) | CA1023625A (de) |
DE (1) | DE2447738C3 (de) |
FR (1) | FR2248240B1 (de) |
GB (1) | GB1429729A (de) |
IT (1) | IT1022808B (de) |
Families Citing this family (31)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CA1063352A (en) * | 1975-03-18 | 1979-10-02 | Pedro B. Macedo | Method for producing an impregnated waveguide |
US3966446A (en) * | 1975-10-23 | 1976-06-29 | Bell Telephone Laboratories, Incorporated | Axial fabrication of optical fibers |
US4299608A (en) * | 1976-12-30 | 1981-11-10 | Pedro Buarque De Macedo | Joint doping of porous glasses to produce materials with high modifier concentrations |
GB2002342B (en) * | 1977-07-27 | 1982-06-30 | Sumitomo Electric Industries | Process for producing a glass member |
US4263031A (en) * | 1978-06-12 | 1981-04-21 | Corning Glass Works | Method of producing glass optical filaments |
US4302231A (en) * | 1979-01-29 | 1981-11-24 | Pedro Manoel Buarque De Macedo | Method of producing a glass article having a graded refractive index profile of a parabolic nature |
US4220460A (en) * | 1979-02-05 | 1980-09-02 | Western Electric Company, Inc. | Vapor delivery system and method |
US4314837A (en) * | 1979-03-01 | 1982-02-09 | Corning Glass Works | Reactant delivery system method |
US4251251A (en) * | 1979-05-31 | 1981-02-17 | Corning Glass Works | Method of making optical devices |
JPS56155038A (en) * | 1980-04-30 | 1981-12-01 | Hitachi Cable Ltd | Preparation of base material for optical fiber |
JPS56164026A (en) * | 1980-05-16 | 1981-12-16 | Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> | Production of basic material for glass for laser |
CA1188895A (en) * | 1980-09-11 | 1985-06-18 | Shoichi Suto | Fabrication methods of doped silica glass and optical fiber preform by using the doped silica glass |
US5004488A (en) * | 1989-03-20 | 1991-04-02 | Pitman-Moore, Inc. | Process for producing high purity fused quartz powder |
US5151117A (en) * | 1991-06-14 | 1992-09-29 | Corning Incorporated | Solution doping of porous preforms |
US5236481A (en) * | 1992-02-21 | 1993-08-17 | Corning Incorporated | Method of doping porous glass preforms |
US5572618A (en) * | 1994-07-13 | 1996-11-05 | Lucent Technologies Inc. | Optical attenuator |
US5610107A (en) * | 1995-03-20 | 1997-03-11 | Corning Incorporated | Blue high silica glass |
EP0850202B1 (de) * | 1995-09-12 | 2005-04-27 | Corning Incorporated | Boule-oscillationsmustern für die herstellung von geschmolzenem quarzglas |
US5698484A (en) * | 1995-09-12 | 1997-12-16 | Corning Incorporated | Method and containment vessel for producing fused silica glass and the fused silica blank produced |
WO1997010182A1 (en) * | 1995-09-12 | 1997-03-20 | Corning Incorporated | Furnace, method of use, and optical product made by furnace in producing fused silica glass |
US7576909B2 (en) * | 1998-07-16 | 2009-08-18 | Imra America, Inc. | Multimode amplifier for amplifying single mode light |
US6498888B1 (en) | 1998-04-22 | 2002-12-24 | Institut National D'optique | High-attenuation fiber with cladding mode suppression for all-fiber optical attenuator |
US6192713B1 (en) | 1998-06-30 | 2001-02-27 | Sdl, Inc. | Apparatus for the manufacture of glass preforms |
US6275512B1 (en) * | 1998-11-25 | 2001-08-14 | Imra America, Inc. | Mode-locked multimode fiber laser pulse source |
US6467313B1 (en) | 2000-06-09 | 2002-10-22 | Corning Incorporated | Method for controlling dopant profiles |
US6887576B2 (en) * | 2000-08-23 | 2005-05-03 | Herseus Quarzglas GmbH & Co. KG | Quartz glass body having improved resistance against plasma corrosion, and method for production thereof |
KR20020064506A (ko) * | 2001-02-02 | 2002-08-09 | (주)옵토네스트 | 평탄한 감쇄이득을 갖는 광감쇄기용 광섬유 |
WO2005058765A1 (en) * | 2003-12-12 | 2005-06-30 | Corning Incorporated | Alkali-doped optical fiber, its preform and method of making the same |
JP5435502B2 (ja) * | 2008-04-08 | 2014-03-05 | 古河電気工業株式会社 | ガラス母材の製造方法 |
JP2013177297A (ja) | 2012-02-09 | 2013-09-09 | Asahi Glass Co Ltd | ドープ石英ガラスの製造方法 |
DE102013215292A1 (de) * | 2013-08-02 | 2015-02-05 | Carl Zeiss Smt Gmbh | Verfahren zum Beladen eines Rohlings aus Quarzglas mit Wasserstoff, Linsenelement und Projektionsobjektiv |
Family Cites Families (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
BE438752A (de) * | 1939-04-22 | |||
US2239551A (en) * | 1939-04-22 | 1941-04-22 | Corning Glass Works | Method of making sealing glasses and seals for quartz lamps |
US3535890A (en) * | 1967-10-26 | 1970-10-27 | Corning Glass Works | Method of making fused silica |
US3615319A (en) * | 1967-12-11 | 1971-10-26 | Anchor Hocking Corp | Ion exchange strengthening of glasses with lithium vapor |
US3611188A (en) * | 1969-05-19 | 1971-10-05 | American Optical Corp | Ytterbium laser device |
CA951555A (en) * | 1970-05-11 | 1974-07-23 | Robert D. Maurer | Glass optical waveguide |
US3737292A (en) * | 1972-01-03 | 1973-06-05 | Corning Glass Works | Method of forming optical waveguide fibers |
-
1973
- 1973-10-19 US US407918A patent/US3859073A/en not_active Expired - Lifetime
-
1974
- 1974-05-08 CA CA199,250A patent/CA1023625A/en not_active Expired
- 1974-10-07 DE DE2447738A patent/DE2447738C3/de not_active Expired
- 1974-10-11 IT IT28337/74A patent/IT1022808B/it active
- 1974-10-14 GB GB4437174A patent/GB1429729A/en not_active Expired
- 1974-10-17 JP JP49119879A patent/JPS583980B2/ja not_active Expired
- 1974-10-21 FR FR7435314A patent/FR2248240B1/fr not_active Expired
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
CA1023625A (en) | 1978-01-03 |
GB1429729A (en) | 1976-03-24 |
US3859073A (en) | 1975-01-07 |
IT1022808B (it) | 1978-04-20 |
DE2447738B2 (de) | 1977-10-20 |
FR2248240B1 (de) | 1981-08-07 |
FR2248240A1 (de) | 1975-05-16 |
JPS583980B2 (ja) | 1983-01-24 |
DE2447738A1 (de) | 1975-04-24 |
JPS5073908A (de) | 1975-06-18 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
DE2447738C3 (de) | Verfahren zum Einbau von Oxidzusätzen als Dotiermittel in Glaskörper, welche durch Flammhydrolyse hergestellt werden | |
DE2806931C2 (de) | Verfahren und Vorrichtung zur Behandlung einer durch Flammhydrolyse hergestellten porösen Glasrußvorform in einem Sinterofen | |
DE1669380C3 (de) | Verfahren zur Herstellung hitzebeständiger Fasern auf Aluminiumoxyd-Silicatbasis | |
CH650481A5 (de) | Verfahren zur herstellung und zum trocknen in einem arbeitsgang einer rohrfoermigen glas-vorform fuer optische wellenleiter. | |
DE2833051C2 (de) | Verfahren zum Herstellen von Vorformlingen für optische Glasfasern | |
DE2447736B2 (de) | Verfahren zum Einbau von Oxidzusätzen in Glaskörper | |
DE2313203B2 (de) | Verfahren zur herstellung optischer wellenleiter aus glas | |
DE3133541C2 (de) | Verfahren zur Herstellung eines porösen optischen Glasproduktes | |
DE2919080A1 (de) | Verfahren zum herstellen einer optischen faser | |
DE19962449A1 (de) | Quarzglastiegel und Verfahren für seine Herstellung | |
DE3228008A1 (de) | Herstellung gesinterter glaeser mit hohem siliciumoxidanteil | |
DE2514250A1 (de) | Verfahren zur herstellung optischer glasgegenstaende | |
DE2906071A1 (de) | Verfahren zum ziehen von faeden aus thermoplastischem material | |
DE3739907A1 (de) | Verfahren zur herstellung von glaskoerpern | |
DE3150600C2 (de) | ||
DE2420558C2 (de) | Verfahren zur Herstellung von Leitern für optische Signale | |
DE2746418C3 (de) | ||
DE3136837A1 (de) | Optischer glaskoerper mit raeumlicher brechzahlverteilung, verfahren zu seiner herstellung und seine verwendung als lichtbrechendes element | |
DE69921080T2 (de) | Verfahren zum Herstellen einer Vorform für optische Fasern und Verfahren zur Herstellung von optischen Fasern | |
DE2447353B2 (de) | Verfahren zum herstellen von lichtleitfasern | |
DE102015224005B4 (de) | Verfahren zur Herstellung von Formkörpern aus Glas mit poröser Hülle und homogenem Kern, daraus hergestellte Formkörper und deren Verwendung | |
DE2225792A1 (de) | Bildschirm fur eine Dunkelspur Kathodenstrahlrohre und Verfahren zu seiner Herstellung | |
DE3318107A1 (de) | Verfahren zur herstellung von vorformen fuer lichtwellenleiter | |
DE3823089A1 (de) | Pyrolytisch beschichtetes flachglas und verfahren zu seiner herstellung | |
DE2530808A1 (de) | Chrom- und/oder mangan-modifiziertes quarzglas bzw. cristobalit, insbesondere fuer die herstellung von fasern |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
C3 | Grant after two publication steps (3rd publication) |